JP2017176126A - レトルト装置 - Google Patents

Abstract

【課題】貯湯式とスプレー式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置において、一回の操作で、被処理物の解凍を貯湯式で行い、被処理物の殺菌をスプレー式で行うことを可能にするとともに、殺菌に要する時間短縮及び殺菌に要する熱量（エネルギー）の節約を可能とするレトルト装置を提供すること。
【解決手段】レトルト装置１は、熱水供給部１００から処理槽２に所定量の熱水を供給させる解凍制御部と、解凍制御部により熱水が供給された後予め設定された第１時間が経過した場合に処理槽２に貯留された熱水の一部を排出又は熱水供給部１００に回収し、熱水噴霧部２００から処理槽２に熱水の噴霧を開始させる殺菌制御部と、を備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、例えば、貯湯式、及びスプレー式又はシャワー式を含む熱水噴霧式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置に関する。

従来、熱水噴霧式、蒸気式、又は貯湯式のレトルト装置が知られている（例えば、特許文献１〜４参照）。例えば、貯湯式のレトルト装置により、レトルト食品、缶詰のような食品を加熱殺菌することが知られている。
また、貯湯式及び熱水噴霧式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置も提案されている。

特開平５−０８４０５５号公報 特開平５−３０９１２５号公報 特開２０１２−１０５５４９号公報 特開２０１４−００８２３５号公報

しかしながら、解凍工程及び殺菌工程を貯湯式という単一の機能によって行う場合、貯湯式で解凍工程に使用した熱水は、温度が下がっているため、解凍工程後、殺菌工程を行う際に、この熱水を殺菌温度まで加熱するのに時間がかかると共に加熱に要する熱量（エネルギー）が大きくなるという問題があった。

また、ハイブリッド型のレトルト装置においては、例えば、最初に貯湯式による運転を指示した場合、途中でスプレー式による運転に切り替えるためには、貯湯式による運転停止指示を行い、改めてスプレー式による運転を指示し直す必要があった。

本発明は上記のような点に鑑みなされたもので、貯湯式とスプレー式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置において、１回の操作で、被処理物の解凍を貯湯式で行い、被処理物の殺菌をスプレー式で行うことを可能とするとともに、殺菌に要する時間短縮及び殺菌に要する熱量（エネルギー）の節約を可能とすることを目的とする

本発明は、被処理物が収容される処理槽と、前記処理槽に熱水を供給する熱水供給部と、前記処理槽に熱水を噴霧する熱水噴霧部と、前記熱水供給部及び前記熱水噴霧部を制御する制御部と、を備えるレトルト装置であって、前記制御部は、前記熱水供給部から前記処理槽に所定量の熱水を供給させる解凍制御部と、前記解凍制御部により熱水が供給された後予め設定された第１時間が経過した場合に前記処理槽に貯留された熱水の一部を排出または前記熱水供給部に回収し、前記熱水噴霧部から前記処理槽に熱水の噴霧を開始させる殺菌制御部と、を備えるレトルト装置に関する。

また、前記熱水供給部は、前記処理槽に貯留された熱水を循環させる熱水循環ラインと、前記熱水循環ラインに配置され該熱水循環ラインを流通する熱水を加熱する加熱部と、を備え、前記殺菌制御部は、前記熱水循環ラインを流通する熱水を前記処理槽に噴霧させることが好ましい。

また、前記殺菌制御部は、予め設定された第２時間前記処理槽に熱水を噴霧させることが好ましい。

本発明によれば、貯湯式と熱水噴霧式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置において、１回の操作で、被処理物の解凍を貯湯式で行い、被処理物の殺菌をスプレー式で行うことができるとともに、殺菌に要する時間短縮及び殺菌に要する熱量（エネルギー）の節約を図ることが可能となる。

本発明のレトルト装置１の一実施形態を示す概略図である。 本発明の実施形態に係る制御部の概略構成を説明する機能ブロック図である。 本発明の実施形態に係る解凍工程及び殺菌工程の時系列での温度変化を示したグラフである。

［第１実施形態］
以下、本発明に係るレトルト装置の実施形態について、図１を参照して説明する。図１は、本発明のレトルト装置１の第１実施形態の概略構成を説明する模式図である。

第１実施形態では、被処理物９は、特に断らない限り、加圧加熱殺菌処理（レトルト）すべき密封包装体を意味し、例えば缶詰等を含み、レトルトパウチに限定されない。

本実施形態のレトルト装置１は、いわゆる貯湯式と熱水噴霧式（スプレー式）とを併存させたハイブリッド型のレトルト装置である。
図１に示すように、レトルト装置１は、処理槽２と、熱水供給部（貯湯式解凍部）１００と、熱水噴霧部（スプレー式殺菌部）２００と、給水部３００と、排水部４００と、制御部６００と、を備えて構成されている。

［処理槽２について］
処理槽２は、水平方向に延びる円筒壁と、この円筒壁の延びる方向の一端に設けられた開口と、円筒壁の他端を閉塞する閉塞壁と、開口を開閉する密閉扉とを備えている。
処理槽２には、台車が出し入れ可能に設けられている。台車には、被処理物９が載置されるトレイが上下方向に積み重ねられて挿脱可能に複数段配置されている。
処理槽２は、処理槽水位検出器２１と、処理槽温度センサ２２と、処理槽圧力センサ２３と、処理槽圧力調整部２４と、を備えて構成されている。

処理槽水位検出器２１は、処理槽２内の水位を検出する。処理槽水位検出器２１は、処理槽２に貯留された熱水の液面の位置（水位）を検出するものであり、水位の検出方法には公知の技術である電極式水位検出方式を用いることができる。

処理槽温度センサ２２は、処理槽２内の温度を検出する。

処理槽圧力センサ２３は、処理槽２内の圧力を検出する。

処理槽圧力調整部２４は、処理槽２の内部の空気圧力を調整する機能を有し、空気圧ライン２４１と、この空気圧ライン２４１に設けた処理槽加圧制御弁２４２と、処理槽排気制御弁２４３とを備える。

処理槽加圧制御弁２４２は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて制御される。処理槽加圧制御弁２４２は、開放されることにより、圧縮空気源（図示省略）からの圧縮空気を処理槽２内へ供給し、処理槽２内を加圧する。

処理槽排気制御弁２４３は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて制御される。処理槽排気制御弁２４３は、開放されることにより、処理槽２内の空気を排出する。

［熱水供給部（貯湯式解凍部）１００について］
図１に示すように、熱水供給部（貯湯式解凍部）１００は、貯湯槽１０１と、落水ライン１０２と、落水弁１０３と、熱水回収ライン１０４と、戻し弁１０５と、貯湯切替弁１０６と、を備え、被処理物９を解凍するために、貯湯槽１０１から処理槽２に熱水を供給する。

貯湯槽１０１は、処理槽２よりも上部に配置されている。
貯湯槽１０１には、所定水位まで予め水が貯留され、貯湯槽加熱手段（図示せず）により所定温度（例えば９０度）まで加熱されているとする。
貯湯槽１０１に貯留され加熱された熱水は、処理槽２に供給可能とされる。

落水ライン１０２は、落水弁１０３が設けられ、貯湯槽１０１の下部と後述する熱水循環ライン２０１とを接続する。落水ライン１０２には落水弁１０３が設けられる。

落水弁１０３は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて、制御される。

貯湯切替弁１０６は、後述する熱水循環ライン２０１の処理槽２の側に設けられる。そうすることで、貯湯切替弁１０６を開弁させ、後述するスプレー切替弁２０５を閉鎖させた状態とすることで、貯湯槽１０１に貯留され加熱された熱水は、落水ライン１０２、落水弁１０３、熱水循環ライン２０１、及び貯湯切替弁１０６を経由して、処理槽２の上部から所定量の熱水を供給させることを可能とする。貯湯切替弁１０６は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて、制御される。

熱水回収ライン１０４は、貯湯槽１０１と熱水循環ライン２０１とを接続している。熱水回収ライン１０４には戻し弁１０５が設けられ、そうすることで、処理槽２に貯留された熱水の一部を、熱水循環ライン２０１、熱水回収ライン１０４、及び戻し弁１０５を経由して貯湯槽１０１に回収可能とされる。

戻し弁１０５は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて、制御される。

［熱水噴霧部（スプレー式殺菌部）２００について］
熱水噴霧部２００は、処理槽２内に設けられた噴射ノズル２０６から熱水を細かいミストの状態で処理槽２内に噴霧させるスプレー式を適用する。

熱水噴霧部（スプレー式殺菌部）２００は、熱水循環ライン２０１と、送水ポンプ２０２と、加熱部２０３と、噴射ライン２０４と、を備える。

熱水循環ライン２０１は、処理槽２に貯留された熱水を循環可能とする。
熱水循環ライン２０１には、前述したように、落水ライン１０２及び熱水回収ライン１０４が接続される。

熱水循環ライン２０１には、処理槽２側から送水ポンプ２０２及び加熱部２０３が設けられる。

送水ポンプ２０２は、戻し弁１０５を開弁させ、落水弁１０３、貯湯切替弁１０６、及び後述するスプレー切替弁２０５を閉鎖させた状態で作動させることにより、熱水循環ライン２０１及び熱水回収ライン１０４を介して、処理槽２に貯留された熱水の一部を貯湯槽１０１に回収させることができる。
送水ポンプ２０２は、スプレー切替弁２０５を開弁させ、落水弁１０３、戻し弁１０５、及び貯湯切替弁１０６を閉鎖させた状態で作動させることにより、処理槽２に貯留された熱水を、加熱部２０３を経由して、噴射ライン２０４を介して噴射ノズル２０６に向けて供給させることができる。
送水ポンプ２０２は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて、制御される。

加熱部２０３は、処理槽２の下部から、熱水循環ライン２０１、噴射ライン２０４、及び処理槽２を循環する熱水を加熱する。加熱部２０３は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて、熱水循環ライン２０１と連通する度合い（「連通状態」ともいう）が制御される。
加熱部２０３は、蒸気供給ライン２０７に接続され、蒸気源（図示せず）から蒸気が供給される。

噴射ライン２０４は、熱水循環ライン２０１から分岐して、処理槽２に接続される。噴射ライン２０４には、スプレー切替弁２０５及び噴射ノズル２０６が設けられる。
スプレー切替弁２０５は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて、制御される。
噴射ノズル２０６は、加熱部２０３で加熱された熱水を細かいミスト状の熱水にして処理槽２内に噴霧する。

蒸気供給ライン２０７は、蒸気制御弁２０８を備え、蒸気源（図示せず）から蒸気が加熱部２０３に向けて供給可能とする。
蒸気制御弁２０８は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて、制御される。蒸気制御弁２０８が開放されることにより、蒸気源から蒸気が加熱部２０３に向けて供給され、当該蒸気が加熱部２０３を介して熱水循環ライン２０１の中に噴出することにより熱水循環ライン２０１を循環する熱水を加熱する。

給水部３００は、給水ライン３０１と、この給水ライン３０１に設けられる給水弁３０２と、を備える。
給水ライン３０１は、給水源（図示せず）から処理槽２に水を供給可能とする。
給水弁３０２は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて制御される。給水弁３０２が開放されることにより、給水源から処理槽２に水が供給される。

排水部４００は、排水ライン４０１と、この排水ライン４０１に設けられる排水弁４０２と、を備え、処理槽２に貯留されている使用済みの熱水を排出可能とする。
排水ライン４０１は、処理槽２の下部に接続され、処理槽２と外部（下水溝）とを接続する。
排水弁４０２は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて、制御される。
排水弁４０２が開放されることにより、処理槽２に貯留されている熱水が排出される。

次に、図２を参照して、本実施形態に係る制御部６００の構成についてその作用とともに説明する。図２は、本発明の実施形態に係る制御部の概略構成を説明する機能ブロック図である。

本実施形態の貯湯式とスプレー式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置１においては、１回の操作で、被処理物９の解凍を貯湯式で行い、その後自動的に被処理物９の殺菌をスプレー式で行うように切り替える。
このために、制御部６００は、図２に示すように、解凍制御部６１０と、殺菌制御部６２０と、を備える。

［解凍制御部６１０について］
解凍制御部６１０は、熱水供給部１００等を制御することで、被処理物９の解凍を貯湯式で行う。このため、解凍制御部６１０は、次のように構成される。
なお、以下の説明において、貯湯槽１０１には、所定水位まで予め水が貯留され、貯湯槽加熱手段（図示せず）により所定温度（例えば９０度）まで加熱されているとする。

解凍制御部６１０は、起動信号に応じて、落水弁１０３、及び貯湯切替弁１０６を開弁させることで、貯湯槽１０１に貯留している熱水を落水ライン１０２及び熱水循環ライン２０１を介して処理槽２内に移送させる。
なお、貯湯槽１０１に貯留された熱水を処理槽２に移送させるために、例えば、加圧源（図示せず）から加圧空気により貯湯槽１０１内を加圧するようにしてもよい。また、送水ポンプ２０２を作動させて、落水ライン１０２及び熱水循環ライン２０１を介して、貯湯槽１０１に貯留された熱水を処理槽２に供給させるようにしてもよい。

解凍制御部６１０による貯湯槽１０１から処理槽２への熱水の供給は、例えば処理槽水位検出器２１を用いて、処理槽２内の水位が予めユーザにより設定された所定の水位（「解凍設定水位」ともいう）になるまで行うようにしてもよい。

解凍制御部６１０は、解凍設定水位まで処理槽２内に熱水が貯留されたことを処理槽水位検出器２１により検出すると、落水弁１０３を閉じる。そうすることで、解凍制御部６１０は、処理槽２内の被処理物９を貯湯槽１０１で加熱された所定温度（例えば９０度）の熱水に浸けさせることができる。

その後、被処理物９が解凍されることで、処理槽２内の温度は、例えば６０度から８０度程度に低下する。この後、被処理物９を処理槽２内の熱水に浸けた解凍状態を予め設定された第１時間維持させる。
なお、被処理物９の特性等に基づいて例えば９０度の熱水（１００度未満の熱水）により被処理物９を解凍することができる時間を第１時間として設定することが好ましい。
このように、解凍を貯湯式で行うことで処理槽２内を均一な温度に保ち、効率よく均一に解凍することができる。

［殺菌制御部６２０について］
殺菌制御部６２０は、被処理物９の解凍が貯湯式により予め設定された第１時間行われた後、熱水噴霧部２００等を制御することで、被処理物９の加熱殺菌を熱水噴霧式（スプレー式）で行う。
このため、殺菌制御部６２０は、次のように構成される。
殺菌制御部６２０は、解凍停止部６２１と、殺菌加熱制御部６２２と、殺菌停止部６２３と、を備える。

解凍停止部６２１は、予め設定された第１時間を経過した場合、処理槽２内に貯留された熱水の一部を排出又は貯湯槽１０１に回収する。具体的には、解凍停止部６２１は、排水弁４０２を開弁させ、処理槽２に貯留されている熱水を排水ライン４０１を介して排出することができる。また、解凍停止部６２１は、戻し弁１０５を開弁させ、落水弁１０３及び貯湯切替弁１０６及びスプレー切替弁２０５を閉鎖させて、送水ポンプ２０２を作動させる。そうすることで、解凍停止部６２１は、処理槽２に貯留された熱水の一部を、熱水循環ライン２０１及び熱水回収ライン１０４を介して、貯湯槽１０１に回収することができる。

解凍停止部６２１による、処理槽２内に貯留された熱水の一部の排出又は貯湯槽１０１への回収は、処理槽水位検出器２１を用いて、処理槽２内の水位が予めユーザにより設定された所定水位（「熱水噴霧設定水位」という）になるまで行うようにしてもよい。
例えば、処理槽２の保有水量を貯湯槽１０１から供給された当初の保有水量の例えば１／３〜１／４程度とするように設定することが好ましい。
また、解凍停止部６２１は、排水弁４０２の開閉を調整しながら、送水ポンプ２０２を作動させることで、処理槽２内に貯留された熱水の一部を排出すると共に、熱水の一部を貯湯槽１０１に回収するようにしてもよい。

解凍停止部６２１は、処理槽２内の水位が熱水噴霧設定水位まで下がったことを処理槽水位検出器２１により検出すると、排水弁４０２及び戻し弁１０５を閉鎖させて、送水ポンプ２０２を停止させる。

殺菌加熱制御部６２２は、解凍停止部６２１により処理槽２内に貯留された熱水の一部を排出又は貯湯槽１０１に回収した後、スプレー切替弁２０５を開弁させ、送水ポンプ２０２を作動させるとともに、蒸気制御弁２０８を開放させることで、蒸気を加熱部２０３に噴射させ、それにより加熱部２０３は熱水循環ライン２０１の中の循環水の加熱を行う。

殺菌加熱制御部６２２は、加熱部２０３により加熱させた熱水を熱水循環ライン２０１及び噴射ライン２０４を介して噴射ノズル２０６に供給し、噴射ノズル２０６から細かいミスト状の熱水を処理槽２内へ噴霧させる。

殺菌加熱制御部６２２は、熱水噴霧部（スプレー式殺菌部）２００の作動中、すなわち、殺菌加熱制御部６２２によって、熱水を処理槽２内へ噴霧している最中、処理槽圧力調整部２４を調整して、処理槽２の内部の圧力を所定の圧力に保つことができる。
具体的には、処理槽加圧制御弁２４２を開放することにより、処理槽２内を加圧し、処理槽排気制御弁２４３を開放することにより、処理槽２内の空気を排出することで、処理槽２の内部の圧力を所定の圧力に保つことができる。

殺菌加熱制御部６２２は、処理槽温度センサ２２により処理槽２内部の温度を検出し、検出温度の値に基づいて、処理槽２内の温度を所定の温度（例えば１２０度）に保持する。より具体的には、殺菌加熱制御部６２２は、蒸気制御弁２０８の開閉動作を制御して、処理槽２内の温度を所定の温度に保持する。
このように、殺菌をスプレー式で行うことで処理槽２内を均一な温度に保ち、効率よく均一に殺菌することができる。

また、殺菌加熱制御部６２２は、排水弁４０２の開閉動作を制御して、処理槽２内の蒸気の凝縮による水量増加分を排水させ、処理槽２内の水位を予め定められた水位に保持させる。

殺菌停止部６２３は、処理槽２内の温度を一定の温度（例えば１２０度）に保ったままの状態で、予め設定された第２時間が経過した場合、蒸気制御弁２０８を閉弁させることで加熱部２０３による加熱を停止させる。

殺菌停止部６２３は、送水ポンプ２０２を停止させ、殺菌加熱制御部６２２による熱水の噴霧を停止させる。なお、被処理物９の特性等に基づいて例えば１２０度の熱水により被処理物９を加熱殺菌することができる時間を第２時間として設定することが好ましい。

殺菌停止部６２３は、戻し弁１０５を開弁させるとともにスプレー切替弁２０５を閉鎖させて送水ポンプ２０２を作動させることで処理槽２内の熱水を、熱水循環ライン２０１及び熱水回収ライン１０４を介して、貯湯槽１０１に回収させることができる。
また、殺菌停止部６２３は、排水弁４０２の開閉動作を制御して、処理槽２内の熱水を排水させてもよい。

このような制御部６００は、マイクロコンピュータによって構成することができる。
すなわち、マイクロコンピュータは、ＣＰＵと、バスラインを介して接続されたＲＯＭ、ＲＡＭ、インタフェース等を含んで構成されている。ＲＯＭはＣＰＵが実行する解凍殺菌処理用の制御プログラム等を格納し、ＲＡＭはワーキングエリアを提供する。
そして、ＣＰＵが前記の制御プログラムを実行することにより、制御部６００が実現される。

本実施形態では、このように、解凍工程を貯湯式によって行い、殺菌工程を熱水噴霧式（スプレー式）で行う。こうすることで、殺菌工程を貯湯式で行う場合に比較して、加熱殺菌時の処理槽２内の保有水を少なくすることができる。
例えば、保有水量４５００Ｌの保有水を８０度から１２０度に上昇させるまでの約８分３０秒かかるのに対して、保有水量を８００Ｌと少なくすることで、８０度から１２０度に上昇させるまでの約１分３０秒と、加熱に要する時間を短縮させるとともに、加熱に要する熱量（エネルギー）を節約することができることが見込まれる。

このように、保有水量を少なくすることで、処理槽２内の温度を加熱殺菌温度（例えば１２０度）まで上昇させる時間を短縮することが可能となり、加熱殺菌時間の短縮を図ることができる。また、一度の操作で、自動的に工程を切り替えることができるので、操作の際の利便性を向上させることができる。
また、レトルト装置１において、一度の操作で自動的に、解凍を貯湯式で行い、所定時間経過後、加熱殺菌を熱水噴霧式で行うように運転モードを切り替えることができるので操作の際の利便性を向上させ、作業効率を向上させることができる。

次に、本実施形態に係るレトルト装置１の解凍制御部６１０の解凍動作及び殺菌制御部６２０の殺菌動作を図３を参照しながら説明する。図３は、本実施形態に係る解凍工程及び殺菌工程における処理槽２の内部の検出温度の時系列変化を示したグラフである。横軸は時間を示し、縦軸は温度（摂氏）を示す。
なお、貯湯槽１０１には、所定水位まで予め水が貯留され、貯湯槽加熱手段（図示せず）により所定温度（例えば９０度）まで加熱されているとする。

時間Ｔ０において、解凍制御部６１０は、起動信号に応じて、貯湯式加圧制御弁１１２、落水弁１０３、及び貯湯切替弁１０６を開弁させることで、貯湯槽１０１に貯留している熱水を処理槽２内に移送させる。そうすることで、時間Ｔ０から時間Ｔ１までの間、処理槽２内の温度が上昇する。

時間Ｔ１において、処理槽２内の温度は約９０度に到達すると、その後、被処理物９の表面と熱交換することにより、処理槽２内の温度は下降する。

時間Ｔ２において、処理槽２内の温度が８０度に到達すると、それ以降、処理槽２内の温度は、解凍ムラがなくなる程度に被処理物の解凍が進むため、僅かな低下が見込まれる。この間、被処理物９はムラなく解凍される。

予め設定された第１時間を経過した時間Ｔ３において、殺菌制御部６２０（解凍停止部６２１）は、排水弁４０２を開弁させ、戻し弁１０５を開弁させ、落水弁１０３及び貯湯切替弁１０６を閉鎖させ、送水ポンプ２０２を作動させる。そうすることで、処理槽２内に貯留された熱水の一部を排水ライン４０１を介しての排出、又は熱水回収ライン１０４を介しての貯湯槽１０１への回収を開始する。

時間Ｔ３から時間Ｔ４までの間、殺菌制御部６２０（解凍停止部６２１）は、処理槽２内に貯留された熱水の一部を排水ライン４０１を介しての排出し、又は熱水回収ライン１０４を介しての貯湯槽１０１へ回収する。

時間Ｔ４において、殺菌制御部６２０（解凍停止部６２１）は、処理槽２内の水位が熱水噴霧設定水位まで下がったことを検出し、排水弁４０２及び戻し弁１０５を閉鎖させて、送水ポンプ２０２を停止させる。
そして、殺菌制御部６２０（殺菌加熱制御部６２２）は、スプレー切替弁２０５を開弁させ、送水ポンプ２０２を作動させるとともに、蒸気制御弁２０８を開放させ、蒸気を加熱部２０３に噴射させ、それにより加熱部２０３は熱水循環ライン２０１の中の循環水の加熱を行う。

時間Ｔ４以降、殺菌制御部６２０（殺菌加熱制御部６２２）は、加熱部２０３により加熱された熱水を熱水循環ライン２０１を介して噴射ノズル２０６に供給し、噴射ノズル２０６により細かいミスト状の熱水を処理槽２内へ噴霧させる。そうすることで、時間Ｔ４から時間Ｔ５までの間、処理槽２内の温度が上昇する。

時間Ｔ５において、処理槽温度センサ２２により検出された処理槽２内部の検出温度が所定の温度（例えば１２０度）に到達すると、予め設定された第２時間後の時間Ｔ６までの間、殺菌加熱制御部６２２は、蒸気制御弁２０８の開閉動作を制御して、処理槽２内の温度を所定の温度（例えば１２０度）に保持する。

第２時間経過後の時間Ｔ６において、殺菌制御部６２０（殺菌停止部６２３）は、蒸気制御弁２０８を閉弁し、加熱殺菌を停止するとともに、送水ポンプ２０２を停止させ、処理槽２内への熱水の噴霧を停止させる。

上記のとおり、本実施形態においては、時間Ｔ３から時間Ｔ４までの間、処理槽２に貯留された熱水の一部を排出又は貯湯槽１０１に回収して、処理槽２内の保有水量を少なくする。
そうすることで、仮に殺菌工程を、処理槽２の保有水量を貯湯槽１０１から供給された当初の保有水量のまま、貯湯式で行う場合と比較して、殺菌工程の起動に掛かる時間（Ｔ４〜Ｔ５までの間）を大幅に短縮することができるとともに、殺菌工程の起動に必要な熱量（エネルギー）の節約を図ることができる。
また、解凍に用いた熱水を用いて、殺菌工程を熱水噴霧方式（スプレー式）で行うことで、解凍に用いた熱水を利用して殺菌を行えるので、熱の利用効率を高めることができる。

このように、本実施形態によれば、解凍工程を貯湯式で行うことで解凍時間を短縮でき、その後、殺菌工程をスプレー式で行うことで、解凍に用いた熱水を全量排出せずに殺菌を行えるので、熱の利用効率を高められ、また、殺菌工程の起動に掛かる時間を大幅に短縮することができる。
また、解凍工程で用いた熱水を循環させて殺菌工程に利用することで、熱の利用効率をさらに高めることができる。

＜本実施形態の効果＞
本実施形態のレトルト装置１は、貯湯槽１０１から処理槽２に所定量の熱水を供給させる解凍制御部６１０と、解凍制御部６１０により熱水が供給された後予め設定された第１時間が経過した場合に処理槽２に貯留された熱水の一部を排出又は熱水供給部１００に回収し、熱水噴霧部２００から処理槽２に熱水の噴霧を開始させる殺菌制御部６２０と、を備える。
これにより、解凍工程を貯湯式（すなわち、熱水の供給）で行うことで解凍時間を短縮することができる。さらに、第１時間が経過した後、殺菌工程をスプレー式（すなわち、熱水の噴霧）で行うことで、解凍工程に用いた熱水を全量排出せずに殺菌工程を行えるので、熱の利用効率を高められる。さらに、殺菌工程の起動に掛かる時間、すなわち、熱水の殺菌温度までの昇温時間を短縮することができるとともに、殺菌工程の起動に必要な熱量（エネルギー）、すなわち熱水の殺菌温度まで昇温させるために必要な熱量（エネルギー）の節約を図ることができる。また、レトルト装置１において、解凍を貯湯式で行い、所定時間経過後、加熱殺菌を熱水噴霧式（スプレー式）で行うように運転モードが自動的に切り替わることで、作業効率も向上させることができる。

本実施形態のレトルト装置１によれば、熱水供給部１００は、処理槽２に貯留された熱水を循環させる熱水循環ライン２０１と、熱水循環ライン２０１に配置され該熱水循環ライン２０１を流通する熱水を加熱する加熱部２０３と、を備え、殺菌制御部６２０は、熱水循環ライン２０１を流通する熱水を処理槽２に噴霧させる。
これにより、解凍工程で用いた熱水を循環させて殺菌工程に利用することで、熱の利用効率をさらに高めることができる。

以上、この発明を実施形態により説明したが、この発明は、その主旨を変更しない範囲で種々変更実施可能なことは勿論である。

［変形例２］
第１実施形態においては、「解凍制御部６１０」は、貯湯槽１０１から処理槽２への熱水の供給を行い、処理槽２内の被処理物９を貯湯槽１０１で加熱された所定温度（例えば９０度）の熱水に浸けさせた後、第１時間、被処理物９を処理槽２内の熱水に浸けさせた解凍状態を維持させた。
これに対して、「殺菌加熱制御部６２２」と同様に、「解凍制御部６１０」が、貯湯切替弁１０６を開放させ、スプレー切替弁２０５を閉鎖させた状態で、送水ポンプ２０２を作動させ、加熱部２０３により熱水循環ライン２０１を流通する熱水を加熱させることで、熱水循環ライン２０１を流通する熱水を貯湯切替弁１０６を経由して、処理槽２に供給するように構成してもよい。
そうすることで、解凍工程において、解凍制御部６１０は、第１時間の間、処理槽２の温度を所定温度（例えば８０度）に保持させるように制御することができる。

［変形例３］
第１実施形態においては、「殺菌制御部６２０の備える解凍停止部６２１」により、処理槽２に貯留された熱水の一部を排出又は貯湯槽１０１に回収させた。
これに対して、「解凍制御部６１０」が「解凍停止部６２１」を備えるようにしてもよい。また、「解凍停止部６２１」を、「殺菌制御部６２０」から独立した機能部としてもよい。

［変形例４］
第１実施形態では、加熱部２０３の熱源は、蒸気源から構成したが、場合により電気ヒータを用いてもよい。

［変形例５］
第１実施形態においては、熱水噴霧部２００は、処理槽２に設けられた噴射ノズル２０６から熱水を細かいミストで処理槽２内に噴霧させるスプレー式を適用した。これに対して、スプレー式に替えて処理槽２の上方に設けられたシャワープレート（分散板）の小孔から熱水を降らせるシャワー式を適用してもよい。

１ レトルト装置
２ 処理槽
９ 被処理物
１００ 熱水供給部（貯湯式解凍部）
２００ 熱水噴霧部（スプレー式殺菌部）
２０１ 熱水循環ライン
２０３ 加熱部
６００ 制御部
６１０ 解凍制御部
６２０ 殺菌制御部

Claims (3)

1. 被処理物が収容される処理槽と、
   前記処理槽に熱水を供給する熱水供給部と、
   前記処理槽に熱水を噴霧する熱水噴霧部と、
   前記熱水供給部及び前記熱水噴霧部を制御する制御部と、を備えるレトルト装置であって、
   前記制御部は、
   前記熱水供給部から前記処理槽に所定量の熱水を供給させる解凍制御部と、
   前記解凍制御部により熱水が供給された後予め設定された第１時間が経過した場合に前記処理槽に貯留された熱水の一部を排出又は前記熱水供給部に回収し、前記熱水噴霧部から前記処理槽に熱水の噴霧を開始させる殺菌制御部と、を備えるレトルト装置。
2. 前記熱水供給部は、
   前記処理槽に貯留された熱水を循環させる熱水循環ラインと、
   前記熱水循環ラインに配置され該熱水循環ラインを流通する熱水を加熱する加熱部と、を備え、
   前記殺菌制御部は、前記熱水循環ラインを流通する熱水を前記処理槽に噴霧させる請求項１に記載のレトルト装置。
3. 前記殺菌制御部は、予め設定された第２時間前記処理槽に熱水を噴霧させる請求項１又は２に記載のレトルト装置。

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