JP2017176126A - レトルト装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】貯湯式とスプレー式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置において、一回の操作で、被処理物の解凍を貯湯式で行い、被処理物の殺菌をスプレー式で行うことを可能にするとともに、殺菌に要する時間短縮及び殺菌に要する熱量(エネルギー)の節約を可能とするレトルト装置を提供すること。
【解決手段】レトルト装置1は、熱水供給部100から処理槽2に所定量の熱水を供給させる解凍制御部と、解凍制御部により熱水が供給された後予め設定された第1時間が経過した場合に処理槽2に貯留された熱水の一部を排出又は熱水供給部100に回収し、熱水噴霧部200から処理槽2に熱水の噴霧を開始させる殺菌制御部と、を備える。
【選択図】図1
【解決手段】レトルト装置1は、熱水供給部100から処理槽2に所定量の熱水を供給させる解凍制御部と、解凍制御部により熱水が供給された後予め設定された第1時間が経過した場合に処理槽2に貯留された熱水の一部を排出又は熱水供給部100に回収し、熱水噴霧部200から処理槽2に熱水の噴霧を開始させる殺菌制御部と、を備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、例えば、貯湯式、及びスプレー式又はシャワー式を含む熱水噴霧式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置に関する。
従来、熱水噴霧式、蒸気式、又は貯湯式のレトルト装置が知られている(例えば、特許文献1〜4参照)。例えば、貯湯式のレトルト装置により、レトルト食品、缶詰のような食品を加熱殺菌することが知られている。
また、貯湯式及び熱水噴霧式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置も提案されている。
また、貯湯式及び熱水噴霧式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置も提案されている。
しかしながら、解凍工程及び殺菌工程を貯湯式という単一の機能によって行う場合、貯湯式で解凍工程に使用した熱水は、温度が下がっているため、解凍工程後、殺菌工程を行う際に、この熱水を殺菌温度まで加熱するのに時間がかかると共に加熱に要する熱量(エネルギー)が大きくなるという問題があった。
また、ハイブリッド型のレトルト装置においては、例えば、最初に貯湯式による運転を指示した場合、途中でスプレー式による運転に切り替えるためには、貯湯式による運転停止指示を行い、改めてスプレー式による運転を指示し直す必要があった。
本発明は上記のような点に鑑みなされたもので、貯湯式とスプレー式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置において、1回の操作で、被処理物の解凍を貯湯式で行い、被処理物の殺菌をスプレー式で行うことを可能とするとともに、殺菌に要する時間短縮及び殺菌に要する熱量(エネルギー)の節約を可能とすることを目的とする
本発明は、被処理物が収容される処理槽と、前記処理槽に熱水を供給する熱水供給部と、前記処理槽に熱水を噴霧する熱水噴霧部と、前記熱水供給部及び前記熱水噴霧部を制御する制御部と、を備えるレトルト装置であって、前記制御部は、前記熱水供給部から前記処理槽に所定量の熱水を供給させる解凍制御部と、前記解凍制御部により熱水が供給された後予め設定された第1時間が経過した場合に前記処理槽に貯留された熱水の一部を排出または前記熱水供給部に回収し、前記熱水噴霧部から前記処理槽に熱水の噴霧を開始させる殺菌制御部と、を備えるレトルト装置に関する。
また、前記熱水供給部は、前記処理槽に貯留された熱水を循環させる熱水循環ラインと、前記熱水循環ラインに配置され該熱水循環ラインを流通する熱水を加熱する加熱部と、を備え、前記殺菌制御部は、前記熱水循環ラインを流通する熱水を前記処理槽に噴霧させることが好ましい。
また、前記殺菌制御部は、予め設定された第2時間前記処理槽に熱水を噴霧させることが好ましい。
本発明によれば、貯湯式と熱水噴霧式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置において、1回の操作で、被処理物の解凍を貯湯式で行い、被処理物の殺菌をスプレー式で行うことができるとともに、殺菌に要する時間短縮及び殺菌に要する熱量(エネルギー)の節約を図ることが可能となる。
[第1実施形態]
以下、本発明に係るレトルト装置の実施形態について、図1を参照して説明する。図1は、本発明のレトルト装置1の第1実施形態の概略構成を説明する模式図である。
以下、本発明に係るレトルト装置の実施形態について、図1を参照して説明する。図1は、本発明のレトルト装置1の第1実施形態の概略構成を説明する模式図である。
第1実施形態では、被処理物9は、特に断らない限り、加圧加熱殺菌処理(レトルト)すべき密封包装体を意味し、例えば缶詰等を含み、レトルトパウチに限定されない。
本実施形態のレトルト装置1は、いわゆる貯湯式と熱水噴霧式(スプレー式)とを併存させたハイブリッド型のレトルト装置である。
図1に示すように、レトルト装置1は、処理槽2と、熱水供給部(貯湯式解凍部)100と、熱水噴霧部(スプレー式殺菌部)200と、給水部300と、排水部400と、制御部600と、を備えて構成されている。
図1に示すように、レトルト装置1は、処理槽2と、熱水供給部(貯湯式解凍部)100と、熱水噴霧部(スプレー式殺菌部)200と、給水部300と、排水部400と、制御部600と、を備えて構成されている。
[処理槽2について]
処理槽2は、水平方向に延びる円筒壁と、この円筒壁の延びる方向の一端に設けられた開口と、円筒壁の他端を閉塞する閉塞壁と、開口を開閉する密閉扉とを備えている。
処理槽2には、台車が出し入れ可能に設けられている。台車には、被処理物9が載置されるトレイが上下方向に積み重ねられて挿脱可能に複数段配置されている。
処理槽2は、処理槽水位検出器21と、処理槽温度センサ22と、処理槽圧力センサ23と、処理槽圧力調整部24と、を備えて構成されている。
処理槽2は、水平方向に延びる円筒壁と、この円筒壁の延びる方向の一端に設けられた開口と、円筒壁の他端を閉塞する閉塞壁と、開口を開閉する密閉扉とを備えている。
処理槽2には、台車が出し入れ可能に設けられている。台車には、被処理物9が載置されるトレイが上下方向に積み重ねられて挿脱可能に複数段配置されている。
処理槽2は、処理槽水位検出器21と、処理槽温度センサ22と、処理槽圧力センサ23と、処理槽圧力調整部24と、を備えて構成されている。
処理槽水位検出器21は、処理槽2内の水位を検出する。処理槽水位検出器21は、処理槽2に貯留された熱水の液面の位置(水位)を検出するものであり、水位の検出方法には公知の技術である電極式水位検出方式を用いることができる。
処理槽温度センサ22は、処理槽2内の温度を検出する。
処理槽圧力センサ23は、処理槽2内の圧力を検出する。
処理槽圧力調整部24は、処理槽2の内部の空気圧力を調整する機能を有し、空気圧ライン241と、この空気圧ライン241に設けた処理槽加圧制御弁242と、処理槽排気制御弁243とを備える。
処理槽加圧制御弁242は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて制御される。処理槽加圧制御弁242は、開放されることにより、圧縮空気源(図示省略)からの圧縮空気を処理槽2内へ供給し、処理槽2内を加圧する。
処理槽排気制御弁243は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて制御される。処理槽排気制御弁243は、開放されることにより、処理槽2内の空気を排出する。
[熱水供給部(貯湯式解凍部)100について]
図1に示すように、熱水供給部(貯湯式解凍部)100は、貯湯槽101と、落水ライン102と、落水弁103と、熱水回収ライン104と、戻し弁105と、貯湯切替弁106と、を備え、被処理物9を解凍するために、貯湯槽101から処理槽2に熱水を供給する。
図1に示すように、熱水供給部(貯湯式解凍部)100は、貯湯槽101と、落水ライン102と、落水弁103と、熱水回収ライン104と、戻し弁105と、貯湯切替弁106と、を備え、被処理物9を解凍するために、貯湯槽101から処理槽2に熱水を供給する。
貯湯槽101は、処理槽2よりも上部に配置されている。
貯湯槽101には、所定水位まで予め水が貯留され、貯湯槽加熱手段(図示せず)により所定温度(例えば90度)まで加熱されているとする。
貯湯槽101に貯留され加熱された熱水は、処理槽2に供給可能とされる。
貯湯槽101には、所定水位まで予め水が貯留され、貯湯槽加熱手段(図示せず)により所定温度(例えば90度)まで加熱されているとする。
貯湯槽101に貯留され加熱された熱水は、処理槽2に供給可能とされる。
落水ライン102は、落水弁103が設けられ、貯湯槽101の下部と後述する熱水循環ライン201とを接続する。落水ライン102には落水弁103が設けられる。
落水弁103は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて、制御される。
貯湯切替弁106は、後述する熱水循環ライン201の処理槽2の側に設けられる。そうすることで、貯湯切替弁106を開弁させ、後述するスプレー切替弁205を閉鎖させた状態とすることで、貯湯槽101に貯留され加熱された熱水は、落水ライン102、落水弁103、熱水循環ライン201、及び貯湯切替弁106を経由して、処理槽2の上部から所定量の熱水を供給させることを可能とする。貯湯切替弁106は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて、制御される。
熱水回収ライン104は、貯湯槽101と熱水循環ライン201とを接続している。熱水回収ライン104には戻し弁105が設けられ、そうすることで、処理槽2に貯留された熱水の一部を、熱水循環ライン201、熱水回収ライン104、及び戻し弁105を経由して貯湯槽101に回収可能とされる。
戻し弁105は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて、制御される。
[熱水噴霧部(スプレー式殺菌部)200について]
熱水噴霧部200は、処理槽2内に設けられた噴射ノズル206から熱水を細かいミストの状態で処理槽2内に噴霧させるスプレー式を適用する。
熱水噴霧部200は、処理槽2内に設けられた噴射ノズル206から熱水を細かいミストの状態で処理槽2内に噴霧させるスプレー式を適用する。
熱水噴霧部(スプレー式殺菌部)200は、熱水循環ライン201と、送水ポンプ202と、加熱部203と、噴射ライン204と、を備える。
熱水循環ライン201は、処理槽2に貯留された熱水を循環可能とする。
熱水循環ライン201には、前述したように、落水ライン102及び熱水回収ライン104が接続される。
熱水循環ライン201には、前述したように、落水ライン102及び熱水回収ライン104が接続される。
熱水循環ライン201には、処理槽2側から送水ポンプ202及び加熱部203が設けられる。
送水ポンプ202は、戻し弁105を開弁させ、落水弁103、貯湯切替弁106、及び後述するスプレー切替弁205を閉鎖させた状態で作動させることにより、熱水循環ライン201及び熱水回収ライン104を介して、処理槽2に貯留された熱水の一部を貯湯槽101に回収させることができる。
送水ポンプ202は、スプレー切替弁205を開弁させ、落水弁103、戻し弁105、及び貯湯切替弁106を閉鎖させた状態で作動させることにより、処理槽2に貯留された熱水を、加熱部203を経由して、噴射ライン204を介して噴射ノズル206に向けて供給させることができる。
送水ポンプ202は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて、制御される。
送水ポンプ202は、スプレー切替弁205を開弁させ、落水弁103、戻し弁105、及び貯湯切替弁106を閉鎖させた状態で作動させることにより、処理槽2に貯留された熱水を、加熱部203を経由して、噴射ライン204を介して噴射ノズル206に向けて供給させることができる。
送水ポンプ202は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて、制御される。
加熱部203は、処理槽2の下部から、熱水循環ライン201、噴射ライン204、及び処理槽2を循環する熱水を加熱する。加熱部203は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて、熱水循環ライン201と連通する度合い(「連通状態」ともいう)が制御される。
加熱部203は、蒸気供給ライン207に接続され、蒸気源(図示せず)から蒸気が供給される。
加熱部203は、蒸気供給ライン207に接続され、蒸気源(図示せず)から蒸気が供給される。
噴射ライン204は、熱水循環ライン201から分岐して、処理槽2に接続される。噴射ライン204には、スプレー切替弁205及び噴射ノズル206が設けられる。
スプレー切替弁205は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて、制御される。
噴射ノズル206は、加熱部203で加熱された熱水を細かいミスト状の熱水にして処理槽2内に噴霧する。
スプレー切替弁205は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて、制御される。
噴射ノズル206は、加熱部203で加熱された熱水を細かいミスト状の熱水にして処理槽2内に噴霧する。
蒸気供給ライン207は、蒸気制御弁208を備え、蒸気源(図示せず)から蒸気が加熱部203に向けて供給可能とする。
蒸気制御弁208は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて、制御される。蒸気制御弁208が開放されることにより、蒸気源から蒸気が加熱部203に向けて供給され、当該蒸気が加熱部203を介して熱水循環ライン201の中に噴出することにより熱水循環ライン201を循環する熱水を加熱する。
蒸気制御弁208は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて、制御される。蒸気制御弁208が開放されることにより、蒸気源から蒸気が加熱部203に向けて供給され、当該蒸気が加熱部203を介して熱水循環ライン201の中に噴出することにより熱水循環ライン201を循環する熱水を加熱する。
給水部300は、給水ライン301と、この給水ライン301に設けられる給水弁302と、を備える。
給水ライン301は、給水源(図示せず)から処理槽2に水を供給可能とする。
給水弁302は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて制御される。給水弁302が開放されることにより、給水源から処理槽2に水が供給される。
給水ライン301は、給水源(図示せず)から処理槽2に水を供給可能とする。
給水弁302は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて制御される。給水弁302が開放されることにより、給水源から処理槽2に水が供給される。
排水部400は、排水ライン401と、この排水ライン401に設けられる排水弁402と、を備え、処理槽2に貯留されている使用済みの熱水を排出可能とする。
排水ライン401は、処理槽2の下部に接続され、処理槽2と外部(下水溝)とを接続する。
排水弁402は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて、制御される。
排水弁402が開放されることにより、処理槽2に貯留されている熱水が排出される。
排水ライン401は、処理槽2の下部に接続され、処理槽2と外部(下水溝)とを接続する。
排水弁402は、制御部600と電気的に接続され、制御部600から出力される制御信号に基づいて、制御される。
排水弁402が開放されることにより、処理槽2に貯留されている熱水が排出される。
次に、図2を参照して、本実施形態に係る制御部600の構成についてその作用とともに説明する。図2は、本発明の実施形態に係る制御部の概略構成を説明する機能ブロック図である。
本実施形態の貯湯式とスプレー式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置1においては、1回の操作で、被処理物9の解凍を貯湯式で行い、その後自動的に被処理物9の殺菌をスプレー式で行うように切り替える。
このために、制御部600は、図2に示すように、解凍制御部610と、殺菌制御部620と、を備える。
このために、制御部600は、図2に示すように、解凍制御部610と、殺菌制御部620と、を備える。
[解凍制御部610について]
解凍制御部610は、熱水供給部100等を制御することで、被処理物9の解凍を貯湯式で行う。このため、解凍制御部610は、次のように構成される。
なお、以下の説明において、貯湯槽101には、所定水位まで予め水が貯留され、貯湯槽加熱手段(図示せず)により所定温度(例えば90度)まで加熱されているとする。
解凍制御部610は、熱水供給部100等を制御することで、被処理物9の解凍を貯湯式で行う。このため、解凍制御部610は、次のように構成される。
なお、以下の説明において、貯湯槽101には、所定水位まで予め水が貯留され、貯湯槽加熱手段(図示せず)により所定温度(例えば90度)まで加熱されているとする。
解凍制御部610は、起動信号に応じて、落水弁103、及び貯湯切替弁106を開弁させることで、貯湯槽101に貯留している熱水を落水ライン102及び熱水循環ライン201を介して処理槽2内に移送させる。
なお、貯湯槽101に貯留された熱水を処理槽2に移送させるために、例えば、加圧源(図示せず)から加圧空気により貯湯槽101内を加圧するようにしてもよい。また、送水ポンプ202を作動させて、落水ライン102及び熱水循環ライン201を介して、貯湯槽101に貯留された熱水を処理槽2に供給させるようにしてもよい。
なお、貯湯槽101に貯留された熱水を処理槽2に移送させるために、例えば、加圧源(図示せず)から加圧空気により貯湯槽101内を加圧するようにしてもよい。また、送水ポンプ202を作動させて、落水ライン102及び熱水循環ライン201を介して、貯湯槽101に貯留された熱水を処理槽2に供給させるようにしてもよい。
解凍制御部610による貯湯槽101から処理槽2への熱水の供給は、例えば処理槽水位検出器21を用いて、処理槽2内の水位が予めユーザにより設定された所定の水位(「解凍設定水位」ともいう)になるまで行うようにしてもよい。
解凍制御部610は、解凍設定水位まで処理槽2内に熱水が貯留されたことを処理槽水位検出器21により検出すると、落水弁103を閉じる。そうすることで、解凍制御部610は、処理槽2内の被処理物9を貯湯槽101で加熱された所定温度(例えば90度)の熱水に浸けさせることができる。
その後、被処理物9が解凍されることで、処理槽2内の温度は、例えば60度から80度程度に低下する。この後、被処理物9を処理槽2内の熱水に浸けた解凍状態を予め設定された第1時間維持させる。
なお、被処理物9の特性等に基づいて例えば90度の熱水(100度未満の熱水)により被処理物9を解凍することができる時間を第1時間として設定することが好ましい。
このように、解凍を貯湯式で行うことで処理槽2内を均一な温度に保ち、効率よく均一に解凍することができる。
なお、被処理物9の特性等に基づいて例えば90度の熱水(100度未満の熱水)により被処理物9を解凍することができる時間を第1時間として設定することが好ましい。
このように、解凍を貯湯式で行うことで処理槽2内を均一な温度に保ち、効率よく均一に解凍することができる。
[殺菌制御部620について]
殺菌制御部620は、被処理物9の解凍が貯湯式により予め設定された第1時間行われた後、熱水噴霧部200等を制御することで、被処理物9の加熱殺菌を熱水噴霧式(スプレー式)で行う。
このため、殺菌制御部620は、次のように構成される。
殺菌制御部620は、解凍停止部621と、殺菌加熱制御部622と、殺菌停止部623と、を備える。
殺菌制御部620は、被処理物9の解凍が貯湯式により予め設定された第1時間行われた後、熱水噴霧部200等を制御することで、被処理物9の加熱殺菌を熱水噴霧式(スプレー式)で行う。
このため、殺菌制御部620は、次のように構成される。
殺菌制御部620は、解凍停止部621と、殺菌加熱制御部622と、殺菌停止部623と、を備える。
解凍停止部621は、予め設定された第1時間を経過した場合、処理槽2内に貯留された熱水の一部を排出又は貯湯槽101に回収する。具体的には、解凍停止部621は、排水弁402を開弁させ、処理槽2に貯留されている熱水を排水ライン401を介して排出することができる。また、解凍停止部621は、戻し弁105を開弁させ、落水弁103及び貯湯切替弁106及びスプレー切替弁205を閉鎖させて、送水ポンプ202を作動させる。そうすることで、解凍停止部621は、処理槽2に貯留された熱水の一部を、熱水循環ライン201及び熱水回収ライン104を介して、貯湯槽101に回収することができる。
解凍停止部621による、処理槽2内に貯留された熱水の一部の排出又は貯湯槽101への回収は、処理槽水位検出器21を用いて、処理槽2内の水位が予めユーザにより設定された所定水位(「熱水噴霧設定水位」という)になるまで行うようにしてもよい。
例えば、処理槽2の保有水量を貯湯槽101から供給された当初の保有水量の例えば1/3〜1/4程度とするように設定することが好ましい。
また、解凍停止部621は、排水弁402の開閉を調整しながら、送水ポンプ202を作動させることで、処理槽2内に貯留された熱水の一部を排出すると共に、熱水の一部を貯湯槽101に回収するようにしてもよい。
例えば、処理槽2の保有水量を貯湯槽101から供給された当初の保有水量の例えば1/3〜1/4程度とするように設定することが好ましい。
また、解凍停止部621は、排水弁402の開閉を調整しながら、送水ポンプ202を作動させることで、処理槽2内に貯留された熱水の一部を排出すると共に、熱水の一部を貯湯槽101に回収するようにしてもよい。
解凍停止部621は、処理槽2内の水位が熱水噴霧設定水位まで下がったことを処理槽水位検出器21により検出すると、排水弁402及び戻し弁105を閉鎖させて、送水ポンプ202を停止させる。
殺菌加熱制御部622は、解凍停止部621により処理槽2内に貯留された熱水の一部を排出又は貯湯槽101に回収した後、スプレー切替弁205を開弁させ、送水ポンプ202を作動させるとともに、蒸気制御弁208を開放させることで、蒸気を加熱部203に噴射させ、それにより加熱部203は熱水循環ライン201の中の循環水の加熱を行う。
殺菌加熱制御部622は、加熱部203により加熱させた熱水を熱水循環ライン201及び噴射ライン204を介して噴射ノズル206に供給し、噴射ノズル206から細かいミスト状の熱水を処理槽2内へ噴霧させる。
殺菌加熱制御部622は、熱水噴霧部(スプレー式殺菌部)200の作動中、すなわち、殺菌加熱制御部622によって、熱水を処理槽2内へ噴霧している最中、処理槽圧力調整部24を調整して、処理槽2の内部の圧力を所定の圧力に保つことができる。
具体的には、処理槽加圧制御弁242を開放することにより、処理槽2内を加圧し、処理槽排気制御弁243を開放することにより、処理槽2内の空気を排出することで、処理槽2の内部の圧力を所定の圧力に保つことができる。
具体的には、処理槽加圧制御弁242を開放することにより、処理槽2内を加圧し、処理槽排気制御弁243を開放することにより、処理槽2内の空気を排出することで、処理槽2の内部の圧力を所定の圧力に保つことができる。
殺菌加熱制御部622は、処理槽温度センサ22により処理槽2内部の温度を検出し、検出温度の値に基づいて、処理槽2内の温度を所定の温度(例えば120度)に保持する。より具体的には、殺菌加熱制御部622は、蒸気制御弁208の開閉動作を制御して、処理槽2内の温度を所定の温度に保持する。
このように、殺菌をスプレー式で行うことで処理槽2内を均一な温度に保ち、効率よく均一に殺菌することができる。
このように、殺菌をスプレー式で行うことで処理槽2内を均一な温度に保ち、効率よく均一に殺菌することができる。
また、殺菌加熱制御部622は、排水弁402の開閉動作を制御して、処理槽2内の蒸気の凝縮による水量増加分を排水させ、処理槽2内の水位を予め定められた水位に保持させる。
殺菌停止部623は、処理槽2内の温度を一定の温度(例えば120度)に保ったままの状態で、予め設定された第2時間が経過した場合、蒸気制御弁208を閉弁させることで加熱部203による加熱を停止させる。
殺菌停止部623は、送水ポンプ202を停止させ、殺菌加熱制御部622による熱水の噴霧を停止させる。なお、被処理物9の特性等に基づいて例えば120度の熱水により被処理物9を加熱殺菌することができる時間を第2時間として設定することが好ましい。
殺菌停止部623は、戻し弁105を開弁させるとともにスプレー切替弁205を閉鎖させて送水ポンプ202を作動させることで処理槽2内の熱水を、熱水循環ライン201及び熱水回収ライン104を介して、貯湯槽101に回収させることができる。
また、殺菌停止部623は、排水弁402の開閉動作を制御して、処理槽2内の熱水を排水させてもよい。
また、殺菌停止部623は、排水弁402の開閉動作を制御して、処理槽2内の熱水を排水させてもよい。
このような制御部600は、マイクロコンピュータによって構成することができる。
すなわち、マイクロコンピュータは、CPUと、バスラインを介して接続されたROM、RAM、インタフェース等を含んで構成されている。ROMはCPUが実行する解凍殺菌処理用の制御プログラム等を格納し、RAMはワーキングエリアを提供する。
そして、CPUが前記の制御プログラムを実行することにより、制御部600が実現される。
すなわち、マイクロコンピュータは、CPUと、バスラインを介して接続されたROM、RAM、インタフェース等を含んで構成されている。ROMはCPUが実行する解凍殺菌処理用の制御プログラム等を格納し、RAMはワーキングエリアを提供する。
そして、CPUが前記の制御プログラムを実行することにより、制御部600が実現される。
本実施形態では、このように、解凍工程を貯湯式によって行い、殺菌工程を熱水噴霧式(スプレー式)で行う。こうすることで、殺菌工程を貯湯式で行う場合に比較して、加熱殺菌時の処理槽2内の保有水を少なくすることができる。
例えば、保有水量4500Lの保有水を80度から120度に上昇させるまでの約8分30秒かかるのに対して、保有水量を800Lと少なくすることで、80度から120度に上昇させるまでの約1分30秒と、加熱に要する時間を短縮させるとともに、加熱に要する熱量(エネルギー)を節約することができることが見込まれる。
例えば、保有水量4500Lの保有水を80度から120度に上昇させるまでの約8分30秒かかるのに対して、保有水量を800Lと少なくすることで、80度から120度に上昇させるまでの約1分30秒と、加熱に要する時間を短縮させるとともに、加熱に要する熱量(エネルギー)を節約することができることが見込まれる。
このように、保有水量を少なくすることで、処理槽2内の温度を加熱殺菌温度(例えば120度)まで上昇させる時間を短縮することが可能となり、加熱殺菌時間の短縮を図ることができる。また、一度の操作で、自動的に工程を切り替えることができるので、操作の際の利便性を向上させることができる。
また、レトルト装置1において、一度の操作で自動的に、解凍を貯湯式で行い、所定時間経過後、加熱殺菌を熱水噴霧式で行うように運転モードを切り替えることができるので操作の際の利便性を向上させ、作業効率を向上させることができる。
また、レトルト装置1において、一度の操作で自動的に、解凍を貯湯式で行い、所定時間経過後、加熱殺菌を熱水噴霧式で行うように運転モードを切り替えることができるので操作の際の利便性を向上させ、作業効率を向上させることができる。
次に、本実施形態に係るレトルト装置1の解凍制御部610の解凍動作及び殺菌制御部620の殺菌動作を図3を参照しながら説明する。図3は、本実施形態に係る解凍工程及び殺菌工程における処理槽2の内部の検出温度の時系列変化を示したグラフである。横軸は時間を示し、縦軸は温度(摂氏)を示す。
なお、貯湯槽101には、所定水位まで予め水が貯留され、貯湯槽加熱手段(図示せず)により所定温度(例えば90度)まで加熱されているとする。
なお、貯湯槽101には、所定水位まで予め水が貯留され、貯湯槽加熱手段(図示せず)により所定温度(例えば90度)まで加熱されているとする。
時間T0において、解凍制御部610は、起動信号に応じて、貯湯式加圧制御弁112、落水弁103、及び貯湯切替弁106を開弁させることで、貯湯槽101に貯留している熱水を処理槽2内に移送させる。そうすることで、時間T0から時間T1までの間、処理槽2内の温度が上昇する。
時間T1において、処理槽2内の温度は約90度に到達すると、その後、被処理物9の表面と熱交換することにより、処理槽2内の温度は下降する。
時間T2において、処理槽2内の温度が80度に到達すると、それ以降、処理槽2内の温度は、解凍ムラがなくなる程度に被処理物の解凍が進むため、僅かな低下が見込まれる。この間、被処理物9はムラなく解凍される。
予め設定された第1時間を経過した時間T3において、殺菌制御部620(解凍停止部621)は、排水弁402を開弁させ、戻し弁105を開弁させ、落水弁103及び貯湯切替弁106を閉鎖させ、送水ポンプ202を作動させる。そうすることで、処理槽2内に貯留された熱水の一部を排水ライン401を介しての排出、又は熱水回収ライン104を介しての貯湯槽101への回収を開始する。
時間T3から時間T4までの間、殺菌制御部620(解凍停止部621)は、処理槽2内に貯留された熱水の一部を排水ライン401を介しての排出し、又は熱水回収ライン104を介しての貯湯槽101へ回収する。
時間T4において、殺菌制御部620(解凍停止部621)は、処理槽2内の水位が熱水噴霧設定水位まで下がったことを検出し、排水弁402及び戻し弁105を閉鎖させて、送水ポンプ202を停止させる。
そして、殺菌制御部620(殺菌加熱制御部622)は、スプレー切替弁205を開弁させ、送水ポンプ202を作動させるとともに、蒸気制御弁208を開放させ、蒸気を加熱部203に噴射させ、それにより加熱部203は熱水循環ライン201の中の循環水の加熱を行う。
そして、殺菌制御部620(殺菌加熱制御部622)は、スプレー切替弁205を開弁させ、送水ポンプ202を作動させるとともに、蒸気制御弁208を開放させ、蒸気を加熱部203に噴射させ、それにより加熱部203は熱水循環ライン201の中の循環水の加熱を行う。
時間T4以降、殺菌制御部620(殺菌加熱制御部622)は、加熱部203により加熱された熱水を熱水循環ライン201を介して噴射ノズル206に供給し、噴射ノズル206により細かいミスト状の熱水を処理槽2内へ噴霧させる。そうすることで、時間T4から時間T5までの間、処理槽2内の温度が上昇する。
時間T5において、処理槽温度センサ22により検出された処理槽2内部の検出温度が所定の温度(例えば120度)に到達すると、予め設定された第2時間後の時間T6までの間、殺菌加熱制御部622は、蒸気制御弁208の開閉動作を制御して、処理槽2内の温度を所定の温度(例えば120度)に保持する。
第2時間経過後の時間T6において、殺菌制御部620(殺菌停止部623)は、蒸気制御弁208を閉弁し、加熱殺菌を停止するとともに、送水ポンプ202を停止させ、処理槽2内への熱水の噴霧を停止させる。
上記のとおり、本実施形態においては、時間T3から時間T4までの間、処理槽2に貯留された熱水の一部を排出又は貯湯槽101に回収して、処理槽2内の保有水量を少なくする。
そうすることで、仮に殺菌工程を、処理槽2の保有水量を貯湯槽101から供給された当初の保有水量のまま、貯湯式で行う場合と比較して、殺菌工程の起動に掛かる時間(T4〜T5までの間)を大幅に短縮することができるとともに、殺菌工程の起動に必要な熱量(エネルギー)の節約を図ることができる。
また、解凍に用いた熱水を用いて、殺菌工程を熱水噴霧方式(スプレー式)で行うことで、解凍に用いた熱水を利用して殺菌を行えるので、熱の利用効率を高めることができる。
そうすることで、仮に殺菌工程を、処理槽2の保有水量を貯湯槽101から供給された当初の保有水量のまま、貯湯式で行う場合と比較して、殺菌工程の起動に掛かる時間(T4〜T5までの間)を大幅に短縮することができるとともに、殺菌工程の起動に必要な熱量(エネルギー)の節約を図ることができる。
また、解凍に用いた熱水を用いて、殺菌工程を熱水噴霧方式(スプレー式)で行うことで、解凍に用いた熱水を利用して殺菌を行えるので、熱の利用効率を高めることができる。
このように、本実施形態によれば、解凍工程を貯湯式で行うことで解凍時間を短縮でき、その後、殺菌工程をスプレー式で行うことで、解凍に用いた熱水を全量排出せずに殺菌を行えるので、熱の利用効率を高められ、また、殺菌工程の起動に掛かる時間を大幅に短縮することができる。
また、解凍工程で用いた熱水を循環させて殺菌工程に利用することで、熱の利用効率をさらに高めることができる。
また、解凍工程で用いた熱水を循環させて殺菌工程に利用することで、熱の利用効率をさらに高めることができる。
<本実施形態の効果>
本実施形態のレトルト装置1は、貯湯槽101から処理槽2に所定量の熱水を供給させる解凍制御部610と、解凍制御部610により熱水が供給された後予め設定された第1時間が経過した場合に処理槽2に貯留された熱水の一部を排出又は熱水供給部100に回収し、熱水噴霧部200から処理槽2に熱水の噴霧を開始させる殺菌制御部620と、を備える。
これにより、解凍工程を貯湯式(すなわち、熱水の供給)で行うことで解凍時間を短縮することができる。さらに、第1時間が経過した後、殺菌工程をスプレー式(すなわち、熱水の噴霧)で行うことで、解凍工程に用いた熱水を全量排出せずに殺菌工程を行えるので、熱の利用効率を高められる。さらに、殺菌工程の起動に掛かる時間、すなわち、熱水の殺菌温度までの昇温時間を短縮することができるとともに、殺菌工程の起動に必要な熱量(エネルギー)、すなわち熱水の殺菌温度まで昇温させるために必要な熱量(エネルギー)の節約を図ることができる。また、レトルト装置1において、解凍を貯湯式で行い、所定時間経過後、加熱殺菌を熱水噴霧式(スプレー式)で行うように運転モードが自動的に切り替わることで、作業効率も向上させることができる。
本実施形態のレトルト装置1は、貯湯槽101から処理槽2に所定量の熱水を供給させる解凍制御部610と、解凍制御部610により熱水が供給された後予め設定された第1時間が経過した場合に処理槽2に貯留された熱水の一部を排出又は熱水供給部100に回収し、熱水噴霧部200から処理槽2に熱水の噴霧を開始させる殺菌制御部620と、を備える。
これにより、解凍工程を貯湯式(すなわち、熱水の供給)で行うことで解凍時間を短縮することができる。さらに、第1時間が経過した後、殺菌工程をスプレー式(すなわち、熱水の噴霧)で行うことで、解凍工程に用いた熱水を全量排出せずに殺菌工程を行えるので、熱の利用効率を高められる。さらに、殺菌工程の起動に掛かる時間、すなわち、熱水の殺菌温度までの昇温時間を短縮することができるとともに、殺菌工程の起動に必要な熱量(エネルギー)、すなわち熱水の殺菌温度まで昇温させるために必要な熱量(エネルギー)の節約を図ることができる。また、レトルト装置1において、解凍を貯湯式で行い、所定時間経過後、加熱殺菌を熱水噴霧式(スプレー式)で行うように運転モードが自動的に切り替わることで、作業効率も向上させることができる。
本実施形態のレトルト装置1によれば、熱水供給部100は、処理槽2に貯留された熱水を循環させる熱水循環ライン201と、熱水循環ライン201に配置され該熱水循環ライン201を流通する熱水を加熱する加熱部203と、を備え、殺菌制御部620は、熱水循環ライン201を流通する熱水を処理槽2に噴霧させる。
これにより、解凍工程で用いた熱水を循環させて殺菌工程に利用することで、熱の利用効率をさらに高めることができる。
これにより、解凍工程で用いた熱水を循環させて殺菌工程に利用することで、熱の利用効率をさらに高めることができる。
以上、この発明を実施形態により説明したが、この発明は、その主旨を変更しない範囲で種々変更実施可能なことは勿論である。
[変形例2]
第1実施形態においては、「解凍制御部610」は、貯湯槽101から処理槽2への熱水の供給を行い、処理槽2内の被処理物9を貯湯槽101で加熱された所定温度(例えば90度)の熱水に浸けさせた後、第1時間、被処理物9を処理槽2内の熱水に浸けさせた解凍状態を維持させた。
これに対して、「殺菌加熱制御部622」と同様に、「解凍制御部610」が、貯湯切替弁106を開放させ、スプレー切替弁205を閉鎖させた状態で、送水ポンプ202を作動させ、加熱部203により熱水循環ライン201を流通する熱水を加熱させることで、熱水循環ライン201を流通する熱水を貯湯切替弁106を経由して、処理槽2に供給するように構成してもよい。
そうすることで、解凍工程において、解凍制御部610は、第1時間の間、処理槽2の温度を所定温度(例えば80度)に保持させるように制御することができる。
第1実施形態においては、「解凍制御部610」は、貯湯槽101から処理槽2への熱水の供給を行い、処理槽2内の被処理物9を貯湯槽101で加熱された所定温度(例えば90度)の熱水に浸けさせた後、第1時間、被処理物9を処理槽2内の熱水に浸けさせた解凍状態を維持させた。
これに対して、「殺菌加熱制御部622」と同様に、「解凍制御部610」が、貯湯切替弁106を開放させ、スプレー切替弁205を閉鎖させた状態で、送水ポンプ202を作動させ、加熱部203により熱水循環ライン201を流通する熱水を加熱させることで、熱水循環ライン201を流通する熱水を貯湯切替弁106を経由して、処理槽2に供給するように構成してもよい。
そうすることで、解凍工程において、解凍制御部610は、第1時間の間、処理槽2の温度を所定温度(例えば80度)に保持させるように制御することができる。
[変形例3]
第1実施形態においては、「殺菌制御部620の備える解凍停止部621」により、処理槽2に貯留された熱水の一部を排出又は貯湯槽101に回収させた。
これに対して、「解凍制御部610」が「解凍停止部621」を備えるようにしてもよい。また、「解凍停止部621」を、「殺菌制御部620」から独立した機能部としてもよい。
第1実施形態においては、「殺菌制御部620の備える解凍停止部621」により、処理槽2に貯留された熱水の一部を排出又は貯湯槽101に回収させた。
これに対して、「解凍制御部610」が「解凍停止部621」を備えるようにしてもよい。また、「解凍停止部621」を、「殺菌制御部620」から独立した機能部としてもよい。
[変形例4]
第1実施形態では、加熱部203の熱源は、蒸気源から構成したが、場合により電気ヒータを用いてもよい。
第1実施形態では、加熱部203の熱源は、蒸気源から構成したが、場合により電気ヒータを用いてもよい。
[変形例5]
第1実施形態においては、熱水噴霧部200は、処理槽2に設けられた噴射ノズル206から熱水を細かいミストで処理槽2内に噴霧させるスプレー式を適用した。これに対して、スプレー式に替えて処理槽2の上方に設けられたシャワープレート(分散板)の小孔から熱水を降らせるシャワー式を適用してもよい。
第1実施形態においては、熱水噴霧部200は、処理槽2に設けられた噴射ノズル206から熱水を細かいミストで処理槽2内に噴霧させるスプレー式を適用した。これに対して、スプレー式に替えて処理槽2の上方に設けられたシャワープレート(分散板)の小孔から熱水を降らせるシャワー式を適用してもよい。
1 レトルト装置
2 処理槽
9 被処理物
100 熱水供給部(貯湯式解凍部)
200 熱水噴霧部(スプレー式殺菌部)
201 熱水循環ライン
203 加熱部
600 制御部
610 解凍制御部
620 殺菌制御部
2 処理槽
9 被処理物
100 熱水供給部(貯湯式解凍部)
200 熱水噴霧部(スプレー式殺菌部)
201 熱水循環ライン
203 加熱部
600 制御部
610 解凍制御部
620 殺菌制御部
Claims (3)
- 被処理物が収容される処理槽と、
前記処理槽に熱水を供給する熱水供給部と、
前記処理槽に熱水を噴霧する熱水噴霧部と、
前記熱水供給部及び前記熱水噴霧部を制御する制御部と、を備えるレトルト装置であって、
前記制御部は、
前記熱水供給部から前記処理槽に所定量の熱水を供給させる解凍制御部と、
前記解凍制御部により熱水が供給された後予め設定された第1時間が経過した場合に前記処理槽に貯留された熱水の一部を排出又は前記熱水供給部に回収し、前記熱水噴霧部から前記処理槽に熱水の噴霧を開始させる殺菌制御部と、を備えるレトルト装置。 - 前記熱水供給部は、
前記処理槽に貯留された熱水を循環させる熱水循環ラインと、
前記熱水循環ラインに配置され該熱水循環ラインを流通する熱水を加熱する加熱部と、を備え、
前記殺菌制御部は、前記熱水循環ラインを流通する熱水を前記処理槽に噴霧させる請求項1に記載のレトルト装置。 - 前記殺菌制御部は、予め設定された第2時間前記処理槽に熱水を噴霧させる請求項1又は2に記載のレトルト装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016072133A JP2017176126A (ja) | 2016-03-31 | 2016-03-31 | レトルト装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016072133A JP2017176126A (ja) | 2016-03-31 | 2016-03-31 | レトルト装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017176126A true JP2017176126A (ja) | 2017-10-05 |
Family
ID=60007943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016072133A Pending JP2017176126A (ja) | 2016-03-31 | 2016-03-31 | レトルト装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2017176126A (ja) |
-
2016
- 2016-03-31 JP JP2016072133A patent/JP2017176126A/ja active Pending
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