JP6687280B2 - 加工物の表面をレーザ硬化するための方法及び装置 - Google Patents
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Description
[項目1]
加工物の表面をレーザ硬化する方法であって、
上記加工物は、少なくとも1つの硬化されるべき表面領域を含み、
上記方法は、
上記表面領域上にレーザスポットを生成するように、レーザ源からのレーザビームを上記表面領域上に投射する段階と、
上記加工物の上記表面領域と上記レーザ源との間で相対運動を生成する段階であって、これにより、上記レーザスポットが上記表面領域の複数の異なる部分上に続いて投射されることを可能にする、段階と、
上記表面領域上に2次元の有効レーザスポットを生成するように、上記相対運動の間に、上記表面領域のそれぞれの上記部分全体にわたって、走査パターンをたどり、上記レーザビームを2次元的に繰り返し走査する段階であって、上記有効レーザスポットは、エネルギー分布を有する、段階と
を備え、
上記相対運動に起因し、上記有効レーザスポットは、上記表面領域に沿って進み、
上記走査パターンは、少なくとも3つのセグメントを有し、上記レーザビームが複数の上記セグメントのうちの少なくとも1つをたどることが複数の上記セグメントのうちの少なくとも別の1つをたどることよりも頻繁に行われるように、上記レーザビームの上記走査が実行される、
方法。
[項目2]
上記走査パターンは、第1方向において次々に分布される、ほぼ平行である少なくとも3つの線を有し、複数の上記線は、第2方向に延在し、
上記少なくとも3つの線は、上記第1方向において次々に配置される、第1線と、少なくとも1つの中間線と、最終線とを含み、
上記レーザビーム又は実際のレーザスポットが上記中間線をたどることが、上記レーザビームが上記第1線及び上記最終線のうちの少なくとも1つをたどることよりも頻繁に行われるように、上記レーザビームの上記走査が実行される、
項目1に記載の方法。
[項目3]
上記走査パターンは、第1方向に次々に分布される、ほぼ平行である少なくとも3つの線を有し、複数の上記線は、第2方向に延在し、
上記少なくとも3つの線は、上記第1方向において次々に配置される、第1線と、少なくとも1つの中間線と、最終線とを含み、
上記レーザスポットは、上記第1線をたどった後、上記中間線、上記最終線、上記中間線、上記第1線という順序でたどるよう上記レーザスポットが従うシーケンスに従って、複数の上記線に沿って走査されるように、上記レーザビームの上記走査が実行される、
項目1に記載の方法。
[項目4]
上記走査パターンは、複数の上記中間線を含む、項目2又は3に記載の方法。
[項目5]
上記レーザスポットは、上記第1線と上記最終線とに沿う場合より高い速度で上記少なくとも1つの中間線に沿って移動される、項目2から4の何れか一項に記載の方法。
[項目6]
上記走査パターンは、上記第1線、上記最終線、及び上記中間線の複数の端部の間において上記第1方向に延在する複数の線をさらに含み、それによって、上記レーザスポットは、上記第1線、複数の上記中間線、及び上記最終線の間で移動するとき、上記第1方向に延在する上記複数の線をたどる、項目2から5の何れか一項に記載の方法。
[項目7]
上記レーザスポットは、上記第1線と上記最終線とに沿う場合より高い速度で上記第1方向に延在する上記複数の線に沿って移動される、項目6に記載の方法。
[項目8]
上記レーザスポットは、上記レーザビームのパワーをほぼ一定に維持している間に、上記走査パターンに沿って移動される、項目1から7の何れか一項に記載の方法。
[項目9]
上記加工物は、クランク軸である、項目1から8の何れか一項に記載の方法。
[項目10]
クランク軸の複数のジャーナルの複数の表面をレーザ硬化する方法であって、
上記クランク軸は、少なくとも第1幅を有する第1ジャーナルと、少なくとも第2幅を有する第2ジャーナルとを備え、上記第2幅は、上記第1幅より大きく、複数の上記ジャーナルのそれぞれは、硬化されるべき表面領域を有し、上記表面領域は、上記ジャーナルの周方向に対応する第1方向と、上記クランク軸の回転軸に平行する第2方向とに延在し、
上記方法は、
A)上記方法の少なくとも1つの段階の間に、上記第2ジャーナルの上記表面領域上に、第1レーザ源からのレーザビームと第2レーザ源からのレーザビームとを同時に投射する段階と、
B)上記方法の少なくとも別の段階の間に、上記第2レーザ源からのレーザビームをクランク軸の別の部分上に同時に投射している間に、上記第1レーザ源からのレーザビームを上記第1ジャーナルの上記表面領域上に投射する段階と
を備える、
方法。
[項目11]
A)上記方法の少なくとも1つの段階の間に、上記表面領域上に有効レーザスポットを生成するように、第1レーザ源からのレーザビームを上記第2ジャーナルの上記表面領域上に投射する段階であって、上記有効レーザスポットは、硬化されるべき上記表面領域の第1部分全体にわたって上記第2方向に延在する段階、及び、上記表面領域上に有効レーザスポットを生成するように、第2レーザ源からの別のレーザビームを上記第2ジャーナルの上記表面領域に投射する段階であって、上記有効レーザスポットは、硬化されるべき上記表面領域の第2部分全体にわたって上記第2方向に延在し、上記第1部分及び上記第2部分は共に、硬化されるべき上記表面領域の大部分全体にわたって延在する、段階と、
B)上記方法の少なくとも別の段階の間に、上記表面領域上に有効レーザスポットを生成するように、上記第1レーザ源からのレーザビームを上記第1ジャーナルの上記表面領域上に投射する段階であって、上記有効レーザスポットは、硬化されるべき上記表面領域の上記大部分全体にわたって上記第1方向に延在する、段階と、
上記方法の上記A)及び上記B)の両方の段階の間に、上記周方向において複数の上記表面領域の複数の異なる部分上に複数の上記有効レーザスポットを続いて投射するように、上記クランク軸の上記表面と上記レーザ源との間で上記周方向において相対運動を生成する段階であって、複数の上記有効レーザスポットは、2次元のエネルギー分布を有する、段階と
を備える
項目10に記載の方法。
[項目12]
上記第1部分は、上記第1部分と上記第2部分との間にいかなる実質的な重なりがなく、上記第2部分に実質的に隣接して配置される、項目11に記載の方法。
[項目13]
上記第1部分及び上記第2部分は、互いに実質的に重なっている、項目11に記載の方法。
[項目14]
上記方法の少なくとも1つの段階の間に、上記第1レーザ源からの上記レーザビームが、1つのクランク軸のジャーナル上に投射され、上記第2レーザ源からの上記レーザビームは、別のクランク軸のジャーナル上に投射される、項目10から13の何れか一項に記載の方法。
[項目15]
上記方法の少なくとも1つの段階の間に、上記第1幅を有する2つのジャーナルが、第1の段階にて硬化され、上記第2幅を有する1つのジャーナルが、第2の段階にて硬化され、複数の上記段階は、2つの上記段階の間に、上記第2方向において複数の上記レーザ源と上記クランク軸との間でいかなる相対運動なく、次々に続く、項目10から14の何れか一項に記載の方法。
[項目16]
少なくとも2つのクランク軸の複数の表面領域を硬化する方法であって、
上記方法は、
上記方法の少なくとも1つの段階の間に、複数の上記クランク軸のうちの第1のクランク軸を硬化するために、第1レーザ源からのレーザビームと、第2レーザ源からのレーザビームとを同時に用いる段階と、
上記方法の少なくとも別の段階の間に、複数の上記クランク軸のうちの上記第1のクランク軸を硬化するための上記第1レーザ源からのレーザビームと、複数の上記クランク軸のうちの第2のクランク軸を硬化するための上記第2レーザ源からのレーザビームとを同時に用いる段階と
を備える、
方法。
[項目17]
上記方法の少なくとも1つの段階の間に、複数の上記クランク軸のうちの上記第2のクランク軸を硬化するための第3レーザ源からのレーザビームを用いる間に、複数の上記クランク軸のうちの上記第1のクランク軸を硬化するために、上記第1レーザ源からのレーザビームと上記第2レーザ源からのレーザビームとを同時に用いる段階を備える項目16に記載の方法。
[項目18]
上記表面領域は、少なくとも1つのより感熱性の高いサブ領域と、少なくとも1つのより感熱性の低いサブ領域を有し、上記エネルギー分布が適合され、これにより、上記より感熱性の高いサブ領域の過熱を防ぐように、より感熱性の高いサブ領域におけるエネルギー分布がより感熱性の低いサブ領域におけるエネルギー分布と異なる、項目1から9、11から13、16から17の何れか一項に記載の方法。
[項目19]
加工物の表面領域を硬化するための装置であって、
上記装置は、上記表面領域上に有効レーザスポットを投射するよう配置される少なくとも1つのレーザ源と、上記表面領域と上記有効レーザスポットとの間で相対運動を生成するための手段とを備え、これにより、上記表面領域の複数の異なる部分を、硬化するのに適した温度まで続いて漸次に加熱するように、上記有効レーザスポットが上記表面領域に沿って移動され、
上記装置は、項目1から18の何れか一項に記載の方法を実行するよう配置される、
装置。
[項目20]
2つのレーザ源を備え、クランク軸の複数のジャーナルの複数の表面を硬化する処理のうちの1つの段階において、複数の上記レーザ源の両方から複数のレーザビームを1つのジャーナルに当てることによって、上記ジャーナルを硬化し、上記処理の別の段階において、複数の上記レーザ源のうちの1つ目からのレーザビームを複数の上記ジャーナルのうちの1つに当て、複数の上記レーザ源のうちの他方からのレーザビームを複数の上記ジャーナルのうちの他の1つに当てることによって、2つのジャーナルを硬化するために配置される項目19に記載の装置。
Claims (11)
- 加工物の表面をレーザ硬化する方法であって、
前記加工物は、少なくとも1つの硬化されるべき表面領域を含み、
前記方法は、
前記表面領域上にレーザスポットを生成するように、レーザ源からのレーザビームを前記表面領域上に投射する段階と、
前記加工物の前記表面領域と前記レーザ源との間で相対運動を生成する段階であって、これにより、前記レーザスポットが前記表面領域の複数の異なる部分上に続いて投射されることを可能にする、段階と、
前記表面領域上に2次元の仮想レーザスポットを生成するように、前記相対運動の間に、前記表面領域のそれぞれの前記部分全体にわたって、走査パターンをたどり、前記レーザビームを2次元的に繰り返し走査する段階であって、前記仮想レーザスポットは、エネルギー分布を有する、段階と
を備え、
前記相対運動に起因し、前記仮想レーザスポットは、前記表面領域に沿って進み、
前記走査パターンは、少なくとも3つの線を有し、前記レーザビームが複数の前記線のうちの少なくとも1つをたどることが複数の前記線のうちの少なくとも別の1つをたどることよりも頻繁に行われるように、前記レーザビームの前記走査が実行される、
方法。 - 前記走査パターンは、第1方向において次々に配置される、ほぼ平行である少なくとも3つの線を有し、複数の前記線は、前記第1方向に垂直な第2方向に延在し、
前記少なくとも3つの線は、前記第1方向において次々に配置される、第1線と、少なくとも1つの中間線と、最終線とを含み、
前記レーザビームが前記中間線をたどることが、前記レーザビームが前記第1線及び前記最終線のうちの少なくとも1つをたどることよりも頻繁に行われるように、前記レーザビームの前記走査が実行される、
請求項1に記載の方法。 - 前記走査パターンは、第1方向において次々に配置される、ほぼ平行である少なくとも3つの線を有し、複数の前記線は、前記第1方向に垂直な第2方向に延在し、
前記少なくとも3つの線は、前記第1方向において次々に配置される、第1線と、少なくとも1つの中間線と、最終線とを含み、
前記レーザビームは、前記第1線をたどった後、前記中間線、前記最終線、前記中間線、前記第1線という順序でたどるよう前記レーザビームが従うシーケンスに従って、複数の前記線に沿って走査されるように、前記レーザビームの前記走査が実行される、
請求項1に記載の方法。 - 前記走査パターンは、複数の前記中間線を含む、請求項2又は3に記載の方法。
- 前記レーザスポットは、前記第1線と前記最終線とに沿う場合より高い速度で前記少なくとも1つの中間線に沿って移動される、請求項2から4の何れか一項に記載の方法。
- 前記走査パターンは、前記第1線、前記最終線、及び前記中間線の複数の端部の間において前記第1方向に延在する複数の線をさらに含み、それによって、前記レーザスポットは、前記第1線、複数の前記中間線、及び前記最終線の間で移動するとき、前記第1方向に延在する前記複数の線をたどる、請求項2から5の何れか一項に記載の方法。
- 前記レーザスポットは、前記第1線と前記最終線とに沿う場合より高い速度で前記第1方向に延在する前記複数の線に沿って移動される、請求項6に記載の方法。
- 前記レーザスポットは、前記レーザビームのパワーをほぼ一定に維持している間に、前記走査パターンに沿って移動される、請求項1から7の何れか一項に記載の方法。
- 前記加工物は、クランク軸である、請求項1から8の何れか一項に記載の方法。
- 前記表面領域は、少なくとも1つのより感熱性の高いサブ領域と、少なくとも1つのより感熱性の低いサブ領域を有し、前記エネルギー分布が適合され、これにより、前記より感熱性の高いサブ領域の過熱を防ぐように、より感熱性の高いサブ領域におけるエネルギー分布がより感熱性の低いサブ領域におけるエネルギー分布と異なる、請求項1から9の何れか一項に記載の方法。
- 加工物の表面領域を硬化するための装置であって、
前記装置は、前記表面領域上に仮想レーザスポットを投射するよう配置される少なくとも1つのレーザ源と、前記表面領域と前記仮想レーザスポットとの間で相対運動を生成するための手段とを備え、これにより、前記表面領域の複数の異なる部分を、硬化するのに適した温度まで続いて漸次に加熱するように、前記仮想レーザスポットが前記表面領域に沿って移動され、
前記装置は、請求項1から9の何れか一項に記載の方法を実行するようプログラミングされる
装置。
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