JP6676972B2 - 磁気センサ - Google Patents

磁気センサ Download PDF

Info

Publication number
JP6676972B2
JP6676972B2 JP2016003761A JP2016003761A JP6676972B2 JP 6676972 B2 JP6676972 B2 JP 6676972B2 JP 2016003761 A JP2016003761 A JP 2016003761A JP 2016003761 A JP2016003761 A JP 2016003761A JP 6676972 B2 JP6676972 B2 JP 6676972B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
graphene layer
insulating film
magnetic sensor
voltage
gate electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016003761A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017125714A (ja
Inventor
裕穂 阿南
裕穂 阿南
一彦 加納
加納  一彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denso Corp filed Critical Denso Corp
Priority to JP2016003761A priority Critical patent/JP6676972B2/ja
Publication of JP2017125714A publication Critical patent/JP2017125714A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6676972B2 publication Critical patent/JP6676972B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Measuring Magnetic Variables (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)

Description

本発明は、グラフェン層を備える磁気センサに関するものである。
従来、ホール効果を用いて磁界の強度を検出するホール素子を有する磁気センサが知られている。ホール効果とは、電流の流れているものに対し、電流が流れる方向に垂直な磁界が印加されると、電流が流れる方向と磁界が印加された方向の両方に直交する方向に電位差が生じる現象である。ホール効果によって生じる電位差は、印加された磁界の磁束密度に比例するため、この電位差を用いて磁界の強度を検出することができる。
理想的には、磁束密度が0のときのホール素子の出力電圧は0である。しかし、実際には、ホール素子の製造ばらつき等により、磁束密度が0のときのホール素子の出力電圧が0にならず、オフセット電圧が生じることが多い。
オフセット電圧を除去する方法として、例えばスピニングカレント法が挙げられる。スピニングカレント法では、ホール素子の入力端子間に電流を流したときに出力端子から出力された電圧と、出力端子間に電流を流したときに入力端子から出力された電圧とを用いてオフセット電圧を除去する。しかしながら、各端子の切り替えに伴い、ホール素子において電流が流れる領域が変化するため、オフセット電圧を十分に除去できない場合がある。また、ホール素子の形状を4回対称とする必要がある。
これに対し、グラフェンを用いたホール素子では、ゲート電極に印加する電圧によってグラフェンを流れるキャリアの種類を変更できる。そして、キャリアの種類を変更する前後の出力電位差を用いてオフセット電圧を除去することが可能である。そのため、グラフェンを用いたホール素子では、オフセット電圧の除去のためにホール素子の形状を4回対称とする必要がなく、ホール素子の感度がより高くなるように形状を設定することができる。例えば、ホール素子の形状を線対称とすることができる。
このようなグラフェンを用いた磁気センサについて、例えば特許文献1では、グラフェン層と電気的に絶縁されたゲート電極を備える磁気センサが提案されている。この磁気センサでは、ゲート電極に印加する電圧を変化させることで、ホール素子の感度の調整を図っている。
特開2011−40750号公報
ホール素子の感度は、チャネル長が短いほど高くなる。しかしながら、電極付近ではキャリア濃度がピンニングされる。そして、特許文献1に記載の磁気センサにおいて感度を高くするためにチャネル長を短くしていくと、キャリア濃度がピンニングされた部分の長さのチャネル長に占める割合が大きくなっていく。そのため、チャネル長を短くすると、ゲート電圧による感度変調や、キャリア種類の変換などができなくなり、磁気センサの感度を十分に向上させることができないという問題があった。
本発明は上記点に鑑みて、感度を向上させることができる磁気センサを提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、基板(1)と、基板の一面側に形成されたグラフェン層(2)と、グラフェン層の表面に、一方向に並ぶように形成された2つの電流リード電極(3)と、グラフェン層の表面に、一方向とは異なる他方向に並ぶように形成された2つの電圧リード電極(4)と、グラフェン層の表面に形成された第1絶縁膜(5、9)と、第1絶縁膜によりグラフェン層と電気的に絶縁された第1ゲート電極(6、8)と、を備え、グラフェン層に、第1ゲート電極にゲート電圧を印加することにより電気抵抗が変化する領域(2a)が少なくとも1つ形成されており、領域の1つは、2つの電流リード電極の一方に隣接しており、他方から離れている。
このような構成では、第1ゲート電極にゲート電圧を印加し、グラフェン層のうち電流リード電極に隣接する領域の電気抵抗を小さくすることにより、実効的なチャネル長を短くして、磁気センサの感度を向上させることができる。
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係の一例を示すものである。
本発明の第1実施形態にかかる磁気センサの斜視図である。 本発明の第1実施形態にかかる磁気センサの平面図である。 図2のIII−III断面図である。 グラフェンを用いたトランジスタの断面図である。 ゲート電圧とグラフェンの電気抵抗との関係を示すグラフである。 磁気センサの動作を示す断面図である。 グラフェン層の面内方向の位置とエネルギーとの関係を示すグラフである。 グラフェン層の面内方向の位置と電気抵抗との関係を示すグラフである。 磁気センサの動作を示す断面図である。 グラフェン層の面内方向の位置とエネルギーとの関係を示すグラフである。 グラフェン層の面内方向の位置と電気抵抗との関係を示すグラフである。 磁束密度とホール電圧との関係を示すグラフである。 比較例の斜視図である。 グラフェン層の面内方向の位置とキャリア濃度との関係を示すグラフである。 第1実施形態の変形例の平面図である。 図15のXVI−XVI断面図である。 本発明の第2実施形態にかかる磁気センサの平面図である。 本発明の第3実施形態にかかる磁気センサの平面図である。 図18のXIX−XIX断面図である。 本発明の第4実施形態にかかる磁気センサの平面図である。 本発明の第5実施形態にかかる磁気センサの平面図である。 図21のXXII−XXII断面図である。 本発明の第6実施形態にかかる磁気センサの断面図であって、図22に相当する図である。 本発明の他の実施形態にかかる磁気センサの断面図である。 本発明の他の実施形態にかかる磁気センサの断面図である。
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、同一符号を付して説明を行う。
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態について説明する。本実施形態の磁気センサは、ホール効果を用いて磁界の強度を検出するものであり、図1〜図3に示すように、基板1と、グラフェン層2と、2つの電流リード電極3と、2つの電圧リード電極4と、絶縁膜5と、ゲート電極6と、を備える。
なお、図2では、絶縁膜5の図示を省略している。また、図2は断面図ではないが、図を見やすくするために、電流リード電極3、電圧リード電極4、ゲート電極6にハッチングを施してある。
図3に示すように、基板1は、Si層1aとSiO層1bとが積層されて構成されている。基板1のうちSiO層1bが形成された一面側には、グラフェン層2が形成されている。Si層1a、SiO層1bは、それぞれ、第2ゲート電極、第2絶縁膜に相当し、Si層1aは、SiO層1bによって、グラフェン層2と電気的に絶縁されている。
グラフェン層2は本実施形態の磁気センサにおいてホール素子として用いられるものである。図1、図2に示すように、本実施形態では、グラフェン層2の上面形状は、矩形状とされている。
図1〜図3に示すように、グラフェン層2の表面には、一方向(図2、図3中紙面左右方向)に並ぶように、2つの電流リード電極3が形成されている。具体的には、グラフェン層2の基板1とは反対側の面を一面とし、基板1側の面を他面とし、一面と他面とを連結する面を側面とすると、電流リード電極3は、基板1の表面から、グラフェン層2の側面のうち一方向に対向する部分を通り、グラフェン層2の一面に至るように形成されている。
電流リード電極3は、磁気センサの入力端子として用いられるものであり、外部の回路から電圧が印加されることにより、2つの電流リード電極3の間に電流が流れる。電流リード電極3は、例えば金、アルミニウム等の非磁性の導電材料で構成されている。
図1、図2に示すように、グラフェン層2の表面には、前述した一方向とは異なる他方向(図2中紙面上下方向)に並ぶように、2つの電圧リード電極4が形成されている。具体的には、電圧リード電極4は、基板1の表面から、グラフェン層2の側面のうち他方向に対向する部分に至るように形成されている。
電圧リード電極4は、磁気センサの出力端子として用いられるものであり、グラフェン層2に磁界が印加されることにより、2つの電圧リード電極4の間に、印加された磁界の磁束密度に応じた電位差が生じる。電圧リード電極4は、例えば金、アルミニウム等の非磁性の導電材料で構成されている。
図1、図3に示すように、グラフェン層2の一面、および、電流リード電極3の表面には、絶縁膜5が形成されている。本実施形態では、絶縁膜5は、例えばSiO、Al、Si等で構成された固体絶縁膜とされている。絶縁膜5は、第1絶縁膜に相当する。
絶縁膜5の表面にはゲート電極6が積層されており、ゲート電極6は、絶縁膜5によりグラフェン層2と電気的に絶縁されている。本実施形態では、ゲート電極6は、例えば金、アルミニウム等の非磁性の金属材料で構成されている。ゲート電極6は、第1ゲート電極に相当する。
後述するように、ゲート電極6に印加する電圧を変化させると、グラフェン層2の電気抵抗が変化する。本実施形態では、ゲート電極6へのゲート電圧の印加により、グラフェン層2のうちゲート電極6の下方に位置する領域の電気抵抗が変化する。グラフェン層2のうちゲート電極6へのゲート電圧の印加により電気抵抗が変化する領域を領域2aとする。領域2aは、少なくとも1つ形成されている。
図1〜図3に示すように、本実施形態の磁気センサは、ゲート電極6を2つ備えており、これにより、領域2aが2つ形成されている。そして、一方の領域2aは、図3中紙面右側の電流リード電極3に隣接しており、図3中紙面左側の電流リード電極3から離されている。また、他方の領域2aは、図3中紙面左側の電流リード電極3に隣接しており、図3中紙面右側の電流リード電極3から離されている。また、2つのゲート電極6は、2つの領域2aが互いに離されるように配置されている。
このような構成の磁気センサを製造するには、まず、Siで構成される基板の表面を熱酸化してSi層1aとSiO層1bとの積層構造を形成し、これにより、基板1を形成する。つぎに、基板1の表面にグラファイトから剥離させたグラフェンを貼り付けることによりグラフェン層2を形成し、フォトリソグラフィおよびエッチングにより、基板1の表面およびグラフェン層2の表面に電流リード電極3および電圧リード電極4を形成する。最後に、CVD(Chemical Vapor Deposition)、ALD(Atomic Layer Deposition)等により、グラフェン層2、電流リード電極3、電圧リード電極4の表面に絶縁膜5を形成し、フォトリソグラフィおよびエッチングにより、絶縁膜5の表面にゲート電極6を形成する。なお、絶縁膜5は、電流リード電極3の一部と電圧リード電極4の一部が露出するように形成される。これにより、電流リード電極3および電圧リード電極4を外部の回路に接続することが可能となる。
本実施形態の磁気センサでは、ホール効果を用いて、グラフェン層2に印加される磁界の磁束密度を検出する。
2つの電流リード電極3を通してグラフェン層2に電流を流したとき、2つの電圧リード電極4から出力されるホール電圧Vは、V=SBで表される。ここで、Sは磁気センサの感度、Bはグラフェン層2に印加された磁界の磁束密度である。
また、感度Sは、グラフェン層2の移動度をμ、電流リード電極3間のチャネル幅をW、チャネル長をL、磁気センサへの入力電圧をVinとすると、S=μ・(W/L)・Vinで表される。このように、感度SはW/Lに比例し、チャネル長Lが短いほど感度Sが高くなる。
本実施形態では、グラフェンの性質を利用して実効的なチャネル長を短くすることにより、感度Sを高くしている。これについて、まず、ゲート電圧の変化によるグラフェンの電気抵抗の変化について図4、図5を用いて説明する。
図4は、グラフェンを用いたトランジスタの断面図である。このトランジスタは、基板11と、基板11の表面に形成されたグラフェン層12と、グラフェン層12の一方向の両端部に形成された電極13と、グラフェン層12および電極13の表面に形成された絶縁膜14とを備えている。基板11は、図示しないSi層とSiO層とが積層されて形成されており、グラフェン層12は基板11のSiO層の表面に形成されている。
このような構成のトランジスタにおいて、基板11に対して電源20から印加されるバックゲート電圧をVBGとすると、グラフェン層12のキャリア濃度は、バックゲート電圧VBGによって変化する。
具体的には、図5に示すように、バックゲート電圧VBGが小さいほど正孔の濃度が高くなり、バックゲート電圧VBGが大きいほど電子の濃度が高くなる。そして、バックゲート電圧VBGがある電圧VCNPと等しいとき、電子の濃度と正孔の濃度が等しくなる。この電圧VCNPは電荷中性点と呼ばれる。
また、電荷素量をq、キャリア濃度をn(VBG)とすると、グラフェンの抵抗率ρは、ρ=1/{q・n(VBG)・μ}となる。
このような性質により、グラフェン層12の電気抵抗は、図5に示すように変化する。つまり、グラフェン層12のシート抵抗をR(Ω/□)とすると、バックゲート電圧VBGが電荷中性点VCNPと等しいとき、シート抵抗Rは極大となり、バックゲート電圧VBGと電荷中性点VCNPとの差が大きくなるにつれて、シート抵抗Rは小さくなる。
図4に示すトランジスタはトップゲート電極を備えていないが、絶縁膜14の表面にトップゲート電極を形成し、トップゲート電圧を印加した場合にも、グラフェン層12のシート抵抗Rは、図5と同様に変化する。
本実施形態では、トップゲート電極としてゲート電極6が2つ形成されている。また、一方のゲート電極6は、グラフェン層2のうち、一方の電流リード電極3に隣接する部分の上部に形成されており、他方のゲート電極6は、グラフェン層2のうち、他方の電流リード電極3に隣接する部分の上部に形成されている。このようにゲート電極6を部分的に形成することにより、本実施形態の磁気センサは図6〜図11に示すように動作する。
具体的には、図6に示すように、電源20から基板1のSi層1aに対してバックゲート電圧VBGを印加すると、図4に示すトランジスタと同様に、グラフェン層2のキャリア濃度が図7に示すように変化する。ここでは、VCNP<VBGとして、電子の濃度を正孔の濃度よりも高くしている。
これにより、グラフェン層2のうち2つの電流リード電極3で挟まれた部分の電気抵抗が変化する。具体的には、図8に示すように、グラフェン層2の電気抵抗は、2つの電流リード電極3の下方に位置する2つの部分においては、ほぼ0となり、これら2つの部分に挟まれ、チャネルが形成される領域においては、0よりも大きい値であるRとなる。
この状態において、図9に示すように、電源21からゲート電極6に対してトップゲート電圧VTGを印加すると、グラフェン層2のキャリア濃度が図10に示すように変化する。ここでは、VCNP<VBG、0<VTGとして、グラフェン層2のうちゲート電極6の下方に位置する領域2aの電子の濃度をさらに高くしている。これにより、図11に示すように、グラフェン層2の電気抵抗は、電流リード電極3の下方に位置する領域および領域2aにおいては、ほぼ0となり、2つの領域2aに挟まれた領域においてはRとなる。
このように、部分的に形成されたゲート電圧6へのトップゲート電圧VTGの印加により、グラフェン層2のキャリアの種類および濃度が部分的に変化し、部分的なキャリア濃度の変化により、電気抵抗が部分的に変化する。そして、トップゲート電圧VTGを十分に大きくすることにより、領域2aの電気抵抗がほぼ0となる。これにより、実効的なチャネル長Lが、2つの領域2a間の距離と等しくなり、元のチャネル長Lよりも短くなる。
以上説明したように、本実施形態では、ゲート電極6へのトップゲート電圧VTGの印加により、実効的なチャネル長Lがチャネル長Lよりも短くなり、W/LがW/Lよりも大きくなる。したがって、図12に示すように、磁束密度Bの変化に対するホール電圧Vの変化が大きくなる。すなわち、磁気センサの感度が向上する。
また、本実施形態の磁気センサでは、電流リード電極3付近におけるキャリア濃度のピンニングの影響を低減することができる。これについて、図13、図14を用いて説明する。
図13に示す磁気センサは、本実施形態と同様に基板1、グラフェン層2、電流リード電極3、電圧リード電極4を備えているが、本実施形態の磁気センサとは異なり、絶縁膜5およびゲート電極6を備えていない。
このような磁気センサでは、図14に示すように、グラフェン層2のうち電流リード電極3付近において、キャリア濃度がピンニングされる。なお、図14において、実線は、VBG=VCNPのときのキャリア濃度を示し、破線は、VBG<VCNPのときのキャリア濃度を示し、一点鎖線は、VCNP<VBGのときのキャリア濃度を示している。また、図14において、キャリア濃度が正であるとは、正孔の濃度が電子の濃度よりも大きいことを示し、キャリア濃度が負であるとは、電子の濃度が正孔の濃度よりも大きいことを示し、キャリア濃度が0であるとは、電子の濃度が正孔の濃度と等しいことを示している。
図14に示すように、グラフェン層2のうち電流リード電極3からの距離がL未満の部分においては、キャリア濃度がピンニングされる。前述したように、チャネル長Lが短いほど磁気センサの感度が高くなるが、チャネル長Lが短いほど、ピンニング距離Lのチャネル長Lに占める割合が大きくなり、キャリア濃度のピンニングの影響が大きくなる。したがって、図13に示す比較例では、バックゲート電圧VBGを変化させても、キャリアの種類と濃度を十分に変調できず、磁気センサの感度を十分に向上させることができない。
これに対し、本実施形態では、領域2aが電流リード電極3に隣接するように、部分的にゲート電極6を形成し、これに十分大きなトップゲート電圧VTGを印加することにより、実効的なチャネル長Lを元のチャネル長Lよりも領域2aの一方向の幅の分だけ短くしている。したがって、元のチャネル長Lを十分大きくするとともに、ゲート電極6の一方向の幅を十分大きくして領域2aの一方向の幅を十分大きくすることにより、電流リード電極3付近におけるキャリア濃度のピンニングの影響を低減することができる。これにより、磁気センサの感度をさらに向上させることができる。
なお、本実施形態では、基板1の表面にグラファイトから剥離させたグラフェンを貼り付けることによりグラフェン層2を形成したが、基板1とは別の基板にCVD等によりグラフェン層を形成し、形成したグラフェン層を基板1に転写することにより、グラフェン層2を形成してもよい。
また、本実施形態の磁気センサでは、2つのゲート電極6が形成されているが、図15、図16に示す変形例のように、ゲート電極6が1つのみ形成されていてもよい。なお、図15は断面図ではないが、図を見やすくするために、電流リード電極3、電圧リード電極4、ゲート電極6にハッチングを施してある。
図15、図16に示す変形例では領域2aが1つのみ形成され、ゲート電極6にゲート電圧を印加することにより、1つの領域2aの一方向の幅の分だけ実効的なチャネル長が短くなり、磁気センサの感度が向上する。また、一方の電流リード電極3付近におけるキャリア濃度のピンニングの影響を低減し、磁気センサの感度をさらに向上させることができる。ただし、磁気センサの精度を向上させるためには、本実施形態のようにゲート電極6を2つ形成し、磁気センサの形状を図2中上下方向に平行な直線を軸として線対称とすることが好ましい。また、チャネル長の変調幅を大きくするために、ゲート電極6を2つ形成することが好ましい。
(第2実施形態)
本発明の第2実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対してグラフェン層2の形状を変更したものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
図17に示すように、本実施形態では、グラフェン層2は、上面形状が十字状とされている。そして、2つの電流リード電極3および2つの電圧リード電極4は、それぞれ、グラフェン層2が構成する十字形状における4つの先端部に形成されている。なお、図17は断面図ではないが、図を見やすくするために、電流リード電極3、電圧リード電極4、ゲート電極6にハッチングを施してある。
このような構成とされた本実施形態の磁気センサでは、実効的なチャネル幅Wをグラフェン層2のうち電流リード電極3が形成された部分の他方向の幅に比べて大きくすることができる。これにより、W/L>W/Lとなり、図12に示すように、磁気センサの感度をさらに向上させることができる。また、ゲート電極6に電圧を印加していない状態における初期感度を向上させることができる。
また、本実施形態では、電圧リード電極4を他方向において領域2aから離されるように形成することができる。これにより、電圧リード電極4の電位に対する領域2aの電位の干渉を低減し、検出精度を向上させることができる。
(第3実施形態)
本発明の第3実施形態について説明する。本実施形態は、第2実施形態に対して電圧リード電極4およびゲート電極6の形状を変更したものであり、その他に関しては第2実施形態と同様であるため、第2実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
図18に示すように、本実施形態では、電圧リード電極4の一方向の幅は、グラフェン層2のうち電圧リード電極4が形成された先端部の一方向の幅よりも小さくされている。
これにより、図18、図19に示すように、ゲート電極6の一方向の幅を第2実施形態に比べて大きくすることができる。具体的には、ゲート電極6を、グラフェン層2のうち電流リード電極3に隣接する部分の上部から、他方向に延設された部分の上部に至るように形成することができる。なお、図18は断面図ではないが、図を見やすくするために、電流リード電極3、電圧リード電極4、ゲート電極6にハッチングを施してある。
本実施形態では、電圧リード電極4の一方向の幅が、2つのゲート電極6間の距離と等しくされており、電圧リード電極4は、2つの領域2aと接している。
このようにゲート電極6をグラフェン層2のうち他方向に延設された部分の上部に至るように形成することにより、実効的なチャネル長Lがさらに短くなる。したがって、W/LをW/Lに比べてさらに大きくし、磁気センサの感度をさらに向上させることができる。
(第4実施形態)
本発明の第4実施形態について説明する。本実施形態は、第3実施形態に対して電圧リード電極4の形状を変更したものであり、その他に関しては第3実施形態と同様であるため、第3実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
図20に示すように、本実施形態では、電圧リード電極4の一方向の幅が、2つのゲート電極6間の距離に比べて小さくされている。そして、電圧リード電極4は、2つの領域2aから離されている。なお、図20は断面図ではないが、図を見やすくするために、電流リード電極3、電圧リード電極4、ゲート電極6にハッチングを施してある。
ゲート電極6がグラフェン層2のうち他方向に延設された部分の上部に至るように形成された場合においても、このように電圧リード電極4を領域2aから離して配置することにより、電圧リード電極4の電位に対する領域2aの電位の干渉を低減し、磁気センサの検出精度を向上させることができる。
(第5実施形態)
本発明の第5実施形態について説明する。本実施形態は、第4実施形態に対して絶縁膜5の構成とゲート電極6の位置を変更したものであり、その他に関しては第4実施形態と同様であるため、第4実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
本実施形態では、絶縁膜5がイオンゲルで構成されている。また、図21、図22に示すように、絶縁膜5は2つに分かれている。2つに分かれた絶縁膜5をそれぞれ絶縁膜5a、5bとする。なお、図21は断面図ではないが、図を見やすくするために、電流リード電極3、電圧リード電極4、絶縁膜5、ゲート電極6にハッチングを施してある。
図21に示すように、本実施形態のゲート電極6は、基板1の表面に形成されている。そして、絶縁膜5aは、グラフェン層2の一面のうち一方の電流リード電極3に隣接する部分から、グラフェン層2の側面および基板1の表面を通り、一方のゲート電極6の表面に至るように形成されている。また、絶縁膜5bは、グラフェン層2の一面のうち他方の電流リード電極3に隣接する部分から、グラフェン層2の側面および基板1の表面を通り、他方のゲート電極6の表面に至るように形成されており、絶縁膜5aから離されて配置されている。
また、絶縁膜5a、5bは、グラフェン層2の一面のうち電流リード電極3に隣接する部分から他方向に延設された部分に至るように形成されており、電圧リード電極4から離されて配置されている。
図22に示すように、本実施形態では、領域2aは、グラフェン層2のうち絶縁膜5の下方に位置する部分に形成される。
このような構成の磁気センサは、第1実施形態と同様の工程でグラフェン層2を形成した後、電流リード電極3、電圧リード電極4とゲート電極6とを同一の工程で形成し、グラフェン層2の一面および側面、基板1の表面、ゲート電極6の表面にイオンゲルを貼り付けることで製造できる。
絶縁膜5をイオンゲルで構成した場合の実効的な絶縁膜の厚みは、絶縁膜5を固体絶縁膜で構成した場合の厚みに比べて小さい。絶縁膜5を固体絶縁膜で構成した場合の厚みは例えば数十〜数百nmであるが、絶縁膜5をイオンゲルで構成した場合の厚みは例えば数nmである。
これにより、ゲート電極6に印加する電圧の低電圧化が可能となる。例えば、電荷中性点VCNPや、グラフェン層2の電気抵抗をほぼ0にするために必要なゲート電圧が、絶縁膜5を固体絶縁膜とした場合の1%程度となる。したがって、グラフェン層2の電気抵抗の変調が容易になる。
また、絶縁膜5をイオンゲルで構成することにより、磁気センサを、ゲート電極6を基板1の表面に形成したサイドゲート構造とすることが可能となる。これにより、電流リード電極3、電圧リード電極4とゲート電極6とを同一の工程で形成することが可能となるため、磁気センサの製造プロセスが容易になる。
(第6実施形態)
本発明の第6実施形態について説明する。本実施形態は、第5実施形態に対して封止膜7を追加したものであり、その他に関しては第5実施形態と同様であるため、第5実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
図23に示すように、本実施形態の磁気センサは、封止膜7を備えている。封止膜7は、絶縁膜5およびグラフェン層2を封止し、保護するものであり、例えばAl、SiO、SiN、パリレン(登録商標)、PMMA(ポリメタクリル酸メチル)等で構成される。
磁気センサが置かれる場所において、真空度やガス等の雰囲気が変化すると、グラフェン層2の特性が変化する。例えば、グラフェン層2が直接、あるいはイオンゲルで構成された絶縁膜5を通してNH、NO等の雰囲気中に長時間置かれると、電荷中性点VCNPが変化し、磁気センサの検出精度が低下する。
これに対し、本実施形態では、絶縁膜5およびグラフェン層2を封止膜7により封止している。これにより、雰囲気の状態変化によるグラフェン層2の特性の変化を抑制し、磁気センサの検出精度をさらに向上させることができる。
(他の実施形態)
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
例えば、基板1をPET(ポリエチレンテレフタラート)、PDMS(ポリジメチルシロキサン)等の樹脂で構成してもよい。基板1を樹脂で構成する場合、図24に示すように、基板1の表面にゲート電極8、絶縁膜9を積層し、絶縁膜9の表面にグラフェン層2等を形成すればよい。ゲート電極8は、例えば印刷、蒸着により形成される。ゲート電極8、絶縁膜9は、それぞれ、第2ゲート電極、第2絶縁膜に相当する。
また、図25に示すように、1つのゲート電極6をグラフェン層2の上部の全体に形成し、2つのゲート電極8をグラフェン層2のうち2つの電流リード電極3の一方に隣接する部分と、他方に隣接する部分にそれぞれ形成してもよい。このような構成では、ゲート電極6にトップゲート電圧VTGを印加することにより、グラフェン層2のうち2つの電流ゲート電極3で挟まれた部分のキャリア濃度および電気抵抗が変化する。そして、ゲート電極8にバックゲート電圧VBGを印加することにより、グラフェン層2のキャリア濃度が部分的に変化し、電気抵抗が部分的に変化する。このようにグラフェン層2の電気抵抗を制御することにより、上記第1実施形態と同様の効果が得られる。図25に示す構成では、ゲート電極8、絶縁膜9がそれぞれ第1ゲート電極、第1絶縁膜に相当し、ゲート電極6、絶縁膜5がそれぞれ第2ゲート電極、第2絶縁膜に相当する。
また、図24に示すように、ゲート電極6が、グラフェン層2のうち電流リード電極3に隣接する部分の上部に加えて電流リード電極3の上部にも形成されていてもよい。
また、磁気センサの動作において、VBG<VCNP、VTG<0とし、グラフェン層2の正孔の濃度を電子の濃度より高くして、電気抵抗を変化させてもよい。
また、磁気センサにバックゲート電圧を印加せず、トップゲート電圧のみを印加してもよい。
1 基板
2 グラフェン層
3 電流リード電極
4 電圧リード電極
5 絶縁膜
6 ゲート電極
8 ゲート電極
9 絶縁膜

Claims (10)

  1. 基板(1)と、
    前記基板の一面側に形成されたグラフェン層(2)と、
    前記グラフェン層の表面に、一方向に並ぶように形成された2つの電流リード電極(3)と、
    前記グラフェン層の表面に、前記一方向とは異なる他方向に並ぶように形成された2つの電圧リード電極(4)と、
    前記グラフェン層の表面に形成された第1絶縁膜(5、9)と、
    前記第1絶縁膜により前記グラフェン層と電気的に絶縁された第1ゲート電極(6、8)と、を備え、
    前記グラフェン層に、前記第1ゲート電極にゲート電圧を印加することにより電気抵抗が変化する領域(2a)が少なくとも1つ形成されており、
    前記領域の1つは、前記2つの電流リード電極の一方に隣接しており、他方から離れている磁気センサ。
  2. 前記グラフェン層の前記第1絶縁膜とは反対側の表面に形成された第2絶縁膜(1b、5、9)と、
    前記第2絶縁膜により前記グラフェン層と電気的に絶縁された第2ゲート電極(1a、6、8)と、を備え、
    前記第2ゲート電極にゲート電圧を印加することにより、前記グラフェン層のうち前記2つの電流リード電極で挟まれた部分の電気抵抗が変化する請求項1に記載の磁気センサ。
  3. 前記第1ゲート電極を2つ備え、
    前記第1ゲート電極が2つ備えられることにより前記領域が2つ形成され、
    2つの前記領域の一方は、前記2つの電流リード電極の一方に隣接し、他方から離れており、
    2つの前記領域の他方は、前記2つの電流リード電極の他方に隣接し、一方から離れており、
    2つの前記領域は、互いに離されている請求項1または2に記載の磁気センサ。
  4. 前記グラフェン層は、上面形状が十字状とされており、
    前記2つの電流リード電極および前記2つの電圧リード電極は、それぞれ、前記グラフェン層が構成する十字形状における4つの先端部に形成されている請求項1ないし3のいずれか1つに記載の磁気センサ。
  5. 前記電圧リード電極の前記一方向の幅は、前記グラフェン層のうち前記電圧リード電極が形成された先端部の前記一方向の幅よりも小さくされている請求項4に記載の磁気センサ。
  6. 前記電圧リード電極は、前記領域から離されて配置されている請求項3または5に記載の磁気センサ。
  7. 前記第1絶縁膜は、固体絶縁膜で構成され、
    前記第1ゲート電極は、前記第1絶縁膜に積層された金属電極で構成されている請求項1ないし6のいずれか1つに記載の磁気センサ。
  8. 前記第1絶縁膜はイオンゲルで構成されている請求項1ないし6のいずれか1つに記載の磁気センサ。
  9. 基板(1)と、
    前記基板の表面に形成された第1ゲート電極(8)と、
    前記第1ゲート電極の表面に形成された第1絶縁膜(9)と、
    前記第1絶縁膜の表面に形成され、前記第1絶縁膜により前記第1ゲート電極と電気的に絶縁されたグラフェン層(2)と、
    前記グラフェン層の表面に、一方向に並ぶように形成された2つの電流リード電極(3)と、
    前記グラフェン層の表面に、前記一方向とは異なる他方向に並ぶように形成された2つの電圧リード電極(4)と、を備え、
    前記グラフェン層に、前記第1ゲート電極にゲート電圧を印加することにより電気抵抗が変化する領域(2a)が少なくとも1つ形成されており、
    前記領域の1つは、前記2つの電流リード電極の一方に隣接しており、他方から離れている磁気センサ。
  10. 前記第1絶縁膜および前記グラフェン層を封止する封止膜(7)を備える請求項8または9に記載の磁気センサ。
JP2016003761A 2016-01-12 2016-01-12 磁気センサ Active JP6676972B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016003761A JP6676972B2 (ja) 2016-01-12 2016-01-12 磁気センサ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016003761A JP6676972B2 (ja) 2016-01-12 2016-01-12 磁気センサ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017125714A JP2017125714A (ja) 2017-07-20
JP6676972B2 true JP6676972B2 (ja) 2020-04-08

Family

ID=59364950

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016003761A Active JP6676972B2 (ja) 2016-01-12 2016-01-12 磁気センサ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6676972B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2570124B (en) * 2018-01-11 2022-06-22 Paragraf Ltd A method of making Graphene structures and devices
CN109884557B (zh) * 2019-01-15 2020-11-03 武汉大学 基于石墨烯动态电感的磁传感器

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4038844B2 (ja) * 1996-11-29 2008-01-30 ソニー株式会社 ディジタル信号再生装置、ディジタル信号再生方法、ディジタル信号記録装置、ディジタル信号記録方法及び記録媒体
US20110037464A1 (en) * 2009-08-11 2011-02-17 Bruce Alvin Gurney Tunable graphene magnetic field sensor
JP5679906B2 (ja) * 2010-07-05 2015-03-04 セイコーインスツル株式会社 ホールセンサ
JP2012215498A (ja) * 2011-04-01 2012-11-08 Asahi Kasei Corp 磁気センサ
ITPD20110128A1 (it) * 2011-04-15 2012-10-16 Struttura S R L Metodo per trattare acqua potabile tramite un sistema filtrante a cartuccia sostituibile
JP5990145B2 (ja) * 2013-08-30 2016-09-07 日本電信電話株式会社 グラフェン製造方法
JP6256912B2 (ja) * 2013-11-12 2018-01-10 国立研究開発法人産業技術総合研究所 カーボンナノチューブ集合体を用いた電界効果トランジスタ

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017125714A (ja) 2017-07-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Völkl et al. Magnetotransport in heterostructures of transition metal dichalcogenides and graphene
CN206271705U (zh) 包括多个电势面的功率电子开关器件
US20110309860A1 (en) Nonvolatile logic circuit and a method for operating the same as an exclusive-or (xor) circuit
JP2005538553A (ja) ホール素子を備える磁界センサ
JP6676972B2 (ja) 磁気センサ
Zhang et al. Electronic transport of nitrogen-capped monoatomic carbon wires between lithium electrodes
JP2012215498A (ja) 磁気センサ
US8258504B2 (en) Organic field-effect transistor and method of fabricating this transistor
US8278658B2 (en) Electrically connected graphene-metal electrode device, and electronic device, electronic integrated circuit and electro-optical integrated circuit using same
WO2013047255A1 (ja) 熱電変換素子及びその製造方法
JP5841013B2 (ja) 半導体装置
US8390322B2 (en) Non-volatile logic circuit and a method for operating the same
WO2014010286A1 (ja) 熱電変換素子及びその製造方法
JP2014029988A (ja) 磁気センサ
US8427202B2 (en) Nonvolatile logic circuit and a method for operating the same
RU2753803C1 (ru) Способ создания самоориентируемого магнитного сенсора
Friedman et al. Homoepitaxial graphene tunnel barriers for spin transport
Zhu et al. Output and Negative‐Region Characteristics in Organic Anti‐Ambipolar Transistors
CN103956427B (zh) 感测元件
WO2012063584A1 (ja) 電流センサ
US20220076990A1 (en) Isolator
JPH0297075A (ja) ヘテロ接合磁気センサ
WO2019073185A1 (en) MAGNETIC SENSORS
JP5630247B2 (ja) 回転角センサ
JP2010286372A (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20181214

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20191016

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20191105

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20191206

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200212

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200225

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6676972

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250