JP6676941B2 - 制御装置及び制御方法、露光装置及び露光方法、デバイス製造方法、データ生成方法、並びに、プログラム - Google Patents

制御装置及び制御方法、露光装置及び露光方法、デバイス製造方法、データ生成方法、並びに、プログラム Download PDF

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JP2002112526A (ja) * 2000-06-26 2002-04-12 Nikon Corp 平面モータ、ステージ位置決めシステム、露光装置
US6963434B1 (en) * 2004-04-30 2005-11-08 Asml Holding N.V. System and method for calculating aerial image of a spatial light modulator
JP4758443B2 (ja) * 2005-01-28 2011-08-31 エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ． 大域的最適化に基づくマスクレスリソグラフィ・ラスタライゼーション技術の方法、装置およびコンピュータ読取可能媒体
US7209275B2 (en) * 2005-06-30 2007-04-24 Asml Holding N.V. Method and system for maskless lithography real-time pattern rasterization and using computationally coupled mirrors to achieve optimum feature representation
KR101708943B1 (ko) * 2007-11-06 2017-02-21 가부시키가이샤 니콘 제어 장치, 노광 방법 및 노광 장치
WO2012039353A1 (ja) * 2010-09-22 2012-03-29 株式会社ニコン 空間光変調器、露光装置、及びデバイス製造方法
WO2012043497A1 (ja) * 2010-09-27 2012-04-05 株式会社ニコン 空間光変調器の駆動方法、露光用パターンの生成方法、並びに露光方法及び装置
JP5880443B2 (ja) * 2010-12-13 2016-03-09 株式会社ニコン 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法
WO2014104001A1 (ja) * 2012-12-26 2014-07-03 株式会社ニコン 空間光変調器及びその駆動方法、並びに露光方法及び装置

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