JP6672002B2 - 液体吐出装置および制御方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。ただし、この実施形態に記載されている構成要素はあくまで例示であり、本発明の範囲をそれらに限定する趣旨のものではない。なお、本明細書において「インク」とは、記録媒体に付与されることによって、画像の形成、または記録媒体の加工に用いられ得る任意の液体を含む。したがって、本明細書における「インク」は、記録に用いられることが可能なあらゆる液体を包含する概念である。また記録の概念も特に限定されるものではなく、産業用途等にも適用可能である。例えば、バイオチップ作製や電子回路印刷、半導体基板の作製などの用途としても用いることができる。
図1は、本発明を適用可能な各種液体吐出ヘッド100および記録素子基板101を示した図である。図1(a)は、記録素子基板101が液体吐出ヘッド100に単独で配置された実施例を示す。本実施例において、液体吐出ヘッド100は、記録媒体に対して主走査方向の往復移動を繰り返しながら記録を行う走査型の液体吐出ヘッドである。図1(b)は、複数の記録素子基板101が液体吐出ヘッド100に千鳥状に配置された実施例を示す。このような液体吐出ヘッド100は、いわゆるラインヘッド形態の液体吐出ヘッドであり、固定された液体吐出ヘッド100に対して記録媒体が移動することにより記録を行う。図1(c)は、複数の記録素子基板101が隣接して配置された実施例を示す。図1(b)と同様に、液体吐出ヘッド100はラインヘッド形態の液体吐出ヘッドであり、固定された液体吐出ヘッド100に対して記録媒体が移動することにより記録を行う。本実施形態における液体吐出ヘッド100は、図1(a)〜(c)に例示される実施形態を含む任意の形態で実施可能であり、これらに限定されるものではない。
図2は、本実施形態の液体吐出ヘッド100を備える液体吐出装置1において、インク供給経路を示す模式図である。また、図3は、本実施形態の液体吐出装置1のソフトウェア機能ブロック図である。以下、図2および図3を参照し、本実施形態について説明する。
図4(a)は、本実施形態において、液体吐出ヘッド100に搭載される記録素子基板101の外観斜視図である。本実施形態の記録素子基板101は、図4(a)に示される通り、ヘッド基板301上にオリフィスプレート302が接合されており、オリフィスプレート302には複数の吐出口303が配置されている。吐出口303は、複数配列して吐出口列304を構成している。ヘッド基板301は、加工可能な半導体基板などの素材によって形成されることが望ましく、このような素材を用いることにより、ヘッド基板301の表面にエネルギー発生素子や電気回路、電気配線、温度センサ等の電子デバイスが複数配置可能となる。吐出口を複数有する吐出口形成部材であるオリフィスプレート302は、レーザー加工により吐出口303を形成可能な樹脂基板、ダイシングにより吐出口303を形成可能な無機プレートなどの素材によって形成され得る。またオリフィスプレート302は、光硬化により吐出口303およびインク流路を形成する感光樹脂材料などの素材によっても形成され得る。また、ヘッド基板301と同様に半導体基板を用いて、MEMS加工により吐出口303およびインク流路を形成するなど、任意の材料を用いることができる。
いわゆるインク循環型の記録ヘッドを搭載する液体吐出装置において、インク温度(もしくは液体吐出ヘッドの温度)が高いときは、インク温度が低いときと比較して、インク増粘の抑制に要するインク流速が早くなる。この理由について、以下簡潔に説明する。
以上説明した通り、インク吐出が長時間停止した場合であっても、安定したインク吐出を実現するために好適な循環流速は、インクの蒸発速度に比例する。
ここで、インク蒸発速度Jv[mm/s]は、インク温度T[℃]、環境温度T0[℃]、環境湿度をH[%]としたとき、次式で求めることができる。
Jv = K×(Pv(T)−Pv(T0)×H/100) ・・(式1)
ここで、Pv(T)[mmHg]は、温度Tにおけるインク溶媒の飽和蒸気圧であり、インク溶媒が主に水である場合、次の経験式(Antoineの式)で表される。
log Pv(T)=8.03−1706/(T+231.4) ・・(式2)
上記説明した実施形態について、具体例を示して以下説明する。オリフィスプレートの厚み(Do)が11μm、流路高さ(Dh)が14μm、吐出口の口径(Dw)が50平方μm(開口面積が250平方μm)構成の液体吐出ヘッドについて、上記具体値に基づいた循環流速の設計値を以下に説明する。インク温度T=55℃、環境温度T0=25℃、湿度50%とした場合、開口面積250平方μmの吐出口から、純水が蒸発する蒸発速度Jvは0.27mm/sとなる。そこで、蒸発速度導出部208は、インクの循環流速Jが蒸発速度Jvの10〜200倍の値となるように循環流速Jを可変させる。すなわち、循環流速Jを5.0mm/s〜27mm/sの範囲の値となるように循環流量を制御することができれば、安定したインク吐出が実現される。
図7は、実施形態2の液体吐出ヘッド100を備える液体吐出装置1において、インク供給経路を示す模式図である。以下、図7を参照して実施形態2について説明する。上述の実施形態1では、液体吐出ヘッド100内を循環するインク温度は、主にエネルギー発生素子306から受ける熱と、記録素子基板101に設けられた回路から受ける熱と、インク供給経路における熱交換とにより、受動的に決まっていた。しかし、液体吐出装置1が高速出力を行う際、インクを吐出する周期である吐出周波数が高くなるとインク温度の変化が大きくなる。この結果、駆動されるエネルギー発生素子の密度が高い領域と低い領域との間でインク温度差が大きくなり、結果として吐出されるインク液滴の体積に差が生じてしまう。これは、出力物の濃度ムラの原因となるため、これを解消するためには、駆動されるエネルギー発生素子の密度に関わらず、インク温度を一定に保つ仕組みが必要となる。本実施形態の液体吐出ヘッド100は、エネルギー発生素子306とは異なる温度調節素子402を備え、温度検知部205との間でインク温度のフィードバック制御を行うことにより、インク温度を予め設定された範囲の値に保つことができる。本実施形態の液体吐出装置1は、環境温度(環境湿度)や出力速度などによって最適なインク温度が異なるため、インク温度の設定値は所定範囲内の温度に設定可能であることが望ましい。
図8は、実施形態3の液体吐出ヘッド100を備える液体吐出装置1において、インク供給経路を示す模式図である。以下、図8を参照して実施形態3について説明する。上述の実施形態1〜2において、液体吐出装置1のインク供給経路を循環するインクの流速は循環流発生装置204によって制御される例について説明した。本実施形態では、液体吐出ヘッド100の上流側に負圧調整装置203を、液体吐出ヘッド100の下流側に定圧力ポンプ501を設けた一対の圧力調整機構を適用した場合の望ましい構成例について以下説明する。
本発明は、上述の実施形態の1以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。
101・・記録素子基板
205・・温度検知部
206・・環境パラメータ取得部
207・・流速制御部
208・・蒸発速度導出部
301・・ヘッド基板
302・・オリフィスプレート
303・・吐出口
305・・圧力室
306・・エネルギー発生素子
307・・液体流入流路
308・・液体回収流路
Claims (15)
- 液体を吐出させるエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、
前記エネルギー発生素子に対向する位置に設けられる吐出口と、
前記エネルギー発生素子が複数配置されるヘッド基板と、
前記吐出口を複数有する吐出口形成部材と、
前記ヘッド基板と前記吐出口形成部材とから構成され、前記エネルギー発生素子を備える圧力室と、
前記圧力室への液体の供給流路である液体流入流路と、
前記圧力室からの液体の回収流路である液体回収流路と、
から構成される液体吐出ヘッドを備える液体吐出装置であって、
前記吐出口から液体が吐出していない非吐出時に、前記吐出口から液体に含まれる揮発成分が蒸発する速度である蒸発速度に関する情報を取得する取得手段と、
前記取得手段によって取得された前記蒸発速度に関する情報に基づいて、前記液体流入流路から前記圧力室を通過して前記液体回収流路に向かう方向に生じる液体の流速を制御する流速制御手段とを備え、
前記流速制御手段は、前記蒸発速度が高いほど、前記圧力室を通過する液体の流速が早くなるように制御可能であることを特徴とする
液体吐出装置。 - 前記圧力室を通過する液体は、当該圧力室の外部との間で循環される
ことを特徴とする請求項1に記載の液体吐出装置。 - 前記流速制御手段は、
前記吐出口から液体が吐出していない非吐出時において、前記圧力室を通過する液体の流速をJ、前記蒸発速度をJvとしたとき、
10<J/Jv<200
を満たすように前記圧力室を通過する液体の流速を制御する
ことを特徴とする請求項1または2に記載の液体吐出装置。 - 前記流速制御手段は、
前記吐出口から液体が吐出していない非吐出時において、前記圧力室を通過する液体の流速を0.5mm/s以上かつ120mm/s以下に制御する
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の液体吐出装置。 - 液体温度を検知する温度検知手段と、
前記温度検知手段によって検知された液体温度に基づいて前記蒸発速度を導出する蒸発速度導出手段とをさらに備える
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の液体吐出装置。 - 前記液体吐出装置の設置位置における環境パラメータを取得する環境パラメータ取得手段をさらに備え、
前記蒸発速度導出手段は、
前記温度検知手段によって検知された液体温度と、環境パラメータ取得手段によって取得された環境パラメータ値とに基づいて前記蒸発速度を導出する
ことを特徴とする請求項5に記載の液体吐出装置。 - 前記環境パラメータ値は、前記液体吐出装置の設置位置における環境温度および環境湿度を示す値である
ことを特徴とする請求項6に記載の液体吐出装置。 - 前記蒸発速度導出手段は、
前記液体温度がT(℃)、前記環境温度がT0(℃)、前記環境湿度がH(%)となる場合における前記蒸発速度であるJv(mm/s)を、
Jv = 0.01×(Pv(T)−Pv(T0)×H/100)
log Pv(T)=8.03−1706/(T+231.4)
により算出する
ことを特徴とする請求項7に記載の液体吐出装置。 - 前記蒸発速度導出手段は、
前記液体温度、前記環境温度、前記環境湿度の組み合わせと、前記蒸発速度とが対応付けられたテーブルを保持し、当該テーブルを参照することにより前記蒸発速度を導出する
ことを特徴とする請求項7に記載の液体吐出装置。 - 前記エネルギー発生素子とは異なる温度調節素子と、
液体温度を所定範囲内の温度となるように前記温度調節素子を制御する温度制御手段とをさらに備える
ことを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載の液体吐出装置。 - 前記液体吐出ヘッドの上流側と下流側とに一対の圧力調整機構をさらに備え、
前記流速制御手段は、
前記吐出口から液体が吐出していない非吐出時において、前記一対の圧力調整機構によって印加される差圧をP、液体の粘度をη、前記液体吐出装置における全てのインク流路の抵抗をR、前記圧力室において液体が流れる方向である流方向に鉛直な面の流路断面積をA、液体に含まれる揮発成分が前記吐出口から蒸発する蒸発速度をJvとしたとき、
10<P/(η×R×A×Jv)<200
を満たすように前記圧力室を通過する液体の流速を制御する
ことを特徴とする請求項1から10のいずれか1項に記載の液体吐出装置。 - 液体を吐出させるエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、
前記エネルギー発生素子に対向する位置に設けられる吐出口と、
前記エネルギー発生素子が複数配置されるヘッド基板と、
前記吐出口を複数有する吐出口形成部材と、
前記ヘッド基板と前記吐出口形成部材とから構成され、前記エネルギー発生素子と前記吐出口とをそれぞれ少なくとも一つ有する圧力室と、
前記圧力室への液体の供給流路である液体流入流路と、
前記圧力室からの液体の回収流路である液体回収流路と、
から構成される液体吐出ヘッドを備える液体吐出装置の制御方法であって、
前記吐出口から液体が吐出していない非吐出時に、前記吐出口から液体に含まれる揮発成分が蒸発する速度である蒸発速度に関する情報を取得する取得ステップと、
前記取得ステップにおいて取得された前記蒸発速度に関する情報に基づいて、前記液体流入流路から前記圧力室を通過して前記液体回収流路に向かう方向に生じる液体の流速を制御する流速制御ステップとを備え、
前記流速制御ステップにおいて、前記蒸発速度が高いほど、前記圧力室を通過する液体の流速が早くなるように制御可能であることを特徴とする制御方法。 - コンピュータに、請求項12に記載の制御方法を実行させるためのプログラム。
- 液体を吐出させるエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、
前記エネルギー発生素子に対向する位置に設けられる吐出口と、
前記エネルギー発生素子を備える圧力室と、
前記圧力室への液体の供給流路である液体流入流路と、
前記圧力室からの液体の回収流路である液体回収流路と、
から構成される液体吐出ヘッドを備える液体吐出装置であって、
前記液体流入流路から前記圧力室を通過して前記液体回収流路に向かう方向に生じる液体の流速を制御する流速制御手段を備え、該流速制御手段は、液体に含まれる揮発成分が前記吐出口から蒸発する蒸発速度が高いほど、前記圧力室を通過する液体の流速が早くなるように制御可能であることを特徴とする液体吐出装置。 - 前記圧力室を通過する液体は、当該圧力室の外部との間で循環される
ことを特徴とする請求項14に記載の液体吐出装置。
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