JP7363339B2 - 液体噴射装置、液体噴射装置のメンテナンス方法 - Google Patents

Description

本発明は、プリンターなどの液体噴射装置、液体噴射装置のメンテナンス方法に関する。

例えば特許文献１のように、液体噴射部の一例であるヘッド部から液体の一例であるインクを吐出して印刷する液体噴射装置の一例であるインクジェット印刷機に利用できるインク供給装置がある。インク供給装置は、液体貯留部の一例であるメインタンクから供給されるインクをヘッド部へ供給する液体供給流路の一例である流路と、流路に配置される脱気モジュールの一例である脱気装置と、を備える。脱気装置は、真空度調整機構の一例である真空ポンプによって真空引きをすることによりインクを脱気していた。

特開２００５－５９４７６号公報

真空度調整機構が液体を脱気するときの真空度を真空度調整機構の仕様に基づいて定めた場合、脱気に要する最大の真空度に設定する必要があった。この場合、真空度調整機構に大きい負荷が継続して加わるため、真空度調整機構の経時劣化が進みやすい。

上記課題を解決する液体噴射装置は、圧力室内の液体をアクチュエーターで加圧して前記圧力室に連通するノズルから前記液体を噴射する液体噴射部と、液体貯留部に貯留される前記液体を前記液体噴射部に供給する液体供給流路と、前記液体供給流路に設けられる脱気モジュールと、前記脱気モジュールの真空度を調整可能な真空度調整機構と、前記圧力室内の状態を検出可能な状態検出機構と、前記状態検出機構の検出結果に基づいて前記真空度調整機構を駆動制御する制御部と、を備える。

上記課題を解決する液体噴射装置のメンテナンス方法は、圧力室内の液体をアクチュエーターで加圧して前記圧力室に連通するノズルから前記液体を噴射する液体噴射部と、液体貯留部に貯留される前記液体を前記液体噴射部に供給する液体供給流路と、前記液体供給流路に設けられる脱気モジュールと、前記脱気モジュールの真空度を調整可能な真空度調整機構と、前記圧力室内の状態を検出可能な状態検出機構と、を備える液体噴射装置において、前記状態検出機構の検出結果に基づいて前記真空度調整機構を駆動する。

実施形態の液体噴射装置を模式的に示す側面図。 液体噴射部と液体供給部を模式的に示す断面図。 複数の圧力調整装置と圧力調整部とを模式的に示す断面図。 図２における４－４線矢視断面図。 液体噴射装置の電気的構成を示すブロック図。 振動板の残留振動を想定した単振動の計算モデルを示す図。 液体の増粘と残留振動波形の関係を説明する説明図。 気泡混入と残留振動波形の関係を説明する説明図。 メンテナンス処理のルーチンを示すフローチャート。 メンテナンス処理のルーチンを示すフローチャート。 他の実施形態の液体噴射装置と液体供給部を模式的に示す断面図。

以下、液体噴射装置、液体噴射装置のメンテナンス方法の一実施形態について図を参照しながら説明する。液体噴射装置は、例えば用紙などの媒体に液体の一例であるインクを噴射して印刷するインクジェット式のプリンターである。

図面では、液体噴射装置１１が水平面上に置かれているものとして重力の方向をＺ軸で示し、水平面に沿う方向をＸ軸とＹ軸で示す。Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸は、互いに直交する。以下の説明では、Ｚ軸と平行な方向を鉛直方向Ｚともいう。

図１に示すように、液体噴射装置１１は、媒体１２を支持する支持台１３と、媒体１２を搬送する搬送部１４と、を備えてもよい。液体噴射装置１１は、支持台１３に支持される媒体１２に向かって液体を噴射する液体噴射部１５と、液体噴射部１５を走査方向Ｘｓに移動可能な移動機構１６と、を備える。

液体噴射装置１１は、液体を収容する液体供給源１７が着脱可能に装着される装着部１８と、液体噴射部１５に液体を供給可能な液体供給部１９と、を備えてもよい。液体噴射装置１１は、ハウジングやフレームなどによって構成される本体２０と、本体２０に開閉可能に取り付けられる第１カバー２０ａ及び第２カバー２０ｂと、を備えてもよい。

支持台１３は、液体噴射装置１１において、媒体１２の幅方向でもある走査方向Ｘｓに延在している。本実施形態の走査方向Ｘｓは、Ｘ軸に平行な方向である。支持台１３は、印刷位置に位置する媒体１２を支持する。

搬送部１４は、媒体１２を挟んで搬送する搬送ローラー対２１と、搬送ローラー対２１を回転させる搬送モーター２２と、媒体１２を案内する案内板２３と、を備えてもよい。搬送ローラー対２１は、媒体１２の搬送経路に沿って複数設けてもよい。搬送部１４は、搬送モーター２２を駆動することにより、支持台１３の表面に沿って媒体１２を搬送する。搬送部１４が媒体１２を搬送する搬送方向Ｙｆは、媒体１２の搬送経路に沿う方向であり、支持台１３において媒体１２が接触する面に沿う方向である。本実施形態の搬送方向Ｙｆは、印刷位置においてＹ軸と平行である。

本実施形態の液体噴射装置１１は、２つの液体噴射部１５を備える。２つの液体噴射部１５は、走査方向Ｘｓに所定の距離だけ離れ、且つ搬送方向Ｙｆに所定の距離だけずれるように配置される。液体噴射部１５は、ノズル２４が配置されるノズル面２５を有する。本実施形態の液体噴射部１５は、ノズル２４から印刷位置に位置する媒体１２に向かって鉛直方向Ｚに液体を噴射し、媒体１２に印刷する。

移動機構１６は、走査方向Ｘｓに延びるように設けられるガイド軸２６と、ガイド軸２６に支持されるキャリッジ２７と、キャリッジ２７をガイド軸２６に沿って移動させるキャリッジモーター２８と、を備える。キャリッジ２７は、鉛直方向Ｚにおいてノズル面２５が支持台１３と対向する姿勢で液体噴射部１５を保持する。第１カバー２０ａは、液体噴射部１５の移動経路の一部を覆うように設けてもよい。液体噴射装置１１は、開いた第１カバー２０ａから液体噴射部１５が外部に露出するように設けると、液体噴射部１５の交換を容易にできる。

移動機構１６は、ガイド軸２６に沿ってキャリッジ２７及び液体噴射部１５を走査方向Ｘｓ及び走査方向Ｘｓとは反対の方向に往復移動させる。すなわち、本実施形態の液体噴射装置１１は、液体噴射部１５がＸ軸に沿って往復移動するシリアルタイプの装置として構成される。

液体供給源１７は、例えば、液体を収容する容器である。液体供給源１７は、交換可能なカートリッジでもよいし、液体を補充可能なタンクでもよい。液体噴射装置１１は、液体噴射部１５から噴射される液体の種類に対応するように複数の液体供給部１９を備えてもよい。本実施形態の液体噴射装置１１は、４つの液体供給部１９を備える。

液体供給部１９は、液体を貯留する液体貯留部３２と、液体貯留部３２に貯留される液体を液体噴射部１５に供給する液体供給流路３０と、液体噴射部１５に供給される液体を液体貯留部３２に帰還する液体帰還流路３１と、を備えてもよい。液体供給流路３０は、液体貯留部３２と液体噴射部１５とを接続してもよいし、液体供給源１７と液体噴射部１５とを接続してもよい。本実施形態の液体貯留部３２は、液体供給源１７と液体噴射部１５とを接続する液体供給流路３０の途中に設けられている。液体帰還流路３１は、液体噴射部１５と液体貯留部３２とを接続してもよいし、液体供給流路３０において液体貯留部３２よりも供給方向Ａの上流位置と液体噴射部１５とを接続してもよい。すなわち、液体帰還流路３１は、液体供給流路３０の一部を介して液体噴射部１５と液体貯留部３２とを接続してもよい。液体帰還流路３１は、液体供給流路３０と共に循環経路３３を形成可能である。

液体供給部１９は、液体供給源１７から液体を導出する導出ポンプ３４を備えてもよい。導出ポンプ３４は、吸引弁３５、容積ポンプ３６、及び吐出弁３７、を有してもよい。吸引弁３５は、液体供給流路３０において容積ポンプ３６よりも供給方向Ａの上流に位置する。吐出弁３７は、液体供給流路３０において容積ポンプ３６よりも供給方向Ａの下流に位置する。吸引弁３５及び吐出弁３７は、液体供給流路３０において上流から下流への液体の流動を許容し、且つ下流から上流への液体の流動を阻害するように構成される。

液体供給部１９は、液体中の気泡や異物を捕捉するフィルターユニット３８を備えてもよい。フィルターユニット３８は、液体供給流路３０に対して着脱可能に装着されてもよい。液体噴射装置１１は、開いた第２カバー２０ｂからフィルターユニット３８が外部に露出するように設けると、フィルターユニット３８の交換を容易にできる。フィルターユニット３８は、液体供給流路３０において導出ポンプ３４と液体貯留部３２との間の位置にあってもよい。液体帰還流路３１は、液体供給流路３０において導出ポンプ３４とフィルターユニット３８との間の位置に接続されてもよい。

液体供給部１９は、液体供給流路３０内及び液体帰還流路３１内の液体を流動可能な流路流動機構３９と、液体供給流路３０に設けられる脱気モジュール４１と、液体噴射部１５に供給する液体の圧力を調整する圧力調整装置４０と、を備える。流路流動機構３９は、液体供給流路３０に設けられる供給ポンプ３９Ａと、液体帰還流路３１に設けられる帰還ポンプ３９Ｂと、帰還弁９９とを有してもよい。供給ポンプ３９Ａは、液体供給流路３０内の液体を液体貯留部３２から液体噴射部１５に向かって供給方向Ａに流動可能である。帰還ポンプ３９Ｂは、液体帰還流路３１内の液体を液体噴射部１５から液体貯留部３２に向かって帰還方向Ｂに流動可能である。帰還弁９９は、開度が調整されることにより液体帰還流路３１の通路断面積を調整可能である。

図２に示すように、脱気モジュール４１は、液体を一時貯留する脱気室４１ａと、脱気膜４１ｂにより脱気室４１ａと区画された減圧室４１ｃと、減圧室４１ｃに繋がる減圧流路４１ｄと、脱気モジュール４１の真空度を調整可能な真空度調整機構４１ｅとを有する。脱気膜４１ｂは、気体を通過させるが液体を通過させない性質を有する。真空度調整機構４１ｅは、減圧流路４１ｄを通じて減圧室４１ｃの内圧を調整することにより、減圧室４１ｃの真空度を調整可能なポンプである。真空度調整機構４１ｅの駆動に伴って減圧室４１ｃが減圧されるほど、減圧室４１ｃの真空度が高くなる。減圧室４１ｃの真空度に応じて、脱気室４１ａの真空度が調整されるため、脱気室４１ａに貯留された液体に混入した気泡、溶存ガスなどが除去される。

容積ポンプ３６は、可撓性部材３６ａによって区切られたポンプ室３６ｂと、負圧室３６ｃと、を有する。容積ポンプ３６は、負圧室３６ｃを減圧するための減圧部３６ｄと、負圧室３６ｃ内に設けられ、可撓性部材３６ａをポンプ室３６ｂ側に向けて押し付ける押付部材３６ｅと、を有する。

導出ポンプ３４は、ポンプ室３６ｂの容積が増大するのに伴って液体供給源１７から吸引弁３５を介して液体を吸引する。導出ポンプ３４は、押付部材３６ｅが可撓性部材３６ａを介してポンプ室３６ｂ内の液体を押すことにより、液体を加圧する。導出ポンプ３４は、ポンプ室３６ｂの容積が減少するのに伴って液体噴射部１５へ向けて吐出弁３７を介して液体を吐出する。導出ポンプ３４が液体を加圧する加圧力は、押付部材３６ｅの押付力により設定される。

液体供給部１９は、液体貯留部３２内の空間を大気に開放する貯留開放弁３２ａと、液体貯留部３２内に貯留される液体の量を検出する貯留量検出部３２ｂと、液体貯留部３２内の液体を撹拌可能な撹拌機構４３と、を備えてもよい。撹拌機構４３は、液体貯留部３２内に設けられる撹拌子４３ａと、撹拌子４３ａを回転させる回転部４３ｂと、を有してもよい。

次に、圧力調整装置４０について説明する。
図２に示すように、圧力調整装置４０は、液体供給流路３０の一部を構成する圧力調整機構４８と、圧力調整機構４８を押し付ける押付機構４９とを有してもよい。圧力調整機構４８は、液体供給源１７から液体供給流路３０を介して供給される液体が流入する液体流入部５０と、液体を内部に収容可能な液体流出部５１とが形成された本体部５２を有する。

液体供給流路３０と液体流入部５０とは、本体部５２が有する壁５３により仕切られ、壁５３に形成された貫通孔５４を介して通じている。貫通孔５４は、フィルター部材５５により覆われている。したがって、液体供給流路３０の液体は、フィルター部材５５に濾過され、液体流入部５０に流入する。

液体流出部５１は、その壁面を構成する少なくとも一部分がダイヤフラム５６により構成される。このダイヤフラム５６は、液体流出部５１の内面となる第１面５６ａで液体流出部５１内の液体の圧力を受ける。ダイヤフラム５６は、液体流出部５１の外面となる第２面５６ｂで大気圧を受ける。このため、ダイヤフラム５６は、液体流出部５１内の圧力に応じて変位する。液体流出部５１は、ダイヤフラム５６が変位することで容積が変化する。液体流入部５０と液体流出部５１とは、連通経路５７により互いに通じている。

圧力調整機構４８は、連通経路５７において液体流入部５０と液体流出部５１とを遮断する閉弁状態と、液体流入部５０と液体流出部５１とが通じる開弁状態とを切り替え可能な開閉弁５９を有する。図２に示す開閉弁５９は、閉弁状態である。開閉弁５９は、連通経路５７を遮断可能な弁部６０と、ダイヤフラム５６から圧力を受ける受圧部６１とを有する。開閉弁５９は、受圧部６１がダイヤフラム５６に押されることで移動する。

液体流入部５０内には上流側押付部材６２が設けられる。液体流出部５１内には下流側押付部材６３が設けられる。上流側押付部材６２と下流側押付部材６３とは、いずれも開閉弁５９を閉弁させる方向に押し付ける。開閉弁５９は、第１面５６ａにかかる圧力が第２面５６ｂにかかる圧力より低く且つ第１面５６ａにかかる圧力と第２面５６ｂにかかる圧力との差が所定値以上になると、閉弁状態から開弁状態になる。この所定値とは、例えば１ｋＰａである。

所定値は、上流側押付部材６２の押付力、下流側押付部材６３の押付力、ダイヤフラム５６を変位させるために必要な力、弁部６０によって連通経路５７を遮断するために必要な押付力であるシール荷重、弁部６０の表面に作用する液体流入部５０内の圧力、及び液体流出部５１内の圧力に応じて決まる値である。すなわち、上流側押付部材６２と下流側押付部材６３の押付力が大きいほど、閉弁状態から開弁状態になるための所定値も大きくなる。

上流側押付部材６２及び下流側押付部材６３の押付力は、液体流出部５１内の圧力がノズル２４における気液界面にメニスカスを形成可能な範囲の負圧状態となるように設定される。例えば、第２面５６ｂにかかる圧力が大気圧の場合、液体流出部５１内の圧力が－１ｋＰａとなるように、上流側押付部材６２及び下流側押付部材６３の押付力が設定される。この場合、気液界面とは液体と気体とが接する境界であり、メニスカスとは液体がノズル２４と接してできる湾曲した液体表面である。ノズル２４には、液体の噴射に適した凹状のメニスカスが形成されることが好ましい。

本実施形態では、圧力調整機構４８において開閉弁５９が閉弁状態にある場合、圧力調整機構４８よりも上流における液体の圧力は、導出ポンプ３４及び流路流動機構３９によって、通常、正圧とされる。詳しくは、開閉弁５９が閉弁状態にある場合、液体流入部５０及び液体流入部５０よりも上流における液体の圧力は、導出ポンプ３４及び流路流動機構３９によって、通常、正圧とされる。

本実施形態では、圧力調整機構４８において開閉弁５９が閉弁状態にある場合、圧力調整機構４８よりも下流における液体の圧力は、ダイヤフラム５６によって、通常、負圧とされる。詳しくは、開閉弁５９が閉弁状態にある場合、液体流出部５１及び液体流出部５１よりも下流における液体の圧力は、ダイヤフラム５６によって、通常、負圧とされる。

液体噴射部１５が液体を噴射すると、液体流出部５１に収容された液体が液体供給流路３０を介して液体噴射部１５に供給される。すると、液体流出部５１内の圧力が低下する。これにより、ダイヤフラム５６における第１面５６ａにかかる圧力と第２面５６ｂにかかる圧力との差が所定値以上になると、ダイヤフラム５６が液体流出部５１の容積を小さくする方向へ撓み変形する。このダイヤフラム５６の変形に伴って受圧部６１が押し付けられることにより移動すると、開閉弁５９が開弁状態となる。

開閉弁５９が開弁状態となると、液体流入部５０内の液体は導出ポンプ３４及び流路流動機構３９により加圧されているため、液体流入部５０から液体流出部５１に液体が供給される。これにより、液体流出部５１内の圧力が上昇する。液体流出部５１内の圧力が上昇すると、ダイヤフラム５６は、液体流出部５１の容積を増大させるように変形する。ダイヤフラム５６における第１面５６ａにかかる圧力と第２面５６ｂにかかる圧力との差が所定値よりも小さくなると、開閉弁５９は、開弁状態から閉弁状態になる。その結果、開閉弁５９は、液体流入部５０から液体流出部５１に向かって流れる液体の流動を阻害する。

上述したように、圧力調整機構４８は、ダイヤフラム５６の変位により液体噴射部１５に供給される液体の圧力を調整することによって、ノズル２４の背圧となる液体噴射部１５内の圧力を調整する。

押付機構４９は、ダイヤフラム５６の第２面５６ｂ側に圧力調整室６６を形成する膨張収縮部６７と、膨張収縮部６７を押さえる押さえ部材６８と、圧力調整室６６内の圧力を調整可能な圧力調整部６９とを有する。膨張収縮部６７は、例えばゴム、樹脂などにより風船状に形成される。膨張収縮部６７は、圧力調整部６９による圧力調整室６６の圧力の調整に伴って膨張したり収縮したりする。押さえ部材６８は、例えば有底の円筒形状となるように形成される。押さえ部材６８は、その底部に形成された挿入孔７０に膨張収縮部６７の一部が挿入される。

押さえ部材６８における内側面の開口部７１側の端縁部は、Ｒ面取りされることにより丸みが付けられている。押さえ部材６８は、開口部７１が圧力調整機構４８に塞がれるように圧力調整機構４８に取り付けられる。これにより、押さえ部材６８は、ダイヤフラム５６の第２面５６ｂを覆う空気室７２を形成する。空気室７２内の圧力は大気圧とされる。そのため、ダイヤフラム５６の第２面５６ｂには大気圧が作用する。

圧力調整部６９は、圧力調整室６６内の圧力を空気室７２の圧力である大気圧よりも高い圧力に調整することにより膨張収縮部６７を膨張させる。押付機構４９は、圧力調整部６９が膨張収縮部６７を膨張させることにより、ダイヤフラム５６を液体流出部５１の容積が小さくなる方向に押し付ける。このとき、押付機構４９の膨張収縮部６７は、ダイヤフラム５６において受圧部６１が接触する部分を押す。ダイヤフラム５６において受圧部６１が接触する部分の面積は、連通経路５７の断面積よりも大きい。

図３に示すように、圧力調整部６９は、例えば空気、水などの流体を加圧する加圧ポンプ７４と、加圧ポンプ７４と膨張収縮部６７とを接続する接続経路７５とを有する。圧力調整部６９は、接続経路７５内の流体の圧力を検出する圧力検出部７６と、接続経路７５内の流体の圧力を調整する流体圧調整部７７とを有する。

接続経路７５は、複数に分岐し、複数設けられた圧力調整装置４０の膨張収縮部６７にそれぞれ接続される。本実施形態の接続経路７５は、４つに分岐し、４つ設けられた圧力調整装置４０の膨張収縮部６７にそれぞれ接続される。加圧ポンプ７４により加圧された流体は、接続経路７５を介してそれぞれの膨張収縮部６７に供給される。接続経路７５の複数に分岐した部分に、流路の開閉を切り替える弁を設けてもよい。こうすると、弁を制御することにより、加圧された流体を複数の膨張収縮部６７に選択的に供給することが可能となる。

流体圧調整部７７は、例えば逃がし弁によって構成される。流体圧調整部７７は、接続経路７５内の流体の圧力が所定の圧力よりも高くなった場合に、自動的に開弁するように構成される。流体圧調整部７７が開弁すると、接続経路７５内の流体が外部へ放出される。このようにして、流体圧調整部７７は、接続経路７５内の流体の圧力を低下させる。

図２に示すように、液体噴射装置１１はキャップ部７９を備えてもよい。キャップ部７９は、液体噴射部１５のノズル面２５をキャッピング可能なキャップ８０と、キャップ８０内を大気に開放するキャップ開放弁８１と、キャップ８０内を吸引する吸引ポンプ８２と、廃液を収容する廃液タンク８３と、を有してもよい。

キャップ８０は、液体噴射部１５に対して相対移動してキャッピングする。キャッピングとは、キャップ８０が液体噴射部１５と接触することにより、ノズル２４が開口する空間を形成する動作のことである。キャップ８０は、ノズル面２５をキャッピングすることにより、ノズル２４内の液体が乾燥によって増粘することを抑制する。

キャップ８０は、ノズル面２５をキャッピングする状態において、キャップ８０内とキャップ８０外とで気体及び液体などの流体の出入りが生じないように密閉された空間を形成してもよい。こうすると、キャッピングによって、ノズル２４内の液体の乾燥をより抑制できる。

キャップ開放弁８１は、キャップ８０が液体噴射部１５をキャッピングする状態で開弁することにより、キャップ８０内をキャップ８０外である大気と通じさせることができる弁である。

キャップ部７９は、液体噴射部１５の数に対応して、複数のキャップ８０を有してもよい。本実施形態のキャップ部７９は、２つのキャップ８０を有する。２つのキャップ８０は、２つの液体噴射部１５をそれぞれキャッピングする。

吸引ポンプ８２は、キャップ８０が液体噴射部１５をキャッピングした状態で駆動されると、ノズル２４に負圧を作用させ、ノズル２４から液体を強制的に排出させる。このノズル２４からの液体の排出は、吸引クリーニングともいう。廃液タンク８３は、吸引クリーニングにより排出された液体を廃液として収容する。廃液タンク８３は、交換可能に設けてもよい。

次に、液体噴射部１５と液体帰還流路３１について説明する。
図２に示すように、液体噴射部１５は、供給される液体を濾過するフィルター８４を有し、フィルター８４で濾過された液体をノズル２４から噴射する。フィルター８４は、供給される液体中の気泡、異物などを捕捉する。フィルター８４は、液体供給流路３０が接続される共通液室８５に設けてもよい。

液体噴射部１５は、共通液室８５と通じる複数の圧力室８６を備える。複数の圧力室８６のそれぞれには、複数のノズル２４が連通して設けられる。圧力室８６の壁面の一部は、振動板８７によって形成される。共通液室８５と圧力室８６とは、供給側連通路８８を介して互いに通じる。

液体噴射部１５は、複数のアクチュエーター８９と、アクチュエーター８９を収容する複数の収容室９０と、を備える。収容室９０は、共通液室８５とは異なる位置に配置される。１つの収容室９０は、１つのアクチュエーター８９を収容する。アクチュエーター８９は、振動板８７において圧力室８６と面する部分とは反対となる面に設けられる。

本実施形態のアクチュエーター８９は、駆動電圧が印加された場合に収縮する圧電素子によって構成される。駆動電圧の印加によるアクチュエーター８９の収縮に伴って振動板８７を変形させた後、アクチュエーター８９への駆動電圧の印加を解除すると、容積が変化した圧力室８６内の液体がノズル２４から液滴として噴射される。すなわち、液体噴射部１５は、圧力室８６内の液体をアクチュエーター８９で加圧することにより、各圧力室８６に連通するノズル２４から液体を噴射する。

図４に示すように、液体噴射部１５は、供給される液体をノズル２４を通過せずに外部に排出するための第１排出流路９１及び第２排出流路９２と、第１排出流路９１と圧力室８６とを接続する排出液室９３と、を有してもよい。排出液室９３は、圧力室８６ごとに設けられる排出側連通路９４を介して複数の圧力室８６と連通する。排出液室９３を設けることにより、複数の圧力室８６に対して１本の第１排出流路９１を設けるだけで済む。すなわち、排出液室９３を設けることにより、第１排出流路９１を圧力室８６ごとに設ける必要がない。これにより、液体噴射部１５の構成を簡易にできる。液体噴射部１５は、複数の圧力室８６に連通する第１排出流路９１を複数有してもよい。

図２，図４に示すように、液体帰還流路３１は、第１排出流路９１と接続される第１帰還流路３１ａと、第２排出流路９２と接続される第２帰還流路３１ｂと、を有してもよい。本実施形態の液体帰還流路３１は、第１帰還流路３１ａ及び第２帰還流路３１ｂが合流するように構成される。液体帰還流路３１は、第１帰還流路３１ａ及び第２帰還流路３１ｂが合流せず、それぞれが液体供給流路３０に接続されてもよい。

第１帰還流路３１ａ及び第２帰還流路３１ｂには、ダンパー９８及び帰還弁９９を設けてもよい。帰還ポンプ３９Ｂは、第１帰還流路３１ａと第２帰還流路３１ｂにそれぞれ設けてもよいし、第１帰還流路３１ａ及び第２帰還流路３１ｂが合流する部分と液体供給流路３０への接続位置との間の液体帰還流路３１に１つ設けてもよい。

ダンパー９８は、液体を貯留するように構成される。ダンパー９８は、例えばその一面が可撓膜によって形成され、液体を貯留する容積が可変である。ダンパー９８を設けることにより、液体が第１帰還流路３１ａ及び第２帰還流路３１ｂを流れる際に液体噴射部１５に生じる圧力の変動を抑制できる。

第１帰還流路３１ａにおいて、帰還弁９９は、帰還ポンプ３９Ｂとダンパー９８との間に位置する。第２帰還流路３１ｂにおいて、帰還弁９９は、帰還ポンプ３９Ｂとダンパー９８との間に位置する。液体供給部１９は、帰還弁９９の開閉により、第１帰還流路３１ａ及び第２帰還流路３１ｂのうちの任意の流路において液体を流動させてもよい。液体供給部１９は、帰還弁９９の開度を調整してもよい。第１帰還流路３１ａ及び第２帰還流路３１ｂを流れる液体の流量は、帰還弁９９の開度に応じた流量となる。

次に、液体噴射装置１１の電気的構成について説明する。
図５に示すように、液体噴射装置１１は、液体噴射装置１１の構成要素を統括的に制御する制御部１１１と、制御部１１１によって制御される検出器群１１２とを備える。検出器群１１２は、圧力室８６の振動波形を検出することによって、圧力室８６内の状態を検出可能な状態検出機構１１３を含む。検出器群１１２は、液体噴射装置１１内の状況を監視する。検出器群１１２は、検出結果を制御部１１１に出力する。

制御部１１１は、インターフェイス部１１５と、ＣＰＵ１１６と、メモリー１１７と、制御回路１１８と、駆動回路１１９と、を有する。インターフェイス部１１５は、外部装置であるコンピューター１２０と液体噴射装置１１との間でデータを送受信する。駆動回路１１９は、アクチュエーター８９を駆動させる駆動信号を生成する。

ＣＰＵ１１６は演算処理装置である。メモリー１１７は、ＣＰＵ１１６のプログラムを格納する領域または作業領域等を確保する記憶装置であり、ＲＡＭ、ＥＥＰＲＯＭ等の記憶素子を有する。ＣＰＵ１１６は、メモリー１１７に格納されているプログラムに従い、制御回路１１８を介して液体噴射装置１１の各機構を制御する。

検出器群１１２は、例えば、キャリッジ２７の移動状況を検出するリニアエンコーダー、及び媒体１２を検出する媒体検出センサーを含んでもよい。状態検出機構１１３は、圧力室８６の残留振動を検出する回路としてもよい。制御部１１１は、状態検出機構１１３の検出結果に基づいて、後述するノズル検査を実行する。状態検出機構１１３は、アクチュエーター８９を構成する圧電素子を含んでもよい。

次に、ノズル検査について説明する。
駆動回路１１９からの信号によりアクチュエーター８９に電圧が印加されると、振動板８７がたわみ変形する。これにより、圧力室８６内で圧力変動が生じる。この変動により、振動板８７はしばらく振動する。この振動を残留振動という。残留振動の状態から圧力室８６と圧力室８６に通じるノズル２４との状態を検出することを、ノズル検査という。

図６は、振動板８７の残留振動を想定した単振動の計算モデルを示す図である。
駆動回路１１９がアクチュエーター８９に駆動信号を印加すると、アクチュエーター８９は駆動信号の電圧に応じて伸縮する。振動板８７はアクチュエーター８９の伸縮に応じて撓む。これにより、圧力室８６の容積は、拡大した後に収縮する。このとき、圧力室８６内に発生する圧力により、圧力室８６を満たす液体の一部が、ノズル２４から液滴として噴射される。

上述した振動板８７の一連の動作の際に、液体が流れる流路の形状、液体の粘度等による流路抵抗ｒと、流路内の液体重量によるイナータンスｍと振動板８７のコンプライアンスＣによって決定される固有振動周波数で、振動板８７が自由振動する。この振動板８７の自由振動が残留振動である。

図７に示す振動板８７の残留振動の計算モデルは、圧力Ｐと、上述のイナータンスｍ、コンプライアンスＣおよび流路抵抗ｒとで表せる。図６の回路に圧力Ｐを与えた時のステップ応答を体積速度ｕについて計算すると、次式が得られる。

図７は、液体の増粘と残留振動波形の関係の説明図である。図７の横軸は時間を示し、縦軸は残留振動の大きさを示す。例えばノズル２４付近の液体が乾燥した場合には、液体の粘性が増加、すなわち増粘する。液体が増粘すると、流路抵抗ｒが増加するため、振動周期、残留振動の減衰が大きくなる。

図８は、気泡混入と残留振動波形の関係の説明図である。図８の横軸は時間を示し、縦軸は残留振動の大きさを示す。例えば、気泡が液体の流路又はノズル２４の先端に混入した場合には、ノズル２４の状態が正常時に比べて、気泡が混入した分だけ、液体重量であるイナータンスｍが減少する。（２）式よりｍが減少すると角速度ωが大きくなるため、振動周期が短くなる。すなわち、振動周波数が高くなる。

その他、ノズル２４の開口付近に紙粉などの異物が固着すると、振動板８７から見て圧力室８６内及び染み出し分の液体が正常時よりも増えることにより、イナータンスｍが増加すると考えられる。ノズル２４の出口付近に付着した紙粉の繊維によって流路抵抗ｒが増大すると考えられる。したがって、ノズル２４の開口付近に紙粉が付着した場合には、正常な噴射時に比べて周波数が低く、液体の増粘の場合よりは、残留振動の周波数が高くなる。

液体の増粘、気泡の混入または異物の固着などが生じると、ノズル２４及び圧力室８６内の状態が正常でなくなるため、典型的にはノズル２４から液体が噴射されなくなる。このため、媒体１２に記録した画像にドット抜けが生じる。ノズル２４から液滴が噴射されたとしても、液滴の量が少量であったり、その液滴の飛行方向がずれて目的の位置に着弾しなかったりする場合もある。このような噴射不良が生じるノズル２４のことを、異常ノズルという。

上述のように、異常ノズルと通じる圧力室８６の残留振動は、正常なノズル２４と通じる圧力室８６の残留振動とは異なる。そこで、状態検出機構１１３は、圧力室８６の振動波形を検出することによって圧力室８６内の状態を検出する。制御部１１１は、状態検出機構１１３の検出結果に基づいてノズル２４の検査を実行する。

制御部１１１は、状態検出機構１１３の検出結果である圧力室８６の振動波形に基づいて、液体噴射部１５の噴射状態が正常であるのか、異常であるのかを推測してもよい。圧力室８６内の状態が異常である場合、その圧力室８６と通じるノズル２４は異常ノズルと推測される。制御部１１１は、圧力室８６の振動波形に基づいて、気泡の存在によって圧力室８６内の状態が異常であるのか、液体の増粘によって圧力室８６内の状態が異常であるのかを推測してもよい。制御部１１１は、圧力室８６の振動波形に基づいて、圧力室８６及びその圧力室８６と通じるノズル２４に存在する気泡の総容積、圧力室８６及びその圧力室８６と通じるノズル２４の液体の増粘の程度を推測してもよい。

液体で満たされた圧力室８６及びノズル２４に気泡が存在する状態において検出される振動波形の周波数は、液体で満たされた圧力室８６及びノズル２４に気泡が存在しない状態において検出される振動波形の周波数より高くなる。圧力室８６及びノズル２４が空気で満たされた状態において検出される振動波形の周波数は、液体で満たされた圧力室８６及びノズル２４に気泡が存在する状態において検出される振動波形の周波数より高くなる。液体で満たされた圧力室８６及びノズル２４に存在する気泡は、成長するほど大きくなる。液体で満たされた圧力室８６及びノズル２４に存在する気泡の大きさが大きくなるほど、振動波形の周波数は高くなる。

液体噴射装置１１において、液体の流れが停滞すると、液体が増粘しやすくなったり、気泡が溜まりやすくなったりする。この場合、異常ノズルが生じやすくなる。すなわち、圧力室８６内の状態が異常になりやすくなる。そのため、制御部１１１は、液体噴射部１５における液体の増粘抑制や気泡の排出を目的として、液体噴射部１５をメンテナンスするメンテナンス動作を実行する。制御部１１１は、状態検出機構１１３の検出結果に基づいて真空度調整機構４１ｅを駆動制御する。本実施形態の制御部１１１は、液体噴射部１５のメンテナンス動作として、第１動作、第２動作、第３動作、及び第４動作を実行するように構成される。

記録処理中の液体噴射部１５における複数のノズル２４の中には、記録に使用されないことにより液体を噴射していない非噴射ノズルと、記録に使用されることにより液体を噴射している噴射ノズルとがあらわれることがある。この場合、噴射ノズルと噴射ノズルに連通する圧力室８６とにおいては、ノズル２４から液体が噴射されるため、液体中に気泡の発生および気泡の成長が生じにくく、液体が増粘しにくい。非噴射ノズルと非噴射ノズルに連通する圧力室８６とにおいては、ノズル２４から液体が噴射されないため液体が停滞する。そのため、非噴射ノズルに連通する圧力室８６では、噴射ノズルに連通する圧力室８６と比較して液体中に気泡の発生および気泡の成長が生じやすく、液体が増粘しやすい。制御部１１１は、複数のノズル２４の中に液体を噴射していない非噴射ノズルと液体を噴射している噴射ノズルがある場合に、非噴射ノズルと連通する圧力室８６を対象として状態検出機構１１３による状態検出を行ってもよい。

液体の増粘を抑制するためには、フラッシングを実行することが一般的である。記録処理中においてノズル２４から液滴が噴射されていないとき、すなわちキャリッジ２７のリターン時又は媒体１２のページ間にフラッシングを実行すると、液体噴射部１５内の液体における気泡の発生及び気泡の成長や増粘を抑制できる。フラッシングを実行すると、ノズル２４から液滴が噴射されるため、液体を消費する。記録処理中に液体における気泡の発生及び気泡の成長や増粘を抑制するために逐一フラッシングを実行すると、液体の消費が大きい。本実施形態における第１動作、第２動作、第３動作、及び第４動作を実行すると、メンテナンスのためにノズル２４からの液滴の噴射を行う頻度が低減できる。したがって、メンテナンスによる液体の消費を低減できる。

制御部１１１は、液体噴射部１５のメンテナンス動作として、真空度調整機構４１ｅを駆動して脱気モジュール４１の真空度を高くする第１動作を行ってもよい。制御部１１１は、脱気モジュール４１の真空度を基準真空度Ｖｓよりも高い第１真空度Ｖ１に設定することにより、脱気モジュール４１の真空度を高くしてもよい。制御部１１１は、状態検出機構１１３の検出結果に基づき、圧力室８６に存在する気泡が第１設定値以上の容積を有することに起因して気泡の発生および気泡の成長が推測される場合に第１動作を実行してもよい。第１設定値は、制御部１１１のメモリー１１７に記憶されている。メモリー１１７は、例えば、圧力室８６に存在する気泡が第１設定値となる容積を有する場合に状態検出機構１１３によって検出される振動波形の周波数を記憶していてもよい。

圧力室８６に存在する気泡は、その容積が小さい場合、時間の経過によって液体中に溶解し、消失することがある。また、圧力室８６に存在する気泡は、気泡に接触する液体が停滞している場合と比較して気泡に接触する液体が流動している場合の方が時間の経過によって液体中に溶解し、消失しやすい。気泡の容積が小さい場合には、例えば所定時間だけ待機することにより、第１動作を実行することなく圧力室８６から気泡を除去できる。逆に、圧力室８６に存在する気泡は、その容積が大きい場合、時間の経過によって成長するおそれがある。そのため、第１設定値とは、時間の経過によって気泡の消失が見込めない気泡の最小容積を示す値である。

制御部１１１は、真空度調整機構４１ｅを制御する第１動作に加えて、流路流動機構３９を駆動する第２動作を実行してもよい。すなわち、制御部１１１は、状態検出機構１１３の検出結果から気泡の発生及び気泡の成長が推測される場合に、脱気モジュール４１の真空度を調整する第１動作を実行した状態で流路流動機構３９を駆動する第２動作を行ってもよい。

制御部１１１は、第２動作において、ノズル２４内の気液界面のメニスカスが維持されるように液体帰還流路３１側から圧力室８６内の液体を吸引することによって、液体を液体帰還流路３１に向かって排出させてもよい。制御部１１１は、第２動作において、液体供給流路３０側から圧力室８６内の液体を加圧することによって、液体を液体帰還流路３１に向かって排出させてもよい。第２動作を行うと、圧力室８６内の圧力が変動するため、メニスカスが移動する。制御部１１１は、メニスカスの移動がノズル２４内に収まるように第２動作を行ってもよい。メニスカスが圧力室８６に近づくように移動すると、ノズル２４内の液体が圧力室８６に戻るため、ノズル２４内に位置した液体も流動させることができる。

制御部１１１は、状態検出機構１１３の検出結果に基づき、圧力室８６中の液体が第２設定値以上の粘度を有することに起因して液体の粘度増加が推測される場合に、液体噴射部１５のメンテナンス動作として第３動作を実行してもよい。第２設定値は、制御部１１１のメモリー１１７に記憶されている。メモリー１１７は、例えば、圧力室８６に存在する液体の粘度が第２設定値である場合に状態検出機構１１３によって検出される振動波形の周波数を記憶していてもよい。第３動作は、脱気モジュール４１の真空度を調整した状態で流路流動機構３９を駆動して、液体供給流路３０内および液体帰還流路３１内を流れる液体の流量を多くする動作である。液体の流量とは、単位時間当たりに流れる液体の容積である。制御部１１１は、第３動作において、液体供給流路３０内および液体帰還流路３１内を流れる液体の流量を所定流量Ｆαだけ多くしてもよい。所定流量Ｆαは、例えば液体の流量を基準流量Ｆｓより所定流量Ｆαだけ大きい流量に設定した場合に、液体の流量が流路流動機構３９によって設定可能な最大の流量より小さい流量となる値である。制御部１１１は、第３動作において、帰還弁９９の開度を大きくすることにより、第１帰還流路３１ａ及び第２帰還流路３１ｂを流れる液体の流量を多くしてもよい。

制御部１１１は、流路流動機構３９を駆動する第３動作に加えて、真空度調整機構４１ｅを駆動する第４動作を実行してもよい。第４動作は、真空度調整機構４１ｅを駆動して脱気モジュール４１の真空度を低くする動作である。制御部１１１は、第４動作において、脱気モジュール４１の真空度を基準真空度Ｖｓよりも低い第２真空度Ｖ２に設定することにより、脱気モジュール４１の真空度を低くしてもよい。

次に、液体噴射装置１１のメンテナンス方法について説明する。
図９及び図１０に示すメンテナンス処理のルーチンは、液体噴射部１５が記録処理を実行している間、所定期間毎に繰り返し行われる。メンテナンス処理のルーチンの実行中は、真空度調整機構４１ｅによる脱気モジュール４１の脱気処理と、流路流動機構３９による液体の流動処理と、を継続して行ってもよい。

メンテナンス処理のルーチンの初回実行時は、真空度調整機構４１ｅによって脱気モジュール４１の真空度が基準真空度Ｖｓに調整される。メンテナンス処理のルーチンの初回実行時は、流路流動機構３９によって液体供給流路３０内および液体帰還流路３１内における液体の流量が基準流量Ｆｓに調整される。以下の説明では、真空度調整機構４１ｅによって調整される脱気モジュール４１の真空度を真空度Ｖといい、流路流動機構３９によって調整される液体供給流路３０内および液体帰還流路３１内における液体の流量を流量Ｆという。

図９に示すように、ステップＳ１０１において、制御部１１１は、ノズル２４のなかに液体を噴射しない非噴射ノズルがあるか否かを判断する。ステップＳ１０１において、非噴射ノズルがある場合、ステップＳ１０１はＹＥＳになる。制御部１１１は処理をステップＳ１０２に移行する。非噴射ノズルがない場合は、ステップＳ１０１がＮＯになり、制御部１１１は処理をステップＳ１０３に移行する。

ステップＳ１０２において、制御部１１１は、非噴射ノズルを状態検出ノズルに設定する。ステップＳ１０３において、制御部１１１は、噴射ノズルを状態検出ノズルに設定する。すなわち、制御部１１１は、ステップＳ１０２又はステップＳ１０３によって状態検出ノズルとして設定されたノズル２４に対して、状態検出機構１１３による圧力室８６の状態の検出を行う。制御部１１１は、ステップＳ１０２又はステップＳ１０３の処理を行った後、処理をステップＳ１０４に移行する。

ステップＳ１０４において、制御部１１１は、状態検出機構１１３による検出結果に基づいて気泡の発生および気泡の成長が推測されるか否かを判断する。ステップＳ１０４において、気泡の発生および気泡の成長が推測される場合、ステップＳ１０４はＹＥＳになる。制御部１１１は処理をステップＳ１０５に移行する。気泡の発生および気泡の成長が推測されない場合は、ステップＳ１０４がＮＯになり、制御部１１１は処理を図１０に示すステップＳ１０９に移行する。

ステップＳ１０５において、制御部１１１は、第１動作を行う。第１動作では、真空度Ｖを基準真空度Ｖｓより高い第１真空度Ｖ１に設定する。制御部１１１は、ステップＳ１０５の処理を行った後、処理をステップＳ１０６に移行する。ステップＳ１０６において、制御部１１１は、第２動作を行う。ステップＳ１０６における第２動作での流量Ｆは基準流量Ｆｓである。制御部１１１は、ステップＳ１０６の処理を行った後、処理をステップＳ１０７に移行する。

ステップＳ１０７において、制御部１１１は、状態検出機構１１３による検出結果に基づいて気泡の発生および気泡の成長が改善されたか否かを判断する。ステップＳ１０７において、気泡の発生および気泡の成長が改善されたと判断される場合、ステップＳ１０７はＹＥＳになる。制御部１１１は処理をステップＳ１０８に移行する。気泡の発生および気泡の成長が改善されていないと判断される場合は、ステップＳ１０７がＮＯになり、制御部１１１はステップＳ１０７を再度実行する。制御部１１１は、ステップＳ１０７がＹＥＳとなるまで、ステップＳ１０７を繰り返し実行する。ステップＳ１０８において、制御部１１１は、真空度Ｖを基準真空度Ｖｓに設定する。制御部１１１は処理を図１０に示すステップＳ１０９に移行する。

ステップＳ１０９において、制御部１１１は、状態検出機構１１３による検出結果に基づいて液体の粘度増加が推測されるか否かを判断する。ステップＳ１０９において、液体の粘度増加が推測される場合、ステップＳ１０９はＹＥＳになる。制御部１１１は処理をステップＳ１１０に移行する。液体の粘度増加が推測されない場合は、ステップＳ１０９がＮＯになり、メンテナンス処理のルーチンを一旦終了する。

ステップＳ１１０において、制御部１１１は第３動作を行う。第３動作では、流量Ｆを所定流量Ｆαだけ多くする。制御部１１１は、ステップＳ１１０の処理を行った後、処理をステップＳ１１１に移行する。ステップＳ１１１において、制御部１１１は、第４動作を行う。第４動作では、真空度Ｖを基準真空度Ｖｓよりも低い第２真空度Ｖ２に設定する。制御部１１１は、処理をステップＳ１１２に移行する。

ステップＳ１１２において、制御部１１１は、状態検出機構１１３による検出結果に基づいて液体の粘度低下が推測されるか否かを判断する。ステップＳ１１２において、液体の粘度低下が推測されると判断される場合、ステップＳ１１２はＹＥＳになる。制御部１１１は処理をステップＳ１１３に移行する。ステップＳ１１２において、液体の粘度低下が推測されないと判断される場合、ステップＳ１１２はＮＯになる。制御部１１１は処理をステップＳ１１６に移行する。

ステップＳ１１３において、制御部１１１は、状態検出機構１１３による検出結果に基づいて気泡の発生および気泡の成長が推測されるか否かを判断する。気泡の発生および気泡の成長が推測されないと判断される場合は、ステップＳ１１３がＮＯになる。制御部１１１は処理をステップＳ１１４に移行する。ステップＳ１１３において、気泡の発生および気泡の成長が推測されると判断される場合、ステップＳ１１３はＹＥＳになる。制御部１１１は処理をステップＳ１１５に移行する。

ステップＳ１１４において、制御部１１１は、流量Ｆを基準流量Ｆｓに設定する。制御部１１１は、ステップＳ１１４の処理を行った後、メンテナンス処理のルーチンを一旦終了する。ステップＳ１１５において、制御部１１１は、流量Ｆを基準流量Ｆｓに設定するとともに、真空度Ｖを基準真空度Ｖｓに設定する。制御部１１１は、メンテナンス処理のルーチンを一旦終了する。

ステップＳ１１６において、制御部１１１は、状態検出機構１１３による検出結果に基づいて気泡の発生および気泡の成長が推測されるか否かを判断する。ステップＳ１１６において、気泡の発生および気泡の成長が推測されないと判断される場合は、ステップＳ１１６がＮＯになる。制御部１１１は処理をステップＳ１１８に移行する。ステップＳ１１６において、気泡の発生および気泡の成長が推測されると判断される場合は、ステップＳ１１６がＹＥＳになる。制御部１１１は処理をステップＳ１１７に移行する。

ステップＳ１１７において、制御部１１１は、真空度Ｖを基準真空度Ｖｓに設定する。制御部１１１は、処理をステップＳ１１８に移行する。ステップＳ１１８において、制御部１１１は、流量Ｆを所定流量Ｆαだけ多くする。制御部１１１は、ステップＳ１１２を再度実行する。

本実施形態の作用について説明する。
ステップＳ１０４がＹＥＳになるときは、気泡の発生及び気泡の成長が推測でき、真空度Ｖを高める必要があるときである。この場合、制御部１１１は、ステップＳ１０５において第１動作を行うことにより、真空度Ｖを基準真空度Ｖｓより高い第１真空度Ｖ１にまで高めてもよい。制御部１１１が第１動作を実行すると、脱気モジュール４１によって脱気室４１ａ内の液体の脱気度が高くなる。脱気度が高く調整された液体は、脱気室４１ａ内から液体供給流路３０及び圧力調整装置４０を介して圧力室８６に供給される。これにより、圧力室８６内の液体及び圧力室８６に連通するノズル２４の液体における気泡の発生及び気泡の成長が改善される。

ステップＳ１０４がＮＯになるときは、気泡の発生及び気泡の成長が推測されず、真空度Ｖを高める必要がないときである。この場合、制御部１１１は、真空度Ｖを変更しないままステップＳ１０９に移行することにより、液体中の粘度増加を判断する処理を移行してもよい。

制御部１１１は、ステップＳ１０６において第２動作を行ってもよい。ステップＳ１０６における第２動作では、ステップＳ１０５における第１動作によって真空度Ｖを調整した状態で、液体供給流路３０内及び液体帰還流路３１内の液体を流動駆動させてもよい。ステップＳ１０６の処理の実行される際に、流路流動機構３９が駆動されて液体供給流路３０内および液体帰還流路３１内の液体がすでに流動している場合、制御部１１１は、ステップＳ１０６において、流路流動機構３９を継続して駆動してもよい。ステップＳ１０６の処理が実行される際に、流路流動機構３９が駆動されていない場合、制御部１１１は、ステップＳ１０６において、流路流動機構３９による液体の流動駆動を開始してもよい。

制御部１１１が第２動作を実行すると、流路流動機構３９により液体供給流路３０内及び液体帰還流路３１内の液体が流動する。すなわち、制御部１１１は、液体噴射部１５のノズル２４内及び圧力室８６内の脱気度の低い液体を、液体帰還流路３１、液体貯留部３２、および液体供給流路３０を介して脱気モジュール４１に送り、脱気モジュール４１によって脱気させた液体を液体噴射部１５の圧力室８６に戻す。したがって、ノズル２４及び圧力室８６における気泡の発生および気泡の成長を抑制できる。

ステップＳ１０７がＮＯになるときは、気泡の発生及び気泡の成長が改善されず、真空度Ｖを高いまま維持する必要があるときである。この場合、制御部１１１は、ステップＳ１０７を繰り返し実行することで、気泡の発生及び気泡の成長が改善されるまでは、第１動作及び第２動作による気泡の発生及び気泡の成長の改善を図る処理を継続させてもよい。

ステップＳ１０７がＹＥＳになるときは、気泡の発生及び気泡の成長が改善され、真空度Ｖを高いまま維持する必要がないときである。この場合、制御部１１１は、ステップＳ１０８において、真空度Ｖを基準真空度Ｖｓに設定してもよい。これにより、ステップＳ１０５において、第１動作によって基準真空度Ｖｓよりも高い第１真空度Ｖ１に設定された真空度Ｖが基準真空度Ｖｓにまで低くされる。

ステップＳ１０９がＮＯになるときは、液体の粘度増加が推測されず、流量Ｆを増やす必要がないときである。この場合、制御部１１１は、流量Ｆを変更しないままメンテナンス処理のルーチンを一旦終了してもよい。

ステップＳ１０９がＹＥＳになるときは、液体の粘度増加が推測でき、流量Ｆを増やす必要があるときである。この場合、制御部１１１は、ステップＳ１１０において第３動作を行うことにより、流量Ｆを所定流量Ｆαだけ増やしてもよい。制御部１１１が第３動作を実行すると、ノズル２４及び圧力室８６内から液体帰還流路３１に向けて移動する液体の流量が多くなるため、ノズル２４及び圧力室８６内の粘度増加が解消される。

ステップＳ１１１にまで処理が進む場合は、ステップＳ１０４において気泡の発生および気泡の成長が推測されないと判断される場合か、ステップＳ１０７において気泡の発生および気泡の成長が改善されたと判断される場合である。そのため、ステップＳ１１１の処理の実行時では、液体中に気泡の発生および気泡の成長が生じていない可能性が高い。制御部１１１は、状態検出機構１１３の検出結果から液体の粘度増加が推測される場合に、ステップＳ１１０における第３動作に加えて、ステップＳ１０４における真空度Ｖを低くする第４動作を行ってもよい。

圧力室８６内の気泡は、液体供給流路３０内および液体帰還流路３１内における液体の流量を多くすることで改善できることもある。すなわち、第３動作を行うことによって、液体の粘度増加の解消のほか、液体中の気泡の発生や気泡の成長の抑制も期待できる。そのため、第３動作を行うときは、脱気モジュール４１による真空度を低くしても、液体中の気泡の発生や気泡の成長が生じにくい。本実施形態では、第３動作が行われるときに第４動作を行うことにより、第３動作による液体供給流路３０内および液体帰還流路３１内における液体の流れを利用して気泡の発生を抑制することができる。

ステップＳ１１２がＹＥＳになるときは、液体の粘度低下が推測でき、液体の粘度を低下させるための流量Ｆの増量処理が必要ないときである。この場合、制御部１１１は、ステップＳ１１４又はステップＳ１１５において、流量Ｆを基準流量Ｆｓに設定してもよい。これにより、ステップＳ１１０において、第３動作によって基準流量Ｆｓよりも多い流量に増やされた流量Ｆが基準流量Ｆｓにまで減らされる。

ステップＳ１１３がＮＯになるときは、気泡の発生及び気泡の成長が推測されず、真空度Ｖを高める必要がないときである。この場合、制御部１１１は、ステップＳ１１３以降のステップＳ１１４において、真空度Ｖを変更しなくてもよい。

ステップＳ１１３がＹＥＳになるときは、気泡の発生及び気泡の成長が推測でき、真空度Ｖを高める必要があるときである。この場合、制御部１１１は、ステップＳ１１５において、真空度Ｖを基準真空度Ｖｓに設定する。これにより、ステップＳ１１１において、第４動作によって基準真空度Ｖｓよりも低い第２真空度Ｖ２に設定された真空度Ｖが基準真空度Ｖｓにまで高められる。真空度Ｖが高められることで、液体中の気泡の発生及び気泡の成長の改善を図ることができる。

ステップＳ１１２がＮＯになるときは、液体の粘度低下が推測されず、液体の粘度を低下させるために流量Ｆをさらに増量させる必要があるときである。この場合、制御部１１１は、ステップＳ１１８において、流量Ｆを所定流量Ｆαだけ多くしてもよい。これにより、ステップＳ１１０において、第３動作によって設定された流量Ｆよりも多い流量Ｆに設定される。

ステップＳ１１６がＮＯになるときは、気泡の発生及び気泡の成長が推測されず、真空度Ｖを高める必要がないときである。この場合は、ステップＳ１１６以降のステップＳ１１８において、真空度Ｖが変更されない。

ステップＳ１１６がＹＥＳになるときは、気泡の発生及び気泡の成長が推測でき、真空度Ｖを高める必要があるときである。この場合、制御部１１１は、ステップＳ１１７において、真空度Ｖを基準真空度Ｖｓに設定してもよい。これにより、ステップＳ１１１において、第４動作によって基準真空度Ｖｓよりも低い第２真空度Ｖ２に設定された真空度Ｖが基準真空度Ｖｓにまで高められる。真空度Ｖが高められることで、液体中の気泡の発生及び気泡の成長の改善を図ることができる。

本実施形態の効果について説明する。
（１）制御部１１１は、状態検出機構１１３の検出結果に基づいて真空度調整機構４１ｅを駆動制御する。そのため、真空度の制御が行われず真空度が高い状態を維持する真空度調整機構４１ｅを使用する場合と比較して、真空度調整機構４１ｅの機能劣化を低減できる。

（２）圧力室８６内に発生した気泡が成長すると、ノズル２４から液体を噴射する噴射性能が低下する虞がある。その点、制御部１１１は、気泡の発生および気泡の成長が推測される場合に、脱気モジュール４１の真空度を高くするため、気泡の成長に伴う噴射性能の低下を抑制しつつ真空度調整機構４１ｅの機能劣化を低減できる。

（３）制御部１１１は、流路流動機構３９により液体供給流路３０内及び液体帰還流路３１内の液体を流動させる。すなわち、制御部１１１は、液体噴射部１５内の脱気度の低い液体を、液体帰還流路３１、液体貯留部３２、および液体供給流路３０を介して脱気モジュール４１に送り、脱気させた液体を液体噴射部１５に戻す。したがって、圧力室８６における気泡の発生および気泡の成長を抑制できる。

（４）圧力室８６内の液体が粘度増加すると、ノズル２４から液体を噴射する噴射性能が低下する虞がある。液体の粘度増加は、流路流動機構３９が流動させる液体の流量を多くすることで解消できることもある。制御部１１１は、液体の粘度増加が推測される場合に、流路流動機構３９により液体供給流路３０内および液体帰還流路３１内を流動させる液体の流量を多くする。したがって、制御部１１１は、圧力室８６内の状態によって流路流動機構３９を駆動制御するため、液体の粘度増加に伴う噴射性能の低下を抑制しつつ流路流動機構３９の機能劣化を低減できる。

（５）圧力室８６内の気泡は、液体供給流路３０内および液体帰還流路３１内における液体の流量を多くすることで改善できることもある。制御部１１１は、液体の粘度増加が推測される場合に、流路流動機構３９を駆動して液体供給流路３０内および液体帰還流路３１内における液体の流量を多くすると共に、脱気モジュール４１の真空度を低くする。そのため、液体の粘度増加を解消する液体の流れを利用して気泡の発生を抑制することができる。

（６）ノズル２４は、液体を噴射しているノズル２４に比べ液体を噴射していないノズル２４の方が気泡が成長しやすい。その点、制御部１１１は、液体を噴射していないノズル２４と連通する圧力室８６の検出結果に基づいて真空度調整機構４１ｅを駆動制御するため、複数のノズル２４における噴射性能のばらつきを低減できる。

上記実施形態は、以下のように変更して実施することができる。上記実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
・液体供給流路３０への液体帰還流路３１の接続位置は、供給方向Ａにおける液体貯留部３２よりも上流位置であれば上記実施形態における位置から変更してもよい。例えば、液体帰還流路３１は、液体供給流路３０においてフィルターユニット３８と液体貯留部３２の間の位置に接続されていてもよい。

・液体帰還流路３１は、３つ以上の帰還流路から構成されるものであってもよいし、１つの帰還流路から構成されるものであってもよい。
・帰還弁９９は開弁状態と閉弁状態とで切り替え可能な開閉弁であってもよい。この形態では、液体供給流路３０内及び液体帰還流路３１内の液体の流量が増えるように、供給ポンプ３９Ａ及び帰還ポンプ３９Ｂのうち少なくとも一方の駆動制御を行うことにより、第３動作を行ってもよい。

・流路流動機構３９は、供給ポンプ３９Ａと帰還ポンプ３９Ｂのうち、何れか一方を備える構成であってもよい。
・図１１に示すように、液体供給部１９は、液体供給流路３０と、第２帰還流路３１ｂを備えてもよい。すなわち、液体帰還流路３１は、１つの第２帰還流路３１ｂにより構成してもよい。液体供給流路３０には、複数のフィルターユニット３８と、ダンパー９８を設けてもよい。例えば、液体供給部１９は、液体供給流路３０に供給方向Ａの上流から順に設けられる導出ポンプ３４、フィルターユニット３８、液体貯留部３２、供給ポンプ３９Ａ、脱気モジュール４１、フィルターユニット３８、及びダンパー９８を備える。例えば、液体供給部１９は、第２帰還流路３１ｂに設けられる帰還弁９９を備える。図１１に示す液体供給部１９は、圧力調整装置４０を備えない。そのため制御部１１１は、供給ポンプ３９Ａの駆動を制御することにより液体噴射部１５に供給する液体の圧力を調整してもよい。制御部１１１は、供給ポンプ３９Ａ及び帰還弁９９から構成される流路流動機構３９を用いて液体供給流路３０内および液体帰還流路３１内の液体を流動させることにより、第２動作及び第３動作を行ってもよい。

・脱気モジュール４１は、複数本の中空糸膜を備えたものであってもよく、脱気室４１ａとしての中空糸膜内の空間と、中空糸膜により脱気室４１ａと区画された減圧室４１ｃと、減圧室４１ｃに繋がる減圧流路４１ｄと、脱気モジュール４１の真空度を調整可能な真空度調整機構４１ｅとを有してもよい。

・液体噴射部１５は、圧力室８６内の液体を電気熱変換素子によって加熱して膜沸騰を生じさせることにより、ノズル２４から液体を噴射するものであってもよい。この場合、状態検出機構１１３は、電気熱変換素子の直下に温度検知素子を備えるとともに、温度検知素子が検知した液体噴射時の最高温度とあらかじめ設定された閾値とを比較したり、温度検知素子が検知した温度の変化の違いから噴射状態を検出したりしてもよい。

・制御部１１１は、ノズル２４による液体の噴射量の履歴を記憶するようにしてもよい。この形態では、ノズル２４のなかで液体の噴射量が少ないノズル２４と液体の噴射量が多いノズル２４とがある場合に、液体の噴射量が少ないノズル２４と連通する圧力室８６を対象に状態検出機構１１３による検出を行ってもよい。

・液体噴射部１５は、液体供給流路３０から遠い位置にある圧力室８６ほど、圧力室８６内で生じる液体の流動が少ない傾向にある。制御部１１１は、液体供給流路３０から最も遠い位置にある圧力室８６を対象に状態検出機構１１３による検出を行ってもよい。

・非噴射ノズルに連通する圧力室８６と噴射ノズルに連通する圧力室８６との区別なく、圧力室８６を対象とした状態検出機構１１３による検出を行ってもよい。この形態では、例えば、図９に示すルーチンにおいて、ステップＳ１０１、ステップＳ１０２、及びステップＳ１０３を省略してもよい。制御部１１１は、ノズル２４を区別せずに検出された状態検出機構１１３による検出結果に基づいて、液体中の気泡の発生及び気泡の成長の推測や液体の粘度判断を行ってもよい。

・制御部１１１は、脱気モジュール４１の真空度を所定の値だけ高くすることにより第１動作を行ってもよい。
・制御部１１１は、液体供給流路３０内および液体帰還流路３１内を流れる液体の流量を所定の値に設定することにより第３動作を行ってもよい。

・制御部１１１は、脱気モジュール４１の真空度を所定の値だけ低くすることにより第４動作を行ってもよい。
・制御部１１１が行うメンテナンス処理から第２動作を省略してもよい。この場合、制御部１１１は、図９に示すルーチンにおいて、ステップＳ１０５の処理の後に、ステップＳ１０７に処理を移行してもよい。

・図９及び図１０に示すメンテナンス処理のルーチンの初回開始時は、流路流動機構３９による液体供給流路３０内及び液体帰還流路３１内での液体の流動が停止されていてもよい。この場合では、ステップＳ１０６において、流路流動機構３９による液体供給流路３０内及び液体帰還流路３１内での液体の流動を開始させることにより、第２動作を実行してもよい。ステップＳ１１４及びステップＳ１１５において、流路流動機構３９による液体供給流路３０内及び液体帰還流路３１内での液体の流動を停止させてもよい。

・図９及び図１０に示すメンテナンス処理のルーチンから、ステップＳ１１１における第４動作を省略してもよい。この場合、制御部１１１は、ステップＳ１１５及びステップＳ１１７において脱気モジュール４１の真空度を高くする処理を行ってもよい。

・図９及び図１０に示すメンテナンス処理のルーチンの初回開始時は、真空度調整機構４１ｅによる脱気モジュール４１の真空調整を停止させていてもよい。この場合、制御部１１１は、ステップＳ１０５において、真空度調整機構４１ｅによる脱気モジュール４１の真空調整を開始させてもよい。制御部１１１は、ステップＳ１０８において、真空度調整機構４１ｅによる脱気モジュール４１の真空調整を停止させてもよい。制御部１１１は、ステップＳ１１１における第４動作を省略してもよい。制御部１１１は、ステップＳ１１５及びステップＳ１１７において真空度調整機構４１ｅによる脱気モジュール４１の真空駆動を開始させてもよい。

・制御部１１１は、ステップＳ１１２において液体の粘度低下の推測をしたあと、気泡の発生および気泡の成長の推測をしなくてもよい。すなわち、図１０に示すルーチンにおいて、ステップＳ１１３、ステップＳ１１５、ステップＳ１１６、及びステップＳ１１７を省略してもよい。制御部１１１は、ステップＳ１１２においてＹＥＳとなるときに、ステップＳ１１４に処理を移行してもよい。制御部１１１は、ステップＳ１１２においてＮＯとなるときに、ステップＳ１１８に処理を移行してもよい。

・制御部１１１が行うメンテナンス処理から第３動作を省略してもよい。この場合、メンテナンス処理において、図１０に示すルーチンを省略してもよい。制御部１１１は、図９に示すステップＳ１０８の処理後、又はステップＳ１０４においてＮＯとなるときに、メンテナンス処理を一旦終了してもよい。

・制御部１１１は、状態検出機構１１３の検出結果に基づいて真空度調整機構４１ｅおよび流路流動機構３９のうち少なくとも一方を駆動制御してもよい。この形態において、制御部１１１は、第１動作及び第２動作にかえて、流路流動機構３９を駆動させる動作を行ってもよい。流路流動機構３９が駆動されると、液体噴射部１５に向かって流れる液体の流量を多くなる。この場合、真空度調整機構４１ｅによる脱気モジュール４１の真空度調整を行わなくても、液体噴射部１５に向かって流れる液体の流量が多くなることによって、液体中の気泡の発生及び気泡の成長を改善できる。そのため、液体噴射装置１１から真空度調整機構４１ｅ及び脱気モジュール４１を省略してもよい。液体供給源１７内に脱気度の高い液体を収容しておき、気泡の発生及び気泡の成長が推測される場合に、液体供給源１７から液体貯留部３２に液体を供給することにより、流路流動機構３９によって脱気度の高い液体を流動させるようにしてもよい。

制御部１１１は、第１動作及び第２動作にかえて、真空度調整機構４１ｅ及び流路流動機構３９のいずれか一方をその都度選択して駆動させるようにしてもよい。この場合、例えば、制御部１１１は、状態検出機構１１３の検出結果に基づいて圧力室８６内に気泡の発生及び気泡の成長が推測される度に、真空度調整機構４１ｅ及び流路流動機構３９を交互に駆動させてもよい。この形態の流路流動機構３９は、液体供給流路３０内の液体を液体噴射部１５に向かって流動可能であればよい。すなわち、液体帰還流路３１に設けられる帰還ポンプ３９Ｂ及び帰還弁９９を流路流動機構３９から省略してもよい。液体噴射装置１１から液体帰還流路３１を省略してもよい。

本形態の効果について説明する。
（７）圧力室８６内の気泡は、液体噴射部１５に向かって流れる液体の流量を多くすることで改善できることもある。制御部１１１は、状態検出機構１１３の検出結果に基づいて真空度調整機構４１ｅ及び流路流動機構３９のうち、少なくとも一方を駆動制御する。したがって、制御部１１１が真空度調整機構４１ｅのみを駆動制御する場合に比べ、真空度調整機構４１ｅの機能劣化を低減できる。

・液体噴射装置１１は、インク以外の他の液体を噴射したり吐出したりする液体噴射装置であってもよい。液体噴射装置から微小量の液滴となって吐出される液体の状態としては、粒状、涙状、糸状に尾を引くものも含むものとする。ここでいう液体は、液体噴射装置から噴射させることができるような材料であればよい。例えば、液体は、物質が液相であるときの状態のものであればよく、粘性の高い又は低い液状体、ゾル、ゲル水、その他の無機溶剤、有機溶剤、溶液、液状樹脂、液状金属、金属融液、のような流状体を含むものとする。液体は、物質の一状態としての液体のみならず、顔料や金属粒子などの固形物からなる機能材料の粒子が溶媒に溶解、分散又は混合されたものなども含むものとする。液体の代表的な例としては上記実施形態で説明したようなインクや液晶等が挙げられる。ここで、インクとは一般的な水性インク及び油性インク並びにジェルインク、ホットメルトインク等の各種液体組成物を包含するものとする。液体噴射装置の具体例としては、例えば、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、面発光ディスプレイ、カラーフィルターの製造等に用いられる電極材や色材等の材料を分散又は溶解のかたちで含む液体を噴射する装置がある。液体噴射装置は、バイオチップ製造に用いられる生体有機物を噴射する装置、精密ピペットとして用いられ試料となる液体を噴射する装置、捺染装置やマイクロディスペンサー等であってもよい。液体噴射装置は、時計やカメラ等の精密機械にピンポイントで潤滑油を噴射する装置、光通信素子等に用いられる微小半球レンズ、光学レンズ、などを形成するために紫外線硬化樹脂等の透明樹脂液を基板上に噴射する装置であってもよい。液体噴射装置は、基板などをエッチングするために酸又はアルカリ等のエッチング液を噴射する装置であってもよい。

以下に、上述した実施形態及び変更例から把握される技術的思想及びその作用効果を記載する。
（Ａ）液体噴射装置は、圧力室内の液体をアクチュエーターで加圧して前記圧力室に連通するノズルから前記液体を噴射する液体噴射部と、液体貯留部に貯留される前記液体を前記液体噴射部に供給する液体供給流路と、前記液体供給流路に設けられる脱気モジュールと、前記脱気モジュールの真空度を調整可能な真空度調整機構と、前記圧力室内の状態を検出可能な状態検出機構と、前記状態検出機構の検出結果に基づいて前記真空度調整機構を駆動制御する制御部と、を備える。

この構成によれば、制御部は、状態検出機構の検出結果に基づいて真空度調整機構を駆動制御する。そのため、真空度の制御が行われず真空度が高い状態を維持する真空度調整機構を使用する場合と比較して、真空度調整機構の機能劣化を低減できる。

（Ｂ）液体噴射装置において、前記制御部は、前記状態検出機構の検出結果から気泡の発生および気泡の成長が推測される場合に、前記真空度調整機構を駆動して前記脱気モジュールの真空度を高くする第１動作を行ってもよい。

圧力室内に発生した気泡が成長すると、ノズルから液体を噴射する噴射性能が低下する虞がある。その点、この構成によれば、制御部は、気泡の発生および気泡の成長が推測される場合に、脱気モジュールの真空度を高くするため、気泡の成長に伴う噴射性能の低下を抑制しつつ真空度調整機構の機能劣化を低減できる。

（Ｃ）液体噴射装置は、前記液体噴射部に供給される前記液体を前記液体貯留部に帰還可能に該液体噴射部と該液体貯留部とを接続する液体帰還流路と、前記液体供給流路内および前記液体帰還流路内の前記液体を流動可能な流路流動機構と、を備えてもよい。液体噴射装置において、前記制御部は前記状態検出機構の検出結果から気泡の発生および気泡の成長が推測される場合に、前記脱気モジュールの真空度を調整した状態で前記流路流動機構を駆動する第２動作を行ってもよい。

この構成によれば、制御部は、流路流動機構により液体供給流路内及び液体帰還流路内の液体を流動させる。すなわち、制御部は、液体噴射部内の脱気度の低い液体を、液体帰還流路、液体貯留部、および液体供給流路を介して脱気モジュールに送り、脱気させた液体を液体噴射部に戻す。したがって、圧力室における気泡の発生および気泡の成長を抑制できる。

（Ｄ）液体噴射装置において、前記制御部は、前記状態検出機構の検出結果から前記液体の粘度増加が推測される場合に、前記脱気モジュールの真空度を調整した状態で前記流路流動機構を駆動して、前記液体供給流路内および前記液体帰還流路内における前記液体の流量を多くする第３動作を行ってもよい。

圧力室内の液体が粘度増加すると、ノズルから液体を噴射する噴射性能が低下する虞がある。液体の粘度増加は、流路流動機構が流動させる液体の流量を多くすることで解消できることもある。この構成によれば、制御部は、液体の粘度増加が推測される場合に、流路流動機構により液体供給流路内および液体帰還流路内を流動させる液体の流量を多くする。したがって、制御部は、圧力室内の状態によって流路流動機構を駆動制御するため、液体の粘度増加に伴う噴射性能の低下を抑制しつつ流路流動機構の機能劣化を低減できる。

（Ｅ）液体噴射装置において、前記制御部は、前記状態検出機構の検出結果から前記液体の粘度増加が推測される場合に、前記第３動作に加えて、前記脱気モジュールの真空度を低くする第４動作を行ってもよい。

圧力室内の気泡は、液体供給流路内および液体帰還流路内における液体の流量を多くすることで改善できることもある。制御部は、液体の粘度増加が推測される場合に、流路流動機構を駆動して液体供給流路内および液体帰還流路内における液体の流量を多くすると共に、脱気モジュールの真空度を低くする。そのため、液体の粘度増加を解消する液体の流れを利用して気泡の発生を抑制することができる。

（Ｆ）液体噴射装置において、前記液体噴射部は、複数の前記圧力室および複数の該圧力室のそれぞれに連通する複数の前記ノズルを有し、前記制御部は、複数の前記ノズルの中に前記液体を噴射していない非噴射ノズルと前記液体を噴射している噴射ノズルがある場合に、前記非噴射ノズルと連通する前記圧力室を対象とした前記状態検出機構の検出結果に基づいて前記真空度調整機構を駆動制御してもよい。

ノズルは、液体を噴射しているノズルに比べ液体を噴射していないノズルの方が気泡が成長しやすい。その点、この構成によれば、制御部は、液体を噴射していないノズルと連通する圧力室の検出結果に基づいて真空度調整機構を駆動制御するため、複数のノズルにおける噴射性能のばらつきを低減できる。

（Ｇ）液体噴射装置のメンテナンス方法は、圧力室内の液体をアクチュエーターで加圧して前記圧力室に連通するノズルから前記液体を噴射する液体噴射部と、液体貯留部に貯留される前記液体を前記液体噴射部に供給する液体供給流路と、前記液体供給流路に設けられる脱気モジュールと、前記脱気モジュールの真空度を調整可能な真空度調整機構と、前記圧力室内の状態を検出可能な状態検出機構と、を備える液体噴射装置において、前記状態検出機構の検出結果に基づいて前記真空度調整機構を駆動する。この方法によれば、上記液体噴射装置と同様の効果を奏することができる。

（Ｈ）液体噴射装置は、圧力室内の液体をアクチュエーターで加圧して前記圧力室に連通するノズルから前記液体を噴射する液体噴射部と、液体貯留部に貯留される前記液体を前記液体噴射部に供給する液体供給流路と、前記液体供給流路に設けられる脱気モジュールと、前記脱気モジュールの真空度を調整可能な真空度調整機構と、前記液体供給流路内の前記液体を前記液体噴射部に向かって流動可能な流路流動機構と、前記圧力室内の状態を検出可能な状態検出機構と、前記状態検出機構の検出結果に基づいて前記真空度調整機構および前記流路流動機構のうち少なくとも一方を駆動制御する制御部と、を備える。

圧力室内の気泡は、液体噴射部に向かって流れる液体の流量を多くすることで改善できることもある。制御部は、状態検出機構の検出結果に基づいて真空度調整機構及び流路流動機構のうち、少なくとも一方を駆動制御する。したがって、制御部が真空度調整機構のみを駆動制御する場合に比べ、真空度調整機構の機能劣化を低減できる。

１１…液体噴射装置、１２…媒体、１３…支持台、１４…搬送部、１５…液体噴射部、１６…移動機構、１７…液体供給源、１８…装着部、１９…液体供給部、２０…本体、２０ａ…第１カバー、２０ｂ…第２カバー、２１…搬送ローラー対、２２…搬送モーター、２３…案内板、２４…ノズル、２５…ノズル面、２６…ガイド軸、２７…キャリッジ、２８…キャリッジモーター、３０…液体供給流路、３１…液体帰還流路、３１ａ…第１帰還流路、３１ｂ…第２帰還流路、３２…液体貯留部、３２ａ…貯留開放弁、３２ｂ…貯留量検出部、３３…循環経路、３４…導出ポンプ、３５…吸引弁、３６…容積ポンプ、３６ａ…可撓性部材、３６ｂ…ポンプ室、３６ｃ…負圧室、３６ｄ…減圧部、３６ｅ…押付部材、３７…吐出弁、３８…フィルターユニット、３９…流路流動機構、３９Ａ…供給ポンプ、３９Ｂ…帰還ポンプ、４０…圧力調整装置、４１…脱気モジュール、４１ａ…脱気室、４１ｂ…脱気膜、４１ｃ…減圧室、４１ｄ…減圧流路、４１ｅ…真空度調整機構、４３…撹拌機構、４３ａ…撹拌子、４３ｂ…回転部、４８…圧力調整機構、４９…押付機構、５０…液体流入部、５１…液体流出部、５２…本体部、５３…壁、５４…貫通孔、５５…フィルター部材、５６…ダイヤフラム、５６ａ…第１面、５６ｂ…第２面、５７…連通経路、５９…開閉弁、６０…弁部、６１…受圧部、６２…上流側押付部材、６３…下流側押付部材、６６…圧力調整室、６７…膨張収縮部、６８…押さえ部材、６９…圧力調整部、７０…挿入孔、７１…開口部、７２…空気室、７４…加圧ポンプ、７５…接続経路、７６…圧力検出部、７７…流体圧調整部、７９…キャップ部、８０…キャップ、８１…キャップ開放弁、８２…吸引ポンプ、８３…廃液タンク、８４…フィルター、８５…共通液室、８６…圧力室、８７…振動板、８８…供給側連通路、８９…アクチュエーター、９０…収容室、９１…第１排出流路、９２…第２排出流路、９３…排出液室、９４…排出側連通路、９８…ダンパー、９９…帰還弁、１１１…制御部、１１２…検出器群、１１３…状態検出機構、１１５…インターフェイス部、１１６…ＣＰＵ、１１７…メモリー、１１８…制御回路、１１９…駆動回路、１２０…コンピューター、Ａ…供給方向、Ｂ…帰還方向、Ｆ…流量、Ｆα…所定流量、Ｆｓ…基準流量、Ｖ…真空度、Ｖ１…第１真空度、Ｖ２…第２真空度、Ｖｓ…基準真空度、Ｘｓ…走査方向、Ｙｆ…搬送方向、Ｚ…鉛直方向。

Claims (6)

1. 圧力室内の液体をアクチュエーターで加圧して前記圧力室に連通するノズルから前記液体を噴射する液体噴射部と、
   液体貯留部に貯留される前記液体を前記液体噴射部に供給する液体供給流路と、
   前記液体供給流路に設けられる脱気モジュールと、
   前記脱気モジュールの真空度を調整可能な真空度調整機構と、
   前記圧力室内の状態を検出可能な状態検出機構と、
   前記状態検出機構の検出結果に基づいて前記真空度調整機構を駆動制御する制御部と、
   を備え、
   前記制御部は、前記状態検出機構の検出結果から気泡の発生および気泡の成長が推測される場合に、前記真空度調整機構を駆動して前記脱気モジュールの真空度を基準真空度よりも高い第１真空度に設定する第１動作を行うことを特徴とする液体噴射装置。
2. 前記液体噴射部に供給される前記液体を前記液体貯留部に帰還可能に該液体噴射部と該液体貯留部とを接続する液体帰還流路と、
   前記液体供給流路内および前記液体帰還流路内の前記液体を流動可能な流路流動機構と、
   を備え、
   前記制御部は前記状態検出機構の検出結果から気泡の発生および気泡の成長が推測される場合に、前記脱気モジュールの真空度を調整した状態で前記流路流動機構を駆動する第２動作を行うことを特徴とする請求項１に記載の液体噴射装置。
3. 前記制御部は、前記状態検出機構の検出結果から前記液体の粘度増加が推測される場合に、前記脱気モジュールの真空度を調整した状態で前記流路流動機構を駆動して、前記液体供給流路内および前記液体帰還流路内における前記液体の流量を多くする第３動作を行うことを特徴とする請求項２に記載の液体噴射装置。
4. 前記制御部は、前記状態検出機構の検出結果から前記液体の粘度増加が推測される場合に、前記第３動作に加えて、前記脱気モジュールの真空度を低くする第４動作を行うことを特徴とする請求項３に記載の液体噴射装置。
5. 前記液体噴射部は、複数の前記圧力室および複数の該圧力室のそれぞれに連通する複数の前記ノズルを有し、
   前記制御部は、複数の前記ノズルの中に前記液体を噴射していない非噴射ノズルと前記液体を噴射している噴射ノズルがある場合に、前記非噴射ノズルと連通する前記圧力室を対象とした前記状態検出機構の検出結果に基づいて前記真空度調整機構を駆動制御することを特徴とする請求項１～請求項４のうち何れか一項に記載の液体噴射装置。
6. 圧力室内の液体をアクチュエーターで加圧して前記圧力室に連通するノズルから前記液体を噴射する液体噴射部と、
   液体貯留部に貯留される前記液体を前記液体噴射部に供給する液体供給流路と、
   前記液体供給流路に設けられる脱気モジュールと、
   前記脱気モジュールの真空度を調整可能な真空度調整機構と、
   前記圧力室内の状態を検出可能な状態検出機構と、
   を備える液体噴射装置において、
   前記状態検出機構の検出結果から気泡の発生および気泡の成長が推測される場合に、前記真空度調整機構を駆動して前記脱気モジュールの真空度を基準真空度よりも高い第１真空度に設定する第１動作を行うことを特徴とする液体噴射装置のメンテナンス方法。