JP6663048B2 - 酸化アルミニウム膜の形成方法 - Google Patents
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Description
上記構成によれば、酸素を含むガスの真空室への供給と停止と、その直後に行われる酸化アルミニウム膜の形成との間に、成膜対象の搬入と搬出とが行われないため、真空室の内部が、酸素を含むガスが供給された直後における酸化アルミニウム膜の形成までに、真空室の外部に開放されない。これにより、酸素を含むガスが供給された直後における酸化アルミニウム膜の形成において、酸素ガスの供給と停止とによる効果が得られやすい。
上記構成によれば、成膜間処理ごとに真空室に対して酸素を含むガスを供給するため、各酸化アルミニウム膜の形成に対して酸素を含むガスの供給による影響を与えることができる。それゆえに、酸素を含むガスが供給される頻度がより低い場合と比べて、成膜対象の数が増加するほど酸化アルミニウム膜の成膜速度が高くなることがより抑えられる。
上記構成によれば、酸素を含むガスがターゲットをスパッタするためのガスとともに真空室に供給されるため、酸素を含むガスが真空室の全体に行き渡りやすくなる。それゆえに、酸素を含むガスを供給することの効果が、酸化アルミニウム膜の成膜速度に反映されやすくなる。
図1を参照してスパッタ装置の構成を説明する。
図1が示すように、スパッタ装置10は、成膜空間11Sを区画する箱状を有した真空室11を備え、真空室11の内部には、成膜対象の一例である基板Sを支持する支持部12が位置している。支持部12は、例えばステージである。
図2および図3を参照して、酸化アルミニウム膜の形成方法を説明する。
酸化アルミニウム膜の形成方法は、酸化アルミニウムを主成分とするターゲット14を備えた単一の真空室11を用いて複数の基板Sにおける各基板Sに対して1回ずつ一連の処理を行う。一連の処理は、基板Sの搬入、スパッタガスの真空室11への供給、酸化アルミニウム膜の形成、プラズマの生成の停止、および、基板Sの搬出から構成されている。
こうした酸化アルミニウム膜の形成方法によれば、前回の酸化アルミニウム膜の形成後と、今回の酸化アルミニウム膜の形成前との間に、酸素ガスを真空室11に供給するため、基板Sの数が増加するほど酸化アルミニウム膜の成膜速度が高くなる傾向を抑えることができる。
酸素を含むガスの真空室11への供給と停止と、その直後に行われる酸化アルミニウム膜の形成との間に、成膜対象の搬入と搬出とが行われないため、真空室11の内部が、酸素ガスが供給された直後における酸化アルミニウム膜の形成までに、真空室11の外部に開放されない。これにより、酸素ガスが供給された直後における酸化アルミニウム膜の形成において、酸素ガスの供給と停止とによる効果が得られやすい。
酸化アルミニウム膜の形成方法では、成膜間処理ごとに真空室11に対して酸素ガスを供給するため、各酸化アルミニウム膜の形成に対して酸素ガスの供給による影響を与えることができる。それゆえに、酸素ガスが供給される頻度がより低い場合と比べて、基板Sの数が増加するほど酸化アルミニウム膜の成膜速度が高くなることがより抑えられる。
図4から図10を参照して、実施例1から実施例6および比較例1を説明する。
実施例1から実施例6および比較例1では、上述したタイミングt2からタイミングt6におけるアルゴンガスの流量を200sccmに設定し、タイミングt4からタイミングt5における高周波電源の出力を4000Wに設定し、かつ、タイミングt4からタイミングt5までの時間を129秒に設定した。
(1)前回の酸化アルミニウム膜の形成後と、今回の酸化アルミニウム膜の形成前との間に、酸素ガスを真空室11に供給するため、処理された基板Sの数が増加するほど酸化アルミニウム膜の成膜速度が高くなる傾向を抑えることができる。
・単位体積当たりの酸素ガスの供給量が7.31×10−5mol/m3以上4.54×10−4mol/m3以下の範囲であっても、プラズマ生成時における酸素ガスの分圧が、1.29×10−4Pa以上でもよい。こうした構成であっても、成膜間処理に酸素ガスの供給と停止とが含まれる以上は、上述した(1)と同等の効果を得ることはできる。
Claims (5)
- 酸化アルミニウムを主成分とするターゲットを備えた単一の真空室を用いて各成膜対象に対して1回ずつ一連の処理を行い、
前記一連の処理が、
前記真空室の外部に位置する前記成膜対象を前記真空室の内部に移す前記成膜対象の前記真空室への搬入と、
酸素を含まないガスの前記真空室への供給と、
前記ガスを用いたプラズマの生成、および、前記プラズマを用いた前記ターゲットのスパッタから構成される、前記成膜対象への酸化アルミニウム膜の形成と、
前記プラズマの生成の停止と、
前記真空室の内部に位置する前記成膜対象を前記真空室の外部に移す前記成膜対象の前記真空室からの搬出と、から構成され、
前回の前記形成後から今回の前記形成前までの処理を成膜間処理とし、
連続する複数の前記成膜間処理のなかの少なくとも1つに、
酸素を含むガスの前記真空室への供給と停止とを含み、
前記酸素を含むガスの前記真空室への供給において、単位体積当たりの前記酸素を含むガスの供給量が、7.31×10 −5 mol/m 3 以上2.90×10 −4 mol/m 3 以下である
酸化アルミニウム膜の形成方法。 - 酸化アルミニウムを主成分とするターゲットを備えた単一の真空室を用いて各成膜対象に対して1回ずつ一連の処理を行い、
前記一連の処理が、
前記真空室の外部に位置する前記成膜対象を前記真空室の内部に移す前記成膜対象の前記真空室への搬入と、
酸素を含まないガスの前記真空室への供給と、
前記ガスを用いたプラズマの生成、および、前記プラズマを用いた前記ターゲットのスパッタから構成される、前記成膜対象への酸化アルミニウム膜の形成と、
前記プラズマの生成の停止と、
前記真空室の内部に位置する前記成膜対象を前記真空室の外部に移す前記成膜対象の前
記真空室からの搬出と、から構成され、
前回の前記形成後から今回の前記形成前までの処理を成膜間処理とし、
連続する複数の前記成膜間処理のなかの少なくとも1つに、
酸素を含むガスの前記真空室への供給と停止とを含み、
前記酸素を含むガスの前記真空室への供給において、単位体積当たりの前記酸素を含むガスの供給量が、7.31×10 −5 mol/m 3 以上4.54×10 −4 mol/m 3 以下であって、かつ、前記ガスを用いたプラズマの生成時における前記真空室内の酸素を含むガスの分圧が1.29×10 −4 Pa未満である
酸化アルミニウム膜の形成方法。 - 前記成膜対象の前記真空室への搬入の後に、前記酸素を含むガスの前記真空室への供給と停止とを行う
請求項1または2に記載の酸化アルミニウム膜の形成方法。 - 全ての前記成膜間処理に、前記酸素を含むガスの前記真空室への供給と停止とを含む
請求項1から3のいずれか一項に記載の酸化アルミニウム膜の形成方法。 - 前記酸素を含むガスの供給と停止とを、前記酸素を含まないガスの前記真空室への供給の間に行う
請求項1から4のいずれか一項に記載の酸化アルミニウム膜の形成方法。
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