JP6645317B2 - 接合用粉末及びこの粉末の製造方法並びにこの粉末を用いた接合用ペーストの製造方法 - Google Patents
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Description
〔接合用粉末〕
この実施の形態の接合用粉末は、図1に示すように、中心核11とこの中心核11を被覆する被覆層12で構成され、この中心核11が銅と錫との金属間化合物であるCu3Snからなり、被覆層12が錫からなる一層により構成される。そして、この実施の形態の接合用粉末の全体量100質量%に対して銅の含有割合は52質量%以上60質量%以下、好ましくは54質量%以上58質量%以下である。
続いて、上記本発明の接合用粉末を製造する方法について説明する。先ず、水に、Cu3Sn粉末を添加して、好ましくは分散剤も一緒に添加して、混合することにより、第1分散液を調製する。水としては、イオン交換水、蒸留水などの純水、又は超純水が挙げられる。分散剤としては、セルロース系、ビニル系、多価アルコール等が挙げられ、その他にゼラチン、カゼイン等を用いることができる。上記Cu3Sn粉末は、アトマイズ法により製造し、この粉末を真空雰囲気下又は不活性ガス雰囲気下で50〜100℃の温度で粉末全体がCu3Sn相になるまで加熱した後、0.95μm以上28.58μm以下の平均粒径を有するように分級して得られる。またこれに限らず、湿式逐次析出法で、塩化銅(II)及び塩化錫(II)の溶解液に還元剤を加えて銅イオンを還元して中心核を作り、その周囲に錫イオンを還元して被覆層を形成して粉末を作った後、この粉末を真空雰囲気下又は不活性ガス雰囲気下で50〜100℃の温度で粉末全体がCu3Sn相になるまで加熱した後、0.95μm以上28.58μm以下の平均粒径を有するようにこのCu3Sn粉末を分級して得てもよい。第1分散液中のCu3Sn粉末の濃度は2〜20質量%であることが好ましい。ここで、第1分散液中のCu3Sn粉末の好ましい濃度を2〜20質量%の範囲内に限定したのは、2質量%未満でも性能に問題はないけれども、2質量%まで高濃度化しても品質に差異がなく生産性の観点から2質量%以上であることが好ましく、20質量%を超えると粉末の凝集が認められペースト印刷時に膜均一性が劣るからである。
以上の工程により、得られた本発明の接合用粉末は、接合用フラックスと混合してペースト化して得られる接合用ペーストの材料として好適に用いられる。接合用ペーストの調製は、接合用粉末と接合用フラックスとを所定の割合で混合してペースト化することにより行われる。接合用ペーストの調製に用いられる接合用フラックスは、特に限定されないが、溶剤、ロジン、チキソ剤及び活性剤等の各成分を混合して調製されたフラックスを用いることができる。
上記方法で調製された接合用ペーストを用いてシリコンチップ、LEDチップ等の電子部品を各種放熱基板、FR4(Flame Retardant Type 4)基板、コバール等の基板に実装するには、ピン転写法にて上記基板の所定位置に接合用ペーストを転写するか、又は印刷法により所定位置に接合用ペーストを印刷する。次いで、転写又は印刷されたペースト上に電子部品であるチップ素子を搭載する。この状態で、接合炉にて窒素雰囲気中、従来の昇温速度より高速の1〜20℃/秒の昇温速度で、最高温度250〜400℃に、30秒間〜120分間保持して、接合用粉末を接合する。場合によっては、チップと基板とを加圧しながら接合してもよい。これにより、チップ素子と基板とを接合させて接合体を得て、電子部品を基板に実装する。
図2は本発明の第2の実施の形態を示す。
この実施の形態の接合用粉末30は、中心核31とこの中心核31を被覆する被覆層32で構成され、この中心核31が銅と錫との金属間化合物であるCu3Snからなり、被覆層32が、銅と錫との金属間化合物であるCu6Sn5からなる内層及び錫からなる外層の二層により構成される。また、この実施の形態の接合用粉末の全体量100質量%に対して銅の含有割合は、52質量%以上60質量%以下、好ましくは54質量%以上58質量%以下である。更に、この実施の形態の接合用粉末は、平均粒径が1μm以上30μm以下、好ましくは3μm以上20μm以下である。上記銅の含有割合の限定理由及び接合用粉末の平均粒径の限定理由は、第1の実施の形態と同様であるので、繰返しの説明を省略する。また、Cu6Sn5からなる内層の厚さは、0.01μm以上0.10μm以下であることが好ましい。ここで、Cu6Sn5からなる内層の厚さを0.01μm以上0.10μm以下の範囲内に限定したのは、0.01μm未満ではCu6Sn5からなる内層を形成した効果、即ち短時間の加熱処理でも高い接合強度が得やすいという効果が認められず、0.10μmを超えると外層のSn量が減少し、加熱時に液相のSnが不足してしまうからである。
続いて、上記本発明の接合用粉末を製造する方法について説明する。第1の実施の形態で作製された接合用粉末、即ちCu3Snからなる中心核を、錫からなる一層の被覆層で被覆した接合用粉末について熱処理を行う。具体的には、第1の実施の形態の真空乾燥する前の回収した固形分に、沸点が100℃以上の高沸点溶媒を加えて分散させ不活性ガス雰囲気下、所定の温度で加熱する。この熱処理を施すことにより、上記還元反応で形成された中心核を被覆する錫からなる被覆層の一部が反応して、銅と錫の金属間化合物であるCu6Sn5からなる層が形成される。
アトマイズ法により製造したCu3Sn組成の金属粉末20kgを、真空加熱炉に入れて80℃で6時間加熱処理してCu3Sn金属間化合物粉末とした。これを風力分級処理することにより、平均粒径0.5μmのCu3Sn金属間化合物粉末を50g以上得た。このCu3Sn金属間化合物粉末50gを、イオン交換水1000mLに分散剤としてヒドロキシプロピルメチルセルロース1gを溶解した溶液に、添加混合して第1分散液を調製した。
実施例1で製造された接合用粉末、即ちCu3Snからなる平均粒径9.53μmの中心核を、錫からなる一層の被覆層で被覆した接合用粉末について熱処理を行った。具体的には、先ず、実施例1の真空乾燥する前の回収した固形分に、沸点が197.6℃のエチレングリコール(高沸点溶媒)を加えて分散させた。この分散液に不活性ガス雰囲気下で100℃に6分間保持する熱処理を行った。次に、実施例1の洗浄から固液分離までの工程を、3回繰返した後、回収した固形分を真空雰囲気下で0℃の温度に300分間保持する乾燥処理を行った。これにより、図2に示すように、中心核31と、金属間化合物であるCu6Sn5からなる内層32a及び錫からなる外層32bの二層により構成された被覆層32とを有する接合用粉末30を得た。なお、この接合用粉末30の内層32bの厚さは0.05μmであった。
アトマイズ法により製造したCu金属粉末20kgを風力分級処理により平均粒径7.98μmのCu金属粉末を50g以上得た。このCu金属粉末50gを、イオン交換水1000mLに分散剤としてヒドロキシプロピルメチルセルロース1gを溶解した溶液に、添加混合して第1分散液を調製した。
先ず、アトマイズ法により製造したCu粉末20kgを風力分級処理により平均粒径10μmのCu粉末を100g以上得た。次に、アトマイズ法により製造したSn粉末20kgを風力分級処理により平均粒径10μmのSn粉末を100g以上得た。更に、平均粒径10μmのCu粉末56gと平均粒径10μmのSn粉末44gを混合して接合用粉末をえた。この接合用粉末を比較例2とした。
特許文献3の実施例1に準じた方法で接合用粉末を作製した。即ち、先ず、水50mLに塩化銅(II)を3.45×10-4mol、塩化錫(II)を2.62×10-2mol加え、スターラを用いて回転速度300rpmにて5分間攪拌し、溶解液を調製した。この溶解液を塩酸にてpHを0.5に調整した後、分散剤としてポリビニルアルコール500(平均分子量が500のポリビニルアルコール)を0.5g加え、更に回転速度300rpmにて10分間攪拌した。次いで、この溶解液にpHを0.5に調整した1.58mol/Lの2価クロムイオン水溶液50mLを、添加速度50mL/secにて加え、回転速度500rpmにて10分間攪拌して各金属イオンを還元し、液中に金属粉末が分散する分散液を得た。この分散液を60分間静置して生成した金属粉末を沈降させた後、上澄み液を捨て、ここに水100mLを加えて回転速度300rpmにて10分間攪拌する操作を4回繰返し、洗浄を行った。その後、エチレングリコール100mLを加えて分散させ、回転速度300rpmにて攪拌しながら120℃で30分加熱を行った。加熱後、再び分散液を60分間静置して加熱した金属粉末を沈降させた後、上澄み液を捨て、ここに水100mLを加えて回転速度300rpmにて10分間攪拌する操作を4回繰返し、洗浄を行った。最後にこれを真空乾燥機にて乾燥することにより、金属間化合物Cu6Sn5を中心核、Snを被覆層とする接合用粉末を得た。なお、この接合用粉末の中心核の平均粒径は9.87μmであった。
実施例1〜2及び比較例1〜3で得られた接合用粉末について、次に述べる方法により、接合用粉末を構成する金属粒子の構造、接合用粉末の平均粒径、組成の分析又は測定を行った。これらの結果を以下の表1に示す。また、これらの接合用粉末を用いて接合用ペーストをそれぞれ調製し、接合時の最大保持温度を250℃と300℃に変えて接合体をそれぞれ作製した後の各接合体について、200℃における接合強度と、−40℃〜150℃間の冷熱サイクル後の接合強度を評価した。また、接合層に含まれる相を次の方法により測定した。これらの結果を以下の表2に示す。
上記接合した銅板とシリコンチップ素子との接合強度について、室温及び200℃での接合シェア強度をそれぞれ測定した。室温における接合シェア強度を100としたときの200℃における接合シェア強度から相対的シェア強度を求めた。表中、「優」は、相対的シェア強度が95以上であった場合を示し、「良」は、95未満から80以上であった場合を示し、「可」は、80未満から60以上であった場合を示し、「不可」は、60未満であった場合を示す。
上記接合した銅板とシリコンチップ素子との接合強度について、接合直後の室温における接合シェア強度を100としたときに、−40℃〜150℃の温度範囲で1000サイクル繰返し冷熱処理した後の室温における接合シェア強度を測定し、相対的シェア強度を求めた。表中、「優」は、相対的シェア強度が95以上であった場合を示し、「良」は、95未満から90以上であった場合を示し、「可」は、90未満から85以上であった場合を示し、「不可」は、85未満であった場合を示す。
装置(リガク社製:RINT Ultima+/PC)にて、接合サンプル内の接合層の結晶構造がCu相、Cu3Sn相、Cu6Sn5相又はSn相であるかを同定する構造分析を行った。
中心核がCuであって被覆層がSnの単一層で構成された比較例1の接合用粉末では、接合層に含まれる相がCu相とCu3Sn相とCu6Sn5相とからなるため、Cuが残存しても、200℃条件で接合強度を大幅に低下させるSnは消滅しており、最も融点の低い構成材でも融点が415℃のCu6Sn5であり、高温下でも接合強度を発揮し、200℃での接合強度が86又は90と高く、200℃での接合強度の評価判定が全て「良」であった。一方、冷熱サイクル後の接合強度は冷熱サイクルを繰返すと残存していたCuとCu6Sn5が反応しCu3Snを形成するが、Cu3Snは高密度であるため、反応に伴い接合層内部に空隙が発生し接合強度は低下し、80又は82と低くなったことから、この接合強度の評価判定は全て「不可」であった。
以下の表3に示すように、平均粒径の異なるCu3Sn粉末を用いるか、又はCu3Sn粉末の添加量、塩化銅(II)及び塩化錫(II)の添加量を調整することにより、接合用粉末100質量%中に含まれる銅の割合を変更したこと以外は、実施例1と同様にして接合用粉末を得た。
以下の表4に示すように、平均粒径の異なるCu3Sn粉末を用いるか、又はCu3Sn粉末の添加量、塩化銅(II)及び塩化錫(II)の添加量を調整することにより、接合用粉末100質量%中に含まれる銅の割合を変更したこと以外は、実施例2と同様にして接合用粉末を得た。なお、実施例7〜10及び比較例8〜9の接合用粉末の内層の厚さは0.05μmであった。
実施例3〜10及び比較例4〜9で得られた接合用粉末について、上記比較試験1と同様の方法により、接合用粉末を構成する金属粒子の構造、接合用粉末の平均粒径、組成の分析又は測定を行った。これらの結果を以下の表3及び表4に示す。また、これらの接合用粉末を用いて接合用ペーストをそれぞれ調製し、接合時の最大保持温度を変えたときの200℃で接合強度と、−40℃〜150℃間の冷熱サイクル後の接合強度を評価した。これらの結果を以下の表5及び表6に示す。
Cuの含有割合が50質量%と少ない比較例4の接合用粉末では、接合層に含まれる相がCu相とCu3Sn相とCu6Sn5相とSn相からなり、CuとSnが残存し、Cu3SnとCu6Sn5の2相の金属間化合物のみからなる接合層を形成できず、特に高温耐性の乏しいSnが残存しているため、200℃での接合強度が61又は65となり、200℃での接合強度の評価判定が全て「可」であった。一方、冷熱サイクル後の接合強度は冷熱サイクルを繰返すと残存していたCuとCu6Sn5が反応しCu3Snを形成したため、このCu3Snが高密度であることによって反応に伴い接合層内部に空隙が発生するけれども、接合強度は76又は80と若干高くなったが未だ低く、この接合強度の評価判定は全て「不可」であった。
Cuの含有割合が50質量%と少ない比較例8の接合用粉末では、接合層に含まれる相がCu3Sn相とCu6Sn5相とSn相からなり、Snが残存し、Cu3SnとCu6Sn5の2相の金属間化合物のみからなる接合層を形成できず、特に高温耐性の乏しいSnが残存しているため、200℃での接合強度が62又は62となり、200℃での接合強度の評価判定が全て「可」であった。一方、冷熱サイクル後の接合強度は冷熱サイクルを繰返すと残存していたCuとCu6Sn5が反応しCu3Snを形成したため、このCu3Snが高密度であることによって反応に伴い接合層内部に空隙が発生するけれども、接合強度は76又は77と若干高くなったが未だ低く、この接合強度の評価判定は全て「不可」であった。
以下の表7に示すように、平均粒径の異なるCu3Sn粉末を用いるか、又はCu3Sn粉末の添加量、塩化銅(II)及び塩化錫(II)の添加量を調整することにより、接合用粉末の平均粒径を所定の平均粒径に制御したこと以外は、実施例1と同様にして接合用粉末を得た。
以下の表8に示すように、平均粒径の異なるCu3Sn粉末を用いるか、又はCu3Sn粉末の添加量、塩化銅(II)及び塩化錫(II)の添加量を調整することにより、接合用粉末の平均粒径を所定の平均粒径に制御したこと以外は、実施例2と同様にして接合用粉末を得た。なお、実施例15〜18及び比較例12〜13の接合用粉末の内層の厚さは0.05μmであった。
実施例11〜18及び比較例10〜13で得られた接合用粉末について、上記比較試験1と同様の方法により、接合用粉末を構成する金属粒子の構造、接合用粉末の平均粒径、組成の分析又は測定を行った。これらの結果を以下の表7及び表8に示す。また、これらの接合用粉末を用いて接合用ペーストをそれぞれ調製し、接合時の最大保持温度を変えたときの200℃で接合強度と、−40℃〜150℃間の冷熱サイクル後の接合強度を評価した。これらの結果を以下の表9及び表10に示す。
平均粒径が0.5μmと小さい比較例10の接合用粉末では、接合層に含まれる相がCu3Sn相とCu6Sn5相からなるものの、接合用粉末の比表面積が高くなって粉末の表面酸化層の影響により、溶融不良を起こし、200℃で接合しようとしても接合できず、200℃での接合強度の評価判定は全て「不可」であった。このため、冷熱サイクル後の接合強度を実施できなかった。
平均粒径が0.5μmと小さい比較例10の接合用粉末では、接合層に含まれる相がCu3Sn相とCu6Sn5相からなるものの、接合用粉末の比表面積が高くなって粉末の表面酸化層の影響により、溶融不良を起こし、200℃で接合しようとしても接合できず、200℃での接合強度の評価判定は全て「不可」であった。このため、冷熱サイクル後の接合強度を実施できなかった。
11,31 中心核(Cu3Sn)
12,32 被覆層
32a 内層(Cu6Sn5)
32b 外層(Sn)
Claims (5)
- 中心核と前記中心核を被覆する被覆層とにより構成される接合用粉末において、
前記中心核が銅と錫との金属間化合物であるCu3Snからなり、前記被覆層が、錫からなる一層により構成されるか、或いは銅と錫との金属間化合物であるCu6Sn5からなる内層及び錫からなる外層の二層により構成され、前記接合用粉末の平均粒径が1μm以上30μm以下であり、前記接合用粉末の全体量100質量%に対して前記銅の含有割合が52質量%以上60質量%以下であることを特徴とする接合用粉末。 - 平均粒径が0.95μm以上28.58μm以下であり中心核となるCu3Sn粉末を水に分散させて第1分散液を得る工程と、
錫の金属塩と還元剤を前記第1分散液に添加混合して前記錫の金属塩が溶解して生成される錫イオンが前記還元剤で還元されることにより析出した錫が前記中心核を被覆してこの錫を被覆層とする一層被覆粉末を得る工程と、
前記一層被覆粉末が分散した第2分散液を固液分離し、前記固液分離した固形分の一層被覆粉末を乾燥する工程と
を含む接合用粉末の製造方法であって、
前記接合用粉末は、平均粒径が1μm以上30μm以下であり、前記接合用粉末の全体量100質量%に対して銅の含有割合が52質量%以上60質量%以下であることを特徴とする接合用粉末の製造方法。 - 平均粒径が0.95μm以上28.58μm以下であり中心核となるCu3Sn粉末を水に分散させて第1分散液を得る工程と、
錫の金属塩と還元剤を前記第1分散液に添加混合して前記錫の金属塩が溶解して生成される錫イオンが前記還元剤で還元されることにより析出した錫が前記中心核を被覆してこの錫を被覆層の外層とする一層被覆粉末を得る工程と、
前記一層被覆粉末が分散した第2分散液を固液分離して固形分を得る工程と、
前記固液分離した固形分に高沸点溶媒を添加混合して不活性ガス雰囲気中で熱処理することにより前記外層の内部が反応して銅と錫との金属間化合物であるCu6Sn5からなる内層を前記中心核と前記外層との間に形成して二層被覆粉末を得る工程と、
前記二層被覆粉末を固液分離し、前記固液分離した固形分の二層被覆粉末を乾燥する工程と
を含む接合用粉末の製造方法であって、
前記接合用粉末は、平均粒径が1μm以上30μm以下であり、前記接合用粉末の全体量100質量%に対して銅の含有割合が52質量%以上60質量%以下であることを特徴とする接合用粉末の製造方法。 - 請求項1記載の接合用粉末或いは請求項2又は3記載の方法で製造された接合用粉末と接合用フラックスを混合して接合用ペーストを製造する方法。
- 請求項4記載の方法で製造された接合用ペーストを用いて電子部品を実装する方法。
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