JP6637535B2 - 表示パネルと表示装置 - Google Patents

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Description

本発明は、表示技術分野に関し、特に表示パネルと表示装置に関する。
タッチ表示技術の発展に伴い、従来のタッチ位置を検出可能なタッチ技術の他に、タッチ・押圧の圧力の大きさを検出可能な圧力タッチ技術も現れる。圧力タッチにより、より便利なヒューマンコンピュータインタラクションを実現することができ、圧力検出センサが圧力タッチを図るために必要な素子である。
圧力検出センサが表示パネルに集積されており、圧力センサと駆動チップとの間に接続線が設置され、駆動チップが接続線を介して圧力センサにバイアス電圧を供給するとともに、接続線を介して圧力センサから出力される信号を受け取ることにより、圧力タッチを検出する。しかしながら、表示パネルの製造過程では、静電気が起きる恐れがあり、圧力センサと駆動チップとの間の接続線が長く、静電気を圧力センサに伝達しやすいため、圧力センサが静電気破壊によって破損されてしまう。
本発明の実施例が表示パネルと表示装置を提供し、表示パネルが製造過程で静電気破壊によって破損されるリスクを低減させることができる。
本発明の実施例により表示パネルが提供され、当該表示パネルは、
第1入力端と、第2入力端と、第1出力端と、第2出力端とを備え、非表示領域に位置する圧力検出センサと、
前記第1入力端に接続される第1入力信号線と、
前記第2入力端に接続される第2入力信号線、
前記第1出力端に接続される第1出力信号線、
前記第2出力端に接続される第2出力信号線とを備え、
前記第1入力信号線、前記第2入力信号線、前記第1出力信号線及び前記第2出力信号線のうちの少なくとも1つはジャンパ線であり、
前記ジャンパ線は、
第1導電層に位置し、前記圧力検出センサに接続される第1接続線と、
第1ビアホールを介して前記第1接続線に接続され、第2導電層に位置する第2接続線と、
第2ビアホールを介して前記第2接続線に接続され、前記第1導電層に位置する第3接続線とを備える。
本発明の実施例は表示装置をさらに提供し、当該表示装置は上記表示パネルを備える。
本発明の実施例にかかる表示パネルと表示装置は、圧力検出センサに近い位置に、圧力検出センサの信号線をジャンパ線接続とし、即ち、第1導電層における第1接続線を圧力検出センサに接続し、第2導電層における第2接続線を第1ビアホールを介して第1接続線に接続し、第1導電層における第3接続線を第2ビアホールを介して第2接続線に接続することにより、圧力検出センサの信号線を形成し、先に製造された接続線に静電気を直接に圧力検出センサに伝達させることなく、表示パネルが製造過程で、静電気破壊によって破損されるリスクを低減する。
本発明の実施例または従来技術における技術案をより明瞭に説明するために、実施例または従来技術の記述に必要な図面を以下で簡単に説明する。明らかに、後述する図面は、本発明の幾つかの実施例に係るものである。当業者であれば、創造的労力を要しない前提で、これらの図面から他の図面を得ることができる。
本発明の実施例にかかる表示パネルの構造模式図である。 図1に示す圧力検出センサの拡大模式図である。 図1に示す圧力検出センサの所在する箇所の拡大模式図である。 図3に示すA−A´方向における断面構造を示す模式図である。 図1に示す表示パネルにおける一部の表示領域の拡大模式図である。 図5に示すB−B´方向における断面構造を示す模式図である。 図4と図6における構造の比較模式図である。 本発明の実施例にかかる有機発光表示パネルの部分断面構造を示す模式図である。 図1に示す圧力検出センサの所在する箇所のもう1つの拡大模式図である。 図9に示すC−C´方向における断面構造を示す模式図である。 図1に示す圧力検出センサの所在する箇所のもう1つの拡大模式図である。 図11に示すD−D´方向における断面構造を示す模式図である。 本発明の実施例にかかる圧力検出センサの構造模式図である。 本発明の実施例にかかる表示装置の構造模式図である。
本発明の実施例の目的、解決手段及びメリットをより明瞭にするために、以下では、本発明の実施例における図面を参照しながら、本発明の実施例における解決手段について明確、全面的に説明する。明らかに、説明する実施例は、本発明の一部の実施例であり、すべての実施例ではない。当業者が本発明の実施例に基づき、創造的労力を要しない前提で得たすべての他の実施例はいずれも本発明の保護範囲に含まれる。
本発明の実施例において使用される用語は、単に特定の実施例を記述するためのものであり、本発明を制限するためのものではない。本発明の実施例及び添付する特許請求の範囲に使用されている単数形態の「一種」、「前記」及び「当該」は、他の意味としてコンテキストで明瞭に表さない限り、複数形態も含む。
図1は本発明の実施例にかかる表示パネルの構造模式図である。本発明の実施例は、図1に示すように、表示パネルを提供し、当該表示パネルが表示領域1と、非表示領域2と、非表示領域2に位置する圧力検出センサ3とを備えている。表示パネルには、通常複数の圧力検出センサ3が設置される。図2は図1に示す圧力検出センサの所在する箇所の拡大模式図であり、図3は図2に示す圧力検出センサと信号線との接続箇所の拡大模式図である。図2と図3に示すように、それぞれの圧力検出センサ3が第1入力端IN1と、第2入力端IN2と、第1出力端OUT1と、第2出力端OUT2と、第1入力端IN1に接続される第1入力信号線S1と、第2入力端IN2に接続される第2入力信号線S2と、第1出力端OUT1に接続される第1出力信号線L1と、第2出力端OUT2に接続される第2出力信号線L2とを備えている。第1入力信号線S1、第2入力信号線S2、第1出力信号線L1及び第2出力信号線L2のうちの少なくとも1つがジャンパ線である。図4は図3に示すA−A´方向における断面構造を示す模式図である。ジャンパ線は、第1導電層M1に位置し、圧力検出センサ3に接続される第1接続線41と、第1ビアホール51により第1接続線41に接続され、第2導電層M2に位置する第2接続線42と、第2ビアホール52により第2接続線42に接続され、第1導電層M1に位置する第3接続線43とを備える。
具体的には、第1導電層M1と第2導電層M2との間に絶縁層5が設置され、第1ビアホール51と第2ビアホール52がいずれも絶縁層5におけるビアホールである。第3接続線43は圧力検出センサ3に近い位置から駆動チップに接続されるために用いられる。そして、圧力検出センサ3に近い位置に、第2接続線42と第1接続線41で、ジャンパ線の形式により圧力検出センサ3に接続される。この構成により、表示パネルの製造過程で、圧力検出センサ3が静電気破壊によって破損するリスクを低減することができる。例えば、先に圧力検出センサ3及び第1導電層M1における第1接続線41と第3接続線43を製造しておき、第2導電層M2における第2接続線42をまだ製造していない状態で、第3接続線43が表示パネルの底端における駆動チップに接続されるように表示パネルの周辺に沿って設置されているとともに、表示パネルの底端まで延出する。そのため、製造過程で静電気が第3接続線43に伝達しやすい。しかしながら、第3接続線43が圧力センサ3に接続されていないため、静電気が圧力検出センサ3に伝達することがない。
本発明の実施例にかかる表示パネルは、圧力検出センサに近い位置にある圧力検出センサの信号線をジャンパ線接続とする。即ち、第1導電層における第1接続線を圧力検出センサに接続し、第2導電層における第2接続線を第1ビアホールを介して第1接続線に接続し、第1導電層における第3接続線を第2ビアホールを介して第2接続線に接続することにより、圧力検出センサの信号線を形成する。先に製造された第3接続線が静電気を直接に圧力検出センサに伝達させることがなく、表示パネルが製造過程で静電気破壊によって破損するリスクを低減する。
選択的に、図4に示すように、第2接続線42が酸化インジウムスズ(Indium TinOxide、ITO)材料により製造され、第2接続線42の第1ビアホール51と第2ビアホール52との間の長さがLであり、Lが50μm<L<200μmを満たす。
一方で、図1に示すように、圧力検出センサ3が表示パネルの非表示領域2に位置し、液晶表示パネルにおいて、液晶の密封を図るために、非表示領域2にはフレームシールゲルを設ける必要がある。フレームシールゲルが硬化する過程でレーザを照射する必要がある。しかし、ITOから製造された第2接続線42が透明接続線であり、レーザによる照射を遮断することがないため、フレームシールゲルの硬化により有利である。一方で、表示パネルの非表示領域2に、通常ゲート駆動回路(図示せず)が設置され、ゲート駆動回路が複数のカスケード接続されるシフトレジスタを備え、圧力検出センサ3が通常そのうちの隣接する2つのシフトレジスタの間に位置する。隣接する2つのシフトレジスタ間の距離は約100μmである。図9は図1に示す圧力検出センサの所在する箇所のもう1つの拡大模式図である。図9に示すように、圧力検出センサ3に対応する第1入力信号線S1、第2入力信号線S2、第1出力信号線L1と第2出力信号線L2が通常圧力検出センサ3の同一側において延出する。そのため、4つの信号線間の間隔を除き、それぞれの信号線の幅が約20μmである。即ち、第2接続線42の幅が約20μmであり、ITOのシート抵抗が約100Ωである。圧力検出センサ3の第1入力端IN1と第2入力端IN2との間の抵抗をRaとし、圧力検出センサ3の第1出力端OUT1と第2出力端OUT2との間の抵抗をRbとすると、Ra=Rbである。通常、500Ω<Ra<2000Ωを満たし、圧力検出センサ3の信号線が製造完了後、もし依然として静電気が圧力検出センサ3に伝達していれば、圧力検出センサ3が大電流で発熱量が大きすぎる問題を改善するために、第2接続線42の抵抗値を大きく設定してもよい。これにより、電流制限の機能を果たし、圧力検出センサ3の発熱量を低減させる。なお、圧力検出センサ3が動作中に、第2接続線42の分圧が大きすぎることを回避するように、第2接続線42の抵抗値はあまり大きくしてはいけない。上記2つの理由をともに考慮すると、Raを2つの第2接続線42の抵抗値の和に等しくしてもよい。このように設定すると、第2接続線42の抵抗値Rito=(Rs×L)/W である。ここで、Rsは第2接続線42のシート抵抗であり、Lは第2接続線42の長さであり、Wは第2接続線42の幅である。Raを2つの第2接続線42の抵抗値の和に等しくする場合、以下の式が成立する。即ち、Ra=2×Rito=(2×100×L)/20=10Lとなり、Ra=500Ωである場合、L=50μmであり、Ra=2000Ωである場合、L=200μmであり、500Ω<Ra<2000Ωであるため、50μm<L<200μmとなる。
選択的に、圧力検出センサ3が半導体材料から製造される。
具体的に、金属材料で製造される圧力検出センサ3に比べ、半導体材料で製造される圧力検出センサ3は、圧力歪み下での抵抗変化がより大きく、より高い感度を有する。
図5は図1に示す表示パネルにおける一部の表示領域の拡大模式図であり、図6は図5に示すB−B´方向における断面構造を示す模式図であり、図7は図4と図6における構造の比較模式図である。上記表示パネルが薄膜トランジスタ6をさらに備え、薄膜トランジスタ6がソース61、ドレイン62、ゲート63及び活性層64を備えている。図4と図6を参照すると、圧力検出センサ3と活性層64が同一の層に位置する。
具体的に、図5と図6に示すように、例えば、表示パネルが液晶表示パネルである場合、表示パネルが複数本のゲート線7と複数本のデータ線8を備え、複数本のゲート線7と複数本のデータ線8が交差して、マトリクス状に配列される複数のサブ画素ユニットが区画されている。それぞれのサブ画素ユニットに対応して薄膜トランジスタ6が設置され、薄膜トランジスタ6のソース61が、対応するデータ線6に接続され、薄膜トランジスタ6のドレイン62が、対応する画素電極(図示せず)に接続され、薄膜トランジスタ6のゲート63が、対応するゲート線7に接続されている。当該液晶表示パネルは、対向設置されるアレイ基板とカラーフィルタ基板を備え、アレイ基板とカラーフィルタ基板との間に液晶層が設置されている。データ線8がデータ信号を伝送し、ゲート線7が走査信号を伝送し、液晶表示パネルの動作中に、複数本のゲート線7に対応する薄膜トランジスタ6が走査信号による制御で行を単位に順次に導通し、それとともに、データ線8がデータ信号を順次に対応する画素電極に伝送し、これによって、画素電極が充電され、画素電極と共通電極との間に電界が形成されることにより、液晶層における液晶の偏向を駆動し、正常の表示を行う。カラーフィルタ基板が格子状のブラックマトリックス及びブラックマトリックスの開口内に設置され、アレイ配列される複数のカラーレジストを備え、カラーレジストが赤色カラーレジスト、緑色カラーレジスト及び青色カラーレジストを含む。
なお、他の実施可能な形態において、表示パネルが他の種類の表示パネルであってもよく、本発明の実施例には、表示パネルの種類について限定しない。
例えば、表示パネルが有機発光表示パネルである場合、有機発光表示パネルがアレイ基板を備え、アレイ基板が複数の画素回路を備える。有機発光表示パネルはアレイ基板に設置される複数の有機発光ダイオード(Organic Light−Emitting Diode、OLED)をさらに備え、それぞれの有機発光ダイオードの陽極が対応的にアレイ基板における画素回路に電気的に接続される。図8は本発明の実施例にかかる有機発光表示パネルの部分断面構造を示す模式図である。それぞれの有機発光ダイオードEが順次に設置される陽極層101、発光層102及び陰極層103を備える。画素回路が薄膜トランジスタ6を備え、薄膜トランジスタ6がソース61、ドレイン62、ゲート63及び活性層64を備える。画素回路は蓄積コンデンサCstをさらに備え、蓄積コンデンサCstが第1電極板C1と第2電極板C2を備える。ここで、ゲート63と第2電極板C2が第1導電層に位置し、第1電極板C1が第2導電層に位置し、ソース61とドレイン62が第3導電層に位置する。陽極層102の陰極層103に離間する一方の側に、順次に第3導電層、第2導電層、第1導電層及び活性層63が設置され、有機発光ダイオードEの陽極層101がビアホールを介して対応する薄膜トランジスタのドレイン62に接続されている。複数の発光ダイオードが赤色光を発する発光ダイオード、緑色光を発する発光ダイオード及び青色光を発する発光ダイオードを含む。なお、有機発光表示パネルは、複数の有機発光ダイオードを覆う封止層をさらに備える。なお、図8には、画素回路における蓄積コンデンサCst及び有機発光ダイオードEに直接に接続される1つの薄膜トランジスタ晶体管6のみを模式的に示すが、他のトランジスタの層の構造が当該薄膜トランジスタ6の構造と同じである。また、各層の構造の関係も図8に示す構造に限らず、例えば、第1電極板C1と第2電極板C2が他の層において製造されてもよく、コンデンサの2つの電極板を構成することができれば良い。もし有機発光ダイオードEが上面発光構造であれば、即ち、有機発光ダイオードEが陰極層103の陽極層101から離間する側から発光する場合、像素駆動回路における各素子が有機発光ダイオードEの下方に設置されてもよく、もし有機発光ダイオードEが底面発光構造であれば、即ち、有機発光ダイオードEが陽極層101の陰極層103から離間する側から発光する場合、画素回路における各素子が有機発光ダイオードEの発光区域の外に設置される必要があり、これにより、表示に悪影響を与えることがない。
次に、表示パネルがマイクロ型発光ダイオードによる表示パネルである場合、マイクロ型発光ダイオードによる表示パネルがアレイ基板を備え、アレイ基板が複数の画素回路を備える。また、マイクロ型発光ダイオードによる表示パネルが、アレイ基板に設置される複数のマイクロ型発光ダイオード(Micro Light−Emitting Diode、Mic−LED)をさらに備え、それぞれのマイクロ型発光ダイオードの陽極が対応的にアレイ基板における画素回路に電気的に接続される。複数のマイクロ型発光ダイオードは、赤色光を発するマイクロ型発光ダイオード、緑色光を発するマイクロ型発光ダイオード及び青色光を発するマイクロ型発光ダイオードを含む。ここで、マイクロ型発光ダイオードは、成長基板に製造されてから、移転によりアレイ基板に移転される。
選択的に、図4、図5、図6及び図7に示すように、第1導電層M1と第2導電層M2が、ゲート金属層、ソース・ドレイン金属層及びタッチ信号線金属層のうちの任意の異なる2つの層である。
具体的に、液晶表示パネルを例として説明する。図5及び図6に示すように、ゲート金属層がゲート線7とゲート63を備え、ソース・ドレイン金属層がソース61、ドレイン62及びデータ線8を備える。タッチ信号線金属層はタッチ信号線9を備え、共通電極がマトリクス状に配列される複数の共通電極ブロックを備える。それぞれの共通電極ブロックが少なくとも1つのタッチ信号線9に接続され、表示段階では、タッチ信号線9が全ての共通電極ブロックに共通電極信号を出力する。タッチ段階では、共通電極ブロックがタッチ電極として、タッチ信号線9がそれぞれの共通電極ブロックにタッチ駆動信号に出力するとともに、それぞれの共通電極ブロックの感知信号を受け取る。これにより、タッチ位置を判断する。なお、図4と図7には、第1導電層M1がソース・ドレイン金属層であり、第2導電層M2がタッチ信号線金属層である構造のみを示すが、本発明の実施例には、これについて限定しない。
図10は図9に示すB−B´方向における断面構造を示す模式図である。非表示領域にゲート駆動回路(図面に示されていない)及びゲート駆動回路に接続されるゲート駆動回路信号線10が設置される。ゲート駆動回路信号線10は第1導電層M1に位置し、表示パネルの所在する平面において、第2接続線42の正射影がゲート駆動回路信号線10の正射影と交差している。
具体的に、プロセスを簡略化するために、ゲート駆動回路信号線10、第1接続線41及び第3接続線43が第1導電層M1に位置するようにしてもよい。このように、1度のパターニング工程でゲート駆動回路信号線10、第1接続線41及び第3接続線43を形成することができる。ゲート駆動回路がカスケード接続される多段シフトレジスタを備え、多段シフトレジスタが表示パネルの縁の方向に沿って配列され、圧力検出センサ3がゲート駆動回路の近傍に設置されている。そのため、ゲート駆動回路信号線10は、圧力検出センサ3をバイパスする必要があり、配線がより便利になるように、ゲート駆動回路信号線10が圧力検出センサ3に対応する信号線のジャンパ線部分を通すようにしてもよい。即ち、ゲート駆動回路信号線10が第2接続線42の所在する位置を通すようにしてもよい。当然ながら、他の実施可能の形態において、ゲート金属層にゲート駆動回路信号線10を製造してもよい。第2導電層M2がゲート金属層から遠いため、ゲート駆動回路信号線10が第2接続線42の所在する位置を通すことにより、圧力検出センサ3に対応する信号線とゲート駆動回路信号線10との間の負荷容量をさらに低減させることができる
図11は図1に示す圧力検出センサの所在する箇所のもう1つの拡大模式図である。図12は図9に示すC−C´方向における断面構造を示す模式図である。非表示領域に、ゲート駆動回路及びゲート駆動回路に接続されるゲート駆動回路信号線10が設置され、圧力検出センサ3とゲート駆動回路信号線10との間の最小距離が50μm以上である。
具体的に、表示パネルの底端における駆動チップに接続されるために、ゲート駆動回路信号線10が長く、且つ表示パネルの縁に沿って配置されてもよい。従って、ゲート駆動回路信号線10上の静電気で圧力検出センサ3を破壊することを回避し、またゲート駆動回路信号線10と圧力検出センサ3とが互いに影響することを回避するために、圧力検出センサ3とゲート駆動回路信号線10との間の最小距離を50μm以上とする。プロセスを簡略化するために、ゲート駆動回路信号線10と第2接続線42がいずれも第2導電層M2に位置するようにしてもよい。このように、1度のパターニング工程でゲート駆動回路信号線10と第2接続線42を形成することができる。当然ながら、他の実施可能な形態において、第1導電層M2又はゲート金属層においてゲート駆動回路信号線10を製造してもよい。
図13は本発明の実施例にかかる圧力検出センサの構造模式図である。圧力検出センサがホイートストンブリッジ式圧力センサであり、ホイートストンブリッジ式圧力センサが第1入力端IN1、第2入力端IN2、第1出力端OUT1、第2出力端OUT2、第1歪み圧力センサM1、第2歪み圧力センサM2、第3歪み圧力センサM3及び第4歪み圧力センサM4を備える。それぞれの圧力検知ユニットにおいて、第1歪み圧力センサM1が第1入力端IN1と第1出力端OUT1との間に直列に接続され、第2歪み圧力センサM2が第2入力端IN2と第2出力端OUT2との間に直列に接続され、第3歪み圧力センサM3が第2入力端IN2と第1出力端OUT1との間に直列に接続され、第4歪み圧力センサM4が第1入力端IN1と第2出力端OUT2との間に直列に接続されている。
選択的に、図3に示すように、圧力検出センサがシリコンピエゾ抵抗型圧力センサである。シリコンピエゾ抵抗型圧力センサが四角形構造であってもよく、4つの辺がそれぞれ第1入力端IN1、第2入力端IN2、第1出力端OUT1及び第2出力端OUT2に接続され、第1入力端IN1と第2入力端IN2がそれぞれ対向する2つの辺に接続され、第1出力端OUT1と第2出力端OUT2がそれぞれ対向する他の2つの辺に接続されている。
なお、図2に示す圧力検出センサの構造の場合でも、図13に示す圧力検出センサの構造の場合でも、圧力検出センサがいずれも端から端まで順次に接続される第1ブリッジアーム、第2ブリッジアーム、第3ブリッジアーム及び第4ブリッジアームからなる電気ブリッジと等価なものになる。第1ブリッジアームと第4ブリッジアームとの接続箇所が第1入力端IN1であり、第2ブリッジアームと第3ブリッジアームとの接続箇所が第2入力端IN2であり、第1ブリッジアームと第2ブリッジアームとの接続箇所が第1出力端OUT1であり、第3ブリッジアームと第4ブリッジアームとの接続箇所が第2出力端OUT2である。表示パネルが変形していない場合、第1ブリッジアームと第2ブリッジアームとの抵抗値の比が、第4ブリッジアームと第3ブリッジアームとの抵抗値の比に等しいとき、電気ブリッジがバランス状態となり、第1出力端OUT1での電圧値が第2出力端OUT2での電圧値に等しくなる。表示パネルが変形した場合、上記4つのブリッジアームがいずれも変形し、これによって、各ブリッジアームの抵抗値が変化し、電気ブリッジのバランス状態が崩れる。即ち、第1ブリッジアームと第2ブリッジアームとの抵抗値の比が、第4ブリッジアームと第3ブリッジアームとの抵抗値の比に等しくなく、第1出力端OUT1での電圧値が第2出力端OUT2での電圧値に等しくなく、第1出力端OUT1での電圧値と第2出力端OUT2での電圧値との差が、表示パネルで受け取る圧力値と対応関係を有する。圧力検出の過程では、第1出力端OUT1での電圧値と第2出力端OUT2での電圧値を取得することにより、対応する圧力値を得ることができる。
選択的に、圧力検出センサ3が多結晶シリコン材料で製造される。
具体的に、多結晶シリコンの抵抗が大きく、融点が低いため、静電気による大電流が多結晶シリコンを通すとき、圧力検出センサ3を焼損しやすい。従って、多結晶シリコン材料で製造される圧力検出センサ3が本発明の実施例により適用されることができる。
選択的に、図1に示すように、表示パネルが表示領域1を備え、非表示領域2が表示領域1を囲んでおり、圧力検出センサ3が非表示領域2における、表示領域1に近い側に位置する。
具体的に、表示パネルが押圧されたとき、中心に近いほど、その位置の変形が大きくなる。そのため、圧力検出センサ3の圧力検知効果を向上させるために、それを非表示領域2における、表示領域1に近い側に設置することにより、押圧時に大きい変形が発生することで検知の感度が良くなるとともに、正常の表示品質に影響することもない。
図14は本発明の実施例にかかる表示装置の構造模式図である。本発明の実施例が表示装置を提供し、当該表示装置は、上記表示パネル100を備える。
ここで、表示パネル100の具体的な構造及び原理が上記実施例と同様であり、ここで繰り返し述べない。表示装置は、例えば、タッチディスプレイスクリーン、携帯電話、タブレットPC、ノートパソコン又はテレビ等の表示機能を有する如何なる電子機器であってもよい。
本発明の実施例にかかる表示装置は、圧力検出センサに近い位置において、圧力検出センサの信号線をジャンパ線接続とする。即ち、第1導電層における第1接続線を圧力検出センサに接続し、第2導電層における第2接続線を第1ビアホールを介して第1接続線に接続し、第1導電層における第3接続線を第2ビアホールを介して第2接続線に接続する。これにより、圧力検出センサの信号線を形成するため、先に製造された接続線に静電気を直接に圧力検出センサに伝達させることなく、表示パネルが製造過程で静電気破壊によって破損されるリスクを低減させる。
上記各実施例は本発明の技術案を説明するためのものであり、本発明を限定するものではない。上記各実施例を参照して本発明を詳細に説明したが、当業者であれば分かるように、上記各実施例に記載の技術案を変更し、またはその一部や全部の技術的特徴に対して均等置換可能である。これらの変更や置換があえてかかる技術案の要旨を本発明の各実施例の技術案の範囲から逸脱させることはない。

Claims (11)

  1. 表示パネルであって、
    第1入力端と、第2入力端と、第1出力端と、第2出力端とを備え、非表示領域に位置する圧力検出センサと、
    前記第1入力端に接続される第1入力信号線と、
    前記第2入力端に接続される第2入力信号線と、
    前記第1出力端に接続される第1出力信号線と、
    前記第2出力端に接続される第2出力信号線とを備え、
    前記第1入力信号線、前記第2入力信号線、前記第1出力信号線及び前記第2出力信号線のうちの少なくとも1つは、ジャンパ線であり、
    前記ジャンパ線は、
    第1導電層に位置し、前記圧力検出センサに接続される第1接続線と、
    第1ビアホールを介して前記第1接続線に接続され、第2導電層に位置する第2接続線と、
    第2ビアホールを介して前記第2接続線に接続され、前記第1導電層に位置する第3接続線とを備え
    前記第2導電層は、前記第1導電層の上に設けられ、前記第1導電層と前記第2導電層との間に絶縁層が設けられ、前記第1ビアホールと前記第2ビアホールは、何れも前記絶縁層におけるビアホールであり、
    前記第2接続線は、酸化インジウムスズ材料により製造され、
    前記第2接続線の幅が約20μmであり、前記第2接続線のシート抵抗が約100Ωであり、前記第2接続線の前記第1ビアホールと前記第2ビアホールとの間の長さがLであり、Lが50μm<L<200μmを満たすことを特徴とする表示パネル。
  2. 前記圧力検出センサは、半導体材料により製造されることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
  3. 表示のための画素回路の薄膜トランジスタをさらに備え、
    前記薄膜トランジスタは、ソース、ドレイン、ゲート及び活性層を備え、前記圧力検出センサと前記活性層が同一の層に位置することを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
  4. 前記第1導電層と前記第2導電層は、ゲート金属層、ソース・ドレイン金属層及びタッチ信号線金属層のうちの任意の異なる2つの層であり、
    表示段階では、タッチ信号線が全ての共通電極ブロックに共通電極信号を出力し、タッチ段階では、タッチ信号線がそれぞれの共通電極ブロックにタッチ駆動信号に出力するとともに、それぞれの共通電極ブロックの感知信号を受け取るこれにより、タッチ位置を判断することを特徴とする請求項に記載の表示パネル。
  5. 前記非表示領域には、ゲート駆動回路及び前記ゲート駆動回路に接続されるゲート駆動回路信号線がさらに設置され、
    前記ゲート駆動回路信号線は、前記第1導電層に位置し、前記表示パネルの所在する平面に、前記第2接続線の正射影が前記ゲート駆動回路信号線の正射影と交差することを特徴とする請求項に記載の表示パネル。
  6. 前記非表示領域には、ゲート駆動回路及び前記ゲート駆動回路に接続されるゲート駆動回路信号線が設置され、
    前記圧力検出センサと前記ゲート駆動回路信号線との間の最小距離は、50μm以上であることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
  7. 前記圧力検出センサは、ホイートストンブリッジ式圧力センサであり、
    前記ホイートストンブリッジ式圧力センサは、第1入力端、第2入力端、第1出力端、第2出力端、第1歪み圧力センサ、第2歪み圧力センサ、第3歪み圧力センサ及び第4歪み圧力センサを備え、
    前記第1歪み圧力センサは、前記第1入力端と前記第1出力端との間に直列に接続され、前記第2歪み圧力センサは、前記第2入力端と前記第2出力端との間に直列に接続され、前記第3歪み圧力センサは、前記第2入力端と前記第1出力端との間に直列に接続され、前記第4歪み圧力センサは、前記第1入力端と前記第2出力端との間に直列に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
  8. 前記圧力検出センサは、シリコンピエゾ抵抗型圧力センサであることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
  9. 前記圧力検出センサは、多結晶シリコン材料により製造されることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
  10. 前記表示パネルは、表示領域を備え、前記非表示領域は、前記表示領域を囲み、
    前記圧力検出センサは、前記非表示領域における、前記表示領域に近い側に位置することを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
  11. 請求項1乃至10のいずれか一項に記載の表示パネルを備えることを特徴とする表示装置。
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