JP6620086B2 - 光起電アレイ用の反射防止フィルム - Google Patents

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Description

本発明は、光起電モジュールの構成で特に役立つ反射防止フィルムに関する。
可視光が光起電アレイから無駄に反射するのを最小限に抑える複数のアプローチが存在し、そのアプローチには、低誘電層をアレイの表面に適用することが含まれる。例えば、このことを目的として、米国特許第7,604,866号では、シリカ粒子を含むフィルムが開示されている。しかしながら、このアプローチまたは他のアプローチは、フィルム−ガラス界面での表面反射を最小眼に抑えない。
本発明が取り組む課題は、光起電モジュールの構成で特に役立つ反射防止フィルムを提供することである。
本発明は、(a)0.75〜15μmの平均粒子直径、及び(b)前記粒子の中心から表面まで連続的に変化する屈折率を有するポリマー粒子と、ポリオレフィンを含む連続ポリマー相とを含むフィルムであって、前記ポリマー粒子と前記連続ポリマー相との間の400nm〜800nmで測定された平均屈折率差が0.02を以下である、前記フィルムを提供する。
別途示されない限り、割合は重量の割合(重量%)であり、温度は℃である。別途特定されない限り、屈折率(RI)値はナトリウムD線で決定し、式中、20℃でλ=589.29nmである。ポリマー粒子は有機ポリマー、好ましくは付加ポリマーを含み、好ましくは、実質的に球状である。平均粒子直径D50は、粒子サイズ分析器、好ましくはCoulterカウンターを用いて測定される粒子サイズ分布の中央値として定義される。T値は、Fox式を用いてホモポリマーTから計算され、Bulletin of the American Physical Society 1,3,page 123(1956)を参照されたい。組成物が粒子全体で変化するポリマー粒子のTは、粒子内の複数の組成物のT値の重量平均を有する。モノマーの重量の割合は、各段階で重合混合物に付加されたモノマーの総重量に基づいて、多段ポリマーの各段階で計算される。本明細書中で使用されるように、用語「(メタ)アクリル」はアクリルまたはメタクリルを指し、「(メタ)アクリレート」はアクリレートまたはメタクリレートを指す。用語「(メタ)アクリルアミド」はアクリルアミド(AM)またはメタクリルアミド(MAM)を指す。「アクリルモノマー」は、アクリル酸(AA)と、メタクリル酸(MAA)と、AA及びMAAのエステルと、イタコン酸(IA)と、クロトン酸(CA)と、アクリルアミド(AM)と、メタクリルアミド(MAM)と、AM及びMAMの誘導体、例えば、アルキル(メタ)アクリルアミドと、を含む。AA及びMAAのエステルは、アルキルと、ヒドロキシアルキルと、ホスホアルキル及びスルホアルキルエステル、例えば、メチルメタクリレート(MMA)、エチルメタクリレート(EMA)、ブチルメタクリレート(BMA)、ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、ヒドロキシプロピルメタクリレート(HPMA)、ヒドロキシブチルアクリレート(HBA)、メチルアクリレート(MA)、エチルアクリレート(EA)、ブチルアクリレート(BA)、2−エチルヘキシルアクリレート(EHA)、シクロヘキシルメタクリレート(CHMA)、ベンジルアクリレート(BzA)、及びホスホアルキルメタクリレート(例えば、PEM)と、を含むが、それらに限定されない。「スチレンモノマー」は、スチレンと、メチル−及びエチル−スチレン、好ましくはスチレンを含むα−メチルスチレン;2−,3−,または4−アルキルスチレンと、を含む。
用語「ビニルモノマー」は、炭素−炭素二重結合を含むモノマーを指し、炭素−炭素二重結合は、ヘテロ原子、例えば、窒素または酸素に結合する。ビニルモノマーの実施例は、ビニルアセテートと、ビニルホルムアミドと、ビニルアセトアミドと、ビニルピロリドンと、ビニルカプロラクタムと、長鎖ビニルアルカノエート、例えば、ビニルネオデカノエート、及びビニルステアレートと、を含むが、それらに限定されない。用語「ポリオレフィン」は、ポリマーまたはアルケンのコポリマーを指し、好ましくは2〜10個の炭素原子、好ましくは2〜8個の炭素原子、好ましくは2〜4個の炭素原子を有するもの、好ましくはプロピレンまたはエチレンである。連続ポリマー相は、好ましくは少なくとも75重量%のポリオレフィンを含み、好ましくは少なくとも85重量%、好ましくは少なくとも95重量%、好ましくは少なくとも98重量%を含む。好ましいポリオレフィンはアルケンのコポリマー、特に他のアルケンを有するエチレンのコポリマーを含み、好ましくは3〜8個の炭素原子を有するものを含み、好ましくは他のアルケンが0〜90重量%の総量で存在し、好ましくは2〜50重量%、好ましくは3〜40重量%で存在する。好ましくはポリオレフィンの重量平均分子量は50,000〜500,000で、好ましくは70,000〜300,000である。好ましくはポリオレフィンは25℃未満のガラス遷移温度を有し、好ましくは10℃未満である。好ましくはポリオレフィンは200℃以下の融解温度を有し、好ましくは190℃以下の融解温度、好ましくは180℃以下の融解温度、好ましくは融解温度は少なくとも100℃である。
好ましくは、ポリマー粒子は少なくとも1μm、好ましくは少なくとも1.5μm、好ましくは少なくとも2μm、好ましくは少なくとも2.5μm、好ましくは少なくとも3μm、好ましくは少なくとも3.5μmの平均粒子直径を有し、好ましくはこれらの粒子は12μm以下、好ましくは10μm以下、好ましくは8μm以下、好ましくは6μm以下、好ましくは5.5μm以下の平均粒子直径を有する。好ましくは、ポリマー粒子は単一のモードを示す粒子サイズ分布を有し、好ましくは、半値の粒子サイズ分布幅は0.1μm〜3μm、好ましくは0.2μm〜1.5μmである。フィルムは異なる平均直径を有する粒子を含むことができるが、但し、それぞれの平均直径の粒子が、直前で記載した粒子サイズ分布を有することを条件とする。粒子サイズ分布は粒子サイズ分析器を使用して決定される。
本明細書に記載の屈折率差は絶対値である。好ましくは、ポリマー粒子と連続ポリマー相との間の800nm〜2500nmで測定された屈折率差(すなわち、差の絶対値)は、少なくとも0.04であり、好ましくは少なくとも0.06、好ましくは少なくとも0.08、好ましくは少なくとも0.1である。好ましくは、ポリマー粒子と連続ポリマー相との間の800nm〜2500nmで測定された屈折率差は0.2以下であり、好ましくは0.17以下、好ましくは0.15以下である。好ましくはポリマー粒子と連続ポリマー相との間の400nm〜800nmで測定された屈折率差は0.015以下であり、好ましくは0.01以下であり、好ましくは0.005以下であり、好ましくは0.003以下である。好ましくはポリマー粒子の屈折率は1.43〜1.55であり、好ましくは1.45〜1.53であり、好ましくは1.46〜1.52であり、好ましくは1.47〜1.51である。好ましくは連続ポリマー相の屈折率は1.4〜1.6であり、好ましくは1.45〜1.55であり、好ましくは1.47〜1.53であり、好ましくは1.48〜1.52である。好ましくはポリマー粒子の屈折率は、赤外領域の連続ポリマー相の屈折率を超える、すなわち、800〜2500nmである。GRIN粒子の屈折率は、屈折率差を計算する目的のために、粒子表面の屈折率となる。
フィルム内のポリマー粒子は、放射状の屈折率勾配(「GRIN」粒子、例えば、米国出願公開第20090097123号参照)を有するものである。好ましくは、GRIN粒子は、表面より高い屈折率を中心に有する。好ましくは、GRIN粒子は中心で、1.51〜1.63の屈折率を有し、好ましくは1.52〜1.60、好ましくは1.53〜1.59、好ましくは1.54〜1.59の屈折率を有し、表面の屈折率は1.45〜1.53で、好ましくは1.46〜1.52、好ましくは1.47〜1.51である。別の好ましい実施形態では、GRIN粒子は表面より低い屈折率を中心に有する。GRIN粒子はポリマーシードから得られるコアを有し、ポリマーシードはGRIN粒子を生成するために使用される。好ましくは、GRIN粒子のコアの重量は95重量%以下で、好ましくは80重量%以下、好ましくは60重量%以下、好ましくは40重量%以下、好ましくは20重量%以下である。
好ましくは、連続ポリマー相は、全フィルムの重量に基づいて、0.5〜15重量%のポリマー粒子を含み、好ましくは少なくとも1重量%、好ましくは少なくとも1.5重量%、好ましくは少なくとも2重量%、好ましくは少なくとも3重量%、好ましくは少なくとも5重量%、好ましくは12重量%以下、好ましくは10重量%以下、好ましくは9重量%以下のポリマー粒子を含む。連続ポリマー相は、経路が破損せずに存在してポリマーの全ての部分を結合している意味で、連続的である。
ポリマー粒子は、アクリルモノマーの少なくとも60%のポリマー残基、好ましくは少なくとも65%、好ましくは少なくとも70%、好ましくは少なくとも75%、好ましくは少なくとも80%のポリマー残基を含む。ポリマー粒子はアクリルモノマー及びスチレンモノマーの少なくとも70%のポリマー残基、好ましくは少なくとも80%、好ましくは少なくとも90%、好ましくは少なくとも95%、好ましくは少なくとも97%のポリマー残基を含む。また、酸モノマー(例えば、AA、MAA、IA、CA)のポリマー粒子も0〜5%のポリマー残基、好ましくは0.5〜4%のAA及び/またはMAAを有することが好ましく、また、少量のビニルモノマーの残基を含むこともできる。
架橋剤は2つ以上のエチレン性不飽和基、またはカップリング剤(例えば、シラン)、あるいはイオン架橋剤(例えば、金属酸化物)を有するモノマーである。2つ以上のエチレン性不飽和基を有する架橋剤は、例えば、ジビニル芳香族化合物と、ジ−、トリ−、及びテトラ(メタ)アクリレートエステルと、ジ−、トリ−、及びテトラ−アリルエーテル、またはエステル化合物と、アリル(メタ)アクリレートと、を含む。これらのモノマーの好ましい実施例は、ジビニルベンゼン(DVB)と、トリメチロールプロパンジアリルエーテルと、テトラアリルペンタエリスリトールと、トリアリルペンタエリスリトールと、ジアリルペンタエリスリトールと、フタル酸ジアリルと、マレイン酸ジアリルと、トリアリルシアヌレートと、ビスフェノールAジアリルエーテルと、アリルスクロースと、メチレンビスアクリルアミドと、トリメチロールプロパントリアクリレートと、アリルメタクリレート(ALMA)と、エチレングリコールジメタクリレート(EGDMA)と、ヘキサン−1,6−ジオールジアクリレート(HDDA)と、及びブチレングリコールジメタクリレート(BGDMA)と、を含む。ポリマー粒子のポリマー架橋剤残基の量は8%以下であることが好ましく、好ましくは6%以下、好ましくは5%以下、好ましくは少なくとも0.1%、好ましくは少なくとも0.5%、好ましくは少なくとも1%、好ましくは少なくとも2%である。架橋剤が存在する場合、架橋剤は100〜250の分子量を有することが好ましく、好ましくは110〜230、好ましくは110〜200、好ましくは115〜160の分子量を有する。好ましくは、架橋剤は二官能性または三官能性である、すなわち、架橋剤はそれぞれがジエチレン性またはトリエチレン性不飽和であり、好ましくは二官能性である。
好ましくは、本発明のポリマー粒子を含むフィルムは、ポリオレフィンとポリマー粒子の混合物を押し出すことで生成される。フィルム用の基材は、ガラス、木、革、または任意の透明なプラスチック、例えば、ポリ(エチレンテレフタレート)、好ましくはガラスまたは任意の透明なプラスチック、好ましくはガラスである。本適用におけるプラスチック及びガラスの屈折率は、最小でフッ化(ポリ(ビニリデン)の1.4〜酸化タリウム(TlO)を塗布されたガラスの1.8の範囲である。また、フィルムの試料も、多層構造内で層と層を積層させるために、接着剤層でコーティング可能であり、基材との接触を改善することができる。
水性系または溶剤系アクリルポリマー及び樹脂は、多様な官能性及び分子量を有し、複数の層を接着するのに使用可能である。好ましくは、接着剤を水または溶剤内でコロイドポリマー散液から調製し、高い(30〜50%w/w)固体含有量の溶液または懸濁液を生成する。好ましくは、界面エネルギーを低下させ接着を促進するために、接着剤を塗布する前に、基材を放電に暴露して処理する。好ましくは、接着剤がコーティングされた基材を、80〜170℃の範囲の温度勾配で、10〜15分間、乾燥オーブンで乾燥される。
好ましくは、接着剤組成物を、(好ましくは25℃未満のTgの)低ガラス遷移アクリルポリマーとアクリルポリマーの混合物であって、直径が 小0.85μm〜 大30μ mの範囲で軽度に架橋した球体の形状の混合物から調製する。好ましくは、球体のアクリルポリマーは架橋し、ポリマー架橋剤残基の量は、全体で4〜20%である。好ましくは、第1の重合段階には、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、及びテトラメチレングリコールジアクリレートのモノマーのうちの1つ以上が含まれる。好ましくは、第2の段階には、4〜20パーセントの、ジエチレングリコールビス(アリカーボネート)、アリルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、及びテトラメチレングリコールジメタクリレートの架橋剤部分のうちの1つ以上が含まれる。
接着剤組成物は、表面トポグラフィーの完全適用範囲を制限する大きな突出に装着された、起伏がある表面及び平滑な表面に塗布するように設計される。接着剤溶剤を含む溶液または水分散液を、様々方法で基材に塗布することができる。好ましくは、基材が硬質であり、高アスペクト比粒子の形態で表面の凸凹に装着されている場合、グラビアコーターを用いて接着剤を表面上にコーティングする。代替として、接着剤系組成物を様々な結合剤と配合して、水性または溶剤系コーティング組成物を形成することができ、このコーティング組成物を適した基材上に(例えば、噴霧またはローラーコーティング、噴流または印刷によって)塗布することができる。分散粒子の最も効率的な幾何学的配置は、球体の単一の層が基材上にある状態であり、この基材において、粒子は面心立方または六方最密配置で存在する。
好ましくは、接着剤系組成物を水分散液の形態で塗布する場合、結合剤はコーティング剤、例えば、アミノシラン、エポキシ、エポキシシラン、アルキルシラン、脂肪酸、またはシリコーン油等を含む。好ましいアミノシランは、アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシランと、セルロースアクリレート溶液である。他の好適な水性結合剤は、アクリル、ビニル、例えば、ビニルアセテート、またはビニルアセテート−エチレン、ポリウレタン、シロキサン、天然ゴム、合成ゴムポリマー、例えば、スチレン−ブタジエン(SBR)ブロックコポリマー、タンパク質ポリマー、セルロース系ポリマー、及びそれらの混合物、及び組み合わせ、例えば、アクリルウレタンから選択された、(コ)ポリマーを含む。
組成物が溶剤安定系である場合、溶剤を流延することで接着剤組成物を塗布することができる。溶剤流延で使用される溶剤は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エチルアセテート、ブチルアセテート、トルエン、イソプロパノール、エチルアルコールならびにキシレン、及びトルエンを含む。
また、接着剤組成物も、以下のいずれかまたは全てを含む:保存剤、抗酸化剤、水素化ウッドロジンのグリセリルエステル、コーンまたはポテトスターチ、エチレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、2,3−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、エチレン尿素、尿素、ソルビトール、及びマンニトール。また、粘着付与樹脂、例えば、ロジン及びテルペンフェノールも、ブレンド組成物に付加することができる。
代替として、接着剤はアルファポリオレフィン及びエチレンのコポリマーに基づくことが可能である。配合では、水素化炭化水素粘着剤を用いて粘着力を高めることが好ましい。接着剤の配合では、シランを使用して、ガラス表面への接着を改善することができる。いくつかの実施形態では、フィルムは多層構造であってよく、それによって1つの層は剥離され、新たな表面を呈することができる。好ましくは、本実施形態では、各層の厚さは100um未満であり、好ましくは厚さが50μm未満で層の総数が2を超える、好ましくは層の総数が3を超える、好ましくは層の総数が5を超える、好ましくは層の総数が7を超える。好ましくは、多層構成の本実施形態では、接着剤層がフィルム間に存在する。好ましくは、フィルムと接着剤との間の400nm〜800nmで測定された平均屈折率差が、0.02以下であり、好ましくは、0.01以下であり、好ましくは、0.005以下である。好ましくは、接着剤層は50μm未満の乾燥厚さであり、好ましくは、20μm未満の乾燥厚さである。
好ましくは、フィルムは、複数の層を含むか否かに関わらず、厚さの合計が10μm〜2mmであり、好ましくは合計が15μm〜2mm、好ましくは合計が20μm〜1.5μmである。
好ましくは、ポリマー粒子を、水性溶媒中で、既知のエマルション重合技術で調製し、次いで、その結果得られるポリマーラテックスを噴霧乾燥する。典型的には、噴霧乾燥によって、平均直径が1〜15μmであるポリマー粒子塊がもたらされる。好ましくは、これらの塊を、サイズを縮小することなく、ポリオレフィンを含むポリマー内に直接分散して、溶融複合プロセスによって、押出機内で、好ましくは190〜250℃、好ましくは195〜240℃、好ましくは200〜230℃の押し出し温度で、フィルムを生成する。
GRIN粒子は噴霧乾燥によって水性溶媒から分離された。
比較実施例1
プレートは、溶融押出プロセスによって、ニートポリマー樹脂のペレットから調製される。Leistritz押出機内で、200〜225℃の範囲のバレル温度で溶融処理されたプロピレン樹脂((Huntsman Reyen、RI=1.49、Tg−10℃、Tm173℃)。この溶融複合では続いて、ペレット化、真空オーブン内で60℃での乾燥、221〜236℃の温度での出射成形が行われた。出射成形によって得られる試験プレートは、以下の寸法を有する:66.9mm×66.9mm×1.5mm。それらのプレートは、ASTM D 10003−00(透明なプラスチックの曇り度及び視感透過率の標準試験方法)及びASTM E 313−00(機器で測定された色座標から黄色さ及び白さインデックスを計算するための標準的な技法)によって評価された。データは以下の表Iに示される。
実施例2〜4
プレートは、溶融押出プロセスによって、GRIN粒子とポリマー樹脂の混合物から調製される。以下で概説される重合プロセスによって調製された、及び組成物:p((ベンジルアクリレート/ALMA=76/4)//MMA/EA=16/4)のGRIN粒子(RI=1.56〜1.49であり、粒子サイズ直径は0.75μmである)は、ポリプロピレン樹脂(Huntsman Reyen、RI=1.49)と乾燥ブレンドされ、それに続いて、Leistritz押出機内で200〜225℃の範囲のバレル温度で溶融複合された。溶融複合は特別なスクリーンパック配置、80/120/300/120/80メッシュを使用して、GRIN粒子の最終分散物を生成した。この溶融複合では続いて、ペレット化、真空オーブン内において60℃での乾燥、及び221〜236℃の温度での出射成形が行われた。出射成形によって得られる試験プレートは、以下の寸法を有する:66.9mm×66.9mm×1.5mm。それらのプレートは、ASTM D 10003−00(透明なプラスチックの曇り度及び視感透過率の標準試験方法)及びASTM E 313−00(機器で測定された色座標から黄色さ及び白さインデックスを計算するための標準的な技法)によって評価された。データは以下の表Iに示される。
実施例5〜7
プレートは、溶融押出プロセスによって、GRIN粒子とポリマー樹脂の混合物から調製される。以下で概説される重合プロセスによって調製された、及び組成物:p((ベンジルアクリレート/ALMA=76/4)//スチレン=20)のGRIN粒子(RI=1.56〜1.59であり、粒子サイズ直径は0.80μmである)は、ポリプロピレン樹脂(Huntsman Reyen、RI=1.49)と乾燥ブレンドされ、それに続いて、Leistritz押出機内で200〜225℃の範囲のバレル温度で溶融複合された。溶融複合は特別なスクリーンパック配置、80/120/300/120/80メッシュを使用して、GRIN粒子の最終分散物を生成した。この溶融複合では続いて、ペレット化、真空オーブン内において60℃での乾燥、及び221〜236℃の温度での出射成形が行われた。出射成形によって得られる試験プレートは、以下の寸法を有する:66.9mm×66.9mm×1.5mm。それらのプレートは、ASTM D 10003−00(透明なプラスチックの曇り度及び視感透過率の標準試験方法)及びASTM E 313−00(機器で測定された色座標から黄色さ及び白さインデックスを計算するための標準的な技法)によって評価された。データは以下の表IIに示される。
実施例8(プレシードポリマー)
本実施例は、直径0.25μmの架橋ポリマープレシードの調製して、水分散液内でより大きなシード粒子を作製するのを示す。以下の混合物A〜Cは脱イオン水で調製された。
Figure 0006620086
反応器は攪拌機及びコンデンサーが備え付けられ、窒素でブランクされており、混合物A1で充満され、83℃まで熱された。10%の乳化された混合物B1及び25%の混合物C1が反応器の内容物に付加された。温度は83℃で維持され、混合物は60分間撹拌された、その後、残りの混合物B1及び混合物C1が反応器に付加され、120分にわたって撹拌された。撹拌は83℃で90分間継続され、その後反応器の内容物は室温まで冷却された。これによって得た粒子プレシードの粒子サイズは、Brookhaven Instruments粒子サイズ分析器BI−90で測定したところ、0.25μmであった。
実施例9(ポリマーシード)
本実施例では、実施例8のエマルションのプレシード粒子は、n−ブチルアクリレート,スチレン、及び1−ヘキサンチオールを用いて直径0.56μmまで成長する。以下の混合物A2〜G2は脱イオン水で調製された。
Figure 0006620086
混合物A2は、実施例8の反応器に付加され、88℃まで熱され、撹拌された。反応器内の空気は窒素に置換された。反応器の温度が88℃で安定したとき、混合物B2が反応器内に充填された。乳化された混合物C2ならびにD2及び混合物E2は反応器に付加され、300分にわたって撹拌された。撹拌は88℃で90分間継続された。反応器の内容物は65℃まで冷却された。混合物F2及びG2が付加された、反応器の内容物は65℃で維持されて1時間撹拌され、その後、反応器の内容物は室温まで冷却された。これによって得たエマルション粒子の直径は、Brookhaven Instruments粒子サイズ分析器BI−90で測定したところ、0.56μmであった。
実施例10(GRIN球体組成物)
本実施例では、段階Iにおいて、実施例9のエマルション内の粒子は膨張させられ、n−ブチルアクリレート、及びアリメタクリレートを使用して、5μmの直径の発散レンズを形成し、その後、段階IIにおいて、メチルメタクリレート及びエチルアクリレートの共重合が行われた。以下の混合物A3〜G3は脱イオン水で調製された。
Figure 0006620086
実施例8の反応器にはA3が添加され、反応器は90℃まで熱され、撹拌された。反応器内の空気は窒素に置換された。反応器の温度が90℃で安定したとき、混合物B3が反応器内に充填された。混合物C3はホモジナイザーを用いて乳化されて、反応器内に充填された。反応器は60℃で1時間撹拌された。混合物D3はホモジナイザーを用いて乳化されて、反応器内に充填された。反応器は、60℃で1時間撹拌された後、65〜70℃まで徐々に熱された一方で、発熱重合が発生する。ピーク温度に達した後、撹拌は継続され、反応器は30分で73℃まで冷却された。混合物F3の半分を充填する。混合物E3、F3の残り、及びG3は、別々に、2時間にわたって反応器内に付加された。温度は73〜75℃で維持され、撹拌が1時間継続された後、反応器は室温まで冷却された。これによって得たエマルション粒子の直径は、Coulter Corporation Multisizer IIE粒子サイズ分析器で測定したところ、5μmであった。
実施例11(単純な球体組成物)
本実施例では、実施例9のエマルション内の粒子が膨張させられ、メチルメタクリレート及びアリメタクリレートを使用して5μmの直径の収束レンズを形成する。以下の混合物A3〜C3はイオン水で調製された。
Figure 0006620086
実施例1の反応器にはA3が添加され、反応器は60℃まで熱され、撹拌された。反応器内の空気は窒素に置換された。反応器の温度が60℃で安定したとき、混合物B3が反応器内に充填された。混合物C3はホモジナイザーを用いて乳化されて、反応器内に充填された。反応器は60℃で1時間撹拌された。混合物D3はホモジナイザーを用いて乳化されて、反応器内に充填された。反応器は、60℃で1時間撹拌された後、80℃まで徐々に熱された一方で、発熱重合が発生する。ピーク温度に達した後、88℃での撹拌は、重合が>92%の転換を示すまで継続した。重合後、反応器は30分で73℃まで冷却された。温度は73〜75℃で維持され、撹拌が1時間継続された後、反応器は室温まで冷却された。これによって得たエマルション粒子の直径は、Coulter Corporation Multisizer IIE粒子サイズ分析器で測定したところ、5μmであった。
上述の重合スキームから得た5ミクロンの球体は、Zeiss Jenaval干渉顕微鏡(250−CF Series JENA)を用いた、干渉顕微鏡試験法分析された。各球体の範囲の屈折率の変動が正確に測定され以上に示された。粒子は、本明細書中に記載される同じシード粒子の膨張/重合プロセスを利用して生成され、2μmの平均粒子サイズを有し、上述のZeiss Jenaval Interphako干渉顕微鏡を使用して周知の分析技術を用いて分析され、粒子の中心から表面までの屈折率が測定される。当業者は、同じシード粒子の膨張/重合プロセスよって生成されたより小さな粒子の屈折率の特性が、段階的に同じ変化を示すことを予測し、平均直径が0.3〜1.9μmの所定の粒子によって示された屈折率プロフィールを、同じ方法で生成され、同じ組成物を有する5μmの粒子によって示された屈折率プロフィールに基づいて測定可能であることを認識するであろう。
Figure 0006620086
Ttは可視光の透過パーセントである(ASTM D 10003−00に従って測定された)。
YIは黄色さインデックスである(ASTM E 313−00に従って測定された)。
曇り度はASTM D 10003−00に従って測定された。

Claims (8)

  1. (a)0.75〜15μmの平均粒子直径、ここで前記平均粒子直径はCoulter
    カウンターを用いて測定される粒子サイズ分布の中央値として定義される、及び(b)前
    記粒子の中心から表面まで連続的に変化する屈折率を有するポリマー粒子であって、表面
    より高い屈折率を中心に有するポリマー粒子と、ポリオレフィンを含む連続ポリマー相と
    を含むフィルムであって、ナトリウムD線の589.29nmの波長を有する光を用いて
    測定された前記ポリマー粒子の表面の平均屈折率と、ナトリウムD線の589.29nm
    の波長を有する光を用いて測定した前記連続ポリマー相の平均屈折率の間の差が0.02以下である、前記フィルム。
  2. 前記平均粒子直径が1.5〜10μmである、請求項に記載の前記フィルム。
  3. 前記ポリマー粒子が1.45〜1.53の屈折率を有する、請求項に記載の前記フィルム。
  4. 前記ポリオレフィンが、2〜8個の炭素原子を有するアルケンのポリマーまたはコポリマーを含む、請求項に記載の前記フィルム。
  5. (a)アクリルモノマーの少なくとも70重量%のポリマー残基(b)0.75〜15μmの平均粒子直径、ここで前記平均粒子直径はCoulterカウンターを用いて測定される粒子サイズ分布の中央値として定義される、及び(c)前記粒子の中心から表面まで連続的に変化する屈折率を有する、0.5〜15重量%のポリマー粒子であって、前記ポリマー粒子の前記中心の前記屈折率が1.52〜1.60であり、前記表面の前記屈折率が1.46〜1.52であるポリマー粒子;並びに、
    2〜8個の炭素原子を有するアルケンのポリマーまたはコポリマーである、少なくとも85重量%のポリオレフィンを含む連続ポリマー相;
    を含むフィルムであって、ナトリウムD線の589.29nmの波長を有する光を用いて測定された前記ポリマー粒子の表面の平均屈折率と、ナトリウムD線の589.29nmの波長を有する光を用いて測定した連続ポリマー相の平均屈折率の間の差が0.02以下である、前記フィルム。
  6. 前記連続ポリマー相が1〜12重量%の前記ポリマー粒子を含む、請求項1〜のいずれか1項に記載の前記フィルム。
  7. 前記平均粒子直径が2〜8μmである、請求項に記載の前記フィルム。
  8. 前記ポリマー粒子が、アクリルモノマー及びスチレンモノマーの少なくとも80%のポリマー残基を含む、請求項に記載の前記フィルム。
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Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08225689A (ja) 1994-12-21 1996-09-03 Sumitomo Chem Co Ltd 延伸フィルム用ポリプロピレン系樹脂組成物およびその延伸フィルム
JPH1121413A (ja) * 1997-07-02 1999-01-26 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd シクロオレフィン系共重合体樹脂組成物及びその製造方法
JP3358520B2 (ja) * 1997-12-09 2002-12-24 住友化学工業株式会社 ポリオレフィン改質用微粒子
CN100375908C (zh) 2003-06-18 2008-03-19 旭化成株式会社 抗反射膜
JP2007031494A (ja) * 2005-07-22 2007-02-08 Furukawa Electric Co Ltd:The ウエハ貼着用粘着シート
DE102005047614A1 (de) * 2005-10-05 2007-04-12 Bayer Materialscience Ag Licht streuende Kunststoffzusammensetzung mit hoher Helligkeit und deren Verwendung in Flachbildschirmen
US7829626B2 (en) 2006-03-15 2010-11-09 Rohm And Haas Company Aqueous compositions comprising polymeric duller particle
US7615283B2 (en) * 2006-06-13 2009-11-10 3M Innovative Properties Company Fluoro(meth)acrylate polymer composition suitable for low index layer of antireflective film
JP4281785B2 (ja) 2006-08-28 2009-06-17 住友化学株式会社 光拡散板
TWI386448B (zh) * 2007-01-26 2013-02-21 Rohm & Haas 光散射組成物
TW200844174A (en) * 2007-03-30 2008-11-16 Jsr Corp Particles for anti-glare film, process for producing the same, and a composition containing particles for anti-glare film
JP2009073960A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 光学用フィルム
US7768602B2 (en) 2007-10-16 2010-08-03 Rohm And Haas Company Light diffusing article with GRIN lenses
EP2431423A3 (en) * 2010-09-21 2013-07-10 Rohm and Haas Company Anti-reflective coatings
EP2431422A3 (en) * 2010-09-21 2013-07-10 Rohm and Haas Company IR - reflecting compositions
JP2014038180A (ja) * 2012-08-15 2014-02-27 Konica Minolta Inc 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び液晶表示装置

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