JP6588989B2 - タッチセンサ用導電積層体および三次元形状を有するタッチセンサ用導電積層体の製造方法 - Google Patents
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Description
また、この発明は、このようなタッチセンサ用導電積層体の製造方法にも関している。
また、電子機器の操作性の向上が追求される中、タッチセンサにおいても、三次元形状に対応し得るものが要求され、可撓性の透明な絶縁基板上に検出電極部が形成されたタッチセンサの開発が進められている。
例えば、特許文献1には、金属メッシュ電極を用い、三次元形状に屈曲させたタッチセンサが開示されている。
しかしながら、タッチセンサを三次元形状に成形する際に、検出電極部および周辺配線部を延伸させることとなるが、紫外線硬化型のインクを用いて加飾層を形成すると、延伸時に検出電極部および周辺配線部等の導電部材の断線、加飾層の割れおよび剥離等の故障を発生して、タッチセンサとしての信頼性および品質の低下を招くおそれがある。
また、この発明は、このようなタッチセンサ用導電積層体の製造方法を提供することも目的としている。
R(%)=[(破断時の長さ−延伸前の長さ)/延伸前の長さ]×100
で表される延伸率Rが10〜400%であり、温度200℃、加飾層の延伸率R=20%の条件で加熱延伸する前後における導電層の抵抗値の変化率が2.0以下である。
導電層は、基板の両面上にそれぞれ形成される場合に、加飾層は、基板の一方の面上における導電層上に形成することができる。
R(%)=[(破断時の長さ−延伸前の長さ)/延伸前の長さ]×100
で表される延伸率Rが10〜400%であり、温度200℃、加飾層の延伸率R=20%の条件で加熱延伸する前後における導電層の抵抗値の変化率が2.0以下である。
紫外線硬化性インクは、ガラス転移温度が25℃〜100℃のポリマーを含有していることが好ましい。
R(%)=[(破断時の長さ−延伸前の長さ)/延伸前の長さ]×100で表される延伸率Rが10〜400%であるので、紫外線硬化樹脂からなる加飾層を有し且つ三次元形状に成形されながらも信頼性および品質の低下を防止することが可能となる。
図1に、この発明の実施の形態に係るタッチセンサ用導電積層体の構成を示す。このタッチセンサ用導電積層体は、透明基板1を有し、透明基板1の中央にタッチセンサの検知領域となるアクティブエリアS1が区画され、かつ、アクティブエリアS1の外側に周辺領域S2が区画されている。
同様に、透明基板1の裏面1B上には、アクティブエリアS1内に、それぞれ第2の方向D2に沿って延び且つ第1の方向D1に並列配置された複数の第2電極13が形成され、周辺領域S2に、複数の第2電極13に接続された複数の第2周辺配線14が互いに近接して配列されている。
これら複数の第1周辺配線12および複数の第2周辺配線14により、周辺配線部が形成されている。
加飾層2は、例えば、例えば不透明な紫外線硬化樹脂から形成され、透明基板1の表面1A側から見たときに、周辺領域S2に配置された第1周辺配線12等が加飾層2により隠れた状態となる。これに対して、加飾層2が存在しないアクティブエリアS1は、透明である。
このタッチセンサ用導電積層体は、タッチセンサを構成したときに、透明基板1の表面1Aがタッチセンサの視認側を向くように使用される。
R(%)=[(破断時の長さ−延伸前の長さ)/延伸前の長さ]×100 ・・・(1)
で表される延伸率Rが10〜400%となる。
ここで、引っ張り試験は、図4に示されるように、透明基板1の表面1Aの全面上に加飾層2を形成したものを例えば5cm×2cmの大きさに切り抜いて作製した試験片に対して、引っ張り試験機(テンシロン(商品名)、(株)島津製作所製)を用いて温度180℃、引っ張り速度50mm/分の条件で引っ張り、加飾層2が破断したときの試験片の長さを測定することにより実施することができる。測定された破断時の試験片の長さと、試験前の長さすなわち延伸前の長さ5cmを上記の式(1)に代入することによって延伸率Rが得られる。
金属ナノワイヤの材料としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、またはこれらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀、および銀との合金が好ましい。
金属ナノワイヤの形状は、例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができる。この中でも、円柱状や断面の多角形の角が丸まっている断面形状であれば、高い透明性が得られるので、タッチセンサのアクティブエリアS1内に配置される第1電極11および第2電極13を形成するのに好ましい。
金属ナノワイヤの平均長軸長さは、1μm〜50μmが好ましく、5μm〜45μmがより好ましく、10μm〜40μmがさらに好ましい。
金属ナノワイヤの製造方法としては、特開2009−215594号公報、特開2009−242880号公報、特開2009−299162号公報、特開2010−84173号公報、特開2010−86714号公報などに記載の方法を用いることができる。
金属ナノチューブの材料としては、特に制限はなく、いかなる金属であってもよく、例えば、上記の金属ナノワイヤの材料を使用することができる。
金属ナノチューブの形状としては、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性および熱伝導性に優れる点で単層が好ましい。
金属ナノチューブの厚み(外径と内径との差)は、3nm〜80nmが好ましく、3nm〜30nmがより好ましい。
金属ナノチューブの平均長軸長さは、1μm〜40μmが好ましく、3μm〜35μmがより好ましく、5μm〜30μmがさらに好ましい。
カーボンナノチューブ(CNT)は、グラファイト状炭素原子面(グラフェンシート)が、単層あるいは多層の同軸管状になった物質である。カーボンナノチューブは、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性および熱伝導性に優れる点で単層が好ましい。
なお、「(メタ)アクリレート」等は、「アクリレートおよび/またはメタクリレート」等と同義であり、「(メタ)アクリル」等は、「アクリルおよび/またはメタクリル」等と同義であり、以下同様とする。
紫外線硬化性インクに含まれる成分は、上述した所定のR(%)を示す加飾層が得られれば特に制限されないが、重合性基を有する化合物(重合性化合物)および重合開始剤を含有していることが好ましい。
重合性基を有する化合物中の重合性基の種類は特に制限されず、公知の基が挙げられ、例えば、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が挙げられ、反応性の点から、ラジカル重合性基が好ましい。ラジカル重合性基としては、例えば、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基、ビニル基、スチリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基などが挙げられる。
(成分A)N−ビニルカプロラクタム
(成分B)芳香環を有する単官能アクリレート
(成分C)脂肪族炭化水素環を有する単官能アクリレート
L1は単結合、アルキレンオキシ基またはポリアルキレンオキシ基であることが好ましく、単結合またはアルキレンオキシ基であることがより好ましく、エチレンオキシ基であることが特に好ましい。
成分Bの含有量は、紫外線硬化性インクの全質量に対し、10〜70質量%であることが好ましく、20〜50質量%であることがより好ましい。
L2は単結合、アルキレンオキシ基またはポリアルキレンオキシ基であることが好ましく、単結合またはアルキレンオキシ基であることがより好ましく、単結合であることが特に好ましい。
成分Cの含有量は、紫外線硬化性インクの全質量に対し、2〜40質量%であることが好ましく、5〜30質量%であることがより好ましく、10〜20質量%であることが更に好ましい。
重合開始剤としては、(a)芳香族ケトン類、(b)アシルホスフィン化合物、(c)芳香族オニウム塩化合物、(d)有機過酸化物、(e)チオ化合物、(f)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(g)ケトオキシムエステル化合物、(h)ボレート化合物、(i)アジニウム化合物、(j)メタロセン化合物、(k)活性エステル化合物、(l)炭素ハロゲン結合を有する化合物、および、(m)アルキルアミン化合物等が挙げられる。これらの化合物を単独若しくは組み合わせて使用してもよい。また、例えば、(a)芳香族ケトン類の中から複数の種類を併用することもできる。
例えば、紫外線硬化性インクは、ガラス転移温度(Tg)が25℃〜100℃であるポリマーを含有することが好ましい。なお、上記ポリマーのガラス転移温度は、35℃〜95℃であることが好ましく、60℃〜90℃であることがより好ましい。
上記ポリマーのガラス転移温度(Tg)が上記範囲内であれば、インクジェット吐出性、基板への密着性および得られる加飾印刷物の耐ブロッキング性に優れ、また、真空成形後のトリミング加工時における後加工割れを抑制することができ、本発明の効果がより優れる。
また、ポリマーのガラス転移温度(Tg)は、実測によって得られる測定Tgを適用するものとする。具体的には、測定Tgは、エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)製の示差走査熱量計(DSC)EXSTAR6220を用いて通常の測定条件で測定された値を用いることができる。
ただし、ポリマーの分解等により測定が困難な場合は、下記計算式で算出される計算Tgを適用する。計算Tgは、下記の式(T)で計算する。
1/Tg=Σ(Xi/Tgi) ・・・(T)
ここで、計算対象となるポリマーはi=1からnまでのn種のモノマー成分が共重合しているとする。Xiはi番目のモノマーの重量分率(ΣXi=1)、Tgiはi番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度(絶対温度)である。ただしΣはi=1からnまでの和をとる。なお、各モノマーの単独重合体ガラス転移温度の値(Tgi)はPolymer Handbook(3rd Edition)(J.Brandrup, E.H.Immergut著(Wiley-Interscience、1989))の値を採用する。
(メタ)アクリル樹脂としては、(メタ)アクリレート化合物の単独重合体であっても、共重合体であってもよいが、Tgのコントロールが容易であり、インクへの相溶性が良好であり、また、安価であるという観点から、単官能(メタ)アクリレート化合物の単独重合体または共重合体であることが好ましく、2種以上の単官能(メタ)アクリレート化合物の共重合体であることがより好ましく、メチルメタクリレートと単官能(メタ)アクリレート化合物との共重合体であることが更に好ましい。
また、上記ポリマーは、不活性な(メタ)アクリル樹脂であることが好ましい。本発明における、「不活性な(メタ)アクリル樹脂」とは、(メタ)アクリル樹脂が、更に連鎖重合反応可能な重合性の官能基をもたない、並びに、更に逐次架橋反応可能な架橋性および/または被架橋性の官能基をもたない重合体であることを意味する。すなわち、重合反応および架橋反応を実質的に生じない状態のアクリル樹脂を指す。
ポリマーの含有量は、紫外線硬化性インクの全質量に対し、1〜8質量%であることが好ましく、2〜6質量%であることがより好ましく、3〜5質量%であることがさらに好ましい。
上記シリコーン化合物は、(メタ)アクリレート基と、ポリエーテル部位と、ポリシロキサン部位とを有する化合物であれば、特に制限はないが、分子量が500以上の化合物であることが好ましく、分子量(重量平均分子量)が1,000以上の化合物であることがより好ましい。
シリコーン化合物が有する(メタ)アクリレート基は、4〜6個であることが好ましい。
また、シリコーン化合物におけるポリエーテル部位とポリシロキサン部位の質量比率としては、ポリエーテル部位:ポリシロキサン部位=1:1〜1:2の範囲であることが好ましい。
シリコーン化合物における(メタ)アクリレート基の結合位置は、特に制限はなく、主鎖であっても、側鎖であってもよい。
また、シリコーン化合物におけるポリエーテル変性の位置は、特に制限はなく、主鎖の片末端であっても、両末端であってもよいし、側鎖であってもよい。
シリコーン化合物が有するポリエーテル部位は、ポリアルキレンオキシ基であることが好ましい。
また、シリコーン化合物は、ポリジメチルシロキサン化合物であることが好ましい。
シリコーン化合物の含有量は、紫外線硬化性インクの全質量に対し、0.1〜10質量%であることが好ましく、0.5〜4質量%であることがより好ましく、0.5〜3質量%であることが更に好ましい。
用いることができる顔料としては、特に制限はなく、公知の顔料から任意に選択して使用することができる。上記顔料は、活性放射線による硬化反応の感度を低下させないという観点からは、硬化反応である重合反応において重合禁止剤として機能しない化合物を選択することが好ましい。
顔料としては、特に限定されるわけではないが、例えば、カラーインデックスに記載される番号の有機又は無機顔料が使用できる。例えば、赤又はマゼンタ顔料、青又はシアン顔料、緑顔料、黄顔料、黒顔料、白色顔料などが挙げられる。
顔料の含有量は、色、及び使用目的により適宜選択されるが、紫外線硬化性インクの全質量に対し、0.01〜30重量%であることが好ましい。
なお、紫外線硬化性インクにおいては、成分A〜成分Cおよびシリコーン化合物以外の他の重合性化合物を併用することが可能であるが、他の重合性化合物は含有しないことが好ましい。
例えば、透明基板1の表面1Aおよび裏面1Bのうちの一方の面上に、複数の第1電極11と複数の第2電極13が層間絶縁膜を介して配置され、かつ、透明基板1の同じ面上に複数の第1周辺配線12および複数の第2周辺配線14が配置される構成とし、視認側となる透明基板1の表面1A上の周辺領域S2に加飾層2を形成することもできる。
また、2枚基板の構成とすることもできる。すなわち、第1の透明基板の表面上に複数の第1電極11と複数の第1周辺配線12を配置し、第2の透明基板の表面上に複数の第2電極13と複数の第2周辺配線14を配置し、これら第1の透明基板および第2の透明基板を、互いに重ね合わせて使用することもできる。この場合は、第1の透明基板および第2の透明基板のうち視認側に位置する透明基板の周辺領域S2に加飾層2を形成すればよい。
上記の実施の形態のように、不透明な紫外線硬化樹脂から形成された加飾層2を周辺領域S2にのみ形成した場合には、タッチセンサを液晶表示装置等の表示装置と組み合わせて使用することによって、表示装置の表示画面にアクティブエリアS1の全体を重ねて配置し、検知電極部の全部を表示画面内における検知手段として作用させることができる。
また、タッチセンサを表示装置と組み合わせることなく単独で使用するために、透明な領域を形成する必要がない場合には、タッチセンサのアクティブエリアS1と周辺領域S2の全面を不透明な紫外線硬化樹脂から形成された加飾層2で覆い、周辺領域S2に配置されている周辺配線部とアクティブエリアS1に配置されている検知電極部のすべての上に加飾層2を形成することができる。
<顔料分散物の作製>
下記表1に記載の顔料以外の組成を混合し、SILVERSON社製ミキサーで撹拌し(10〜15分、2,000〜3,000回転/分)、均一な透明液(分散剤希釈液)を得た。この透明液(分散剤希釈液)に下記表1に記載の顔料を加え、更にミキサーで撹拌し(10〜20分、2,000〜3,000回転/分)、均一な予備分散液を500質量部得た。その後、ディスパーマット社製の循環型ビーズミル装置(SL−012C1)を用いて分散処理を実施した。分散条件は直径0.65mmのジルコニアビーズを200質量部充填し、周速を15m/秒とした。分散時間は1〜6時間とした。
シアン顔料:C.I.Pigment Blue 15:4、HELIOGEN BLUE D 7110 F、BASF社製、
マゼンタ顔料:混結キナクリドン顔料、CINQUASIA MAGENTA L 4540、BASF社製、
イエロー顔料:C.I.Pigment Yellow 155、INK JET YELLOW 4GC、Clarinat社製、
ブラック顔料:カーボンブラック、MOGUL E、CABOT社製、
ホワイト顔料:TiO2、KRONOS 2300、KRONOS社製、
分散剤A:SOLSPERSE 32000、Luburizol社製、
分散剤B:SOLSPERSE 41000、Luburizol社製、
禁止剤:ニトロソ系重合禁止剤、トリス(N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミン)アルミニウム塩、FLORSTAB UV12、Kromachem社製、
モノマー:2−フェノキシエチルアクリレート、SR339C、Sartomer社製。
n−ブチルメタクリレート10gとメチルメタクリレート10gとの混合液20g、メチルエチルケトン30gを窒素置換した三口フラスコに導入し、撹拌機(新東科学(株)製スリーワンモータ)にて撹拌し、窒素をフラスコ内に流しながら加熱して65℃まで昇温した。
1段階目:上記の混合液に2,2−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル(V−65、和光純薬工業(株)製)を80mgだけ加え、65℃にて30分加熱撹拌を行った。
2段階目:V−65を80mgだけ加え、65℃にて更に1時間加熱撹拌した。
得られた反応液をヘキサン1,000mLに撹拌しながら注ぎ、生じた沈殿を加熱乾燥させることでポリマー1を得た。ポリマー1のガラス転移温度(Tg)は、70℃である。ポリマー1の重量平均分子量(ポリスチレン換算)をGPCにより測定した結果、30,000〜35,000の範囲であった。
下記表2に記載の組成のうち、重合開始剤、顔料分散物以外の成分をSILVERSON社製ミキサーで撹拌し(60分、3,000〜5,000回転/分)、均一な透明液を得た。この透明液に、重合開始剤(ITX、TPO、Irg819)および顔料分散物を添加、撹拌し(10〜20分、2,000〜3,000回転/分)、溶剤系のインクセットN1を得た。
PEA(2−フェノキシエチルアクリレート、SR339C、Sartomer社製)、
IBOA(イソボルニルアクリレート、SR506D、Sartomer社製)、
NVC(N−ビニルカプロラクタム、BASF社製)、
OH−TEMP(4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 1−オキシル、4−HYDROXY TEMPO、Evonik社製)、
ITX(イソプロピルチオキサントン、SPEEDCURE ITX、Lambson社製)、
TPO(2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、LUCIRIN TPO、BASF社製)、
Irg819(ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、IRGACURE 819、BASF社製)、
TEGORAD2010(ポリエーテル変性シリコーン化合物 アクリレート基数=5、Evonik社製)。
得られたインクセットN1を、透明基板(ポリカーボネート(PC)フィルム、膜厚500μm、帝人化成(株)社製、商品名:パーンライト)の表面に、ピエゾ型インクジェットノズルを有する市販インクジェットプリンタ(富士フイルム(株)製Acuity350)を用いて付与し、透明基板の表面全体を5色フルカラーのインクで描画した、いわゆる、ベタ画像を形成した。
インク供給系は、元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルタ、ピエゾ型のインクジェットヘッドから成り、インク供給タンクからインクジェットヘッド部分までを断熱および加温した。インク供給タンクおよびインクジェットヘッドのノズル付近にそれぞれ温度センサを配置し、ノズル部分が常に40℃±2℃となるように温度制御を行った。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、1〜10plのマルチサイズドットを600×600dpi(ドット/インチ)の解像度で射出できるよう駆動した。
その後、乾燥処理を行うことによりインク画像を定着させて、透明基板の表面全体を5色フルカラーで描画した平均膜厚が30μmの加飾層を形成した。乾燥処理は、透明基板の画像非形成面(インク画像が形成された側と反対側の面)から60℃5分間の乾燥工程、透明基板の画像形成面(インク画像が形成された側の面)から、90℃5分間の乾燥工程を行った。
これにより、実施例1の加飾層付き透明基板を作製した。
<インクセットN2の作製(モノマー組成)>
下記表3に記載の組成のうち、重合開始剤、顔料分散物以外の成分をSILVERSON社製ミキサーで撹拌し(60分、3,000〜5,000回転/分)、均一な透明液を得た。この透明液に、重合開始剤および顔料分散物を添加、撹拌し(10〜20分、2,000〜3,000回転/分)、溶剤系のインクセットN2を得た。
インクセットN1の代わりにインクセットN2を使用する他は、実施例1と同様にして、実施例2の加飾層付き透明基板を作製した。
TEGORAD2200(ポリエーテル変性シリコーン化合物 アクリレート基数=2、Evonik社製)。
ポリカーボネート(PC)フィルムからなる透明基板の代わりにポリエチレンテレフタレート(PET、厚さ:1.00mm、Falcon Petg、Robert Horne社製)からなる透明基板を用いる他は、実施例1と同様にして、実施例3の加飾層付き透明基板を作製した。
ポリカーボネート(PC)フィルムからなる透明基板の代わりにシクロオレフィンポリマーフィルム(COP、厚み100μm、ゼオノアフィルムZF14-100、日本ゼオン社製)からなる透明基板を用いる他は、実施例1と同様にして、実施例4の加飾層付き透明基板を作製した。
いわゆる銀塩法を用いて、感光性銀塩含有層を有する感光材料を露光・現像することにより、実施例1で用いられたポリカーボネート(PC)フィルムからなる透明基板の表面上および裏面上に、それぞれ、金属細線からなるメッシュパターンを有する導電層を形成した。なお、銀塩法の具体的な作業等は、特開2009−4348号公報の段落0163〜0241に詳述されている。
上記の導電層が形成された透明基板の表面上に、ピエゾ型インクジェットノズルを有する市販インクジェットプリンタ(富士フイルム(株)製Acuity350)を用いて、実施例1で用いられたインクセットN1を付与し、その後、乾燥処理を行うことにより加飾層を形成して、実施例5のタッチセンサ用導電積層体を作製した。
インクセットN1の代わりに実施例2で用いられたインクセットN2を使用する他は、実施例5と同様にして、実施例6のタッチセンサ用導電積層体を作製した。
銀塩法により形成された導電層の代わりに、例えば特開2013−77234号公報の段落0048〜0060に記載されている銀ナノワイヤを用いて、透明基板の表面上および裏面上に、それぞれ、導電層を形成する他は、実施例5と同様にして、実施例7のタッチセンサ用導電積層体を作製した。
銀塩法により形成された導電層の代わりに、例えば特開2013−77234号公報の段落0066に記載されているカーボンナノチューブ(CNT)を用いて、透明基板の表面上および裏面上に、それぞれ、導電層を形成する他は、実施例5と同様にして、実施例8のタッチセンサ用導電積層体を作製した。
ポリカーボネート(PC)フィルムからなる透明基板の代わりにポリエチレンテレフタレート(PET、厚さ:1.00mm、Falcon Petg、Robert Horne社製)からなる透明基板を用いる他は、実施例5と同様にして、実施例9のタッチセンサ用導電積層体を作製した。
ポリカーボネート(PC)フィルムからなる透明基板の代わりにシクロオレフィンポリマーフィルム(COP、厚み100μm、ゼオノアフィルムZF14-100、日本ゼオン社製)からなる透明基板を用いる他は、実施例5と同様にして、実施例10のタッチセンサ用導電積層体を作製した。
<ポリマー2の合成>
t−ブチルメタクリレート20g、メチルエチルケトン30gを窒素置換した三口フラスコに導入し、撹拌機(新東科学(株)製スリーワンモータ)にて撹拌し、窒素をフラスコ内に流しながら加熱して65℃まで昇温した。
1段階目:上記の混合液に2,2−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル(V−65、和光純薬工業(株)製)を80mgだけ加え、65℃にて30分加熱撹拌を行った。
2段階目:V−65を80mgだけ加え、65℃にて更に1時間加熱撹拌した。
得られた反応液をヘキサン1,000mLに撹拌しながら注ぎ、生じた沈殿を加熱乾燥させることによってポリマー2を得た。ポリマー2のガラス転移温度(Tg)は、107℃である。
下記表4に記載の組成のうち、重合開始剤、顔料分散物以外の成分をSILVERSON社製ミキサーで撹拌し(60分、3,000〜5,000回転/分)、均一な透明液を得た。この透明液に、重合開始剤および顔料分散物を添加、撹拌し(10〜20分、2,000〜3,000回転/分)、溶剤系のインクセットN3を得た。インクセットN3の各色インク組成物におけるポリマー2の濃度は2質量%である。
インクセットN1の代わりにインクセットN3を使用する他は、実施例1と同様にして、比較例1の加飾層付き透明基板を作製した。
<ポリマー3の合成>
n−ブチルメタクリレート20g、メチルエチルケトン30gを窒素置換した三口フラスコに導入し、撹拌機(新東科学(株)製スリーワンモータ)にて撹拌し、窒素をフラスコ内に流しながら加熱して65℃まで昇温した。
1段階目:上記の混合液に2,2−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル(V−65、和光純薬工業(株)製)を80mgだけ加え、65℃にて30分加熱撹拌を行った。
2段階目:V−65を80mgだけ加え、65℃にて更に1時間加熱撹拌した。
得られた反応液をヘキサン1,000mLに撹拌しながら注ぎ、生じた沈殿を加熱乾燥させることによってポリマー3を得た。ポリマー3のガラス転移温度(Tg)は、20℃である。
インクセットN1の代わりに比較例1で用いられたインクセットN3を使用すると共に、ポリカーボネート(PC)フィルムからなる透明基板の代わりにポリエチレンテレフタレート(PET、厚さ:1.00mm、Falcon Petg、Robert Horne社製)からなる透明基板を用いる他は、実施例5と同様にして、比較例3のタッチセンサ用導電積層体を作製した。
インクセットN1の代わりに比較例2で用いられたインクセットN4を使用すると共に、ポリカーボネート(PC)フィルムからなる透明基板の代わりにポリエチレンテレフタレート(PET、厚さ:1.00mm、Falcon Petg、Robert Horne社製)からなる透明基板を用いる他は、実施例5と同様にして、比較例4のタッチセンサ用導電積層体を作製した。
評価結果Aは、FinerArt Lamp強度5においてベトツキがないことを示している。
実施例1〜4および比較例1および2のいずれにおいても、硬化性の評価結果がAとなり、ベトツキを生じない十分な硬化性を示していることが確認された。
評価結果Aは、JIS K5600−5−6(ISO2409)に基づく0点を示し、評価結果Bは、JIS K5600−5−6(ISO2409)に基づく1点を示している。
実施例1〜4および比較例1および2のいずれにおいても、密着性の評価結果がAまたはBとなり、優秀な密着性あるいは良好な密着性を示していることが確認された。
比較例1は、評価結果がCとなり、加飾層の割れが発生し、比較例2は、評価結果がAAとなり、加飾層の加熱時延伸性が400%を越え、加飾層の膜厚が不均一な状態であり、比較例1および2のいずれも、三次元形状に成形するには問題があることがわかる。
また、導電層の抵抗値については、上記の実施例5〜10および比較例3および4により作製されたタッチセンサ用導電積層体における加飾層と同じ側である透明基板の表面上に形成された複数の第1電極の両端の抵抗値を全電極で測定し、温度200℃、延伸率20%の条件で加熱延伸する前後の抵抗値の変化率により評価した。
また、実施例5〜10および比較例3および4のいずれにおいても、密着性の評価結果がAまたはBとなり、優秀な密着性あるいは良好な密着性を示していることが確認された。
加熱時延伸性については、実施例5〜10の評価結果がいずれもAまたはBとなり、三次元形状に成形する際に加飾層が十分な加熱時延伸性を有することが確認された。
比較例3は、評価結果がCとなり、加飾層の割れが発生し、比較例4は、評価結果がAAとなり、加飾層の加熱時延伸性が400%を越え、加飾層の膜厚が不均一な状態であり、比較例3および4のいずれも、三次元形状に成形するには問題があることがわかる。
これに対して、比較例3および4の導電層の抵抗値に関する評価結果がいずれもCとなった。すなわち、比較例3および4のタッチセンサ用導電積層体を用いると、複数の電極に対してそれぞれ設定を補正しても誤作動が生じてしまい、実用的なタッチセンサを構成することが困難であることがわかる。
Claims (7)
- 三次元形状に成形されるタッチセンサ用導電積層体であって、
透明な基板と、
前記基板の少なくとも一方の面上に形成された導電層と、
前記導電層の上に形成された紫外線硬化樹脂からなる加飾層と
を備え、前記加飾層は、温度180℃の雰囲気中で引っ張り試験を行ったときに
R(%)=[(破断時の長さ−延伸前の長さ)/延伸前の長さ]×100
で表される延伸率Rが10〜400%であり、
温度200℃、前記加飾層の前記延伸率R=20%の条件で加熱延伸する前後における前記導電層の抵抗値の変化率が2.0以下であることを特徴とするタッチセンサ用導電積層体。 - 前記導電層は、検知電極部と前記検知電極部に接続された周辺配線部を有し、
前記加飾層は、前記周辺配線部の上に形成される請求項1に記載のタッチセンサ用導電積層体。 - 前記導電層は、検知電極部と前記検知電極部に接続された周辺配線部を有し、
前記加飾層は、前記検知電極部の少なくとも一部と前記周辺配線部の上に形成される請求項1に記載のタッチセンサ用導電積層体。 - 前記導電層は、前記基板の両面上にそれぞれ形成され、
前記加飾層は、前記基板の一方の面上における前記導電層の上に形成される請求項1〜3のいずれか一項に記載のタッチセンサ用導電積層体。 - 三次元形状を有するタッチセンサ用導電積層体の製造方法であって、
透明な基板の少なくとも一方の面上に導電層を形成する工程と、
前記導電層の上に紫外線硬化樹脂からなる加飾層を形成する工程と、
前記導電層および前記加飾層が形成された前記基板を三次元形状に成形する工程と
を備え、前記加飾層は、温度180℃の雰囲気中で引っ張り試験を行ったときに
R(%)=[(破断時の長さ−延伸前の長さ)/延伸前の長さ]×100
で表される延伸率Rが10〜400%であり、
温度200℃、前記加飾層の前記延伸率R=20%の条件で加熱延伸する前後における前記導電層の抵抗値の変化率が2.0以下であることを特徴とする三次元形状を有するタッチセンサ用導電積層体の製造方法。 - 前記加飾層を形成する工程は、
前記導電層の上に重合性基を有する化合物および重合開始剤を含有する紫外線硬化性インクを打滴する工程と、
打滴された前記紫外線硬化性インクを硬化させる工程と
を含む請求項5に記載の三次元形状を有するタッチセンサ用導電積層体の製造方法。 - 前記紫外線硬化性インクは、ガラス転移温度が25℃〜100℃のポリマーを含有している請求項6に記載の三次元形状を有するタッチセンサ用導電積層体の製造方法。
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