JP6585309B2 - 粒子加速器 - Google Patents

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    • H05H7/10Arrangements for ejecting particles from orbits

Description

本発明は、粒子加速器に関する。
従来、サイクロトロンなどの粒子加速器では、加速されたH粒子の電子を剥ぎ取り、Hの陽子線として粒子加速器の外へ出力するために、フォイルストリッパーが用いられる。特許文献1には、カーボン薄膜から形成されたフォイルと、フォイルを保持するフォイルフォルダと、を備えたサイクロトロン用のストリッピングフォイルが記載されている。
特開平10−256000号公報
上記のような粒子加速器においては、フォイルストリッパーのフォイルは高エネルギーのHの衝突を受けるので、この衝突に伴う発熱によりフォイルが昇華するおそれがある。このため、フォイルは比較的短寿命な消耗品であり、定期的にフォイルの交換を行う必要がある。また、Hビームの電流値が高くなるほどフォイルの寿命が短くなるので、交換の頻度が高くなり、メンテナンスの手間や維持コストが大きくなる。したがって、フォイルの長寿命化が要請されている。
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、フォイルの長寿命化を図ることが可能な粒子加速器を提供することを目的とする。
本発明者らは鋭意研究の結果、次の知見を見出すに至った。すなわち、本発明者らは、一般的な粒子加速器において、フォイルストリッパーのフォイルの寿命が短くなる理由を見出した。フォイルによって剥ぎ取られた電子は、第1磁束密度の影響を受けて加速粒子(負イオン)の周回軌道の内側方向に曲げられて回転し、何度もフォイルを通過する。これにより、電子のエネルギーがフォイルに付与されるため、フォイルが高温になり、フォイルを形成する材質の昇華などが起きてフォイルの寿命が短くなる。
上記の課題を解決するために、本発明の一形態に係る粒子加速器は、互いに対向して配置された一対の磁極と、それぞれの磁極を囲い、一方の磁極から他方の磁極へ向かう第1磁束密度を発生させるコイルと、荷電粒子の周回軌道上に設けられ、荷電粒子から電子を剥ぎ取るフォイルストリッパーと、第1磁束密度と反対の方向へ向かう第2磁束密度を発生させる磁束密度調整部と、を備え、磁束密度調整部は、平面視におけるフォイルストリッパーの位置での磁束密度の絶対値を第1磁束密度の絶対値よりも小さくする。
本発明の一形態に係る粒子加速器は、第1磁束密度と反対の方向へ向かう第2磁束密度を発生させる磁束密度調整部を備えている。この磁束密度調整部は、平面視におけるフォイルストリッパーの周辺に第2磁束密度を発生させることにより、フォイルストリッパーの位置での磁束密度(第1磁束密度及び第2磁束密度の合計)の絶対値を第1磁束密度の絶対値よりも小さくする(磁場を弱くする)。これにより、フォイルストリッパーの位置にて第1磁束密度が発生している場合と比較して、電子が回転する回転半径が大きくなる。したがって、フォイルによって剥ぎ取られた電子が再びフォイルを通過することによってフォイルが高温になることを抑制できる。したがって、フォイルの長寿命化を図ることが可能である。
一形態に係る粒子加速器においては、磁束密度調整部は、コイルによって第2磁束密度を発生させてもよい。この構成によれば、コイルに流す電流を調整することにより、第2磁束密度の大きさを調整することができる。したがって、第2磁束密度を最適な大きさに調整することが可能である。
一形態に係る粒子加速器においては、磁束密度調整部は、磁石によって第2磁束密度を発生させてもよい。この構成によれば、電力の供給を必要とせずに第2磁束密度を発生させることが可能である。
一形態に係る粒子加速器においては、磁束密度調整部は、荷電粒子の周回軌道の外側で電子を回収する回収部を有し、磁束密度調整部は、第1磁束密度の絶対値よりも大きい第2磁束密度を発生させることで、平面視におけるフォイルストリッパーの位置での磁束密度を第1磁束密度と反対向きとする。この構成によれば、フォイルストリッパーの位置での磁束密度(第1磁束密度及び第2磁束密度の合計)の方向は、第1磁束密度の方向と反対向きとなる。故に、フォイルストリッパーによって剥ぎ取られた電子は、荷電粒子(負イオン)の周回軌道の外側方向に曲げられる。これにより、フォイルによって剥ぎ取られた電子が再びフォイルを通過することを抑制できる。また、電子が周回軌道の外側方向に曲げられるので、回収部を周回軌道の外側に配置して電子を回収することが可能である。したがって、フォイルによって剥ぎ取られた電子が再びフォイルを通過することをより確実に抑制することが可能である。
本発明によれば、フォイルの長寿命化を図ることが可能な粒子加速器が提供される。
(a)は一実施形態に係る粒子加速器を概略的に示す図であり、(b)は、(a)のIb-Ib線に沿った断面図である。 図1に示す粒子加速器の作用を模式的に示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)のIIb−IIb線に沿った断面図である。 図1に示す粒子加速器の磁束密度調整部の構成を概略的に示す図である。 (a)は、図3のIVa-IVa線における断面を概略的に示す図であり、(b)は、磁束密度調整部の支持構造を概略的に示す図である。 (a)は比較例に係る粒子加速器のフォイルストリッパー周辺を概略的に示す図であり(b)は(a)のフォイル部分の拡大図である。 図1に示す粒子加速器のフォイルストリッパー周辺を概略的に示す図である。 磁束密度調整部の変形例を概略的に示す図である。 磁束密度調整部の変形例を概略的に示す図である。
以下、図面を参照して種々の実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を付すこととする。
図1及び図2を参照して、本発明の一実施形態に係る粒子加速器について説明する。図1(a)は一実施形態に係る粒子加速器を概略的に示す図であり、図1(b)は、図1(a)のIb-Ib線に沿った断面図である。また、図2は、図1に示す粒子加速器の作用を模式的に示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)のIIb−IIb線に沿った断面図である。粒子加速器100は、例えば、ホウ素中性子捕捉療法(BNCT:Boron Neutoron Capture Therapy)を用いたがん治療を行う中性子捕捉療法システムなどにおいて、負イオンP(荷電粒子)を加速して荷電粒子線を生成するために用いられるサイクロトロンである。また、粒子加速器100は、PET用サイクロトロン、RI製造用サイクロトロン、及び原子核実験用サイクロトロンとして用いることもできる。図1及び図2に示すように、粒子加速器100は、一対の磁極10A,10Bと、それぞれの磁極10A,10Bを囲うコイル20と、負イオンPから電子を剥ぎ取るフォイルストリッパー30と、磁束密度調整部40と、を備えている。また、粒子加速器100は、負イオンPが周回する真空箱50と、磁極10A,10Bの間に配置された一対の加速電極60と、フォイルストリッパー30によって軌道変更された陽子を取り出す出射口51と、を有している。負イオンPは、例えば負イオン源装置(不図示)から真空箱50内に供給される。
磁極10A,10Bは互いに対向して配置されており、その形状は円柱状である。磁極10A,10Bの互いに対向する面は、複数の谷領域(ヴァレー)11と複数の山領域(ヒル)12を含む複数のセクタに分割されており、谷領域11と山領域12とが交互に現れるように形成されている。このような構成により、セクターフォーカシングを利用して真空箱50内で加速する負イオンPの収束を図っている。
コイル20は円環状であり、磁極10A,10Bの周囲を囲うようにそれぞれ配置されている。コイル20に対して電流を供給することにより、一方の磁極10Aから他方の磁極10Bへ向かう第1磁束密度B1(図3参照)が発生する。すなわち、磁極10A(又は磁極10B)及びコイル20によって電磁石が形成されている。
フォイルストリッパー30は、磁極10A,10Bの径方向に沿って延在するストリッパー駆動軸31と、ストリッパー駆動軸31の先端に設けられたフォイル32と、ストリッパー駆動軸31を磁極10A,10Bの径方向に沿って進退自在に駆動するフォイル駆動部33と、を備えている。フォイル駆動部33は高精度のモータ等を備えており、フォイル駆動部33の駆動制御によってストリッパー駆動軸31は10−2mm〜10−1mmの単位で進退し、その結果、フォイル32が負イオンPの周回軌道Kを交差するように進退自在となる。フォイルストリッパー30は、例えば、磁極10A,10Bの谷領域11に配置される。
磁束密度調整部40は、磁極10A,10B及びコイル20が発生させる第1磁束密度B1と反対の方向(他方の磁極10Bから一方の磁極10Aへの方向)へ向かう第2磁束密度B2(図3参照)を発生させる。磁束密度調整部40は、フォイルストリッパー30のフォイル32周辺に第2磁束密度B2(図3参照)を発生するように、磁極10A,10Bの谷領域11に配置される。
真空箱50は、例えば、箱本体(不図示)と箱蓋(不図示)とを有している。真空箱50の底壁部には、一方の磁極10Aの外形と略同径の開口部が設けられており、この開口から、一方の磁極10Aの谷領域11及び山領域12を備える面が、真空箱50内に突出している。また、箱本体には真空排気用の排気口(不図示)が設けられており、この排気口には真空ポンプ(不図示)が接続されている。箱蓋は、真空ポンプによって真空箱50内を真空化できるように、箱本体の上部開口を塞いでいる。箱蓋には、箱本体と同様に、他方の磁極10Bの谷領域11及び山領域12を備える面を真空箱50内に突出させるために、他方の磁極10Bの外形と略同径の開口部が設けられている。
一対の加速電極60は、それぞれ平面視において三角形状をなし、それぞれの頂角を突き合わせるようにして対向配置されている。各加速電極60は、例えば、銅などの電気導体から構成されており、上下に二枚の三角形を底辺で連結して構成されている。そして、加速電極60の板面には、冷却用の冷媒を通すための管が設けられている。
一対の加速電極60は、磁極10A,10Bの谷領域11に位置する。そして、加速電極60の先端部同士が、接続部材により、機械的且つ電気的に接続されている。なお、接続部材の形態は特に限定されず、様々な形状を採用可能である。例えば、一対の加速電極60の先端部同士は電気的に接続されていなくてもよい。この場合、一対の加速電極60に対して別々にRF電極を供給してもよい。
磁極10A(又は磁極10B)の中心位置には、負イオン源装置で生成された負イオンPを真空箱50内に供給するイオン供給口13が設けられている。負イオン源装置は、水素ガスなどの原材料中でアーク放電を行って負イオンPを生成する装置である。負イオン源装置で生成された負イオンPはイオン供給口13を介して真空箱50内に引き込まれるように供給され、高周波の電圧がかけられている加速電極60によって周回しながら加速し、次第にエネルギーを増している。エネルギーが増せば負イオンPの回転半径は大きくなり、螺旋運動をしているような周回軌道Kを描く。周回軌道Kは、一対の磁極10A,10Bの間の中央の平面(メディアンプレーン)上に位置する。なお、負イオン源装置は粒子加速器100の外部に配置されていてもよいし、粒子加速器100の内部に設けられていてもよい。
フォイル32は、例えば炭素製の薄膜からなる。フォイル32は、周回する負イオンPの周回軌道K上に侵入して負イオンPに接触すると、その負イオンPから電子を剥ぎ取る。電子を剥奪されて負電荷から正電荷となった陽子(加速粒子)は、周回軌道Kの曲率が反転し、その軌道が周回軌道Kの外側に飛び出す方向に向けて変更される。反転後の陽子の軌道上には、陽子を真空箱50内から取り出すための出射口51が設けられている。より詳細には、フォイルストリッパー30によって軌道が変更される陽子の軌道上には出射口51が設けられている。したがって、フォイル32は、負イオンPから電子を奪うことで、結果的に陽子を出射口51まで誘導することになる。
続いて、図3及び図4を参照して、磁束密度調整部40の構成について詳細に説明する。図3は、図1に示す粒子加速器の磁束密度調整部の構成を概略的に示す図である。また、図4(a)は、図3のIVa-IVa線における断面を概略的に示す図であり、図4(b)は、磁束密度調整部の支持構造を概略的に示す図である。
図3及び図4に示されるように、磁束密度調整部40は、一対の空芯コイル41A,41Bを有している。空芯コイル41A,41Bは、磁極10Aと磁極10Bとの間に配置されている。空芯コイル41A,41Bのそれぞれは、楕円形の開口42aを有する巻枠42と、巻枠42に巻回されたコイル巻線43を有している。空芯コイル41A,41Bは、磁極10A,10Bが対向する方向(垂直方向)と同じ方向において互いに対向し、空芯コイル41A,41Bの間にフォイルストリッパー30のフォイル32が位置するように配置されている。また、図4(a)に示すように、フォイル32は、巻枠42の開口42aの中心に位置するように配置されている。このように磁束密度調整部40を配置してコイル巻線43に電流を流すことにより、空芯コイル41A,41Bはフォイル32の周辺に効果的に第2磁束密度B2を発生することができる。
空芯コイル41A,41Bは、例えば図4(b)に示すように、磁極10Aの谷領域11に配置された支持台44と、支持台44の上に固定された支持体45とによって支持される。支持体45は、垂直方向に延びる延在部45aと、延在部45aの両端部から垂直方向に交差する方向に延びる一対の固定部45bとを含んでおり、空芯コイル41A,41Bのそれぞれは、固定部45bに固定されている。支持台44及び支持体45は、空芯コイル41A,41B及びフォイルの位置関係を一定に保つために、例えば、フォイルストリッパー30の動作に応じて移動可能に構成することができる。支持台44及び支持体45は、例えばアルミ又はセラミックなどの非磁性材料から形成される。
なお、磁束密度調整部40はフォイル32の周辺に第2磁束密度B2を発生できればよく、空芯コイル41A,41B及びフォイル32の位置関係は上記に限定されない。また、磁束密度調整部40の支持構造も図4(b)に示す構成に限定されず、任意に変更することができる。
次に、図5及び図6を参照して、比較例に係る粒子加速器における電子の軌道と本実施形態に係る粒子加速器における電子の軌道との違いについて説明する。図5(a)は比較例に係る粒子加速器のフォイルストリッパー周辺を概略的に示す図であり、図5(b)は、図5(a)のフォイル部分の拡大図である。また、図6は、図1に示す粒子加速器のフォイルストリッパー周辺を概略的に示す図である。
図5(a)及び図5(b)に示すように、フォイル32が周回軌道K上に侵入して負イオンPと接触すると、負イオンPから電子が剥ぎ取られ、負イオンPが陽子となる。陽子は、周回軌道Kの外側方向へ曲がる軌道Lを描きながら出射口51(図2参照)から出射される。このとき、フォイル32の位置における磁束密度Bは第1磁束密度B1であり、負イオンPから剥ぎ取られた電子は、第1磁束密度B1によって周回軌道Kの内側方向へ曲げられ、軌道Mを描く。電子の軌道Mは回転半径が小さいので、電子はフォイル32を再度通過することとなる。これにより、電子のエネルギーがフォイル32に付与されるので、フォイル32が高温になり、フォイルの寿命が短くなる。一例として、70MeVのH(負イオンP)サイクロトロンにおいて第1磁束密度B1が1Tの場合、電子のエネルギーは約38keVである。フォイル32として120μg/cmのグラファイトを用いた場合、電子がフォイル32を通過する際に約1keVのエネルギーが付与される。このような条件下において、電子の軌道Mの回転半径は約0.7mmであるので、電子は回転して何度もフォイル32を通過することとなり、最大で約38keVのエネルギーがフォイル32に付与される可能性がある。
これに対し、図6に示すように、粒子加速器100においては、磁束密度調整部40によってフォイル32の周辺に第2磁束密度B2が発生しているので、フォイル32の位置における磁束密度Bは第1磁束密度B1及び前記第2磁束密度B2の合計である。第1磁束密度B1と第2磁束密度B2とは互いに反対方向へ向かうので、互いに打ち消しあう。これにより、第1磁束密度B1が第2磁束密度B2に打ち消され、第2磁束密度B2が第1磁束密度B1に打ち消され、あるいは互いに相殺される。従って、第2磁束密度B2の絶対値が第1磁束密度B1の絶対値の2倍より小さければ、磁束密度Bの絶対値は、第1磁束密度B1の絶対値よりも小さくなる。図6では、第2磁束密度B2の絶対値が第1磁束密度B1の絶対値以下である場合を示している。このように、磁束密度Bの絶対値を第1磁束密度B1の絶対値以下とすることにより、電子の軌道Mの回転半径が大きくなるので、電子がフォイル32を再度通過することを抑制することができる。一例として、上記の例と同じ条件とした場合、磁束密度調整部40によってフォイル32の位置における磁束密度B(第1磁束密度B1及び第2磁束密度B2の合計)を10mT程度に小さくすると、電子の軌道Mの回転半径は約67mmとなる。
なお、電子の軌道Mの回転半径は、負イオンPとフォイル32とが接触する位置からフォイル32の端部までの距離よりも大きいことが好ましい。このように第2磁束密度B2を設定することにより、電子がフォイル32を再度通過することをより確実に抑制することができる。また、磁束密度調整部40によってフォイル32の周辺には磁束密度Bの勾配が形成されるので、電子の回転半径は軌道M上のそれぞれの位置において異なる。これにより、仮に電子がフォイル32を再度通過したとしても、電子の軌道Mが一定の形状を描くことが無いので、フォイル32の同じ箇所を何度も通過することを抑制できる。したがって、フォイル32の特定の箇所に集中して電子のエネルギーが付与されることを抑制されるので、フォイル32の長寿命化を図ることができる。
以上説明したように、粒子加速器100は、第1磁束密度B1と反対の方向へ向かう第2磁束密度B2を発生させる磁束密度調整部40を備えている。この磁束密度調整部40は、平面視におけるフォイルストリッパー30の周辺に第2磁束密度B2を発生させることにより、フォイルストリッパー30の位置での磁束密度B(第1磁束密度B1及び第2磁束密度B2の合計)の絶対値を第1磁束密度B1の絶対値よりも小さくする。これにより、フォイルストリッパー30の位置にて第1磁束密度B1が発生している場合と比較して、電子が回転する回転半径が大きくなる。したがって、フォイル32によって剥ぎ取られた電子が再びフォイル32を通過することによってフォイル32が高温になることを抑制できる。したがって、フォイル32の長寿命化を図ることが可能である。
また、磁束密度調整部40は、空芯コイル41A,41Bによって第2磁束密度B2を発生している。これにより、空芯コイル41A,41Bに流す電流を調整することにより、第2磁束密度B2の大きさを調整することができる。したがって、第2磁束密度B2を最適な大きさに調整することが可能である。
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は上記の実施形態に限定されず、種々の変更を行うことができる。
例えば、上記の実施形態では、磁束密度調整部40が発生させる第2磁束密度B2の絶対値は第1磁束密度B1の絶対値以下であるが、第2磁束密度B2の絶対値を第1磁束密度B1の絶対値より大きくしてもよい。すなわち、フォイル32の位置における磁束密度Bの方向が反転するように第2磁束密度B2を発生させてもよい。この場合、第1磁束密度B1が第2磁束密度B2によって打ち消され、磁束密度Bの絶対値は、第1磁束密度B1の絶対値よりも小さくなる。また、この場合、磁束密度調整部40は、負イオンPの周回軌道Kの外側で電子を回収する回収部46を有していてもよい。図7は、磁束密度調整部の変形例を概略的に示す図である。図7に示すように、フォイル32の位置における磁束密度Bの方向を反転させた場合、フォイル32によって剥ぎ取られた電子は、周回軌道Kの外側方向へ曲がる軌道Mを描くようになる。周回軌道Kの外側方向へ曲げられた電子は、回収部46によって回収される。回収部46は、電子の衝突に伴って2次電子が発生した場合であってもこの2次電子が回収部46の外へ逃げないように、凹形状に形成されている。凹形状は、湾曲した凹形状であってもよく、角形の凹形状であってもよい。なお、2次電子の全方向への逃げを抑制するために、回収部46は全周にわたって凹んだ形状であることが好ましい。回収部46は、例えば、銅等の熱伝導率の高い材料から形成される。回収部46は、例えば、冷却用の冷媒を循環させるための配管46aを有しており、電子に付与されたエネルギーによる回収部46の発熱を抑制することが可能である。
このように、フォイルストリッパー30の位置における磁束密度B(第1磁束密度B1及び第2磁束密度B2の合計)の方向を、第1磁束密度B1の方向と反対向きとすることにより、フォイルストリッパー30によって剥ぎ取られた電子は、周回軌道Kの外側方向に曲げられる。これにより、フォイル32によって剥ぎ取られた電子が再びフォイル32を通過することを抑制できる。また、電子が周回軌道Kの外側方向に曲げられるので、回収部46を周回軌道Kの外側に配置して電子を回収することが可能である。したがって、フォイル32によって剥ぎ取られた電子が再びフォイル32を通過することをより確実に抑制することが可能である。
また、上記の実施形態では、磁束密度調整部40は空芯コイル41A,41Bによって第2磁束密度B2を発生させていたが、磁束密度調整部40は磁石によって第2磁束密度B2を発生させてもよい。図8は、磁束密度調整部の変形例を概略的に示す図である。図8に示すように、変形例に係る磁束密度調整部70は、C字型の鉄71と、鉄71に巻回されたコイル巻線72と、フォイル32によって剥ぎ取られた電子が当たる回収部73とを有している。鉄71及びコイル巻線72は、いわゆる偏向電磁石を構成している。回収部73は、例えば銅板などによって形成されており、電子の軌道M上に配置される。一例では、回収部73は、フォイル32に隣接する位置に配置される。回収部73は、例えば、水冷によって冷却される。この場合、例えば、ストリッパー駆動軸31内に冷却水の通路を設けることにより、回収部73に冷却水を供給することができる。
この構成においても、フォイルストリッパー30の位置における磁束密度B(第1磁束密度B1及び第2磁束密度B2の合計)の方向を、第1磁束密度B1の方向と反対向きとすることにより、フォイルストリッパー30によって剥ぎ取られた電子は、周回軌道Kの外側方向に曲げられる。これにより、フォイル32によって剥ぎ取られた電子が再びフォイル32を通過することを抑制できる。また、磁束密度調整部70が鉄71を有していることにより、コイル巻線72に供給する電流を低電流としながらも大きい第2磁束密度B2を発生させることができる。また、空芯コイル41A,41Bを用いる場合と比べて、広い範囲で第2磁束密度B2の大きさを調整することが可能である。
また、磁束密度調整部40は、磁石によって第2磁束密度B2を発生させてもよい。これにより、電力の供給を必要とせずに第2磁束密度B2を発生させることが可能である。
10A,10B…磁極、11…谷領域、12…山領域、13…イオン供給口、20…コイル、30…フォイルストリッパー、31…ストリッパー駆動軸、32…フォイル、33…フォイル駆動部、40…磁束密度調整部、40、70…磁束密度調整部、41A,41B…空芯コイル、42…巻枠、42a…開口、43…コイル巻線、44…支持台、45…支持体、46…回収部、50…真空箱、51…出射口、60…加速電極、100…粒子加速器、B…磁束密度、B1…第1磁束密度、B2…第2磁束密度、K…周回軌道、L…軌道、M…軌道、P…負イオン(荷電粒子)。

Claims (3)

  1. 互いに対向して配置された一対の磁極と、
    それぞれの前記磁極を囲い、一方の前記磁極から他方の前記磁極へ向かう第1磁束密度を発生させるコイルと、
    荷電粒子の周回軌道上に設けられ、前記荷電粒子から電子を剥ぎ取るフォイルストリッパーと、
    前記第1磁束密度と反対の方向へ向かう第2磁束密度を発生させる磁束密度調整部と、を備え、
    前記磁束密度調整部は、平面視における前記フォイルストリッパーの位置での磁束密度の絶対値を前記第1磁束密度の絶対値よりも小さくし、
    前記磁束密度調整部は、コイルによって前記第2磁束密度を発生させ、
    前記平面視において、前記コイルの巻き中心に前記フォイルストリッパーが位置する、粒子加速器。
  2. 互いに対向して配置された一対の磁極と、
    それぞれの前記磁極を囲い、一方の前記磁極から他方の前記磁極へ向かう第1磁束密度を発生させるコイルと、
    荷電粒子の周回軌道上に設けられ、前記荷電粒子から電子を剥ぎ取るフォイルストリッパーと、
    前記第1磁束密度と反対の方向へ向かう第2磁束密度を発生させる磁束密度調整部と、を備え、
    前記磁束密度調整部は、平面視における前記フォイルストリッパーの位置での磁束密度の絶対値を前記第1磁束密度の絶対値よりも小さくし、
    前記磁束密度調整部は、前記荷電粒子の前記周回軌道の外側で前記電子を回収する回収部を有し、
    前記磁束密度調整部は、前記第1磁束密度の絶対値よりも大きい前記第2磁束密度を発生させることで、平面視における前記フォイルストリッパーの位置での磁束密度を前記第1磁束密度と反対向きとする、粒子加速器。
  3. 互いに対向して配置された一対の磁極と、
    それぞれの前記磁極を囲い、一方の前記磁極から他方の前記磁極へ向かう第1磁束密度を発生させるコイルと、
    荷電粒子の周回軌道上に設けられ、前記荷電粒子から電子を剥ぎ取るフォイルストリッパーと、
    前記第1磁束密度と反対の方向へ向かう第2磁束密度を発生させる磁束密度調整部と、を備え、
    前記磁束密度調整部は、平面視における前記フォイルストリッパーの位置での磁束密度の絶対値を前記第1磁束密度の絶対値よりも小さくし、
    前記平面視において、前記磁束密度調整部は、前記磁極の中心位置と重なることなく、当該中心位置から径方向に離間した位置に配置される、粒子加速器。
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