JP6566516B2 - シーラ塗布方法 - Google Patents
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Description
5 シーラガン
6 ノズル
H 基準高さ
S シーラ
W ワーク
Claims (2)
- シーラを吐出するノズルを有するシーラガンを制御装置によって制御することにより、ワークに対して前記シーラを線状に塗布するシーラ塗布方法において、
前記シーラの塗布高さ及び/又は塗布幅を制御装置に設定する工程と、
前記ワークに対する前記ノズルの基準高さを前記制御装置に設定する工程と、
前記制御装置の制御により前記ノズルを、前記基準高さを有する初期位置に設置する工程と、
前記初期位置に設置された前記ノズルの前記基準高さを測定し、測定された値に基づいて前記基準高さの適否を確認する工程と、
前記制御装置に設定された前記シーラの前記塗布高さ及び/又は前記塗布幅の値と前記制御装置に設定された前記基準高さの値とに基づいて、前記初期位置から塗布開始位置まで移動させるべき前記ノズルの移動距離を前記制御装置によって演算する工程と、
前記制御装置の制御により、前記初期位置に設置された前記ノズルに、前記初期位置から前記塗布開始位置まで移動させるべき前記移動距離を移動させる移動工程と、
前記塗布開始位置から塗布終了位置まで前記ノズルを移動させて前記シーラを前記ワークに塗布する塗布工程と、を備え、
前記初期位置は、前記塗布開始位置の直下に設定されており、
前記移動工程では、前記ノズルを前記移動距離だけ前記初期位置から上昇させて前記塗布開始位置に移動させ、
前記塗布工程では、前記ノズルが前記初期位置から前記塗布開始位置に移動したときに前記シーラの吐出を開始することを特徴とするシーラ塗布方法。 - 前記シーラガンは、前記ノズルから前記シーラを吐出させる吐出動作と、前記ノズルに残留する前記シーラを吸引する吸込み動作とを行うように構成されており、
前記シーラガンは、前記ノズルが前記塗布終了位置に移動した後に、前記吸込み動作を行う請求項1に記載のシーラ塗布方法。
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