JP3510124B2 - ペースト塗布方法及びペースト塗布機 - Google Patents

ペースト塗布方法及びペースト塗布機

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茂 石田
幸宏 川隅
福男 米田
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ペースト塗布方法
とペースト塗布機に係り、特に、ノズルの吐出口に対向
するようにして基板をテーブル上に載置し、該基板の主
面に垂直な方向での該ノズルと該基板との間の相対距離
を所定に維持し、ペースト収納筒に充填したペーストを
該吐出口から該基板上に吐出させながら該基板と該ノズ
ルとの該基板の主面における相対位置関係を変化させる
ことにより、該基板上に幅や高さの異なるペーストパタ
ーンを描画するためのペースト塗布方法とペースト塗布
機に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のペースト塗布機では、テーブル上
に載置されている基板上に形成されるペーストパターン
の形状(即ち、塗布ペーストの高さや幅)は、塗布圧
力,基板とノズル先端のペースト吐出口との間の相対距
離(以下、ノズル高さという)及び描画速度(基板とノ
ズルとの間の相対速度)を制御することによって与えら
れていた。
【0003】そして、ペーストの基板表面への描画は、
正圧源から正圧レギュレータとバルブユニットを介して
ペーストが収納されたペースト収納筒内に僅かな空気圧
を印加してノズル先端部のペースト吐出口から基板上に
ペーストを吐出させるエアー式吐出方式を用い、該基板
と該ノズルとの該基板の主面における相対位置関係を変
化させることによって行なわれていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ペースト塗布機では、
ペーストの塗布幅や高さが異なるペーストパターンを描
画するためには、ノズルのペースト吐出口からのペース
ト流量を高速,高精度,広範囲に制御し、描画速度,ノ
ズル高さと同期させて制御させる必要がある。
【0005】しかしながら、エアー式吐出方式では、ペ
ースト収納筒に印加される空気圧に対するペースト吐出
口からのペースト流量の応答性が悪いため、ペースト塗
布動作中にペースト流量を描画速度,ノズル高さと同期
させるような制御を行なうことができなかった。
【0006】本発明の目的は、かかる問題を解消し、ペ
ースト流量を高速、かつ高精度に制御できて、塗布ペー
ストの幅や高さが異なるペーストパターンを高精度で描
画することができるようにしたペースト塗布方法及びペ
ースト塗布機を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によるペースト塗布方法は、ペースト収納筒
とノズルとの間の連通路のペーストの通過面積を変化可
能とし、ペーストパターンを描画する基板上での所定の
ペースト高さあるいはペースト幅を与える該ノズルの吐
出口におけるペースト流量,該基板と該ノズルの相対距
離及び描画速度を基準として、該基板に描画するペース
トパターンのペースト高さあるいはペースト幅の変更量
に比例して、該ペースト流量を、該連通路のペースト通
過面積を調整することにより、変更するとともに、該基
板と該ノズルの相対距離及び該描画速度の少なくとも一
方を変更するようにする。
【0008】また、本発明によるペースト塗布機は、
ーストを収納したペースト筒と、該ペースト収納筒内の
ペーストを吐出する吐出口を備えたノズルと、該吐出口
に対向して基板を載置するためのテーブルと、該ノズル
をテーブル面に対して垂直方向に移動させるための駆動
手段と、該ノズルと該テーブルとの間で該テーブル面に
平行な方向に相対移動をさせる駆動手段とを備えたペー
スト塗布機において、該ペースト収納筒と該吐出口との
間に、ペーストの流量を調整するペースト制御機構部を
設けたものである。
【0009】かかる構成によると、ノズルの吐出口にお
けるペースト流量の変更を迅速に行なうことができるの
で、ペースト高さやペースト幅が異なるペーストパター
ンを基板上に高精度に形成することができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
用いて説明する。図1は本発明によるペースト塗布方法
及びペースト塗布機の一実施形態を示す斜視図であっ
て、1は架台、2a,2bは基板搬送コンベア、3は支
持台、4は基板吸着盤、5はθ軸移動テ−ブル、6a,
6bはX軸移動テ−ブル、7はY軸移動テ−ブル、8
a,8bはサ−ボモ−タ、9はZ軸移動テ−ブル、10
はサ−ボモ−タ、11はボ−ルねじ、12はサーボモー
タ、13はペースト収納筒(シリンジ)、14は距離
計、15は支持板、16a,16bは画像認識カメラ、
17は制御部、18はモニタ、19はキ−ボ−ド、20
は外部記憶装置を備えたパソコン本体、21はケ−ブル
である。
【0011】同図において、架台1上には、X軸方向に
平行で、かつ昇降可能な2つの基板搬送コンベア2a,
2bが設けられており、図示していない基板を図面の奥
の方から手前の方に、即ち、X軸方向に水平に搬送す
る。また、架台1上に支持3が設けられ、この支持台3
上にθ軸移動テ−ブル5を介して基板吸着盤4が載置さ
れている。このθ軸移動テ−ブル5は、基板吸着盤4を
Z軸廻りのθ方向に回転させるものである。
【0012】架台1上には、さらに、基板搬送コンベア
2a,2bよりも外側でX軸に平行にX軸移動テ−ブル
6a,6bが設けられ、これらX軸移動テ−ブル6a,
6b間を渡るようにしてY軸移動テ−ブル7が設けられ
ている。このY軸移動テ−ブル7は、X軸移動テ−ブル
6a,6bに設けられたサ−ボモ−タ8a,8bの正転
や逆転の回転(正逆転)により、X軸方向に水平に搬送
される。このY軸移動テ−ブル7上には、サ−ボモ−タ
10の駆動によるボ−ルねじ11の正逆転によってY軸
方向に移動するZ軸移動テ−ブル9が設けられている。
このZ軸移動テ−ブル9には、ペースト収納筒13や距
離計14を支持固定した支持板15が設けられ、サーボ
モータ12がこれらペースト収納筒13や距離計14を
この支持板15に設けられた図示しないリニヤガイドの
可動部を介してZ軸方向に移動させる。ペースト収納筒
13は、このリニヤガイドの可動部に着脱自在に取り付
けられている。また、架台1の天板には、図示していな
い基板の位置合わせなどのための画像認識カメラ16
a,16bが上方向を向けて設けられている。
【0013】架台1の内部には、サーボモータ8a,8
b,10,12,24(図示せず)などを制御する制御
部17が設けられており、この制御部17はケーブル2
1を介してモニタ18やキーボード19、パソコン本体
20と接続されており、かかる制御部17での各種工程
のためのデータがキーボード19から入力され、画像認
識カメラ16a,16bで捉えた画像や制御部17での
処理状況がモニタ18で表示される。また、キ−ボ−ド
19から入力されたデータなどは、パソコン本体20の
外部記憶装置でフロッピディスクなどの記憶媒体に記憶
保管される。
【0014】図2は図1に示すペースト収納筒13と距
離計14との部分を拡大して示す斜視図であって、13
aはノズル、13bはノズル支持具、13cはアクチュ
エータ、22は基板、23はペーストパターンであり、
図1に対応する部分には同一符号を付けている。
【0015】同図において、距離計14は下端部に三角
形の切込部があって、その切込部に発光素子と複数の受
光素子とが設けられている。ノズル支持具13bによっ
てペースト収納筒13に支持されているノズル13a
は、距離計14のこの切込部の下部に位置付けられてい
る。距離計14は、ノズル13aの先端部のペースト吐
出口からガラスなどからなる基板22の表面(上面)ま
での距離(即ち、ノズル高さ)を非接触の三角測法で計
測する。即ち、上記三角形の切込部での片側の斜面に発
光素子が設けられ、この発光素子から放射されたレ−ザ
光Lは基板22上の計測点Sで反射し、上記切込部の他
方の斜面に設けられた複数の受光素子のいずれかで受光
される。いずれの受光素子でレーザ光Lが受光されたか
によってノズル高さが検出される。この場合、レ−ザ光
Lはペースト収納筒13やノズル13aで遮られること
はない。
【0016】また、ノズル支持具13bの側面にアクチ
ュエータ13cが設けられており、これにより、後述す
るように、連節部13b内にペースト収納筒13からノ
ズル13aまでの連通路に設けられたバルブ部の開度が
調整されて、ノズル13aの吐出口からのペーストの吐
出量が制御される。
【0017】基板22上でのレ−ザ光Lの計測点Sとノ
ズル13aのペースト吐出口の直下の基板22上での位
置とは僅かな距離ΔX,ΔYだけずれるが、この僅かな
距離ΔX,ΔY程度ずれた位置の間では、基板22の表
面のうねり(凹凸)に差がないので、距離計14の計測
結果とノズル高さとの間に差が殆ど存在しない。従っ
て、この距離計14の測定結果に基づいてサーボモータ
12を制御することにより、基板22の表面のうねりに
合わせてノズル高さを一定に維持することができ、基板
22上に塗布されるペーストパターン23での塗布ペー
ストの幅や高さが一様になる。
【0018】図3は図1に示した制御部17の構成やペ
ースト収納筒13の空気圧の制御,基板22の制御の系
統を示すブロック図であって、17aはマイクロコンピ
ュ−タ、17bはモ−タコントロ−ラ、17c1,17
c2はX1,X2軸ドライバ、17dはY軸ドライバ、
17eはθ軸ドライバ、17fはZ軸ドライバ、17g
はデータ通信バス、17hは外部インタ−フェ−ス、2
4はθ軸移動テ−ブル5(図1)を駆動するサーボモー
タ、25〜29はエンコ−ダ、30は正圧源、30aは
正圧レギュレータ、31は負圧源、31aは負圧レギュ
レータ、32はバルブユニットであり、図1及び図2に
対応する部分には同一符号をつけている。
【0019】同図において、制御部17は、マイクロコ
ンピュ−タ17aやモ−タコントロ−ラ17b、X,
Y,Z,θの各軸ドライバ17c1〜17f、画像認識
カメラ16a,16bで得られる映像信号を処理する画
像処理装置17i、キ−ボ−ド19などとの間の信号伝
送を行なうための外部インタ−フェ−ス17hを内蔵し
ている。制御部17は、さらに、基板搬送コンベア2
a,2bの駆動制御系を含むが、ここでは、図示を省略
している。
【0020】また、マイクロコンピュ−タ17aは、図
示しないが、主演算部や後述するペーストの描画を行な
うための処理プログラムを格納したROM,主演算部で
の処理結果や外部インタ−フェ−ス17h及びモ−タコ
ントロ−ラ17bからの入力デ−タを格納するRAM,
外部インタ−フェ−ス17hやモ−タコントロ−ラ17
bとデ−タをやりとりする入出力部などを備えている。
各サ−ボモ−タ8a,8b,10,12,24には、回
転量を検出するエンコ−ダ25〜29が設けられてお
り、その検出結果をX,Y,Z,θの各軸ドライバ17
c1〜17fに戻して位置制御を行なっている。
【0021】サ−ボモ−タ8a,8b,10がキ−ボ−
ド19から入力されてマイクロコンピュ−タ17aのR
AMに格納されているデ−タに基いて正逆回転すること
により、負圧源31から分配した負圧によって基板吸着
盤4(図1)に真空吸着された基板22に対し、ノズル1
3a(図2)が、Z軸移動テ−ブル9(図1)を介して、
X,Y軸方向に任意の距離を移動し、その移動中、マイ
クロコンピュータ17aがバルブユニット32を制御す
ることにより、正圧源30から正圧レギュレータ30a
とバルブユニット32とを介してペースト収納筒13に
僅かな空気圧が印加され、また、マイクロコンピュータ
17aからデータ通信バス17g,外部インターフェー
ス17hを介してアクチュエータ13cを駆動させるこ
とにより、上記のノズル支持具13b(図2)内のバル
ブ部の開度が調整されてノズル13aからのペーストの
吐出量が制御され、ノズル13aのペースト吐出口から
ペーストが吐出されて基板22に所望のペーストパタ−
ンが描画される。そして、このZ軸移動テ−ブル9の
X,Y軸方向への水平移動中、距離計14がノズル13
aと基板22との間の距離を計測し、この距離を常に一
定に維持するように、サ−ボモ−タ12がZ軸ドライバ
17fで制御される。
【0022】図4は図1に示した実施形態の動作を示す
フローチャートである。
【0023】同図において、電源が投入されると(ステ
ップ100)、まず、ペースト塗布機の初期設定が実行
されるが(ステップ200)、この初期設定工程では、
図1において、サーボモータ8a,8b,10,12を
駆動することにより、Z軸移動テ−ブル9をX,Y,Z
方向に移動させて所定の基準位置に位置決めし、ノズル
13a(図2)を、そのペースト吐出口がペーストの描
画を開始する位置(即ち、ペースト描画開始点)となる
ように、所定の原点位置に設定するとともに、さらに、
ペーストパタ−ンデ−タや基板位置デ−タ,ペースト吐
出終了位置デ−タ,描画したペーストパタ−ンの計測位
置デ−タの設定を行なうものである。かかるデ−タの入
力はキ−ボ−ド19(図1)から行なわれ、入力された
デ−タは、前述したように、マイクロコンピュ−タ17
a(図3)に内蔵されたRAMに格納される。
【0024】この初期設定工程(ステップ200)が終
了すると、次に、ペーストが所望のパタ−ンで塗布描画
すべき実基板を基板吸着盤4(図1)に搭載して吸着保
持させる(ステップ300)。この基板搭載工程は、基
板搬送コンベア2a,2b(図1)によってこの基板2
2がX軸方向に基板吸着盤4の上方まで搬送され、図1
に図示しない昇降手段によってこれら基板搬送コンベア
2a,2bを下降させることにより、基板22を基板吸
着盤4に搭載するものである。
【0025】次に、基板予備位置決め工程(ステップ4
00)を行なう。この工程では、図1において、図示し
ない位置決めチャックにより、この基板22のX,Y方
向の位置合わせが行なわれる。また、基板吸着盤4に搭
載された基板22の位置決め用マ−クを画像認識カメラ
16a,16bで撮影し、位置決め用マ−クの重心位置
を画像処理で求めて基板22のθ方向での傾きを検出
し、これに応じてサ−ボモ−タ24(図3)を駆動し、
このθ方向の傾きも補正する。
【0026】なお、ペースト収納筒13内の残りペース
トが少ない場合には、次のペーストの描画作業の作業の
途中でペーストの途切れがないようにするために、前も
ってペースト収納筒13をノズル13aとともに交換す
るが、このようにノズル13aを交換すると、その位置
ずれが生ずることがある。このため、基板22上のペー
ストパターンを形成しない箇所に交換した新たなノズル
13aを用いて十字描画を行ない、この十字描画の交点
の重心位置を画像処理で求め、この重心位置と基板22
上の位置決め用マ−クの重心位置との間の距離を算出し
て、これをノズル13aのペースト吐出口の位置ずれ量
dx,dyとしてマイクロコンピュ−タ17aに内蔵の
RAMに格納する。これにより、基板予備位置決め工程
(ステップ400)を終了する。かかるノズル13aの
位置ずれ量dx,dyは、後に行なうペーストパターン
の描画の動作時、この位置ずれを補正するようにする。
【0027】次に、ペーストパターン描画工程(ステッ
プ500)を行なう。この工程では、描画開始位置にノ
ズル13aのペースト吐出口を位置付けるために、Z軸
移動テ−ブル9を移動させ、ノズル位置の比較・調整移
動を行なう。
【0028】このために、まず、先の基板予備位置決め
工程(ステップ400)で得られてマイクロコンピュ−
タ17aのRAMに格納されたノズル13aの位置ずれ
量dx,dyが、図2に示したノズル13aの位置ずれ
量の許容範囲△X,ΔY内にあるか否かの判断を行な
う。そして、許容範囲内(△X≧dx及び△Y≧dy)
であればそのままとし、許容範囲外(△X<dxまたは
△Y<dy)であれば、この位置ずれ量dx,dyを基
にZ軸移動テ−ブル9を移動させてペースト収納筒13
をX,Y軸方向に移動させることにより、ノズル13a
のペースト吐出口と基板22の所望位置との間のずれを
解消させ、ノズル13aを所望位置に位置決めする。
【0029】次に、ノズル高さの設定を行なう。ペース
ト収納筒13が交換されていないときには、ノズル13
aの位置ずれ量dx,dyのデータはないので、ペース
トパターン描画工程(ステップ500)に入ったところ
で、直ちにノズル高さの設定を行なう。この設定される
高さは、ノズル13aのペースト吐出口から基板22ま
での間隔が塗布ペーストの高さになるようにするもので
ある。
【0030】以上の工程が終了すると、次に、マイクロ
コンピュータ17aのRAMに格納されたペーストパタ
ーンデータに基づいてサーボモータ8a,8b,10が
駆動され、これにより、ノズル13aのペースト吐出口
が基板22に対向した状態で、ノズル13がこのペース
トパターンデータに応じてX,Y方向に移動するととも
に、ペースト収納筒13に設定されたデータをもとに気
圧を印加してノズル13aのペースト吐出口からのペー
ストの吐出を開始し、設定されたペーストパターンデー
タに応じてアクチュエータ13c(図3)によりバルブ
部(図示せず)を作動させて、ペースト吐出口からのペ
ースト流量を制御しながら基板22へのペーストパター
ンの描画を開始する。
【0031】そして、これとともに、先に説明したよう
に、マイクロコンピュータ17aは距離計14からノズ
ル高さの実測デ−タを入力し、基板22の表面のうねり
を測定して、この測定値に応じてサーボモータ12を駆
動することにより、ノズル高さが所望の一定値に維持さ
れる。
【0032】このようにして、ペーストパターンの描画
が進むが、上記のペーストパターンデータにより、ペー
ストパターンの描画動作が完了しているかどうかを判定
し、この判定結果により、ペースト収納筒13のペース
トの吐出を継続するか終了するかの判定を行なう。
【0033】このペーストパターン描画工程(ステップ
500)は、ノズル13aのペースト吐出口が基板22
上の上記ペーストパターンデータによって決まるペース
トパタ−ンの終端にあるか否かの判断により、この終端
でなければ、再び基板の表面うねりの測定処理に戻り、
以下、上記の各工程を繰り返して、ペーストパターン形
成がペーストパタ−ンの終端に達するまで継続する。そ
して、ペースト吐出口がこのペーストパタ−ン終端に達
すると、サーボモータ12を駆動してノズル13aを上
昇させ、このペーストパターン描画工程(ステップ50
0)を終了させる。
【0034】図5はペースト吐出口からのペースト流量
を調整する制御機構部の一具体例を示す断面図であっ
て、13dはバルブ部、13eは連通路、33はペース
トであり、前出図面に対応する部分には同一符号をつけ
て重複する説明を省略する。
【0035】同図において、ノズル支持具13b内に
は、ペースト収納筒13の底部からノズル13aに至る
ペースト33の連通路13eが設けられており、この具
体例では、ペースト収納筒13の連通路13eへのペー
スト33の出口近傍にペースト33の流量(以下、ペー
スト流量という)を調整するための制御機構部が設けら
れている。
【0036】この流量制御機構部は、アクチュエータ1
3cとバルブ部13dとで構成されており、アクチュエ
ータ13cはノズル支持具13bの外側に、また、バル
ブ部13dはノズル支持具13bの内部に夫々設置され
ている。このバルブ部13dは、アクチュエータ13c
の作用により、矢印で示すように、連通路13eを横断
する水平方向に移動可能となっており、このバルブ部1
3dの移動により、連通路13gの通路面積が変化して
(即ち、開度調整が行なわれて)、ノズル13aのペー
スト吐出口からのペースト流量が調整される。
【0037】図6はペースト吐出口からのペースト流量
を調整する制御機構部の他の具体例を示す断面図であっ
て、図5に対応する部分には同一符号をつけて重複する
説明を省略する。
【0038】同図において、この具体例は、連通路13
eのノズル13aへのペースト33の出口近傍にバルブ
部13dを設け、また、アクチュエータ13cを、この
バルブ部13dの近傍であって、ノズル支持具13bの
外側に設けたものである。この場合、矢印で示すよう
に、バルブ部13dはアクチュエータ13cの作用によ
って連通路13eの長手方向(水平方向)に移動可能で
あって、バルブ部13dがかかる移動をすることによ
り、ノズル13aへの入口のペースト通路面積が変化
し、ノズル13aのペースト吐出口からのペースト流量
が変化する。
【0039】図7はペースト吐出口からのペースト流量
を調整する制御機構部のさらに他の具体例を示す断面図
であって、図5に対応する部分には同一符号をつけて重
複する説明を省略する。
【0040】同図において、この具体例は、連通路13
eの途中にバルブ部13dを設け、また、アクチュエー
タ13cを、このバルブ部13dの近傍でのノズル支持
具13bの外側に設けたものである。このバルブ部13
dは、アクチュエータ13cの作用により、矢印で示す
ように、連通路13eを横断する上下方向に移動可能と
なっており、このバルブ部13dの移動により、連通路
13gの通路面積が変化して、ノズル13aのペースト
吐出口からのペースト流量が調整される。
【0041】図8は図4のペーストパターン描画工程
(ステップ500)における塗布ペーストの高さ,幅を
異ならせるときの動作を示すタイミングチャートであっ
て、塗布ペーストの高さ,幅に対するペースト流量,ノ
ズル高さ,描画速度の変化を示している。
【0042】同図において、ペーストパターンの描画開
始時(時刻t0)、ノズル高さが初期値H1に設定さ
れ、しかる後、ペースト流量がQ1を目標値として制御
(即ち、マイコン17(図3)がアクチュエータ13c
を作動させて連通路13g(図5〜図7)の通路面積を
ペースト流量が目標値Q1となるように設定する制御)
を開始し、描画速度がV1を目標値としてペーストの吐
出開始と同期して制御され、ペースト高さT1が変化す
るまではこの状態を保つように制御されていく。このと
きの塗布されるペーストパターンの幅(以下、ペースト
幅という)をW1とする。
【0043】次に、時刻t1でペースト高さをT1から
T2へ変化させる場合、ノズル高さが設定値H2に設定
されるとともに、ペースト流量がQ2を目標値として制
御を開始し、描画速度がV2を目標値としてペーストの
流量制御と同時に制御開始し、ペースト高さがT2に変
化するまでは、この状態を保つように制御される。この
ときのペースト幅は変わらず、幅W1のままである。
【0044】次に、時刻t2でペースト高さをT2から
T3へ変化させる場合、ノズル高さが設定値H3に設定
されるとともに、ペースト流量がQ3を目標値として制
御を開始し、描画速度がV3を目標値としてペーストの
流量制御に同期して制御を開始し、ペースト高さがT3
に変化するまでは、この状態を保つように制御される。
このときのペースト幅は変わらず、幅W1のままであ
る。
【0045】次に、時刻t3でペースト幅をW1からW
2へ変化させる場合、ノズル高さが設定値H3のまま
で、ペースト流量はQ4を目標値として制御を開始し、
描画速度はV3のままで、ペースト幅がW2に変化する
まではこの状態を保つように制御される。
【0046】なお、ペースト幅をW1からW2へ変化さ
せる場合、一点鎖線で示すように、ノズル高さを設定値
H3のままとし、ペースト流量もQ3のままとして、描
画速度の目標値をV3からV4へ変化させて制御を開始
するようにしてもよい。
【0047】また、ペーストパターンの描画を終了する
場合には(時刻t4)、ノズル高さはその直前の設定値
(図8の場合、設定値H3)のままとするが、ペースト
流量と描画速度とはゼロとする。
【0048】さらに、ノズル13aは、図8には記載し
ていないが、設定時間後に待機する高さまで上昇させ、
描画途中でペーストパターン形状を変化させる塗布描画
動作の一連動作を終了する。
【0049】以上説明した様に、ペースト流量やノズル
高さ,描画速度は、塗布ペーストの幅や高さを異ならせ
る毎に、即ち、ペーストパターンを所望の形状に変化さ
せるのに同期して変化させ、ノズル高さと描画速度との
変化はペーストの流量制御の開始をトリガーとして行な
われる。また、描画途中でのペースト流量の制御は、ペ
ーストパターンデータの位置データを監視し、その位置
データに従ってペースト流量の変化点に達すると、これ
をトリガーとして行なわれる。
【0050】図4に戻って、以上のペーストパターン描
画工程(ステップ500)を終了すると、次に、基板排
出工程(ステップ600)に進む。この工程では、図1
において、基板22の基板吸着盤4への吸着を解除し、
基板搬送コンベア2a,2bを上昇させて基板22をこ
れに載置し、この基板搬送コンベア2a,2bのX軸方
向の移動により装置外に排出する。
【0051】そして、以上の全工程を停止するか否かを
判定する(ステップ700)。複数枚の基板に同じパタ
−ンでペ−スト膜を形成する場合には、別の基板に対し
て基板搭載工程(ステップ300)から動作を繰り返さ
れ、全ての基板についてかかる一連の工程が終了すると
(ステップ800)、作業が全て終了となる。
【0052】なお、上記実施形態では、ノズル13aが
移動し、基板22が固定されているものとしたが、本発
明は、これに限るものではなく、ノズル13aを固定
し、基板22を移動させるようにしてもよい。
【0053】以上のように、この実施形態では、ペース
トの吐出手段として、応答性の良いペースト流量制御機
構部を設けたことにより、ペースト流量をノズル高さや
描画速度と同期させて制御できるため、塗布ペーストの
幅や高さが異なるペーストパターンを描画できるように
なる。
【0054】また、ペースト流量制御機構部をペースト
収納筒13とノズル13aとの間の連通部に設けたこと
により、ペースト塗布停止中にペーストの通過口を遮断
することができ、ペースト収納筒13中のペーストの水
頭差より発生していたノズル13aのペースト吐出口か
らの液垂れを防止できるし、ペーストの吐出圧力を印加
したままでよいため、描画開始時には、迅速なペースト
の描画が可能となる。
【0055】さらに、上記のように液垂れを防止できる
ことにより、液垂れ対策として行なっていたペーストパ
ターン終端まで描画した時のノズルの上昇動作やペース
ト収納筒への負圧の印加を行なう必要がなくなり、この
ため、タクトの向上、即ち、生産性の向上が図れる。
【0056】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
幅や高さが異なる塗布ペーストからなる所望のペースト
パターンを高精度で描画することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるペースト塗布機の一実施形態を示
す斜視図である。
【図2】図1におけるペースト収納筒と距離計との部分
を拡大して示す斜視図である。
【図3】図1における制御部の構成とその制御系統とを
示すブロック図である。
【図4】図1に示した実施形態の全体動作を示すフロー
チャートである。
【図5】図1に示した実施形態のペーストの流量制御機
構部の一具体例を示す断面図である。
【図6】図1に示した実施形態のペーストの流量制御機
構部の他の具体例を示す断面図である。
【図7】図1に示した実施形態のペーストの流量制御機
構部のさらに他の具体例を示す断面図である。
【図8】図4のペーストパターン描画工程における動作
を示すタイミングチャートである。
【符号の説明】
5 θ軸移動テ−ブル 6a,6b X軸移動テ−ブル 7 Y軸移動テ−ブル 9 Z軸移動テ−ブル 13 ペ−スト収納筒 13a ノズル 13b ノズル支持具 13c アクチュエータ 13d バルブ部 13e 連通路 14 距離計 17 制御部 22 基板 23 ペーストパターン 30 正圧源 30a 正圧レギュレータ 32 バルブユニット 33 ペースト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 米田 福男 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立 テクノエンジニアリング株式会社 開発 研究所内 (72)発明者 三階 春夫 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立 テクノエンジニアリング株式会社 開発 研究所内 (56)参考文献 特開 平8−141464(JP,A) 特開 平5−323332(JP,A) 実公 平4−48854(JP,Y2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B05C 5/00 B05C 11/10 B05D 1/26 B05D 3/00

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ノズルの吐出口に対向するようにして基
    板をテーブル上に載置し、該基板の主面に垂直な方向で
    の該ノズルと該基板との間の相対距離を所望に維持し、
    ペースト収納筒に充填したペーストを該吐出口から該基
    の主面上に吐出させながら該基板と該ノズルとの該基
    板の主面における相対位置関係を変化させることによ
    り、該基板上に所望形状のペーストパターンを描画する
    ペースト塗布方法において、 該基板上の所定のペースト高さあるいはペースト幅を与
    える該ノズルの吐出口におけるペースト流量,該基板と
    該ノズルとの相対距離及び描画速度を基準として、該基
    板上に描画するペーストパターンのペースト高さあるい
    はペースト幅の変更量に比例させて、該ペースト収納筒
    から該ノズルに至る連通路でのペースト通過面積を調整
    することにより、該ノズルの吐出口におけるペースト流
    を変更するとともに、該基板と該ノズルとの相対距離
    及び該描画速度の少なくとも一方を変更することを特徴
    とするペースト塗布方法。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のペースト塗布方法にお
    いて、 前記基板と前記ノズルとの相対距離及び前記描画速度の
    少なくとも一方の変更は、前記ペースト流量の変更をト
    リガーとして行なうことを特徴とするペースト塗布方
  3. 【請求項3】 ノズルの吐出口に対向するようにして基
    板をテーブル上に載置し、該基板の主面に垂直な方向で
    の該ノズルと該基板との間の相対距離を所望に維持し、
    ペースト収納筒に充填したペーストを該吐出口から該基
    板の主面上に吐出させながら該基板と該ノズルとの該基
    板の主面における相対位置関係を変化させることによ
    り、該基板上に所望形状のペーストパターンを描画する
    ペースト塗布機において、 該ペースト収納筒から該吐出口に至る連通路でのペース
    ト通過面積を変化させて該ノズルの吐出口におけるペー
    スト流量の制御を行なう流量制御手段と、 該基板上での所定のペースト高さあるいは任意のペース
    ト幅を与える該ノズルの吐出口におけるペースト流量,
    該基板と該ノズルとの相対距離及び描画速度を基準とし
    て、該基板に描画するペーストパターンのペースト高さ
    あるいはペースト幅の変更量に比例させて該ペースト流
    量を該流量制御手段により 変更させる流量変更手段と、 該流量変更手段によるペースト流量の変更とともに、
    該基板と該ノズルとの相対距離及び該描画速度の少なく
    とも一方を変更する変更手段とを設けたことを特徴とす
    るペースト塗布機。
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