JP6561734B2 - 炭酸水のシリカ濃度の分析方法 - Google Patents
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図3に示す炭酸水のシリカ濃度の分析方法を実施可能なシステムを用い、超純水に二酸化炭素を100ppm溶解した炭酸水Wをシリンジポンプ5Aに収容し、このシリンジポンプ5Aから炭酸水Wを膜式脱気装置1に供給して脱気処理を行い、処理水W1を得た。このとき脱気処理は、処理水W1のpHを測定してpHが5となるように行った。この処理水W1のシリカ濃度をICP−MSで測定した結果を表1に示す。また、参考例として本実施例において使用した超純水のシリカ濃度を表1にあわせて示す。
脱気膜1A:ポリポア製「リキセルG248」(商品名)
脱気モード:バキューム(−95kPa)+窒素 (コンボモード)
超純水中のシリカ濃度:0.5ppb
炭酸水Wの炭酸濃度:100ppm
炭酸水WのpH:4.7
脱気水量:100mL/min
実施例1において、脱気処理を処理水W1のpHが6となるように行った。この処理水W1のシリカ濃度をICP−MSで測定した。結果を表1にあわせて示す。
実施例1の炭酸水1に対して脱気処理を施すことなく、そのままICP−MSでシリカ濃度を測定した。結果を表1にあわせて示す。
実施例1において、処理水W1の電気伝導度を測定し、脱気処理を該処理水W1の電気伝導度が0.5mS/mとなるように行った。この処理水W1のシリカ濃度をICP−MSで測定した。結果を表1にあわせて示す。
実施例3において、脱気処理を該処理水W1の電気伝導度が0.05mS/mとなるように行った。この処理水W1のシリカ濃度をICP−MSで測定した。結果を表1にあわせて示す。
実施例1において、処理水W1に塩酸を添加してpHを4とした以外同様にして脱気処理を行い、処理水W1のシリカ濃度をICP−MSで測定した。結果を表1にあわせて示す。
実施例5において、処理水W1に塩酸を添加してpHを3とした以外同様にして脱気処理を行い、処理水W1のシリカ濃度をICP−MSで測定した。結果を表1にあわせて示す。
1A…脱気膜
2…窒素ガス供給機構
3…ガス排出装置
4…タンク
5…ポンプ
5A…シリンジポンプ
W…炭酸水
W1…処理水
Claims (5)
- 超純水に炭酸ガスを溶解して調製した炭酸水のシリカ濃度の分析方法であって、前記炭酸水から炭酸ガスを脱気処理した後、処理水中のシリカ濃度をICP−MSで分析することを特徴とする炭酸水のシリカ濃度の分析方法。
- 前記脱気処理を前記処理水のpHが6以上となるように行うことを特徴とする請求項1に記載の炭酸水のシリカ濃度の分析方法。
- 前記脱気処理を前記処理水の電気伝導度が0.05mS/m以下になるように行うことを特徴とする請求項1に記載の炭酸水のシリカ濃度の分析方法。
- 前記炭酸水に酸を添加してpH4以下としてから前記脱気処理を行うことを特徴とする請求項1に記載の炭酸水のシリカ濃度の分析方法。
- 前記炭酸水の炭酸ガス濃度が0.5〜2000ppmであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の炭酸水のシリカ濃度の分析方法。
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