JP6559662B2 - 積層部材の加工方法、積層部材の加工体およびガスバリアフィルム - Google Patents
積層部材の加工方法、積層部材の加工体およびガスバリアフィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6559662B2 JP6559662B2 JP2016523183A JP2016523183A JP6559662B2 JP 6559662 B2 JP6559662 B2 JP 6559662B2 JP 2016523183 A JP2016523183 A JP 2016523183A JP 2016523183 A JP2016523183 A JP 2016523183A JP 6559662 B2 JP6559662 B2 JP 6559662B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sheet
- gas barrier
- laminated member
- barrier layer
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 title claims description 141
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 136
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 42
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 39
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 18
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 15
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 15
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 7
- 238000004080 punching Methods 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 145
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 20
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 9
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 9
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 6
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 4
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 4
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 4
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 3
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 3
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920003067 (meth)acrylic acid ester copolymer Polymers 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical class OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 239000004626 polylactic acid Substances 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 2
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N Dialdehyde 11678 Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C2=C1[C@H](C[C@H](/C(=C/O)C(=O)OC)[C@@H](C=C)C=O)NCC2 ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;molecular oxygen Chemical compound O=O.O=C=O UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011086 glassine Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 238000002715 modification method Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B26—HAND CUTTING TOOLS; CUTTING; SEVERING
- B26D—CUTTING; DETAILS COMMON TO MACHINES FOR PERFORATING, PUNCHING, CUTTING-OUT, STAMPING-OUT OR SEVERING
- B26D3/00—Cutting work characterised by the nature of the cut made; Apparatus therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B26—HAND CUTTING TOOLS; CUTTING; SEVERING
- B26D—CUTTING; DETAILS COMMON TO MACHINES FOR PERFORATING, PUNCHING, CUTTING-OUT, STAMPING-OUT OR SEVERING
- B26D7/00—Details of apparatus for cutting, cutting-out, stamping-out, punching, perforating, or severing by means other than cutting
- B26D7/08—Means for treating work or cutting member to facilitate cutting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
- B32B38/18—Handling of layers or the laminate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
Landscapes
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Forests & Forestry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Details Of Cutting Devices (AREA)
- Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)
Description
(1)第1のシートと、第1のシートの一方の面上に配置される第2のシートとを備える積層部材の加工方法であって、前記第1のシートは、基材と前記基材の少なくとも一方の面に積層されたガスバリア層とを備え、前記ガスバリア層は、ナノインデンターを用いて測定される表面硬度が10GPa以上であり、前記第2のシートの前記第1のシートに対向する面と反対側の面は、ナノインデンターを用いて測定される表面硬度が0.05GPa以上であり、前記積層部材を、前記第2のシート側の面から機械的切断加工を行って、前記第1のシートの切断体および前記第2のシートの切断体を備える前記積層部材の加工体を得る切断工程を備えることを特徴とする、積層部材の加工方法。
1.積層部材
図1に示されるように、本発明の一実施形態に係る積層部材100は、第1のシート10と第2のシート20とを備え、第2のシート20が備える粘着剤層22側の面が第1のシート10が備えるガスバリア層12の面に貼付されている。
第1のシート10は、基材11と基材11の少なくとも一方の面に積層されたガスバリア層12とを備える。
本実施形態に係る第1のシート10が備える基材11は、積層部材100が第1のシート10のガスバリア層12が後述する硬度に関する規定を満たすことができる限り、具体的な特徴は特に限定されない。
ガスバリア層12は、第1のシート10のガス透過性を低下させることに寄与できる限り、その組成や厚さは限定されない。前述のように、通常、ガスバリア層12は、無機化合物層を備える。
第1のシート10は、上記のように、基材11の少なくとも一方の面に、ガスバリア層12が積層された積層構造を有し、ガスバリア層12のナノインデンターを用いて測定される表面硬度が10GPa以上である。上記の表面硬度が10GPa未満の場合には、従来の加工方法でもガスバリア層12にクラックが発生し難いが、上記の表面硬度が10GPa以上のものでは、従来の加工方法では、ガスバリア層へのクラック発生を抑制することが困難である。しかしながら、本実施形態に係る積層部材100を用いれば、一般的な機械的切断加工が施されても、ガスバリア層12にクラックが生じる可能性を低減させることが可能である。上記のガスバリア層12の表面硬度は、好ましくは、10〜100GPa、より好ましくは、20〜50GPaである。
第1のシート10はガス透過性が低いことが好ましく、具体的に、水蒸気透過率として、40℃、90%RHにおいて、0.5g/(m2・day)以下であることが好ましく、0.1g/(m2・day)以下であることがより好ましく、0.05g/(m2・day)以下であることが特に好ましい。
第1のシート10の積層構造は限定されない。例えば、図1に示されるように、基材11の一方の面にガスバリア層12を備えていてもよく、ガスバリア層12が複数積層した構造を有していてもよい。また、基材11の両面にガスバリア層12を備えていてもよい。
本実施形態に係る第1のシート10の厚さは、第1のシート10の切断体がガスバリアフィルムとなることを考慮して適宜設定される。限定されない例として、本実施形態に係る第1のシート10の厚さは、20μmから300μm程度の範囲内であり、30μm以上250μm以下であることが好ましい場合もあり、40μm以上230μm以下であることが好ましい場合もある。
本実施形態に係る第1のシート10は、JIS K7361−1に準拠して厚さ方向に測定された全光線透過率(以下、「全光線透過率」と略記する。)が85%以上であることが好ましい。この全光線透過率が85%以上であることにより、画像表示デバイスの表示側の保護部材として用いられる透明基板として好ましく使用することが可能となる。上記の保護部材への適用性を高める観点から、全光線透過率は90%以上であることが好ましい。なお、この全光線透過率を測定する際の第1のシート10の厚さは特定されない。
本実施形態に係る第1のシート10の第2のシート20に対向する面と反対側の面は、JIS B0601:2001(ISO 4287:1997)に規定される、算術平均粗さ(Ra)が10nm以上50nm以下、かつ粗さ曲線の最大断面高さ(Rt)が150nm以上1000nm以下となるようにすることが好ましい。
本発明の一実施形態に係る積層部材100が備える第2のシート20は、積層部材100に対して機械的切断加工を行う際に保護フィルムとして機能するものであって、支持フィルム21と支持フィルム21の一方の面に積層された粘着剤層22とを備え、その一方の面が粘着剤層22の面からなる。本実施形態では、この粘着剤層22の面が第1のシート10の一方の面に接するように、第2のシート20は第1のシート10に積層されている。このとき、第2のシート20の粘着剤層22の面は、第1のシート10のガスバリア層12の面に接していることが好ましい。本発明の一実施形態に係る積層部材が備える第2のシートはこのような積層構造を有していなくてもよい。すなわち、第2のシートは支持フィルムのみから構成されていてもよい。
本発明の一実施形態に係る積層部材が備える第2のシートにおける第1のシートに対向する面と反対側の面は、ナノインデンターを用いて測定される表面硬度が0.05GPa以上である。具体的には、第2のシート20は、支持フィルム21側の面について、表面硬度が0.05GPa以上である。
支持フィルム21の具体的な組成や構造は、上記の表面硬度に関する規定を満たすことができる限り、限定されない。支持フィルム21は、前述の基材11と同様の材料から構成されていてもよい。支持フィルム21がプラスチックフィルムを備える場合において、そのプラスチックフィルムの具体例として、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)、ポリプロピレン(PP)、ポリブタジエン、ポリメチルペンテン、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル(PVC)、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン(ABS)樹脂、ポリスチレン(PS)、トリアセチルセルロース(TAC)、フッ素樹脂、ポリ乳酸等の合成樹脂フィルムなどを挙げることができる。支持フィルム21は、単層構造であってもよいし、積層構造を有していてもよい。
粘着剤層22を構成する粘着性組成物の組成は特に限定されない。主成分である粘着剤としてゴム系、アクリル系、シリコーン系、ウレタン系等の粘着剤が例示され、これらの1種類を使用してもよいし、2種類以上を使用してもよい。また、粘着剤層22は積層構造を有していてもよい。
第2のシート20のように、本発明の一実施形態に係る積層部材の第2のシートが粘着剤層を備える場合には、第2のシート20の粘着剤層22の面は第1積層体10のガスバリア層12の面に貼付されることが好ましく、この状態において、第2のシート20の第1のシート10に対する粘着力が1500mN/25mm以下であることが好ましい。なお、本明細書における第2のシートの第1のシートに対する粘着力とは、後述する試験例における測定方法による値で示すものとする。
上記の積層部材100の加工方法は、積層部材100を、第2のシート20側の面から機械的切断加工を行って、第1のシート10の切断体および前記第2のシート20の切断体を備える積層部材100の加工体を得る切断工程を備える。
基材として、厚さ25μmの透明なポリエチレンテレフタレートフィルム(三菱樹脂社製、商品名:PET25 T−100、Ra:24nm、Rt:750nm)を用いて、基材の一方の面上に、酸化ケイ素(厚さ150nm)を下記条件で成膜し、ガスバリア層を形成し、第1のシートを得た。なお、得られたガスバリア層の面のRaは40nm以下、Rtは900nm以下であった。
・スパッタリングガス:アルゴン、酸素
・ガス流量:アルゴン100sccm、酸素40sccm
・ターゲット材料:シリコン
・電力値:2500W
・真空槽内圧:0.2Pa
下記条件にて酸窒化ケイ素(厚さ150nm)からなるガスバリア層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして、積層部材の加工体を得た。なお、第1のシートと第2のシートとの厚さの関係は、第2のシート>第1のシートであった。この積層部材の加工体から第2のシートの切断体を除去して、第1のシートの切断体からなるガスバリアフィルムを得た。なお、得られたガスバリア層の面のRaは40nm以下、Rtは900nm以下であった。
<反応性スパッタリングの条件>
・スパッタリングガス:アルゴン、窒素、酸素
・ガス流量:アルゴン100sccm、窒素60sccm、酸素40sccm
・ターゲット材料:シリコン
・電力値:2500W
・真空槽内圧:0.2Pa
剥離フィルム(リンテック社製「SP−PET1031C」)の剥離処理面にアクリル系粘着剤(リンテック社製「LS411E」)を乾燥後の厚さが25μmとなるように塗布、乾燥し、その粘着剤面に、支持フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績社製「PET100A4300」、厚さ100μm)を貼り合わせ、得られた積層体から剥離フィルムを剥離して第2シートを得たこと以外は、実施例1と同様にして、積層部材の加工体を得た。なお、第1のシートと第2のシートとの厚さの関係は、第2のシート>第1のシートであった。この積層部材の加工体から第2のシートの切断体を除去して、第1のシートの切断体からなるガスバリアフィルムを得た。
剥離フィルム(リンテック社製「SP−PET1031C」)の剥離処理面にアクリル系粘着剤(リンテック社製「LS411E」)を乾燥後の厚さが25μmとなるように塗布、乾燥し、その粘着剤面に支持フィルムとしてポリカーボネートフィルム(帝人社製「ピュアエースC110−75」、厚さ75μm)を貼り合わせ、得られた積層体から剥離フィルムを剥離して第2のシートを得たこと以外は、実施例1と同様にして、積層部材の加工体を得た。なお、第1のシートと第2のシートとの厚さの関係は、第2のシート>第1のシートであった。この積層部材の加工体から第2のシートの切断体を除去して、第1のシートの切断体からなるガスバリアフィルムを得た。
剥離フィルム(リンテック社製「SP−PET1031C」)の剥離処理面にアクリル系粘着剤(リンテック社製「LS411E」)を乾燥後の厚さが25μmとなるように塗布、乾燥し、その粘着剤面に支持フィルムとしてポリプロピレンフィルム(王子製紙社製「アルファンPP40」、厚さ40μm)を貼り合わせ、得られた積層体から剥離フィルムを剥離して第2のシートを得たこと以外は、実施例1と同様にして、積層部材の加工体を得た。なお、第1のシートと第2のシートとの厚さの関係は、第2のシート>第1のシートであった。この積層部材の加工体から第2のシートの切断体を除去して、第1のシートの切断体からなるガスバリアフィルムを得た。
支持フィルムと粘着剤層とを備える第2のシートとしてサンエー化研社製「サニテクトPAC−3−70」(厚さ70μm)を用いた以外は、実施例1と同様にして、積層部材の加工体を得た。なお、第1のシートと第2のシートとの厚さの関係は、第2のシート>第1のシートであった。この積層部材の加工体から第2のシートの切断体を除去して、第1のシートの切断体からなるガスバリアフィルムを得た。
支持フィルムと粘着剤層とを備える第2のシートとしてリンテック社製「SRL−0753C(AS)」(厚さ75μm)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、積層部材の加工体を得た。なお、第1のシートと第2のシートとの厚さの関係は、第2のシート>第1のシートであった。この積層部材の加工体から第2のシートの切断体を除去して、第1のシートの切断体からなるガスバリアフィルムを得た。
第2のシートを第1のシートに貼付せずに裁断加工を行ったこと以外は、実施例1と同様にして、第1のシートの切断体からなるガスバリアフィルムを得た。
剥離フィルム(リンテック社製「SP−PET1031C」)の剥離処理面にアクリル系粘着剤(リンテック社製「LS411E」)を乾燥後の厚さが25μmとなるように塗布、乾燥し、その粘着剤面に支持フィルムとしてポリエチレンフィルム(住友化学社製「スミカセンL705」からなるフィルム、厚さ110μm)を貼り合わせ、得られた積層体から剥離フィルムを剥離して第2のシートを得たこと以外は、実施例1と同様にして、積層部材の加工体を得た。この積層部材の加工体から第2のシートの切断体を除去して、第1のシートの切断体からなるガスバリアフィルムを得た。
下記条件にて炭素含有酸化ケイ素(厚さ250nm)からなるガスバリア層を形成したこと以外は、比較例1と同様にして、第1のシートの切断体からなるガスバリアフィルムを得た。なお、得られたガスバリア層の面のRaは40nm以下、Rtは900nm以下であった。
<反応性スパッタリングの条件>
・スパッタリングガス:へキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム
・ガス流量:へキサメチルジシロキサン1sccm、酸素ガス10sccm、ヘリウム10sccm
・電力値:2500W
・真空槽内圧:0.2Pa
実施例および比較例により製造したガスバリアフィルム、およびそれらのガスバリアフィルムを製造する際に使用した第2のシートの、第1のシートに対向する面と反対側の面について、ナノインデンター(MTS社製「Nano Indenter SA2」)を用いて、23℃における表面硬度を測定した。結果を表1に示す。
実施例および比較例により製造したガスバリアフィルムを製造する際に使用した第2のシートを25mm×250mmのサイズに切り出した。実施例および比較例により製造したガスバリアフィルムを製造する際に使用した第1のシートのガスバリア層の面に、上記第2のシートの粘着剤層の面を貼付した。その後、23℃、相対湿度50%の環境下で24時間放置したのち、同環境下で、引張試験機(オリエンテック社製「テンシロン」)を用いて、JIS Z0237に準じて、剥離速度300mm/分、剥離角度180°の条件での剥離試験を実施した。剥離試験において剥離に要した最大の力を粘着力(mN/25mm)とした。結果を表1に示す。
連続自動切断機(荻野精機製作所社製「PN1−600」)を用いて、実施例および比較例において製造した積層部材(比較例1のみ第1のシート)を直線状に裁断して、積層部材(比較例1のみ第1のシート)の切断体を得た。得られた切断体の裁断した端部における任意に抜き出した200μm×200μmの領域を観察対象とし、コンフォーカル顕微鏡(レーザーテック社製「HD100D」、対物レンズ:20倍)を用いて、ガスバリア層の端部や膜面のクラックや傷の有無を観察し、下記の基準に従って加工適正を評価した。
A:1μm以上の異物や傷が見られなく、かつ1μm以下の異物や傷もほぼ見られなかった(1μm以下の異物:2個未満)。
B:1μm以上の異物や傷が見られなかったが、1μm以下の異物や傷がわずかに見られた(1μm以下の異物:2〜10個)。
C:1μm以上の異物や傷が見られなかったが、1μm以下の異物や傷が多数確認された(1μm以下の異物:11個以上)。
D:1μm以上の異物や傷が確認され、かつ1μm以下の異物や傷が多数確認された。
上記基準に従って評価した結果、「A」、「B」および「C」のいずれかであった場合には、適切なガスバリア性を有するガスバリア層であると判断することができる。
10…第1のシート
11…基材
12…ガスバリア層
20…第2のシート
21…支持フィルム
22…粘着剤層
3…切断刃
Claims (11)
- 第1のシートと、第1のシートの一方の面上に配置される第2のシートとを備える積層部材の加工方法であって、
前記第1のシートは、基材と前記基材の少なくとも一方の面に積層されたガスバリア層とを備え、
前記ガスバリア層は、ナノインデンターを用いて測定される表面硬度が10GPa以上であり、
前記第2のシートは、前記第1のシートから剥離されるものであり、
前記第2のシートの前記第1のシートに対向する面と反対側の面は、ナノインデンターを用いて測定される表面硬度が0.05GPa以上、0.5GPa以下であり、
前記積層部材を、前記第2のシート側の面から機械的切断加工を行って、前記第1のシートの切断体および前記第2のシートの切断体を備える前記積層部材の加工体を得る切断工程を備えること
を特徴とする、積層部材の加工方法。 - 前記機械的切断加工は、裁断加工および抜き加工の少なくとも一方を含む、請求項1に記載の加工方法。
- 前記積層部材の加工体から前記第2のシートの切断体を除去することを含んで、前記第1のシートの切断体からなるガスバリアフィルムを得る除去工程を備える、請求項1に記載の加工方法。
- 前記第2のシートは、前記第1のシートの前記ガスバリア層側の面上に配置される、請求項1に記載の加工方法。
- 前記第2のシートは、支持フィルムと、前記支持フィルムの一方の面上に積層された粘着剤層とを備え、
前記粘着剤層側の面が前記第1のシートに対向するように前記第2のシートは配置されている、請求項1に記載の加工方法。 - 前記第1のシートの第2のシートに対向する面と反対側の面は、算術平均粗さ(Ra)が10nm以上、粗さ曲線の最大断面高さ(Rt)が150nm以上である、請求項1に記載の加工方法。
- 前記第2のシートの前記粘着剤層の面は前記第1積層体の前記ガスバリア層の面に貼付され、前記第2のシートの前記第1のシートに対する粘着力が1500mN/25mm以下である、請求項5に記載の加工方法。
- 前記第2のシートの厚さは、第1のシートの厚さよりも厚いことを特徴とする、請求項1に記載の加工方法。
- 前記第1のシートの前記ガスバリア層は、算術平均粗さ(Ra)が10nm以上50nm以下、かつ粗さ曲線の最大断面高さ(Rt)が150nm以上1000nm以下である、請求項1に記載の加工方法。
- 第1のシートと、第1のシートの一方の面上に配置される第2のシートを備える積層部材を、前記第2のシート側の面から機械的切断加工を行って得られた、前記第1のシートの切断体および前記第2のシートの切断体を備える積層部材の加工体であって、
前記第1のシートは、基材と前記基材の少なくとも一方の面に積層されたガスバリア層とを備え、
前記第2のシートは、前記第1のシートから剥離されるものであり、
前記ガスバリア層は、ナノインデンターを用いて測定される表面硬度が10GPa以上であり、
前記第2のシートの前記第1のシートに対向する面と反対側の面は、ナノインデンターを用いて測定される表面硬度が0.05GPa以上、0.5GPa以下であること
を特徴とする積層部材の加工体。 - 請求項10に記載される積層部材の加工体が備える第1のシートの切断体を備えるガスバリアフィルム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014110569 | 2014-05-28 | ||
JP2014110569 | 2014-05-28 | ||
PCT/JP2015/056508 WO2015182203A1 (ja) | 2014-05-28 | 2015-03-05 | 積層部材の加工方法、積層部材の加工体およびガスバリアフィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2015182203A1 JPWO2015182203A1 (ja) | 2017-04-20 |
JP6559662B2 true JP6559662B2 (ja) | 2019-08-14 |
Family
ID=54698545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016523183A Active JP6559662B2 (ja) | 2014-05-28 | 2015-03-05 | 積層部材の加工方法、積層部材の加工体およびガスバリアフィルム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6559662B2 (ja) |
TW (1) | TW201544325A (ja) |
WO (1) | WO2015182203A1 (ja) |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3169283B2 (ja) * | 1992-09-25 | 2001-05-21 | 日本合成化学工業株式会社 | バッグインボックス用内容器 |
JP3788101B2 (ja) * | 1998-04-24 | 2006-06-21 | 凸版印刷株式会社 | 紫外線カット性を有する透明性ガスバリア複合フィルム材料およびそれを用いた包装体 |
JP4660962B2 (ja) * | 2001-05-09 | 2011-03-30 | 住友ベークライト株式会社 | プラスチックシートまたはプラスチック製品の分割加工方法 |
JP4435109B2 (ja) * | 2006-05-01 | 2010-03-17 | リンテック株式会社 | 抜き加工用保護シートおよび光記録媒体用ハードコートフィルムの製造方法 |
JP5161660B2 (ja) * | 2008-06-02 | 2013-03-13 | 富士フイルム株式会社 | 裁断方法及び装置 |
JP2010076028A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | 積層フィルム |
JP5594860B2 (ja) * | 2009-03-27 | 2014-09-24 | リンテック株式会社 | ハードコートフィルムの加工方法、ハードコートフィルムおよび保護フィルム |
JP5247641B2 (ja) * | 2009-09-18 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルムと電子素子の貼り合わせ方法、電子素子およびその製造方法 |
WO2011108438A1 (ja) * | 2010-03-04 | 2011-09-09 | 株式会社 きもと | 機能性積層板、タッチパネル用透明導電性積層板、およびこれを用いたタッチパネル |
JP5542492B2 (ja) * | 2010-03-24 | 2014-07-09 | 三菱化学株式会社 | 表面保護パネル及び液晶画像表示装置 |
JP5562760B2 (ja) * | 2010-08-16 | 2014-07-30 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルムの製造方法 |
JP5609545B2 (ja) * | 2010-10-29 | 2014-10-22 | Tdk株式会社 | シート体加工装置およびシート体加工方法 |
JP6023174B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2016-11-09 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体、その製造方法、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
-
2015
- 2015-03-05 JP JP2016523183A patent/JP6559662B2/ja active Active
- 2015-03-05 WO PCT/JP2015/056508 patent/WO2015182203A1/ja active Application Filing
- 2015-03-13 TW TW104108035A patent/TW201544325A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2015182203A1 (ja) | 2017-04-20 |
TW201544325A (zh) | 2015-12-01 |
WO2015182203A1 (ja) | 2015-12-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6626998B2 (ja) | ガスバリア性粘着シート、その製造方法、並びに電子部材及び光学部材 | |
JP7268967B2 (ja) | フレキシブル画像表示装置用粘着剤層、フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置 | |
JP2022115914A (ja) | フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置 | |
JP6838814B2 (ja) | 剥離剤組成物、剥離シート及び粘着体 | |
WO2019026760A1 (ja) | フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置 | |
JP4918166B1 (ja) | 両面粘着シート、剥離シート付き両面粘着シート、その製造方法および透明積層体 | |
KR20090126275A (ko) | 박리시트 및 점착체 | |
JP6291679B2 (ja) | 透明導電性基板用表面保護フィルムの製造方法、透明導電性基板用表面保護フィルムおよび積層体 | |
KR20060102518A (ko) | 박리 시트 및 점착체 | |
JP2015155490A (ja) | 粘着シート | |
TW202214797A (zh) | 用於撓性影像顯示裝置內之積層體之黏著片、用於撓性影像顯示裝置之積層體、及撓性影像顯示裝置 | |
JP6456717B2 (ja) | 粘着テープ | |
JP6197103B2 (ja) | 両面粘着シート及び両面粘着シートの製造方法 | |
JP6559662B2 (ja) | 積層部材の加工方法、積層部材の加工体およびガスバリアフィルム | |
JP6259938B1 (ja) | プロテクトテープ付粘着フィルム | |
WO2019026751A1 (ja) | フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置 | |
JP2018104638A (ja) | 着色粘着テープ及び着色粘着テープの製造方法 | |
JP5771970B2 (ja) | 光学用粘着剤及び光学用粘着シート | |
JP2011110913A (ja) | バリアフィルム積層体及び該バリアフィルム積層体の製造方法 | |
JP2017112020A (ja) | 粘着シート及び発光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181211 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190207 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190702 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190717 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6559662 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |