JP6555002B2 - スクライブラインの検査方法 - Google Patents
スクライブラインの検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6555002B2 JP6555002B2 JP2015161753A JP2015161753A JP6555002B2 JP 6555002 B2 JP6555002 B2 JP 6555002B2 JP 2015161753 A JP2015161753 A JP 2015161753A JP 2015161753 A JP2015161753 A JP 2015161753A JP 6555002 B2 JP6555002 B2 JP 6555002B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- line
- light
- trench
- crack
- scribe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/10—Measuring as part of the manufacturing process
- H01L22/12—Measuring as part of the manufacturing process for structural parameters, e.g. thickness, line width, refractive index, temperature, warp, bond strength, defects, optical inspection, electrical measurement of structural dimensions, metallurgic measurement of diffusions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/71—Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
- H01L21/76—Making of isolation regions between components
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/20—Sequence of activities consisting of a plurality of measurements, corrections, marking or sorting steps
- H01L22/24—Optical enhancement of defects or not directly visible states, e.g. selective electrolytic deposition, bubbles in liquids, light emission, colour change
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/20—Sequence of activities consisting of a plurality of measurements, corrections, marking or sorting steps
- H01L22/26—Acting in response to an ongoing measurement without interruption of processing, e.g. endpoint detection, in-situ thickness measurement
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
本実施の形態においては、クラックレス状態を伴わない通常の方法によってスクライブラインが形成される場合について説明する。
本実施の形態においては、スクライブラインSL(図3)を有するガラス基板4が準備される工程(図1:ステップS10)が、クラックレス状態を伴う工程(図14)を含む場合について説明する。
10 反射部材
12 テーブル
20 レーザヘッド
21 光源
22 センサ
28 ヘッド位置調整部
29 アンプ
40 検査装置
50 カッティング器具
51 刃先
52 シャンク
AL アシストライン
CA,CL クラックライン
LI 入射光
LO 出射光
LR 反射光
LT 透過光
SA,SL スクライブライン
SF1 上面(第1の面)
SF2 下面(第2の面)
SP スポット光
TL トレンチライン
Claims (4)
- トレンチラインと、前記トレンチラインの直下で前記トレンチラインに沿って延びるクラックラインと、を有するスクライブラインの検査方法であって、
第1の面と、前記第1の面と反対の第2の面とを有する脆性基板を準備する工程を備え、前記第1の面上には前記第1の面上の一の位置において延在方向に延在する前記トレンチラインを有する前記スクライブラインが設けられており、さらに
前記脆性基板の外部から前記第1の面を経由して前記脆性基板の前記第1の面の前記一の位置の直下へレーザによる入射光を照射する工程を備え、前記入射光の光軸方向は、前記第1の面に垂直な方向を基準として、前記第1の面上において前記延在方向に垂直な方向への傾斜成分を有し、前記クラックラインが前記入射光を反射することによって、前記第2の面へ向かう反射光が生じ、さらに
前記反射光を反射することによって、前記第2の面から前記第1の面を経由して前記脆性基板の外へと向かう出射光を発生させる工程と、
前記出射光の強度を測定する工程と、
を備え、
前記入射光を照射する工程は、前記トレンチラインと交差する方向に沿って前記入射光で前記第1の面を走査することによって行われる、スクライブラインの検査方法。 - 前記出射光を発生させる工程は、前記第2の面に配置された反射部材が前記反射光を反射することによって行われる、請求項1に記載のスクライブラインの検査方法。
- 前記入射光を照射する工程は、レーザ光を光源から放射することによって行われ、
前記出射光の強度を測定する工程は、前記出射光をセンサが検出することによって行われ、
前記光源および前記センサを一緒に移動させる工程をさらに備える、請求項1または2に記載のスクライブラインの検査方法。 - 前記脆性基板を準備する工程は、
前記脆性基板の前記第1の面上に、クラックレス状態が得られるようにトレンチラインを形成する工程と、
前記クラックレス状態を維持する工程と、
前記トレンチラインに沿って延びるクラックラインを形成する工程と、
を含む、請求項1から3のいずれか1項に記載のスクライブラインの検査方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015161753A JP6555002B2 (ja) | 2015-08-19 | 2015-08-19 | スクライブラインの検査方法 |
TW105118833A TWI701749B (zh) | 2015-08-19 | 2016-06-15 | 劃線之檢查方法 |
KR1020160083009A KR102579701B1 (ko) | 2015-08-19 | 2016-06-30 | 스크라이브 라인의 검사방법 |
CN201610518193.9A CN106468669B (zh) | 2015-08-19 | 2016-07-04 | 划线的检查方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015161753A JP6555002B2 (ja) | 2015-08-19 | 2015-08-19 | スクライブラインの検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017039619A JP2017039619A (ja) | 2017-02-23 |
JP6555002B2 true JP6555002B2 (ja) | 2019-08-07 |
Family
ID=58206268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015161753A Active JP6555002B2 (ja) | 2015-08-19 | 2015-08-19 | スクライブラインの検査方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6555002B2 (ja) |
KR (1) | KR102579701B1 (ja) |
CN (1) | CN106468669B (ja) |
TW (1) | TWI701749B (ja) |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002071023A1 (fr) * | 2001-03-06 | 2002-09-12 | Toray Industries, Inc. | Procede et dispositif de controle, et procede de fabrication d'un panneau d'affichage |
WO2002104078A1 (fr) | 2001-06-14 | 2002-12-27 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | Dispositif et procede de fabrication d'un ecran electroluminescent organique |
TWI226877B (en) | 2001-07-12 | 2005-01-21 | Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd | Method of manufacturing adhered brittle material substrates and method of separating adhered brittle material substrates |
WO2004062868A1 (ja) * | 2003-01-10 | 2004-07-29 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | 脆性材料基板のスクライブ装置及びスクライブ方法並びに自動分断ライン |
JP2004265895A (ja) * | 2003-01-20 | 2004-09-24 | Tokyo Electron Ltd | 光学的測長器を備えたプローブ装置及びプローブ検査方法 |
JP2004363085A (ja) * | 2003-05-09 | 2004-12-24 | Ebara Corp | 荷電粒子線による検査装置及びその検査装置を用いたデバイス製造方法 |
JP2008115031A (ja) * | 2006-11-02 | 2008-05-22 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 被加工物の検査装置 |
JP2008222517A (ja) * | 2007-03-14 | 2008-09-25 | Toshiba Corp | 割断装置、およびフラットパネルディスプレイの製造方法 |
JP2009172669A (ja) * | 2008-01-28 | 2009-08-06 | Toray Eng Co Ltd | レーザスクライブ装置及びレーザスクライブ方法 |
JP2010083745A (ja) * | 2008-09-02 | 2010-04-15 | Hitachi Displays Ltd | 画像表示装置の製造方法及びパネル分断装置 |
US9851643B2 (en) * | 2012-03-27 | 2017-12-26 | Kla-Tencor Corporation | Apparatus and methods for reticle handling in an EUV reticle inspection tool |
US9335206B2 (en) * | 2012-08-30 | 2016-05-10 | Kla-Tencor Corporation | Wave front aberration metrology of optics of EUV mask inspection system |
TW201628751A (zh) * | 2014-11-20 | 2016-08-16 | 康寧公司 | 彈性玻璃基板之回饋控制的雷射切割 |
JP6413694B2 (ja) * | 2014-11-25 | 2018-10-31 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 脆性基板の分断方法 |
-
2015
- 2015-08-19 JP JP2015161753A patent/JP6555002B2/ja active Active
-
2016
- 2016-06-15 TW TW105118833A patent/TWI701749B/zh active
- 2016-06-30 KR KR1020160083009A patent/KR102579701B1/ko active IP Right Grant
- 2016-07-04 CN CN201610518193.9A patent/CN106468669B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102579701B1 (ko) | 2023-09-15 |
KR20170022866A (ko) | 2017-03-02 |
CN106468669A (zh) | 2017-03-01 |
JP2017039619A (ja) | 2017-02-23 |
TW201709374A (zh) | 2017-03-01 |
CN106468669B (zh) | 2021-02-09 |
TWI701749B (zh) | 2020-08-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6505773B2 (ja) | 透明材料の内部でレーザーフィラメンテーションを実行する方法および装置 | |
TWI680106B (zh) | 脆性材料基板之分斷方法 | |
JP6288258B2 (ja) | 脆性基板の分断方法 | |
JP2010003817A (ja) | レーザーダイシング方法及びレーザーダイシング装置 | |
JP2013247147A (ja) | 加工対象物切断方法、加工対象物、及び、半導体素子 | |
JP2016030293A (ja) | レーザー切断方法及びその装置 | |
JP4872503B2 (ja) | ウェハおよびウェハの加工方法 | |
JP6304375B2 (ja) | 脆性基板の分断方法およびスクライブ装置 | |
JP2008307747A (ja) | 脆性材料の割断方法 | |
JP6267505B2 (ja) | レーザダイシング方法 | |
JP6555002B2 (ja) | スクライブラインの検査方法 | |
JP6288260B2 (ja) | 脆性基板の分断方法 | |
JP2008222517A (ja) | 割断装置、およびフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
JP2023013750A (ja) | レーザ加工装置及びその制御方法 | |
JP2017065007A (ja) | 脆性基板の分断方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180723 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190314 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190326 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190510 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190611 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190624 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6555002 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |