JP6526641B2 - 被覆したコロナイオン化源のための方法及び装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 87
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 86
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 24
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 17
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910000629 Rh alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- PXXKQOPKNFECSZ-UHFFFAOYSA-N platinum rhodium Chemical compound [Rh].[Pt] PXXKQOPKNFECSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 4
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 1
- 241001354243 Corona Species 0.000 description 52
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N aqua regia Chemical compound Cl.O[N+]([O-])=O QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000132 electrospray ionisation Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 description 1
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 238000001871 ion mobility spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000005289 physical deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005491 wire drawing Methods 0.000 description 1
Images
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/16—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/16—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission
- H01J49/168—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission field ionisation, e.g. corona discharge
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/62—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating the ionisation of gases, e.g. aerosols; by investigating electric discharges, e.g. emission of cathode
- G01N27/622—Ion mobility spectrometry
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/26—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field effect ion sources, thermionic ion sources
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
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- Electrochemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
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- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
本件出願は、「被覆したコロナイオン化源のための方法及び装置(Method and Device for a Coated Corona Ionization Source)」と題して2013年6月21日に出願した米国仮出願第61/837,785号(参照により本明細書に組み入れられるものとする)の優先権を主張する。
本発明は、被覆したコロナイオン化源のための方法及び装置に関する。
102 細ワイヤ
102a ワイヤフィラメント
102b ワイヤコア
104 ワイヤ被覆
106 セラミック管
108 セラミックセメント
110 検出システム
112 サンプル源
114 イオン源
116 分析装置
118 検出器
120 取付け支柱
300 セクション
302 細ワイヤ(ワイヤコア)
302a ワイヤフィラメント
304 ワイヤ被覆
310 マスク層
Claims (19)
- 細ワイヤを備えるコロナイオン化源アセンブリであって、
前記細ワイヤは、
第1材料を含むワイヤコアと、
第2材料を含むワイヤ被覆であり、前記ワイヤコアの一部分を包囲し、また前記ワイヤ被覆の直径が前記ワイヤコアの直径よりも大きいものとする、該ワイヤ被覆と、
を有し、
第2材料を含む前記ワイヤ被覆は、銅、ニッケル、鉄、又は金属合金のうち少なくとも1つを含み、
前記ワイヤコアの被覆された部分が、前記細ワイヤを支持体に対して機械的に固定するために使用されている、コロナイオン化源アセンブリ。 - 請求項1記載のコロナイオン化源アセンブリにおいて、第1材料を含む前記ワイヤコアは、プラチナ−ロジウム合金ワイヤを含む、コロナイオン化源アセンブリ。
- 請求項1記載のコロナイオン化源アセンブリにおいて、第1材料を含む前記ワイヤコアは、プラチナ、プラチナ合金、金、イリジウム、又はタングステンのうち少なくとも1つを含む、コロナイオン化源アセンブリ。
- 請求項1〜3のうちいずれか一項記載のコロナイオン化源アセンブリにおいて、前記ワイヤコアは、100μm未満の直径を有するワイヤコアから構成する、コロナイオン化源アセンブリ。
- 請求項1〜4のうちいずれか一項記載のコロナイオン化源アセンブリにおいて、第2材料を含む前記ワイヤ被覆は、ニッケル−コバルト合金を含む、コロナイオン化源アセンブリ。
- 請求項1〜4のうちいずれか一項記載のコロナイオン化源アセンブリにおいて、第2材料を含む前記ワイヤ被覆は、少なくとも100μmの直径を有するワイヤ被覆から構成する、コロナイオン化源アセンブリ。
- 請求項1〜6のうちいずれか一項記載のコロナイオン化源アセンブリにおいて、さらに、前記細ワイヤを少なくとも1つの取付け支柱に結合する、コロナイオン化源アセンブリ。
- 検出システムにおいて、
細ワイヤを有するコロナイオン化源アセンブリであって、
前記細ワイヤは、
第1材料を含むワイヤコアと、
第2材料を含むワイヤ被覆であり、前記ワイヤコアの一部分を包囲し、また前記ワイヤ被覆の直径が前記ワイヤコアの直径よりも大きいものとする、該ワイヤ被覆と、
を有し、
第2材料を含む前記ワイヤ被覆は、銅、ニッケル、鉄、又は金属合金のうち少なくとも1つを含み、
前記ワイヤコアの被覆された部分が、前記細ワイヤを支持体に対して機械的に固定するために使用されている、該コロナイオン化源アセンブリと;
分析装置と;及び
検出器と;
を備える、検出システム。 - 請求項8記載の検出システムにおいて、第1材料を含む前記ワイヤコアは、プラチナ−ロジウム合金ワイヤから構成する、検出システム。
- 請求項8記載の検出システムにおいて、第1材料を含む前記ワイヤコアは、プラチナ、プラチナ合金、金、イリジウム、又はタングステンのうち少なくとも1つを含む、検出システム。
- 請求項8〜10のうちいずれか一項記載の検出システムにおいて、前記ワイヤコアは、100μm未満の直径を有するワイヤコアから構成する、検出システム。
- 請求項8〜11のうちいずれか一項記載の検出システムにおいて、第2材料を含む前記ワイヤ被覆はニッケル−コバルト合金を含む、検出システム。
- 請求項8〜12のうちいずれか一項記載の検出システムにおいて、イオン移動度分光分析装置又は質量分光分析装置のうち少なくとも1つの有する、検出システム。
- 細ワイヤを備えるコロナイオン化源アセンブリを作製する方法において、
ワイヤコアを形成するステップと、
前記ワイヤコアを包囲する、銅、ニッケル、鉄、又は金属合金のうち少なくとも1つを含むワイヤ被覆を形成するステップと、
前記ワイヤ被覆の少なくとも一部分上にマスク層を形成するステップと、
前記ワイヤ被覆をエッチングするステップと、
前記細ワイヤを形成するために前記マスク層を前記ワイヤ被覆から除去するステップと
前記ワイヤコアの被覆された部分を使用して前記細ワイヤを支持体に対して機械的に固定するステップと、を備える、方法。 - 請求項14記載のコロナイオン化源アセンブリを作製する方法において、前記ワイヤコアを包囲するワイヤ被覆を形成するステップは、プラチナ−ロジウム合金製のワイヤコア上にニッケル−コバルト合金を電気めっきするステップを有する、方法。
- 請求項14記載のコロナイオン化源アセンブリを作製する方法において、前記ワイヤコアを包囲するワイヤ被覆を形成するステップは、ワイヤコアを前記ワイヤ被覆の管内に挿入するステップを有する、方法。
- 請求項14記載のコロナイオン化源アセンブリを作製する方法において、前記ワイヤコアを包囲するワイヤ被覆を形成するステップは、蒸着又はプラズマ蒸着のうち少なくとも一方を使用するステップを有する、方法。
- 請求項14〜17のうちいずれか一項記載のコロナイオン化源アセンブリを作製する方法において、マスク層を形成するステップは、エッチング抵抗被覆を形成するステップを有する、方法。
- 請求項14〜18のうちいずれか一項記載のコロナイオン化源アセンブリを作製する方法において、前記ワイヤ被覆をエッチングするステップは、硝酸エッチング剤を使用するステップを有する、方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201361837785P | 2013-06-21 | 2013-06-21 | |
US61/837,785 | 2013-06-21 | ||
PCT/CA2014/050574 WO2014201564A1 (en) | 2013-06-21 | 2014-06-19 | Method and device for a coated corona ionization source |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016527666A JP2016527666A (ja) | 2016-09-08 |
JP6526641B2 true JP6526641B2 (ja) | 2019-06-05 |
Family
ID=52103748
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016520205A Active JP6526641B2 (ja) | 2013-06-21 | 2014-06-19 | 被覆したコロナイオン化源のための方法及び装置 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9837257B2 (ja) |
EP (1) | EP3011328B1 (ja) |
JP (1) | JP6526641B2 (ja) |
KR (1) | KR102220793B1 (ja) |
CN (1) | CN105339787B (ja) |
CA (1) | CA2916138C (ja) |
FI (1) | FI3011328T3 (ja) |
MX (1) | MX2015017613A (ja) |
PL (1) | PL3011328T3 (ja) |
RU (1) | RU2693560C2 (ja) |
WO (1) | WO2014201564A1 (ja) |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE411003B (sv) * | 1978-04-13 | 1979-11-19 | Soredal Sven Gunnar | Emitter for feltemission, samt sett att framstella emittern |
US4409604A (en) * | 1981-01-05 | 1983-10-11 | Dennison Manufacturing Company | Electrostatic imaging device |
US4585323A (en) * | 1984-12-12 | 1986-04-29 | Xerox Corporation | Corona generating device |
JPS63501555A (ja) * | 1985-10-15 | 1988-06-16 | デニソン マニユフアクチユアリング カムパニ− | 静電画像装置 |
JP2580156B2 (ja) * | 1987-03-30 | 1997-02-12 | 株式会社日立製作所 | 大気圧イオン化質量分析計 |
WO1993011554A1 (en) * | 1991-12-03 | 1993-06-10 | Graseby Dynamics Limited | Corona discharge ionisation source |
JPH07282953A (ja) * | 1994-04-07 | 1995-10-27 | Toshiba Corp | コロナ放電用電極および静電気除去装置 |
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JPH0845644A (ja) * | 1994-07-28 | 1996-02-16 | Toshiba Corp | コロナ放電用電極および静電気除去装置 |
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CA2533311A1 (en) | 2003-07-17 | 2005-02-24 | Sionex Corporation | Method and apparatus for plasma generation |
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JP2011514637A (ja) * | 2008-03-03 | 2011-05-06 | カール ツァイス エヌティーエス エルエルシー | コーティングされた先端部を有するガス電界電離イオン源 |
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PL2721400T3 (pl) * | 2011-06-16 | 2021-07-19 | Smiths Detection Montreal Inc. | Zapętlone źródło jonizacji |
-
2014
- 2014-06-19 FI FIEP14813907.4T patent/FI3011328T3/fi active
- 2014-06-19 JP JP2016520205A patent/JP6526641B2/ja active Active
- 2014-06-19 MX MX2015017613A patent/MX2015017613A/es unknown
- 2014-06-19 CA CA2916138A patent/CA2916138C/en active Active
- 2014-06-19 PL PL14813907.4T patent/PL3011328T3/pl unknown
- 2014-06-19 RU RU2015155790A patent/RU2693560C2/ru active
- 2014-06-19 KR KR1020167001590A patent/KR102220793B1/ko active IP Right Grant
- 2014-06-19 EP EP14813907.4A patent/EP3011328B1/en active Active
- 2014-06-19 WO PCT/CA2014/050574 patent/WO2014201564A1/en active Application Filing
- 2014-06-19 CN CN201480035363.7A patent/CN105339787B/zh active Active
- 2014-06-19 US US14/900,539 patent/US9837257B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3011328B1 (en) | 2022-08-24 |
MX2015017613A (es) | 2017-07-26 |
KR20160023802A (ko) | 2016-03-03 |
CN105339787B (zh) | 2020-04-07 |
RU2015155790A (ru) | 2017-07-26 |
JP2016527666A (ja) | 2016-09-08 |
EP3011328A4 (en) | 2017-02-22 |
US20160155623A1 (en) | 2016-06-02 |
EP3011328A1 (en) | 2016-04-27 |
CA2916138C (en) | 2023-03-21 |
FI3011328T3 (fi) | 2022-12-15 |
CA2916138A1 (en) | 2014-12-24 |
WO2014201564A1 (en) | 2014-12-24 |
PL3011328T3 (pl) | 2022-12-27 |
RU2015155790A3 (ja) | 2018-05-11 |
RU2693560C2 (ru) | 2019-07-03 |
CN105339787A (zh) | 2016-02-17 |
US9837257B2 (en) | 2017-12-05 |
KR102220793B1 (ko) | 2021-02-25 |
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