JP6518242B2 - ハロゲン化されたビフェニルアニリドおよびビフェニルアニリンの改善された製造方法 - Google Patents

ハロゲン化されたビフェニルアニリドおよびビフェニルアニリンの改善された製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、ブロモ−もしくはヨードアニリド、またはブロモ−もしくはヨードアニリンと、塩化有機ホウ素化合物の鈴木カップリングにより、ハロゲン化されたビフェニルアニリドおよびビフェニルアニリンを製造する方法に関する。ビフェニルアニリドおよびビフェニルアニリンは、殺菌作用を有する作物保護剤の製造のための前駆体としての役割を果たす。
国際公開第2006/092429号、国際公開第2007/138089号および国際公開第2009/135598号によると、パラジウムにより触媒される、式（ＩＩ）のハロゲン化芳香族と式（ＩＩＩ）の有機ホウ素化合物とのクロスカップリングは、下記スキーム１の一般式（Ｉ）のハロゲン化ビフェニルアニリンおよびハロゲン化ビフェニルアニリドの両方を提供する。
Figure 0006518242
式中、置換基はそれぞれ以下のように定義される：
Ｘは、水素、フッ素または塩素であり；
Ｈａｌはハロゲンであり；
Ｒ１は、保護アミノ基、ＮＯ２、ＮＨ２およびＮＨＲ３から選択され；
Ｒ２は、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルケニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）カルボニルおよびフェニルから選択され；
Ｒ３は、水素、−ＣＨ２−（Ｃ＝Ｏ）ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、Ｃ１−Ｃ８−アルケニル、Ｃ１−Ｃ８−アルキニルおよびＣ６−Ｃ１８−アリールから選択され；
ｎは、１、２および３から選択され、
ｐは、１、２、３および４から選択され、かつ、
Ｑは、ヒドロキシル、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｃ１−４−アルキル、Ｃ６−１０−アリール、Ｃ１−４−アルコキシおよびＣ６−１０−アリールオキシ、それらが結合しているホウ素原子とともに、Ｃ１−４−アルキル基で置換されていてもよい５または６員環を形成するＣ１−４−アルコキシ基から選択され、
式（ＩＩＩ）の化合物は異なる有機ホウ素化合物を含む。
上記スキームで示した鈴木反応に用いられる配位子は、非置換または置換トリアルキル−またはトリアリールホスフィンを含む。さらに、国際公開第2001/042197号によれば、ジアルキルアリールホスフィンは、配位子としても好適である。使用可能なホスフィン配位子の選択は、国際公開第2004/052939号のｐ．３４ ｆｆ．により、リン上の一つの基がビフェニルをベースとする骨格からなるホスフィンを含むまでに拡大された。
一般式（ＩＩ）において、置換基
Ｈａｌが、臭素またはヨウ素であり、かつ、
Ｘが、水素、フッ素または塩素であり、
Figure 0006518242
 かつ、一般式（ＩＩ）中の置換基Ｒ２が塩素である場合、
Figure 0006518242
 鈴木反応の条件下で形成される塩化ビフェニルアニリドまたは塩化ビフェニルアニリンは、一般式（ＩＩＩ）のホウ素化合物とさらに反応して一般式（ＩＶ）のトリアリールおよびその高級同族体を生成する（スキーム２）。このさらなる反応により、所望の一般式（Ｉ）のビフェニルアニリドまたはビフェニルアニリンの収率損失をもたらされる。
Figure 0006518242
このさらなる反応が起こる程度は、反応で用いられるホスフィン配位子により基本的に決定される。
国際公開第2004/052939号は、アリールの鈴木反応を触媒し、臭化アリールに比べて反応性が低いアリールビフェニルホスフィンおよびジ（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニルホスフィンを、フェニルボロン酸とともに、非常に穏やかな条件下で用いることが記載されている。このような場合、トリアリールがきわめて大量に形成されると推測される。
窒素原子に保護基を導入することによって、国際公開第2009/135598号に記載されているように、トリアリールの割合を低下させることが可能となる。鈴木反応においては、トリアルキル−またはトリアリールホスフィンのいずれも使用可能である。
トリアリールの形成をきわめて低い程度にすることができ、塩化ビフェニルアニリドまたは塩化ビフェニルアニリンの経済的な入手方法を確かにすることができる配位子を見出すことが本発明の目的である。
驚くべきことに、本発明の目的は、式（Ｉ）の塩化ビフェニルアニリドおよび塩化ビフェニルアニリン
Figure 0006518242
 ［式中、置換基はそれぞれ以下のように定義される：
Ｘは、水素、フッ素および塩素から選択され；
Ｒ１は、保護アミノ基、ＮＯ２、ＮＨ２およびＮＨＲ３から選択され；
Ｒ２は塩素であり；
Ｒ３は、−ＣＨ２−（Ｃ＝Ｏ）ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、Ｃ１−Ｃ８−アルケニル、Ｃ１−Ｃ８−アルキニルおよびＣ６−Ｃ１８−アリールから選択され；
ｎは１、２および３から選択される］
の改善された製造方法であって、
一般式（ＩＩ）のハロ芳香族
Figure 0006518242
 ［式中、
Ｈａｌは、臭素およびヨウ素から選択され；かつ、ＸおよびＲ１は、それぞれ上記で定める通りである］
と、
式（ＩＩＩ）の有機ホウ素化合物
Figure 0006518242
 であって、
（ｉ）式（ＩＩＩ）のボロン酸
［式中、
ｍは２であり、
ｐは１であり、
Ｑ１およびＱ２は、それぞれヒドロキシル基であり、
Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］、
または、該式（ＩＩＩ）のボロン酸から形成される無水物、二量体もしくは三量体；
（ｉｉ）式（ＩＩＩ）のボロン酸誘導体
［式中、
ｍは２であり、
ｐは１であり、
Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立して、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｃ１−４−アルキル、Ｃ６−１０−アリール、Ｃ１−４−アルコキシおよびＣ６−１０−アリールオキシから選択され、
Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］
（ｉｉｉ）式（ＩＩＩ）のボリン酸
［式中、
ｍは１であり、
ｐは２であり、
Ｑは、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｃ１−４−アルキル基、Ｃ６−１０−アリール基、Ｃ１−４−アルコキシ基およびＣ６−１０−アリールオキシ基から選択され、
Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］；
（ｉｖ）式（ＩＩＩ）の環状ボロン酸エステル
［式中、
ｍは２であり、
ｐは１であり、
Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立して、それらが結合しているホウ素原子とともに、Ｃ１−４−アルキル基で置換されていてもよい５または６員環を形成するＣ１−４−アルコキシ基から選択され、
Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］；
（ｖ）式（ＩＩＩ）のボロン酸エステル
［式中、
ｍは３であり、
ｐは１であり、
Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りであり、
Ｑ１〜Ｑ３は、それぞれ独立して、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｃ１−４−アルキル基、Ｃ６−１０−アリール基、Ｃ１−４−アルコキシ基およびＣ６−１０−アリールオキシ基から選択され、かつ、
ボロン酸エステルのアニオンの負電荷はカチオンにより相殺されている］；
（ｖｉ）式（ＩＩＩ）のトリアリールボラン
［式中、
ｍは０であり、
ｐは３であり、
Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］；
（ｖｉｉ）式（ＩＩＩ）のホウ酸テトラアリール
［式中、
ｍは０であり、
ｐは４であり、
Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りであり、かつ、
ボロン酸エステルのアニオンの負電荷はカチオンにより相殺されている］
からなる群から選択される式（ＩＩＩ）の有機ホウ素化合物とを、塩基、および、
ａ）酸化状態が０のパラジウムと式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩からなる錯体
ｂ）式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩の存在下におけるパラジウム塩、および、
ｃ）式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩の存在下における、所望により支持体に担持されていてもよい、金属パラジウム
からなる群から選択されるパラジウム触媒であって、前記式（Ｖ）のホスフィン配位子が、下記：
Figure 0006518242
 ［式中、
Ｒ６は、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、フェニルおよびＮＲ７から選択され、かつ、
Ｒ７は（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２から選択される］
またはその塩である、パラジウム触媒の存在下において、溶媒中で反応させることによる方法によって達成される。
本発明の一つの態様は、上述した式（Ｉ）の置換ビフェニルアニリド
Figure 0006518242
 ［式中、
Ｘは、水素、フッ素および塩素から選択され；
Ｒ１は、−ＮＨ（ＣＯ）Ｒ３、−Ｎ＝ＣＲ４Ｒ５、ＮＯ２、ＮＨ２およびＮＨＲ３から選択され；
Ｒ２は塩素であり；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立して、水素、−ＣＨ２−（Ｃ＝Ｏ）ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、Ｃ１−Ｃ８−アルケニル、Ｃ１−Ｃ８−アルキニルおよびＣ６−Ｃ１８−アリールから選択されるか；または、
Ｒ４、Ｒ５は、それらが結合している炭素原子とともに、Ｎ、ＯおよびＳから選択される１、２または３個のヘテロ原子を含む５または６員環を形成してもよく、
ｎは、１、２および３から選択される］
の製造方法に関する。
本発明の一つの態様では、使用されるホスフィン配位子は式（Ｖ−ｉ）の化合物
Figure 0006518242
 ［式中、
Ｒ６は、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、フェニルおよびＮＲ７から選択され、かつ、
Ｒ７は、（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２から選択され、かつ、
Ｙは、ＢＦ４ −、過塩素酸塩および硫酸水素塩からなる群から選択される］
である。
驚くべきことに、一般式（Ｖ）のホスフィン配位子
Figure 0006518242
 ［式中、
Ｒ６は、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、フェニルおよびＮＲ７から選択され、かつ、
Ｒ７は（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２から選択される］
またはその塩を、スキーム１による鈴木反応において用いることにより、塩化ビフェニルアニリドまたは塩化ビフェニルアニリンが、高い選択性およびわずかなトリアリールの形成をもって得られた。
有機ホウ素化合物
本発明の方法において用いることができる有機ホウ素化合物：
（ｉ）式（ＩＩＩ）のボロン酸
［式中、
ｍは２であり、
ｐは１であり、
Ｑ１およびＱ２は、それぞれヒドロキシル基であり、
Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］
または、該式（ＩＩＩ）のボロン酸から形成される無水物、二量体もしくは三量体
は、好ましくは溶媒としてのＴＨＦ中で、ホウ酸トリアルキルを用いてハロゲン化アリールマグネシウムを変換することによって得ることができる。アリールボリン酸の形成を抑制するためには、R. M. Washburn et al. Organic Syntheses Collective Volume 4, 68またはBoronic Acids, editor: Dennis G. Hall, Wiley-VCH 2005, p. 28 ffおよびそれらの中で引用されている参考文献に記載されているように、上記の２つの試薬のいずれも過剰となることを避け、かつ、反応を−６０℃の低温で行う必要がある。
本発明において用いることができるボロン酸の例には、以下の化合物が含まれる：
４−クロロフェニルボロン酸、３−クロロフェニルボロン酸、２−クロロフェニルボロン酸、３，４−ジクロロフェニルボロン酸および２，３−ジクロロフェニルボロン酸、特に、３，４−ジクロロフェニルボロン酸。
（ｉｉ）式（ＩＩＩ）のボロン酸誘導体
［式中、
ｍは２であり、
ｐは１であり、
Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立して、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ，Ｃ１−４−アルキル、Ｃ６−１０−アリール、Ｃ１−４−アルコキシおよびＣ６−１０−アリールオキシから選択され、
Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］；
（ｉｉｉ）式（ＩＩＩ）のボリン酸
［式中、
ｍは１であり、
ｐは２であり、
Ｑは、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｃ１−４−アルキル基、Ｃ６−１０−アリール基、Ｃ１−４−アルコキシ基およびＣ６−１０−アリールオキシ基から選択され、
Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］
は、国際公開第2007/138089号により、スキーム３に記載されているように、所望により置換されていてもよいフェニルマグネシウムクロリドＶとホウ酸トリアルキル、好ましくはホウ酸トリメチルとを、溶媒としてのテトラヒドロフランの中で反応させることにより得ることができる
Figure 0006518242
 ［式中、
Ｒ４はＣ１−４−アルキル、好ましくはメチルであり、
Ｈａｌは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉである］。
ｍが１であり、ｐが２であり、ＱがＯＨであり、Ｒ２およびｎがそれぞれ上記で定める通りである、式（ｉｉｉ）のジフェニルボリン酸から出発することが好ましい。
さらなる出発物質は、ｎが１または２、特に２である、ジフェニルボリン酸（ｉｉｉ）である。特に好ましくは、３および４位、または４位のみが置換されたジフェニルボリン酸（ｉｉｉ）である。
本発明において用いることができるボリン酸は、ビス（３，４−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（２，３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（４−ジクロロフェニル）ボリン酸、４−クロロフェニルボロン酸、３−クロロフェニルボロン酸、２−クロロフェニルボロン酸、３，４−ジクロロフェニルボロン酸および２，３−ジクロロフェニルボロン酸からなる群から選択される。本発明の一つの態様では、式（ＩＩＩ）の化合物は、ビス（３，４−ジクロロフェニル）ボリン酸および４−クロロフェニルボロン酸から選択される。
ジフェニルボリン酸（ｉｉｉ）の高収率のための必須要素は、用いられる置換クロロベンゼン（ＩＶ）に対して、０．７当量のホウ酸トリアルキルを使用することである。１．１当量のホウ酸トリアルキル用いた場合、欧州公開第A0888261号に記載されているように、フェニルボロン酸が形成される。
この製造段階における反応温度は、例えば、−２０〜１００℃、２０〜８０℃または４０〜６０℃の範囲である。
（ｉｖ）式（ＩＩＩ）の環状ボロン酸エステル
［式中、
ｍは２であり、
ｐは１であり、
Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立して、それらが結合するホウ素原子とともに、Ｃ１−４−アルキル基で置換されていてもよい５または６員環を形成するＣ１−４−アルコキシ基から選択され、
Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］
は、Boronic Acids, editor: Dennis G. Hall, Wiley-VCH 2005, p. 28 ffおよびその中で引用されている参考文献に記載されているようにして得ることができる。
本発明において用いることができる環状ボロン酸エステルの例には、以下の式（ｉｖ−１）〜（ｉｖ−３）の化合物：
Figure 0006518242
 ［式中、
Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］
が含まれる。
（ｖ）式（ＩＩＩ）のボロン酸エステル
［式中、
ｍは３であり、
ｐは１であり、
Ｒ２およびｎは、上記で定義されている通りであり、
Ｑ１〜Ｑ３は、それぞれ独立して、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｃ１−４−アルキル基、Ｃ６−１０−アリール基、Ｃ１−４−アルコキシ基およびＣ６−１０−アリールオキシ基から選択され、かつ、
下記の式（ｉｖ−１）により示されるように、ボロン酸エステルのアニオンの負電荷はカチオンにより相殺されている］。
カチオン（Ｍ＋）は、例えば、アンモニウム（ＮＨ４＋）、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｌｉ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋のようなアルカリ金属またはアルカリ土類金属のカチオンからなる群から選択される。
ボロン酸エステル（ｖ）は、Serwatowski et al., Tetrahedron Lett. 44, 7329 (2003)に記載されているようにして得ることができる。
（ｖｉ）式（ＩＩＩ）のトリアリールボラン
［式中、
ｍは０であり、
ｐは３であり、
Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］。
トリアリールボラン（ｖｉ）は、H. C. Brown et al., J. Organomet. Chem. 73, 1 (1988)およびH. C. Brown et al., “Borane reagents”, Verlag Harcourt Brace Jovanovich, (1988)に記載されているようにして得ることができる。
（ｖｉｉ）式（ＩＩＩ）のホウ酸テトラアリール
［式中、
ｍは０であり、
ｐは４であり、
Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである、
ボロン酸エステルのアニオンの負電荷は、例えば、アンモニウム（ＮＨ４ ＋）、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｌｉ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋のようなアルカリ金属またはアルカリ土類金属のカチオンからなる群から選択されるカチオンにより相殺されている］。
ホウ酸テトラアリール（ｖｉｉ）は、J. Serwatowski et al., Tetrahedron Lett. 44, 7329 (2003)に記載されているようにして得ることができる。
鈴木カップリング
本発明によれば、式（Ｉ）の塩化ビフェニルアニリドおよび塩化ビフェニルアニリンを高い選択性および高い収率をもって製造することができる。
一般式（Ｖ）のホスフィン配位子
Figure 0006518242
 ［式中、
Ｒ６は、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、フェニルおよびＮＲ７から選択され、かつ、
Ｒ７は（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２から選択される］
またはその塩を用いることにより、脂肪族ホスフィン配位子を使用する場合と比較して、トリアリールの割合を減少させることができる。この式（Ｉ）または（ＩＩ）におけるＲ１は、保護アミノ基、ＮＯ２、ＮＨ２およびＮＨＲ３であり、Ｒ３は上記で定める通りである。
国際公開第WO2009/135598号に開示されているように、鈴木カップリングは、式（ＩＩ）のハロゲン化アリールのアミノ基を保護基により保護する場合よりも穏やかな反応条件下で行われる。従って、脱ハロゲン化物、トリアリールおよびポリ塩化ビフェニル（ＰＣＢ）のような不要な副生成物はかなり減少する。
本文脈において「保護基」とは、鈴木カップリング工程の間、式（ＩＩ）のハロゲン化アリールのアミノ基を改変するために用いることができ、カップリング後に、例えば、酸水溶液との反応によって、式（Ｉ）の置換ビフェニルアニリドの元々のアミンを改質するために脱離することができるすべての種類の化学基を意味する。この工程は脱保護と呼ばれる。
アミノ基の保護に一般的に用いることができる保護基の例としては以下の基が含まれる：
アミノ基とアルデヒドまたはケトンとの反応によって得られるシッフ塩基（ＲＲ’’Ｃ＝Ｎ−Ｒ’）。シッフ塩基保護基は、例えば、酸処理によって、J. Am. Chem. Soc. 1960, 82, 5688に記載されているようなＰｄ／Ｃ／水素による水素化によって、またはJ. Chem. Soc. C, 1969, 1758に記載されているようなエタノール中のヒドラジンを用いて脱離することができる。
好ましくは、アセトン、ベンゾフェノンまたはピナコロンのようなケトン類、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒドまたはベンゾアルデヒドのようなアルデヒド類を用いる。
アセチルアミノ基およびアセトアセチルアミノ基は、アミノ基と酢酸またはアセト酢酸エステルとの反応によって得ることができる。これらの基は、酸処理によって脱離させることができる。
本発明の一つの態様では、式（ＩＩ）のハロゲン化アリールのアミノ基は、シッフ塩基によって、アセチルアミノ基によって、またはアセトアセチルアミノ基によって保護される。
本発明のさらに好ましい態様では、
Ｘは、水素、フッ素および塩素から選択され；
Ｒ１は、−ＮＨ（ＣＯ）Ｒ３、−Ｎ＝ＣＲ４Ｒ５およびＮＨ２から選択され；
Ｒ２は塩素であり；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立して、水素、−ＣＨ２−（Ｃ＝Ｏ）−Ｃ１−８−アルキル、Ｃ１−８−アルキル、Ｃ１−８−アルケニル、Ｃ１−８−アルキニルおよびＣ６−１８−アリールから選択されるか；または、
Ｒ４、Ｒ５は、それらが結合している炭素原子とともに、Ｎ、ＯおよびＳから選択される１、２または３個のヘテロ原子を有する５または６員環を形成してもよく；かつ、
ｎは、１、２および３から選択される。
本発明の他の態様では、本発明の方法により製造された置換ビフェニルは、それぞれ独立して、または組み合わせて、下記置換基を有する：
Ｘは、水素、フッ素および塩素から選択され；
Ｒ１は、−ＮＨ（ＣＯ）ＣＨ３およびＮＨ２から選択され；
Ｒ２は塩素であり；
ｎは、１および２から選択され、好ましくは２である。
下記の均一に触媒された鈴木ビアリールクロスカップリングは、スキーム１により行われる。
Figure 0006518242
 スキーム中、使用される配位子は式（Ｖ）の化合物またはその塩である。置換基は上述する通りである。
式（Ｖ）のホスフィン配位子は、例えば、テトラフルオロホウ酸塩（Org. Lett. 2001, 3, 4295）、過塩素酸塩または硫酸水素塩などのホスホニウム塩の形態で使用してもよく、塩基によりin situでそれらから脱離され得る。
使用できる塩基は、その塩基がもたらす酸の中和と同様に、アリールボロン酸の活性化によりアニオン性ボロン酸エステル種を生成する反応工程において好ましい効果を有する。このような活性化は、上述した塩基と同様に、例えば、ＣａＦ、ＮａＦ、ＫＦ、ＬｉＦまたはＣｓＦのようなフッ化物塩を添加することによっても達成され得る。
使用されるパラジウム触媒は、一般的にin situで、少なくとも１つのパラジウム（ＩＩ）塩またはパラジウム（０）化合物と適切なホスフィン配位子とから製造される。しかしながら、これらは、パラジウム（０）化合物の形態でそのまま使用することもでき、その結果として初期の触媒活性の低下を伴うこともない。
下記の製造例は、例えば、［（ｔ−Ｂｕ）２ＰｈＰＨ］ＢＦ４のような式（Ｖ）のアリールアルキルホスフィン配位子の、例えば、［（ｔ−Ｂｕ）３ＰＨ］ＢＦ４のようなアルキルホスフィン配位子に対する驚くべき優位性を明確に示す。本発明の式（Ｖ）の配位子またはその塩を使用した場合、例えば、［（ｔ−Ｂｕ）３ＰＨ］ＢＦ４のようなアルキルホスフィン配位子の使用した場合と比較して、トリアリールの形成が明確に減少する。
化合物（ＩＩ）の例は、Ｎ−（２−ブロモ−４−フルオロフェニル）アセトアミド、Ｎ−（２−ブロモフェニル）アセトアミド、Ｎ−（２−ブロモフェニル）−３−オキソブタンアミド、Ｎ−（２−ブロモ−４−フルオロフェニル）−３−オキソブタンアミド、２−ブロモ−Ｎ−（プロパン−２−イリデン）アニリン、２−ブロモ−４−フルオロ−Ｎ−（プロパン−２−イリデン）アニリン、２−ブロモ−４−フルオロアニリン、２−ブロモアニリンからなる群から選択される。
従って、本発明は、化合物（ＩＩ）が、Ｎ−（２−ブロモ−４−フルオロフェニル）アセトアミド、Ｎ−（２−ブロモフェニル）アセトアミド、Ｎ−（２−ブロモフェニル）−３−オキソブタンアミド、Ｎ−（２−ブロモ−４−フルオロフェニル）−３−オキソブタンアミド、２−ブロモ−Ｎ−（プロパン−２−イリデン）アニリン、２−ブロモ−４−フルオロ−Ｎ−（プロパン−２−イリデン）アニリン、２−ブロモ−４−フルオロアニリン、２−ブロモアニリンからなる群から選択される、上述の方法も提供する。
化合物（ＩＩ）は、有機ホウ素化合物（ＩＩＩ）（ホウ素当量）に対して、通常は等モル量、好ましくは最大で２０％過剰に、特に最大で５０％過剰に、中でも特に最大で１００％過剰に用いられる。
式（ＩＩＩ）の好ましい化合物は、式（ＩＩＩ）（ｉｉｉ）のボリン酸および式（ＩＩＩ）（ｉ）または（ｉｉ）のボロン酸の両方を含む。採算性の理由から、好ましくは式（ＩＩＩ）（ｉｉｉ）のボリン酸が用いられる。
式（ＩＩＩ）の好ましい化合物の例は、ビス（３，４−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（２，３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（４−ジクロロフェニル）ボリン酸、４−クロロフェニルボロン酸、３−クロロフェニルボロン酸、２−クロロフェニルボロン酸、３，４−ジクロロフェニルボロン酸および２，３−ジクロロフェニルボロン酸からなる群から選択される。
式（ＩＩＩ）の好ましい化合物はまた、ビス（３，４−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（２，３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（３−ジクロロフェニル）ボリン酸およびビス（４−ジクロロフェニル）ボリン酸からなる群からも選択される。
本発明における化合物（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の組合せの例は：
化合物（ＩＩ）が２−ブロモ−フルオロアセトアニリドであり、化合物（ＩＩＩ）が、ビス（３，４−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（２，３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（４−ジクロロフェニル）ボリン酸、４−クロロフェニルボロン酸、３−クロロフェニルボロン酸、２−クロロフェニルボロン酸、３，４−ジクロロフェニルボロン酸および２，３−ジクロロフェニルボロン酸からなる群から選択される。
化合物（ＩＩ）が２−ブロモ−４−フルオロアニリンであり、化合物（ＩＩＩ）が、ビス（３，４−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（２，３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（４−ジクロロフェニル）ボリン酸、４−クロロフェニルボロン酸、３−クロロフェニルボロン酸、２−クロロフェニルボロン酸、３，４−ジクロロフェニルボロン酸および２，３−ジクロロフェニルボロン酸からなる群から選択される。
化合物（ＩＩ）が２−ブロモアセトアニリドであり、化合物（ＩＩＩ）が、ビス（３，４−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（２，３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（４−ジクロロフェニル）ボリン酸、４−クロロフェニルボロン酸、３−クロロフェニルボロン酸、２−クロロフェニルボロン酸、３，４−ジクロロフェニルボロン酸および２，３−ジクロロフェニルボロン酸からなる群から選択される。
化合物（ＩＩ）が２−ブロモアニリンであり、化合物（ＩＩＩ）が、ビス（３，４−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（２，３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（４−ジクロロフェニル）ボリン酸、４−クロロフェニルボロン酸、３−クロロフェニルボロン酸、２−クロロフェニルボロン酸、３，４−ジクロロフェニルボロン酸および２，３−ジクロロフェニルボロン酸からなる群から選択される。
本発明のさらなる態様では、化合物（ＩＩ）が２−ブロモ−４−フルオロアセトアニリドであり、化合物（ＩＩＩ）がビス（３，４−ジクロロフェニル）ボリン酸である。
本発明のさらなる態様では、化合物（ＩＩ）が２−ブロモ−４−フルオロアニリンであり、化合物（ＩＩＩ）がビス（３，４−ジクロロフェニル）ボリン酸である。
本発明のさらなる態様では、化合物（ＩＩ）が２−ブロモアセトアニリドであり、化合物（ＩＩＩ）が４−クロロフェニルボロン酸である。
本発明のさらなる態様では、化合物（ＩＩ）が２−ブロモアニリンであり、化合物（ＩＩＩ）が４−クロロフェニルボロン酸である。
使用される塩基は、例えば、第３級アミンのような有機塩基であってもよい。好ましくは、例えば、トリエチルアミンまたはジメチルシクロヘキシルアミンが用いられる。使用される塩基は、混合物または特には単独で、好ましくはアルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属酢酸塩、アルカリ土類金属酢酸塩、アルカリ金属アルコキシドおよびアルカリ土類金属アルコキシドである。特に好ましい塩基は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩およびアルカリ金属炭酸水素塩である。特に好ましい塩は、アルカリ金属水酸化物、例えば、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムであり、また、アルカリ金属炭酸塩ならびにアルカリ金属炭酸水素塩、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムである。本発明の一つの態様では、塩基は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩およびアルカリ金属炭酸水素塩から選択される。本発明のさらなる態様では、塩基は、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｌｉ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３およびＫ２ＣＯ３から選択される。本発明の方法において、塩基は、有機ホウ素化合物（ＩＩＩ）の量に対して、好ましくは１００〜５００ｍｏｌ％、さらに好ましくは１５０〜４００ｍｏｌ％の割合で使用される。
好適なパラジウム触媒は、酸化状態が０のパラジウムを有するパラジウム−配位子錯体、錯体配位子の存在下におけるパラジウム塩、または、一般式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩の存在下における、所望により支持体に担持されていてもよい金属パラジウムである
Figure 0006518242
 ［式中、
Ｒ６は、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、フェニルおよびＮＲ７から選択され、かつ、
Ｒ７は（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２から選択される］。
本発明のさらなる態様では、
Ｒ６は、水素、メチル、ジフルオロメチルおよびトリフルオロメチルから選択され、かつ、
Ｒ７は（ＣＨ３）２である。
本発明の一つの態様では、式（Ｖ）のホスフィン配位子は、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニルホスフィン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−［４−（トリフルオロメチル）フェニル］ホスフィン、４−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンおよびジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−（４−メチルフェニル）ホスフィンから選択される。
本発明のさらなる態様では、一般式（Ｖ）のホスフィン配位子はジ（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニルホスフィンである。
本発明はまた、式（Ｖ）の化合物
Figure 0006518242
 ［式中、
Ｒ６は、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、フェニルおよびＮＲ７から選択され、かつ、
Ｒ７は（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２から選択される］
も提供する。
本発明は、さらに式（Ｖ）の化合物
Figure 0006518242
 ［式中、
Ｒ６は、水素、メチル、モノ〜トリハロゲン化メチルおよびＮＲ７から選択され、かつ、
Ｒ７は（ＣＨ３）２である］
を提供する。
式（Ｖ）で示されるホスフィンはまた、その塩の形態、例えば、テトラフルオロホウ酸塩、過塩素酸塩または硫酸水素塩の形態で使用することもでき、塩基を添加することによりin situで脱離され得る。
本発明はさらに、式（Ｖ−ｉ）の化合物
Figure 0006518242
 ［式中、
Ｒ６は、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、フェニルおよびＮＲ７から選択され、かつ、
Ｒ７は（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２から選択され、かつ、
Ｙは、ＢＦ４ −、過塩素酸塩および硫酸水素塩からなる群から選択される］
を提供する。
本発明の一つの態様では、パラジウム触媒は、
ａ）酸化状態が０のパラジウムと式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩との錯体、
ｂ）式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩の存在下におけるパラジウム塩、および、
ｃ）式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩の存在下における、所望により支持体に担持されていてもよい、金属パラジウム
からなる群から選択される。
本発明の一つの態様は、パラジウム触媒ａ）が、酸化状態が０のパラジウムと式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩との錯体である、上述した方法である。
本発明のさらなる態様は、パラジウム触媒ｂ）が用いられる、上述した方法である。さらなる態様では、パラジウム触媒ｂ）の塩は、塩化パラジウム、酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナートおよびビス（アセトニトリル）パラジウムクロリドからなる群から選択される。
本発明のさらなる態様は、パラジウム触媒ｃ）が使用され、このパラジウム触媒ｃ）は、一般式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩の存在下における活性炭素に担持された金属パラジウムからなる。
錯体の配位子の反応性は、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ）のような第４級アンモニウム塩を添加することにより増強することができる（例えば、D. Zim et al., Tetrahedron Lett. 2000, 41, 8199参照）。必要に応じて、パラジウム錯体の水溶性は、スルホン基またはスルホン酸基、カルボン酸基またはカルボキシラート基、ホスホン酸基、ホスホニウム基またはホスホナート基、パーアルキルアンモニウム基、ヒドロキシル基およびポリエーテル基のような様々な置換基によって改善することができる。
酸化状態が０のパラジウムを有するパラジウム配位子錯体の中で、好ましくはテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、さらに、テトラキス［トリ（ｏ−トリル）ホスフィン］パラジウムが使用される。錯体配位子の存在下において使用されるパラジウム塩において、パラジウムは通常、２の正の酸化状態で存在する。本発明の好ましい態様では、パラジウム触媒ｂ）は、塩化パラジウム、酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナートおよびビス（アセトニトリル）パラジウムクロリドからなる群から選択される。特に好ましくは、パラジウムアセチルアセトナートが使用される。
式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩の一つに対するパラジウムのモル比は、４：１〜１：１００の間であり、好ましくは１：１〜１：５の間であり、より好ましくは１：１〜１：２の間である。
所望により支持体に担持されていてもよい金属パラジウムを使用する場合、特に好ましくは、上述した式（Ｖ）または（Ｖ−ｉ）のホスフィン配位子を添加して用いる。本発明の方法において、パラジウム触媒は、化合物（ＩＩ）の量に対して０．００１〜１．０ｍｏｌ％、好ましくは０．００５〜０．５ｍｏｌ％、または０．０１〜０．５ｍｏｌ％の少ない割合、特に０．００５〜０．０５ｍｏｌ％で使用される。
本発明の方法は、水相と固相、すなわち触媒、からなる二相系において行うことができる。水相は、水と同様に水溶性の有機溶媒を含んでいてもよい。
本発明の方法に好適な有機溶媒は、それぞれ単独または混合物で、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンおよびｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルのようなエーテル類、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンのような炭化水素類、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、エチレングリコール、１−ブタノール、２−ブタノールおよびｔｅｒｔ−ブタノールのようなアルコール類、アセトン、エチルメチルケトンおよびイソブチルメチルケトンのようなケトン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチルピロリドンのようなアミド類である。
好ましい溶媒は、それぞれ単独または混合物で、ジメトキシエタン、テトラヒドロフランおよびジオキサンのようなエーテル類、シクロヘキサン、トルエンおよびキシレンのような炭化水素類、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールおよびｔｅｒｔ−ブタノールのようなアルコール類である。本発明の方法の特に好ましい変形態様では、例えば、水とジオキサンの混合物、または水とテトラヒドロフランの混合物、または水、ジオキサンとエタノールの混合物、または水、テトラヒドロフランとメタノールの混合物、または水、トルエンとテトラヒドロフランの混合物、好ましくは水とテトラヒドロフランの混合物、または水、テトラヒドロフランとメタノールの混合物などの、１種以上の水不溶性溶媒および１種以上の水溶性溶媒が用いられる。
本発明の一つの態様では、反応は水と有機溶媒の混合物中で行われる。本発明のさらなる態様では、反応は水と１−ブタノールの混合物中で行われる。
溶媒の合計量は、化合物（ＩＩ）の１モル当たり、通常、３０００〜５００ｇ、好ましくは２０００〜７００ｇである。
適切な場合には、方法を行うために、化合物（ＩＩ）、有機ホウ素化合物（ＩＩＩ）、塩基、および触媒的に活性な量のパラジウム触媒を、水と１種以上の不活性有機溶媒の混合物に添加し、２０℃〜１００℃、好ましくは５０℃〜９０℃、より好ましくは６０℃〜８０℃の温度で１〜５０時間、好ましくは２〜２４時間にわたって撹拌する。
使用する溶媒および温度に応じて、１バール〜６バール、好ましくは１バール〜４バールの圧力とする。好ましくは、反応は、水とテトラヒドロフランの中で行われる。反応は、このような方法に適した一般的な装置内で行うことができる。反応終了後、固体として得られるパラジウム触媒を、例えば濾過により除去し、粗生成物から１または複数の溶媒を除去する。水にまったく溶解しない生成物の場合、水溶性パラジウム触媒または錯体配位子は、水相を粗生成物から分離することによって完全に除去される。次に、当業者に既知であり、特定の生成物に好適な方法、例えば、再結晶、蒸留、昇華、帯域溶融、溶融結晶化またはクロマトグラフィーなどにより、さらなる精製を行うことができる。
本発明の方法は、例えば、下記の化合物：
Ｎ−（３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−イル）アセトアミド、３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−アミン、Ｎ−（４’−クロロビフェニル−２−イル）アセトアミド、４’−クロロビフェニル−２−アミン
を製造するために使用することができる。
さらなる例は、３’，４’−ジクロロ−５−フルオロ−Ｎ−（プロパン−２−イリデン）ビフェニル−２−アミン、３’，４’−ジクロロ−Ｎ−（プロパン−２−イリデン）ビフェニル−２−アミン、４’−クロロ−Ｎ−（プロパン−２−イリデン）ビフェニル−２−アミン、Ｎ−（４’−クロロ−５−フルオロビフェニル−２−イル）アセトアミド、Ｎ−（３’，４’−ジクロロビフェニル−２−イル）アセトアミドである。
本発明の方法は、式（Ｉ）の化合物を、非常に高い定量的収率および高い精製度をもって提供する。本発明の方法により得られる置換ビフェニルは、殺菌性の作物保護の有効成分の前駆体として好適である（国際公開第WO03/070705号参照）。アミン保護基が使用される場合、ほとんどの場合、アミンをさらに変換する前に脱離される。
製造例
ビアリール合成の一般的手順
アルゴン雰囲気下、アニリンまたはアセトアニリド（１．０当量）、塩化ジフェニルボリン酸（０．５当量）または塩化フェニルボロン酸（１．０当量）、塩基、［（ｔ−Ｂｕ）３ＰＨ］ＢＦ４または［（ｔ−Ｂｕ）２ＰｈＰＨ］ＢＦ４（０．１２ｍｏｌ％）、Ｐｄ（ａｃａｃ）２（０．１２ｍｏｌ％）の混合物を、８ｍｌの水および２ｍｌの１−ブタノール中で６０℃まで加熱した。反応混合物を６０℃で約２０時間撹拌し、室温まで冷却し、１Ｎ塩酸を用いて酸性化した。酢酸エチルで反応混合物を２回抽出した後、複合有機相を硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で蒸留除去した。
この一般的手順において、下記のビアリール：
１．Ｎ−（３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−イル）アセトアミド（ビアリール１）
２．３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−アミン（ビアリール２）
３．Ｎ−（４’−クロロビフェニル−２−イル）アセトアミド（ビアリール３）
４．４’−クロロビフェニル−２−アミン（ビアリール４）
が製造された。
表１は、バッチサイズと試薬を示す。
Figure 0006518242
アニリン／アニリド
Ａ−１：２−ブロモ−４−フルオロアセトアニリド
Ａ−２：２−ブロモ−４−フルオロアニリン
Ａ−３：２−ブロモアセトアニリド
Ａ−４：２−ブロモアニリン
ホウ素化合物
Ｂ−１：ビス（３，４−ジクロロフェニル）ボリン酸
Ｂ−２：（４−クロロフェニル）ボロン酸
表２は、使用する配位子の作用に応じて、ビアリール１〜４を製造する際に反応混合物中に形成されるトリアリールの割合（領域％、ＧＣ−ＭＳ）を示す。
Figure 0006518242
Ｎ−（３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−イル）アセトアミドの製造
アルゴン雰囲気下、Ｎ−（２−ブロモ−４−フルオロフェニル）アセトアミド（１．００ｇ、４．２７ｍｍｏｌ）、ビス（３，４−ジクロロフェニル）ボリン酸（０．６８５ｇ、２．１４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．０３ｇ、７．４４ｍｍｏｌ）、［（ｔ−Ｂｕ）２ＰｈＰＨ］ＢＦ４（１．６ｍｇ、５．２μｍｏｌ）、Ｐｄ（ａｃａｃ）２（１．６ｍｇ、５．３μｍｏｌ）の混合物を、８ｍｌの水および２ｍｌの１−ブタノール中で６０℃まで加熱した。反応混合物を６０℃で約１３時間撹拌し、室温まで冷却し、１Ｎ塩酸を用いて酸性化した。酢酸エチルで反応混合物を２回抽出した後、複合有機相を硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で蒸留除去した。１．２１ｇの粗生成物が得られた（９０．８領域％ ＨＰＬＣ、８６％収率）。

Claims (13)

  1. 式（Ｉ）のハロゲン化ビフェニルアニリド
    Figure 0006518242
     ［式中、
    Ｘは、水素、フッ素および塩素から選択され；
    Ｒ１は、−ＮＨ（ＣＯ）Ｒ３、−Ｎ＝ＣＲ４Ｒ５、ＮＯ２、ＮＨ２およびＮＨＲ３から選択され；
    Ｒ２は塩素であり；
    Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立して、水素、−ＣＨ２−（Ｃ＝Ｏ）ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、Ｃ１−Ｃ８−アルケニル、Ｃ１−Ｃ８−アルキニルおよびＣ６−Ｃ１８−アリールから選択されるか；または、
    Ｒ４、Ｒ５は、それらが結合している炭素原子とともに、Ｎ、ＯおよびＳから選択される１、２または３個のヘテロ原子を含む、５または６員環を形成してもよく；
    ｎは、１、２および３から選択される］
    の製造方法であって、
    式（ＩＩ）の化合物
    Figure 0006518242
     ［式中、
    Ｈａｌは、臭素およびヨウ素から選択され；かつ、Ｒ１およびＸは、それぞれ上記で定める通りである］
    と、
    式（ＩＩＩ）の有機ホウ素化合物
    Figure 0006518242
     であって、
    （ｉ）式（ＩＩＩ）のボロン酸
    ［式中、
    ｍは２であり、
    ｐは１であり、
    Ｑ１およびＱ２は、それぞれヒドロキシル基であり、
    Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］、
    または、該式（ＩＩＩ）のボロン酸から形成される無水物、二量体もしくは三量体；
    （ｉｉ）式（ＩＩＩ）のボロン酸誘導体
    ［式中、
    ｍは２であり、
    ｐは１であり、
    Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立して、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｃ１−４−アルキル、Ｃ６−１０−アリール、Ｃ１−４−アルコキシおよびＣ６−１０−アリールオキシから選択され、
    Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］；
    （ｉｉｉ）式（ＩＩＩ）のボリン酸
    ［式中、
    ｍは１であり、
    ｐは２であり、
    Ｑは、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｃ１−４−アルキル基、Ｃ６−１０−アリール基、Ｃ１−４−アルコキシ基およびＣ６−１０−アリールオキシ基から選択され、
    Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］；
    （ｉｖ）式（ＩＩＩ）の環状ボロン酸エステル
    ［式中、
    ｍは２であり、
    ｐは１であり、
    Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立して、それらが結合しているホウ素原子とともに、Ｃ１−４−アルキル基で置換されていてもよい５または６員環を形成するＣ１−４−アルコキシ基から選択され、
    Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］；
    （ｖ）式（ＩＩＩ）のボロン酸エステル
    ［式中、
    ｍは３であり、
    ｐは１であり、
    Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りであり、
    Ｑ１〜Ｑ３は、それぞれ独立して、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｃ１−４−アルキル基、Ｃ６−１０−アリール基、Ｃ１−４−アルコキシ基およびＣ６−１０−アリールオキシ基から選択され、かつ、
    ボロン酸エステルのアニオンの負電荷はカチオンにより相殺されている］；
    （ｖｉ）式（ＩＩＩ）のトリアリールボラン
    ［式中、
    ｍは０であり、
    ｐは３であり、
    Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りである］
    （ｖｉｉ）式（ＩＩＩ）のホウ酸テトラアリール
    ［式中、
    ｍは０であり、
    ｐは４であり、
    Ｒ２およびｎは、それぞれ上記で定める通りであり、かつ、
    ボロン酸エステルのアニオンの負電荷はカチオンにより相殺されている］
    からなる群から選択される式（ＩＩＩ）の有機ホウ素化合物とを、塩基、および、
    ａ）酸化状態が０のパラジウムと式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩からなる錯体、
    ｂ）式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩の存在下におけるパラジウム塩、および、
    ｃ）式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩の存在下における、所望により支持体に担持されていてもよい、金属パラジウム
    からなる群から選択されるパラジウム触媒であって、式（Ｖ）のホスフィン配位子が、下記：
    Figure 0006518242
     ［式中、
    Ｒ６は水素である］またはその塩である、パラジウム触媒の存在下において、溶媒中で反応させることによる、方法。
  2. 化合物（ＩＩ）が、Ｎ−（２−ブロモ−４−フルオロフェニル）アセトアミド、Ｎ−（２−ブロモフェニル）アセトアミド、Ｎ−（２−ブロモフェニル）−３−オキソブタンアミド、Ｎ−（２−ブロモ−４−フルオロフェニル）−３−オキソブタンアミド、２−ブロモ−Ｎ−（プロパン−２−イリデン）アニリン、２−ブロモ−４−フルオロ−Ｎ−（プロパン−２−イリデン）アニリン、２−ブロモ−４−フルオロアニリン、２−ブロモアニリンからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
  3. 式（ＩＩＩ）の化合物が、ビス（３，４−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（２，３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（３−ジクロロフェニル）ボリン酸、ビス（４−ジクロロフェニル）ボリン酸、４−クロロフェニルボロン酸、３−クロロフェニルボロン酸、２−クロロフェニルボロン酸、３，４−ジクロロフェニルボロン酸および２，３−ジクロロフェニルボロン酸からなる群から選択される、請求項１または２に記載の方法。
  4. 塩基が、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩およびアルカリ金属炭酸水素塩から選択される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
  5. 請求項１に記載のパラジウム触媒ａ）が、酸化状態が０のパラジウムと式（Ｖ）のホスフィンン配位子またはその塩の錯体である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
  6. 請求項１に記載のパラジウム触媒ｂ）が用いられる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
  7. 請求項１に記載のパラジウム触媒ｃ）が用いられ、当該パラジウム触媒ｃ）が、一般式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩の存在下における活性炭担持金属パラジウムからなる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
  8. パラジウム触媒ｂ）の塩が、塩化パラジウム、酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナートおよびビス（アセトニトリル）パラジウムクロリドからなる群から選択される、請求項６に記載の方法。
  9. 一般式（Ｖ）のホスフィン配位子が、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニルホスフィン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−［４−（トリフルオロメチル）フェニル］ホスフィン、４−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンおよびジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−（４−メチルフェニル）ホスフィンから選択される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
  10. パラジウム触媒ｂ）が用いられ、一般式（Ｖ）のホスフィン配位子またはその塩に対するパラジウム塩のモル比が１：１〜１：５である、請求項１〜４、６または８のいずれか一項に記載の方法。
  11. 式（ＩＩ）の化合物の量に対して０．００１〜１．０モル％のパラジウム触媒が用いられる、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
  12. 反応が、２０℃〜１００℃の温度で行われる、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
  13. 反応が、水および有機溶媒の混合物中で行われる、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
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