JP6495649B2 - 太陽電池素子および太陽電池モジュール - Google Patents

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Description

本発明は太陽電池素子およびその太陽電池素子を備えている太陽電池モジュールに関する。
現在、多く使用されている太陽電池素子としては、単結晶または多結晶のシリコンからなる半導体基板を用いた結晶系の太陽電池素子である。このような結晶系の太陽電池素子は、通常、半導体基板の表面には表面電極が設けられ、裏主面には裏面電極が設けられている。
太陽電池素子の裏面電極は、入射光によって発生したキャリアを集める集電電極と、他の太陽電池素子などへ電気的に接続するために用いるバスバー電極とを有する。そして、太陽電池素子の光電変換効率を向上させるために、集電電極の面積をできるだけ大きくすることがある。また、銀を用いる複数のバスバー電極の面積を小さくして、銀の使用量の低減を図ることがある。例えば、1本のバスバー電極は複数の電極領域からなる直線状電極として、互いに隣り合う電極領域同士の間に集電電極の一部を設けている(下記の特許文献1を参照)。さらに、太陽電池素子を他の太陽電池素子などに接続を行う接続導体を、バスバー電極に半田付けなどで接続する場合がある。
特開2009−302458号公報
上述のように、1本のバスバー電極を複数の電極領域からなる直線状電極として、互いに隣り合う電極領域同士の間に集電電極の一部を設けた場合、接続導体をバスバー電極に半田付けするために、バスバー電極の厚さを集電電極より厚くする必要があった。
バスバー電極の厚さを集電電極よりも厚くすると、例えば、銀からなるバスバー電極とアルミニウムからなる集電電極との積重部において、銀とアルミニウムとの合金が形成される。このため、バスバー電極と集電電極との積重部の機械的強度が低下し、この部分を起点としてクラックなどが発生する場合がある。これを避けるためには、バスバー電極の厚さをより小さくして、合金層の厚さを薄くする。
しかしながら、バスバー電極の厚さが集電電極よりも薄くなることがある。この場合、バスバー電極の隣り合う電極領域同士の間に位置している集電電極の高さなどのために、接続導体とバスバー電極との接続がしにくく、バスバー電極と半導体基板との間の密着性が低くなることがある。
そこで、本発明の1つの目的は、光電変換効率を高めることができて、バスバー電極部における信頼性の高い太陽電池素子およびそれを備えている太陽電池モジュールを提供することにある。
本発明の一形態に係る太陽電池素子は、表主面および該表主面の反対側に位置する裏主面を有する半導体基板と、該半導体基板の前記裏主面に配置される裏面電極とを備えている太陽電池素子であって、前記裏面電極は、バスバー電極と、該バスバー電極の周囲に配置される集電電極とを含み、前記バスバー電極は、複数の電極領域が互いに隣り合う2つの前記電極領域同士の間を空けて直線状に並んで構成されており、前記集電電極は、前記
バスバー電極の互いに隣り合う2つの前記電極領域の間に位置している第1集電領域と、該第1集電領域につながっていて、前記バスバー電極の短手方向の少なくとも一端部の上に一部が位置している第2集電領域とを有しており、前記半導体基板の前記裏主面を基準とする平均高さが、前記バスバー電極よりも前記第1集電領域が高く、前記バスバー電極が直線状に並ぶ方向に垂直な方向に前記第1集電領域と前記第2集電領域とを通る断面を見た時に、前記半導体基板の前記裏主面を基準とする平均高さが、前記第1集電領域よりも前記第2集電領域が高い。
本発明の一形態に係る太陽電池モジュールは、上記太陽電池素子を備えている。
上記構成の太陽電池素子および太陽電池モジュールによれば、高い光電変換効率の太陽電池素子とすることができて、配線部材などの接続導体をバスバー電極に対して半田付け等の接続が良好に行なえ、特性および信頼性の高い太陽電池モジュールを提供できる。
図1は本発明の一形態に係る太陽電池素子の一例を示す図であり、図1(a)は太陽電池素子の表主面側から見た平面図であり、図1(b)は太陽電池素子の裏主面側から見た平面図である。 図2は図1(a)においてX1−X1線で切断した断面構造を示す断面図である。 図3は図1(b)のA部の拡大図である。 図4(a)はバスバー電極の第1領域およびその近傍の拡大平面図であり、図4(b)は図4(a)のX2−X2線で切断した断面構造を示す断面図である。 図5は接続導体を図4のバスバー電極に半田付けした様子を説明する図であって、図4(a)におけるY1−Y1線で切断した断面構造の例を示す図であり、図5(a),(b)はそれぞれバスバー電極の電極領域付近の断面図である。 図6(a)〜(f)は、それぞれ本発明の一形態に係る太陽電池素子の製造方法の一例を模式的に示す断面図である。 図7はスクリーン製版の角部の様子を示す平面図である。 図8は接続導体を半田付けした場合の様子を示す図であり、図4(a)のY1−Y1線における断面図である。 図9は本発明の一形態に係る太陽電池モジュールの一例を示す図であり、図9(a)は太陽電池モジュールの第1面側から見た平面図であり、図9(b)は太陽電池モジュールの第2面側から見た平面図である。 図10(a)は本発明の一形態に係る太陽電池素子に接続導体を接続した状態を示す平面図であり、図10(b)は2つの太陽電池素子の接続状態を示す断面図である。 図11は本発明の一形態に係る太陽電池モジュールを構成する太陽電池パネルの断面構造を示す断面図である。 図12は第1集電領域とバスバー電極との平均厚さの差と、バスバー電極と接続導体との接続強度との関係を示すグラフである。
本発明の太陽電池素子および太陽電池モジュールの一実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図面は模式的に示したものであるので、各図における構成要素のサイズおよび位置関係等は適宜変更できる。
<太陽電池素子>
太陽電池素子1は、半導体基板2を備えており、主として光を受ける一主面である表主面1aと、表面1aと対向する反対側の面である裏主面1bとを有している。また、半導体基板2は、太陽電池素子1の表主面1aに相当する側に位置している表主面2aと、太陽電池素子1の裏主面1bに相当する側に位置している裏主面2bとを有している。
図1(a)に示すように、太陽電池素子1の表主面1aには、表面電極が配置されている。表面電極には出力電極3およびフィンガー電極4が含まれる。また、図1(b)に示すように、太陽電池素子1の裏主面1aには裏面電極が配置されている。裏面電極には集電電極5およびバスバー電極6が含まれる。
半導体基板2は、例えば、単結晶シリコン基板または多結晶シリコン基板が用いられる。また、半導体基板2は、ボロンまたはガリウムなどのドーパント元素を含有させて、一導電型(例えば、p型)にしている。半導体基板2の厚さは例えば150〜250μm程度であればよい。また、半導体基板2の平面形状は、特に限定されるものではないが、1辺が100〜180mm程度の正方形状または矩形状であればよい。なお、以下では、半導体基板2としてp型の多結晶シリコン基板を用いる例で説明する。
図2に示すように、半導体基板2の表主面2a側(太陽電池素子1の表主面1a側)には逆導電型層8が設けられている。逆導電型層8は、半導体基板2を構成する一導電型領域7に対する逆の導電型(n型)を有している。逆導電型層8は一導電型領域7とでpn接合を形成する。n型の逆導電型層8は、例えば、半導体基板2における表主面2a側にリン等のドーパント元素を拡散させることによって形成できる。
反射防止層9は、逆導電型層8の上に設けられて、表主面1aにおける光の反射率を低減する役割を有する。これにより、半導体基板2に吸収される光の量が増大し、光吸収によって生成する電子正孔対を増加させる。これにより、太陽電池素子1の光電変換効率の向上に寄与する。反射防止層9は、例えば、窒化シリコン膜、酸化チタン膜、酸化シリコン膜、もしくは酸化アルミニウム膜、またはそれらの積層膜からなる。また、反射防止層9は半導体基板2の界面および粒界での少数キャリアの再結合による変換効率の低下を低減する、パッシベーション膜としての効果も期待できる。
出力電極3は、太陽電池素子1の表面1a(半導体基板2の表面2a)側に設けられているので、フィンガー電極4によってキャリアが収集されて、さらに集電する役割を有する。出力電極3は図1(a)のY軸方向に沿って配置されている。出力電極3は、線幅が1〜3mm程度であり、太陽電池素子1の外周部の1辺に対して略平行に、一定間隔を持って2〜5本程度配置されている。
フィンガー電極4は、図1(a)のX軸方向に延びていて、出力電極3に対してほぼ直交するように出力電極3と接続されている。また、フィンガー電極4は、例えば1〜8mm程度の間隔を空けて複数本配置されている。なお、出力電極3およびフィンガー電極4は、例えば銀(または銅もしくは銀銅合金)を主成分としたペーストを、所望の形状に塗布した後、焼成することによって形成される。この焼成後の出力電極3およびフィンガー電極4の平均厚さは、例えば10〜30μm程度である。
太陽電池素子1の裏主面1b(半導体基板2の裏主面2b)側に設けられるバスバー電極6は、図1(b)に示すように、複数の島状の電極領域6aが互いに隣接する2つの電極領域6a同士の間を空けて直線状に並んで配置されている。また、例えば、電極領域6aの幅(バスバー電極6の短手方向(X軸方向)の長さ)は2〜7mm程度であり、長さ(バスバー電極6の長手方向(Y軸方向)の長さ)は3〜15mm程度である。また、電極領域6aは5〜10個程度を所定長さ(例えば5〜30mm程度)の間隔をあけて、図
2のY軸方向に配置される。バスバー電極6は、太陽電池素子1の表面1aに配置された出力電極3とほぼ対向する位置に、2〜5列程度配置される。バスバー電極6は、例えば銀(または銅もしくは銀銅合金)を主成分としたペーストを、所望の形状に塗布した後、焼成することによって形成される。この焼成後のバスバー電極6の平均厚さは1〜8μm程度である。
また、集電電極5は、太陽電池素子1の裏主面1bにおいてキャリアを収集してバスバー電極に伝えるものであり、半導体基板2の裏主面2bの外周部の0.5〜3mm幅の部分およびバスバー電極6の形成部分の一部を除いた裏主面2bの略全面に配置される。これにより、バスバー電極6の電極領域6aの周囲には、集電電極5が配置されている構造となる。この集電電極5は、例えばアルミニウムペーストを所望の形状に塗布した後、焼成することによって形成することができる。
図2に示すBSF(Back Surface Field)領域10は、半導体基板2の裏主面2b側に内部電界を形成し、裏主面2b近傍での少数キャリアの再結合による変換効率の低下を低減させる役割を有している。BSF領域10は、半導体基板2の一導電型領域7と同一の導電型を有している。BSF領域10には、一導電型領域7にドープされているドーパント元素の濃度よりも高い濃度でドーパント元素が存在する。BSF領域10は、半導体基板2がp型を有する場合は、例えば、裏主面2b側にボロンまたはアルミニウムなどのドーパント元素を拡散させることによって、これらドーパント元素の濃度が1×1018〜5×1021atoms/cm程度となるように形成されるとよい。
図3に示すように、集電電極5は第1集電電極5aと第2集電電極5bとを含む。第1集電電極5aは、バスバー電極6の互いに隣接する2つの電極領域6a同士の間、例えば電極領域6a1と電極領域6a2(または電極領域6a2と電極領域6a3など)の間に位置していて、平面視して露出して見えるバスバー電極6の線幅で広がっている(区画されている)。また、第2集電領域5bは第1集電領域5aにつながっていて第1集電領域5aの両端に位置している。第1集電領域5aと第2集電領域5bとは別体(別部材)でも一体(同じ部材)でもよい。また、第2集電領域5bはバスバー電極6の短手方向の両端部の上に一部が位置している。さらに、半導体基板2の裏主面2bを基準とする平均高さが、バスバー電極6よりも第1集電領域5aが高く、第1集電領域5aよりも第2集電領域5bが高い。つまり、半導体基板2の上に配置されている第1集電領域5aの平均厚さは、半導体基板2の上に配置されている第2集電領域5bの平均厚さよりも小さい。例えば、第1集電領域5aの平均厚さは例えば9〜22μm程度であり、第2集電領域5bの平均厚さは例えば30〜50μm程度である。また、上述したように、半導体基板2の上に配置されているバスバー電極6の平均厚さは1〜8μm程度である。
このような構造によれば、第2集電領域5bを、低抵抗で光電変換効率の向上に有効なBSFを形成するのに十分な厚さで形成できる。また、第1集電電極5aによって、バスバー電極6の互いに隣接する2つの電極領域6a同士の間のキャリアも集電することが可能となり、太陽電池素子1の光電変換効率を向上させることができる。
また、後述する太陽電池モジュールなどの製造工程において、太陽電池素子1同士を電気的に接続するための接続導体を、バスバー電極6に半田付けにて接続する場合がある。この場合、第1集電領域5aの平均厚さ(高さ)が第2集電領域5bの平均厚さ(高さ)よりも小さいので、接続導体22とバスバー電極6との間の間隙が大きくなることがない。このため、接続導体を確実に半田付けができて、信頼性の高い太陽電池モジュールを提供することができる。
さらに、図4(a)に示すように、バスバー電極6の電極領域6aは接続部6aaおよ
び積重部6abを有している。ここで、バスバー電極6の互いに隣り合う2つの電極領域6aの一方と集電電極5の第1集電領域5aとの間が離れているとよい。また、バスバー電極6の互いに隣り合う2つの電極領域6aaの一方と集電電極5の第1集電領域5aとの間が空間18であると望ましい。なお、接続部6aaは接続導体22を半田付けによって接続する部位である。
図4(b)に示すように、本実施形態の積重部6abはバスバー電極6の短手方向(図3のX軸方向)の両端部の上に集電電極5の第2集電領域5bの一部が配置される部位である。ただし、積重部6abはバスバー電極6の短手方向の少なくとも一端部の上に集電電極5の第2集電領域5bの一部が配置されていればよい。集電電極5によって集電されたキャリアは、積重部6abによって接続部6aaに伝導される。
バスバー電極6の厚さを小さくしたことによって、積重部6abにおける両電極を形成する部材の合金層の厚みが小さくすることができ、この部分でのクラックの発生を抑制することができる。また、第2集電領域5bを厚くすることによって、BSF領域を良好に形成することができるので、太陽電池素子の光電変換効率などの特性向上が期待できる。
空間18は、電極領域6aと第1集電領域5aとの間に設けられる。本実施形態の空間18では、電極材料が配置されず、半導体基板2の裏主面2bが露出している。空間18を設けない場合、図5(a)に示すように、電極領域6aの接続部6aaの端部が集電電極5の第1集電領域5aの端部と当接するようになる。このため、接続導体22を接続部6aaに半田付けする場合に、半田11の広がりが不十分になることがありうる。この場合、接続導体22の長手方向における接続部6aaの端部近傍部位に半田付けがされていない半田非配置部12ができる。このように、半田非配置部12ができると、半田付けされている部分と半田付けされていない半田非配置部12との界面に、半田付け時に溶融した半田の固化に伴い応力が集中しやすい。このため、完成した太陽電池モジュールの例えば10年以上の屋外での使用では、半田付けした部位にクラックが発生して、太陽電池モジュールの出力が低下する場合がありうる。
一方、バスバー電極6において空間18を設けた場合は、図5(b)に示すように、空間18は電極領域6aの接続部6aaの端部と集電電極5の第1集電領域5aの端部との間に存在している。このため、接続導体22を接続部6aaに半田付けする場合に、接続導体22の長手方向において接続部6aaに半田非配置部12が無く、接続部6aaの上面部では半田11がほぼ均一な厚みに形成される。これにより、半田11の固化に伴う応力集中が無く、完成した太陽電池モジュールの信頼性をより向上させることができる。なお、この空間18の寸法は、半田付けの状態を観察しながら最適に決定すればよいが、例えば0.3〜1.2mm程度である。
以上により、本実施形態によれば、高い光電変換効率の太陽電池素子とすることができて、配線部材などの接続導体をバスバー電極に対して半田付け等の接続が良好に行え、特性および信頼性の高い太陽電池モジュールの作製が可能となる。
<太陽電池素子の製造方法>
次に、太陽電池素子1の製造方法の一例について説明する。
まず、図6(a)に示すように半導体基板2を準備する。半導体基板2としては、比抵抗は例えば0.2〜3.0Ω・cm程度の一導電型を有する多結晶シリコン基板である。なお、半導体基板2として単結晶シリコン基板を用いる場合は、単結晶シリコンは例えばFZ(フローティングゾーン)法またはCZ(チョクラルスキー)法などによって作製される。半導体基板2として多結晶シリコン基板を用いる場合は、多結晶シリコンは例えば
鋳造法などによって作製される。なお、以下の説明では、p型の多結晶シリコン基板を半導体基板2として用いた例によって説明する。
半導体基板2の製法について説明する。まず、鋳造法によって多結晶シリコンのインゴットを作製する。次いで、そのインゴットを例えば150〜250μm程度の厚みにスライスして、p型の半導体基板2を作製する。その後、半導体基板2の切断面の機械的ダメージ層および汚染層を除去するために、表面をNaOHもしくはKOHなどのアルカリ水溶液またはフッ酸および硝酸の混合液などの溶液を用いて微量エッチングする。なお、このエッチング工程後に、ウエットエッチング法またはRIE(Reactive Ion Etching)法などのドライエッチング法を用いて、半導体基板2の表面2aに微小な凹凸構造(テクスチャ)を形成してもよい。テクスチャ形成によって、表面2aにおける光の反射率が低減することで、太陽電池素子1の変換効率が向上する。
次に、図6(b)に示すように、半導体基板2における表面2a側の表層内にn型の逆導電型層8を形成する。このような逆導電型層8は、ペースト状態にしたPを含む材料を半導体基板2の表面2aに塗布して熱拡散させる塗布熱拡散法、ガス状態にしたオキシ塩化リン(POCl)を拡散源とした気相熱拡散法、または、リンイオンを直接拡散させるイオン打ち込み法などによって形成される。逆導電型層8は平均厚さが0.1〜2μm程度であり、シート抵抗が40〜150Ω/□程度を示すように形成される。
気相熱拡散法などで逆導電型層8を形成する際に、半導体基板2の裏主面2b側にも逆導電型層が形成された場合には、フッ酸および硝酸の混合液に裏主面2b側のみを浸す。これにより、半導体基板2の裏主面2b側の逆導電型層をエッチングし除去して、p型の一導電型領域7を露出させる。以上により、半導体基板2の内部に、p型の一導電型領域7とn型の逆導電型層8とによるpn接合を形成することができる。
次に、図6(c)に示すように、半導体基板2の表面2a側の表面に反射防止層9を形成する。反射防止層9は、上述の窒化シリコンなどからなる膜を、PECVD(Plasma enhanced Chemical Vapor Deposition)法、熱CVD法、蒸着法またはスパッタリング法
などを用いて形成される。例えば、まずPECVD法を用いて、反応室内を500℃程度としてシラン(SiH)とアンモニア(NH)との混合ガスを窒素(N)で希釈する。そして、これらのガスをグロー放電分解でプラズマ化させて、半導体基板2の上に窒化シリコン膜の反射防止層9を形成する。反射防止層9の平均厚さは、構成する材料によって適宜選択されて、適当な入射光に対して低反射条件を実現できるように設定される。例えば窒化シリコン膜の反射防止層9の屈折率は1.8〜2.3程度、平均厚さは500〜1200Å程度であればよい。
次に、図6(d)に示すように、半導体基板2の表面2aに、出力電極3およびフィンガー電極4となる表面側導電ペースト13を配置する。表面側導電ペースト13として、例えば銀(または銅もしくは銀銅合金)を主成分とする導電ペーストを用いる。この場合、導電ペースト中に銀を70〜85質量%程度含有させるとともに、ガラスフリットおよび有機ビヒクルを混練したものを用いる。有機ビヒクルは、例えばバインダーとして使用される樹脂成分を有機溶媒に添加して得られる。バインダーとしては、エチルセルロース等のセルロース系樹脂のほか、アクリル樹脂またはアルキッド樹脂等が使用される。有機溶媒としては、例えば、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ターピネオールまたはジエチレングリコールモノブチルエーテル等が使用される。有機ビヒクルの含有質量は、ペースト中に5〜20質量%程度含有していればよい。また、ガラスフリットの成分は、ガラス材料として例えばSiO−Bi−PbO系、Al−SiO−PbO系などの鉛系ガラスを用いることができる。また、他のガラス材料としては、B−SiO−Bi系またはB−SiO−ZnO系などの非鉛
系ガラスも用いることができる。ガラスフリットは、ペースト中に2〜15質量%程度含有させればよい。表面側導電ペースト13を配置する方法としては、スクリーン製版を用いたスクリーン印刷法を用いることができる。そして配置後、所定の温度で乾燥し、溶剤を蒸発させる。
次に、図6(e)に示すように、半導体基板2の裏主面2bに、バスバー電極6用の裏面側第1導電ペースト14を配置する。裏面側第1導電ペースト14は、上述の表面側導電ペースト13と同様の導電ペーストが使用可能である。裏面側第1導電ペースト14を配置後、所定の温度で乾燥させて溶剤を蒸散させる。
次いで、図6(f)に示すように、裏面集電電極5用の裏面側第2導電ペースト15を配置する。裏面側第2導電ペースト15としては、例えばアルミニウムを主成分とする金属粉末、ガラスフリットおよび有機ビヒクル等を含有するアルミニウムペーストが用いられる。塗布法としては、スクリーン印刷法などを用いることができる。
上述したように、本実施形態の太陽電池素子の製造方法では、第1集電領域5aの平均厚さは第2集電領域5bの平均厚さよりも小さく形成する。このため、第1集電領域5aを形成する領域に配置される単位面積当たりの裏面側第2導電ペースト15を、第2集電領域5bを形成する領域に配置される単位面積当たりの裏面側第2導電ペースト15よりも小さくする。例えば、まず第1集電領域5aを形成する領域と第2集電領域5bを形成する領域とに、スクリーン印刷法によって裏面側第2導電ペースト15の1回目の印刷を
行う。その後、第2集電領域5bにのみに裏面側第2導電ペースト15を印刷することで可能である。
また別の方法としては、例えば図7に示すように、スクリーン印刷法で使用するスクリーン製版SCを用いる方法がある。スクリーン枠16には後述するメッシュおよび乳剤からなるスクリーン部17が張られている。このスクリーン部17は、第2集電領域5bとなる部位に裏面側第2導電ペースト15を塗布するための第1領域17aと、バスバー電極6の電極領域6aに対応する第2領域17bと、第1集電領域5aに対応する第3領域17cとを有する。
第1領域17aは、導電ペーストが通過できるように乳剤が無く、ポリエステル系樹脂やステンレスなどの金属で作製されたメッシュのみがある部分である。また、第2領域17bでは、裏面側第2導電ペースト15が塗布されないように乳剤が配置される。さらに第3領域17cでは、乳剤が配置される領域17c1と乳剤が配置されない領域17c2とが設けられている。乳剤が配置される領域17c1と乳剤が配置されない領域17c2とは、交互に複数配置されている。
スクリーン製版SCを上記のような構成にすることによって、裏面側第2導電ペースト15を印刷したときに、第3領域17cに対応する部位には、導電ペーストが塗布される部分と塗布されない部分とが交互に形成されることとなる。このような状態で導電ペーストを乾燥後、焼成すると、焼成時に裏主面側第2導電ペースト15の少なくとも一部が溶融する。このため、塗布された導電ペーストの一部が、塗布されない部分へと流動して、第1集電領域5aの平均厚さを第2集電領域5bの平均厚さよりも小さく形成することができる。これにより、裏主面側第2導電ペースト15の印刷を1回で行うことができるため、太陽電池素子の工程を簡略化できて、より望ましい。なお、乳剤が配置される領域17c1の寸法は、第1集電領域5aの膜厚の状態を観察しながら、最適に決定すればよいが、例えば各々0.03〜0.12mm程度である。
また、図8に示すように、第1集電領域5aの平均厚さは、バスバー電極6の電極領域
6aの平均厚さよりも大きい。さらに、第1集電領域5aの平均厚さとバスバー電極6の電極領域6aの平均厚さとの差tは、太陽電池モジュールの作製時に使用する接続導体22の表面をコートしている半田の平均膜厚の1.7倍以下であることが望ましい。発明者らが繰り返し行ったテストでは、例えば接続導体22をコートしている半田の平均膜厚が15μmであれば、第1集電領域5aの平均厚さとバスバー電極6の電極領域6aの平均厚さとの差tは、25μm以下であることが望ましいことがわかった。接続導体22の半田付け時には表面をコートしている半田が溶融し、ある程度は流動する。接続導体22をコートしている半田の平均厚さの1.7倍以下であれば、バスバー電極6の電極領域6aの上面と接続導体22の下面との差が小さい。このため、接続導体22の表面をコートしている半田の流動のみで間隙を満たすことができて、半田付け強度が十分となる。また、第1集電領域5aの平均厚さをバスバー電極6の電極領域6aの平均厚さよりも大きくすることによって、第1集電領域5aを低抵抗にすることができて、太陽電池素子1の光電変換効率を向上させることができる。
次に、表面側導電ペースト13、裏主面側第1導電ペースト14および裏主面側第2導電ペースト15を配置した半導体基板2を焼成炉に投入し、これらペーストを同時に600〜850℃程度の温度で数分間、焼成する。これにより、焼成中に溶融したガラスフリットが半導体基板2の最表面と反応した後に固着して、各電極と半導体基板2との電気的コンタクトを形成するとともに、機械的な接着強度を高めることができる。このとき、表面側導電ペースト13は、反射防止層9をファイアースルーして、半導体基板2と直に接する出力電極3およびフィンガー電極4が形成される。また、この焼成によって、裏主面側第1導電ペースト14はバスバー電極6となり、裏主面側第2導電ペースト15は集電電極5となる。このとき、集電電極5の形成と同時に、アルミニウムが半導体基板2に拡散することによって、BSF領域10が形成される。以上の工程によって、図2に示した太陽電池素子1が完成する。
なお、本実施形態に係る太陽電池素子1の製造方法は、上記のものに限定されるものではない。例えば、焼成工程は、表面側導電ペースト13、裏主面側第1導電ペースト14および裏主面側第2導電ペースト15をそれぞれ配置した後に順次行なってもよい。ただし、表面側導電ペースト13および裏主面側第1導電ペースト14を同時に行ない、裏主面側第2導電ペースト15配置後にさらに焼成してもよい。また、他の方法としては、表面側導電ペースト13を焼成した後、裏主面側第1導電ペースト14、裏主面側第2導電ペースト15を同時に焼成してもよい。
<太陽電池モジュール>
図9(a),(b)に示すように、本実施形態に係る太陽電池モジュール21は、複数の太陽電池素子1を有する太陽電池パネル23と、太陽電池パネル23の外周部に配置されたフレーム24を有する。太陽電池モジュール21は、主として光を受ける面である第1面21a(図9(a)を参照)、および、第1面21aの裏主面に相当する第2面21bを有する(図9(b)を参照)。そして、太陽電池モジュール21は、図9(b)に示すように、第2面21bに端子箱25を有している。また、端子箱25には、太陽電池モジュール21の発生した電力を外部回路に供給するための出力ケーブル26が配線されている。
太陽電池モジュール21を構成する太陽電池素子1は、上述の実施形態のものであればよい。また、隣り合う太陽電池素子1同士は、図10(a),(b)に示すように、接続導体22で電気的に接続される。この接続導体22は、例えば、厚さが0.1〜0.3mm程度の銅またはアルミニウムの金属箔であればよい。この金属箔には、表面に半田がコーティングされている。この半田は、メッキまたはディピング等によって、例えば、5〜30μm程度の平均厚さになるように設けられる。この接続導体22の幅は、太陽電池素子の出力電極3の幅と同等もしくは出力電極3の幅よりも小さくすればよい。これにより、接続導体22によって太陽電池素子1の受光を妨げにくくできる。また接続導体22は、出力電極3およびバスバー電極6の電極領域6aの略全表面に接続してもよい。これにより、太陽電池素子1の抵抗成分を小さくできる。ここで、接続導体22を150mm角程度の半導体基板2を使用する場合、接続導体22の幅は1〜3mm程度、その長さは260〜300mm程度であればよい。
図10(a)に示すように、1つの太陽電池素子1に接続される接続導体22において、一方の接続導体22aは、太陽電池素子1の表面1aの出力電極3に半田付けされており、また他方の接続導体22bは、太陽電池素子1の裏主面のバスバー電極6に半田付けされている。
また、図10(b)に示すように、隣り合う太陽電池素子1(太陽電池素子1S、1T)は、太陽電池素子1Sの表面1aの出力電極3に接続した接続導体22の他端部を太陽電池素子1Tの裏主面1bのバスバー電極6に半田付けされることによって接続される。このような接続を複数(例えば5〜10個程度)の太陽電池素子1に繰り返すことによって、複数の太陽電池素子1が直線状に直列接続されてなる太陽電池ストリングが形成される。
次に、この太陽電池ストリングを複数(例えば2〜10本程度)用意して、1〜10mm程度の所定間隔をあけて略平行に整列させる。そして、太陽電池ストリングの各端部の太陽電池素子1同士を横方向配線35にて半田付けなどで接続する。また、両端側の太陽電池ストリングの横方向配線35を接続していない太陽電池素子1には、外部導出配線36を接続する。
次に、透光性基板31、表面側充填材32、裏面側充填材33および裏面材34を準備する。透光性基板31としては、ガラスまたはポリカーボネート樹脂などからなる基板が用いられる。ここで、ガラスとしては、例えば、白板ガラス、強化ガラス、倍強化ガラスまたは熱線反射ガラスなどが用いられる。また、樹脂であれば、ポリカーボネート樹脂などの合成樹脂が用いられる。透光性基板31は厚さ3〜5mm程度であればよい。
表面側充填材32および裏面側充填材33は、それぞれエチレン−酢酸ビニル共重合体(以下EVAと略す)またはポリビニルブチラール(PVB)から成り、Tダイと押し出し機とによって、厚さ0.4〜1mm程度のシート状に成形されたものが用いられる。これらはラミネート装置によって減圧下にて加熱加圧を行うことで、軟化、融着して他の部材と一体化させる。
裏面材34は、外部からの水分の浸入を低減する役割を有する。裏面材34は、例えば、アルミ箔を挟持した耐候性を有するフッ素系樹脂シート、アルミナまたはシリカを蒸着したポリエチレンテレフタレ−ト(PET)シート等が用いられる。裏面材34は、太陽電池モジュール21の第2面21b側からの光に入射を光発電に用いる場合は、ガラスまたはポリカーボネート樹脂を用いてもよい。
次いで、図11に示すように、透光性基板31上に表面側充填材32を配置した後、上記のように接続した太陽電池素子1、裏面側充填材33および裏面材34を順次積層して積層体を作製する。
次いで、この積層体をラミネート装置にセットする。そして、減圧下にて加圧しながら100〜200℃で例えば15分〜1時間程度加熱することによって、太陽電池パネル23を作製できる。
最後に、図9に示すように、太陽電池パネル23の外周部にフレーム24や第2面21b側に端子箱25を必要に応じて取り付けることで、太陽電池モジュール21が完成する。このように、上述の太陽電池素子1を備えることによって、特性および信頼性に優れた太陽電池モジュール21を提供できる。
太陽電池素子は、次のようにして作製した。まず、図6(a)に示すように半導体基板2を準備した。半導体基板2は、鋳造法によって作製され、ボロンがドープされたp型の多結晶シリコン基板を用意した。また、半導体基板2は、比抵抗値が約1Ω・cm、一辺約156mmの正方形状の平面形状を有し、厚みが200μm程度のものを用いた。また、半導体基板2は、NaOH水溶液を用いて表面からの深さ10μm程度をエッチングした後に、RIE法を用いて表主面2a側に微細なテクスチャを形成した。
その後、図6(b)に示すように、オキシ塩化リン(POCl)を拡散源とした気相熱拡散法によって、半導体基板2の表面全面にn型領域を形成した。このn型領域は50〜100Ω/□程度のシート抵抗になるように形成した。その後、半導体基板2の裏主面2b側のみをフッ硝酸溶液に浸して、裏主面2b側のn型領域を除去した。これにより、半導体基板2の表主面2a側に、図2に示すようなn型の逆導電型層8を形成した。
次に、図6(c)に示すように、半導体基板2の表主面2a上に、PECVD装置を用いて、窒化シリコンからなる反射防止膜6を形成した。反射防止膜6は、屈折率が2.1〜2.2程度であり、厚みが80〜100nm程度となるように成膜した。
次に、図6(d)に示すように、半導体基板2の表主面2aに、出力電極3およびフィンガー電極4となる表面側導電ペースト13を塗布した。表面側導電ペースト13は、銀を80質量%程度、SiO−Bi−PbO系のガラスフリットを14質量%程度、有機ビヒクルを6質量%程度含有させたものを用いた。有機ビヒクルは、バインダーとしてエチルセルロースを用い、有機溶媒としてはジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートを用いた。スクリーン印刷法を用いて、表面側導電ペースト13を図1(a)に示すようなパターンに塗布した。印刷直後のペースト厚は約19μmであった。そして、この塗布後、表面側導電ペースト13を150℃程度の温度で3分程度乾燥し溶剤を蒸発させた。
次に、図6(e)に示すように、半導体基板2の裏主面2bに、バスバー電極6用の裏面側第1導電ペースト14を配置する。裏面側第1導電ペースト14は、上述の表面側導電ペースト13と同一材料を用いた。スクリーン印刷法を用いて、裏面側第1導電ペースト14を図1(b)に示すようなパターンに塗布した。そして、この塗布後、150℃程度の温度で3分程度乾燥し溶剤を蒸発させた。また、バスバー電極6の厚さが大きなものを作製する場合は、乾燥を行ったものに、再度、裏面側第1導電ペースト14を図1(b)に示すようなパターンに塗布して、重ね塗りを行った。表1の条件7の場合、バスバー電極6は合計3回の塗布を行った。また、条件8のバスバー電極6は合計4回の塗布を行ったものである。
次いで、図6(f)に示すように、裏面集電電極5用の裏面側第2導電ペースト15を塗布した。裏面側第2導電ペースト15としては、アルミニウムを主成分とし、上述のようなガラスフリットおよび有機ビヒクル等を含有するアルミニウムペースト用いて、スクリーン印刷法を用いて塗布した。
太陽電池素子1を作製する際に、スクリーン印刷法で使用するスクリーン製版SCは、
図7に示すスクリーン部17を有するものを用いた。
さらに、これらの表面側導電ペースト13、裏面側第1導電ペースト14および裏面側第2導電ペースト15を配置した半導体基板2を焼成炉に投入し、各ペーストを同時にピーク温度750℃程度の温度で焼成した。
以上により、表1に示すように、バスバー電極6の平均厚さA1(μm)、第1集電領域5aの平均厚さA2(μm)、第2集電領域5bの平均厚さ48μmのサンプルを作製した。なお、バスバー電極6の平均厚さA1(μm)、第1集電領域5aの平均厚さA2(μm)、第2集電領域5bの平均厚さは任意の5箇所を測定して、これらの平均を算出した値である。
Figure 0006495649
次に、完成した太陽電池素子1の裏主面2bのバスバー電極6に接続導体22を半田付けにて接続した。使用した接続導体22は、幅が1.3mm、厚さが0.2mm、長さが280mm程度の銅箔から成り、表面全面に厚さが15μmの半田がディッピングによってコートされているものを用いた。
太陽電池素子1のバスバー電極6にフラックスを塗布後、接続導体22を載置した。そして、太陽電池素子1の両端部に位置している接続導体22をピンで押さえながら、接続導体22上に熱風を吹き付けた。さらに、接続導体22の表面の半田を溶融させて、バスバー電極6に接続導体22を半田付けにて接続した。
まず、バスバー電極6と第2集電領域5bとの積重部の剥がれの有無を、ポリエステルからなるテープを張り付けた後、これを剥がすことによるテープ試験によって調べた。その結果を表1に示す。なお、表1では、上記テープ試験の結果、積重部の剥がれが全く観察されなかったものを「○」で示し、少しでも積重部の剥がれが生じたものを「×」で示した。この結果から、条件7,8では剥がれが生じることがわかり、条件1〜6では剥がれが全く生じないことがわかった。
次に、条件1〜8について、太陽電池素子の冷却後、バスバー電極6と接続導体22との接続強度を測定した。その結果を図12に示す。図12に示すように、第1集電領域5
aの平均厚さとバスバー電極6の電極領域6aの平均厚さとの差tが25μm以下であれば、バスバー電極6と接続導体22の接続強度は強固であることがわかり、差tが25μmを超えると急激に低下することがわかった。これは、差tが25μm以下であれば、バスバー電極6と接続導体22との間を十分半田で埋めることができて、半田付け面積が大きく減少することがないと思われる。一方、差tが25μmを超えた場合には、バスバー電極6と接続導体22との間を半田で埋めることができなくなるため、半田付け面積が低下し、接続強度が低下したためと思われる。
以上によって、バスバー電極6よりも第1集電領域5aが高く、第1集電領域5aよりも第2集電領域5bが高いとよいことがわかった。また、第1集電領域5aの平均厚さとバスバー電極6の電極領域6aの平均厚さとの差tが、接続導体22の表面をコートしている半田の平均膜厚の1.7倍(=25/15)以下とすると望ましいことがわかった。
1 :太陽電池素子
1a:表主面
1b:裏主面
2 :半導体基板
2a:表主面
2b:裏主面
3 :出力電極
4 :フィンガー電極
5 :集電電極
5a:第1集電領域
5b:第2集電領域
6 :バスバー電極
6a :電極領域
6aa:接続部
6ab:積重部
7 :一導電型領域
8 :逆導電型層
9 :反射防止層
10 :BSF領域
11 :半田
12 :半田非配置領域
13 :表面側導電ペースト
14 :裏面側第1導電ペースト
15 :裏面側第2導電ペースト
16 :スクリーン枠
17 :スクリーン部分
18 :空間
21 :太陽電池モジュール
21a:第1面
21b:第2面
22 :接続導体
23 :太陽電池パネル
24 :フレーム
25 :端子箱
26 :出力ケーブル
31 :透光性基板
32 :表面側充填材
33 :裏面側充填材
34 :裏面材
35 :横方向配線
36 :外部導出配線
SC :スクリーン製版
t :第1集電領域の厚さとバスバー電極の電極領域の厚さとの差

Claims (4)

  1. 表主面および該表主面の反対側に位置する裏主面を有する半導体基板と、該半導体基板の前記裏主面に配置される裏面電極とを備えている太陽電池素子であって、
    前記裏面電極は、バスバー電極と、該バスバー電極の周囲に配置される集電電極とを含み、前記バスバー電極は、複数の電極領域が互いに隣り合う2つの前記電極領域同士の間を空けて直線状に並んで構成されており、
    前記集電電極は、前記バスバー電極の互いに隣り合う2つの前記電極領域の間に位置している第1集電領域と、該第1集電領域につながっていて、前記バスバー電極の短手方向の少なくとも一端部の上に一部が位置している第2集電領域とを有しており、
    前記半導体基板の前記裏主面を基準とする平均高さが、前記バスバー電極よりも前記第1集電領域が高く
    前記バスバー電極が直線状に並ぶ方向に垂直な方向に前記第1集電領域と前記第2集電領域とを通る断面を見た時に、前記半導体基板の前記裏主面を基準とする平均高さが、前記第1集電領域よりも前記第2集電領域が高い、太陽電池素子。
  2. 前記バスバー電極の互いに隣り合う2つの前記電極領域の一方と前記集電電極の前記第1集電領域との間が離れている請求項1に記載の太陽電池素子。
  3. 前記バスバー電極の互いに隣り合う2つの前記電極領域の一方と前記集電電極の前記第1集電領域との間が空間である請求項1または2に記載の太陽電池素子。
  4. 請求項1乃至3のいずれかに記載の太陽電池素子を備えている太陽電池モジュール。
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