JP6494480B2 - 基板液処理装置及び基板液処理装置の基板乾燥方法 - Google Patents
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Description
上記実施形態では、液処理時にウエハWの裏面に供給した処理液がウエハWから落下して通気路90に入ってベースプレート31aの裏面側まで伝わり、さらに遮断板92へと落下してその上面に付着するおそれがある。したがって、例えば、遮断板92を平坦ではなく半径方向外側下方に向けて傾斜させるように設けて、付着した液が迅速に外側に流れて除去されるように構成しても良い。また、液処理時は、通気路90を自動的に塞ぐための可動式の蓋を設けても良い。また、通気路90も、上述したような垂直な円筒状ではなく、ベースプレート31aの表側の開口のほうがベースプレート31aの裏側の開口よりも半径方向外側になるよう円筒を傾斜させても良い。これにより、通気路90に入り込んでも遠心力で表面側に引き戻され易くなるので、処理液がベースプレート31aの裏面側まで伝わりにくくなる。
30 基板保持回転機構
40 液体吐出部
31a ベースプレート
90 通気路
Claims (3)
- 基板を水平姿勢で保持する保持部と、
前記保持部が設けられたベースプレートと、
前記ベースプレートを回転させる回転軸と、
前記回転軸内に設けられ、前記基板に向けて処理液を吐出する液体吐出口を先端に有する処理液供給管と、
前記液体吐出口を配置し、少なくとも前記回転軸と前記処理液供給管との間の隙間を覆うことができる回転しない頭部と、を備え、
前記ベースプレートは、前記ベースプレートの前記基板に面する一方の面側と他方の面側とを貫通し、前記他方の面側から前記一方の面側へと流れる気流を発生させる通気路を有し、
前記通気路は、前記一方の面側に流れた気流が、前記ベースプレートと前記基板の間の領域のうち気体の淀みが生じる領域へと向かう位置に設けられており、
前記気体の淀みが生じる領域は、前記基板の回転による圧力低下が生じている前記頭部の内側の領域と、前記基板の外部から進入しその後上向きに戻って行く気流及び下向きに戻って行く気流が発生する外側の領域と、の間にある前記頭部の端部の周縁領域であることを特徴とする基板液処理装置。 - 前記通気路は、円周方向に対して複数個設けられていることを特徴とする請求項1に記載の基板液処理装置。
- 基板を水平姿勢で保持する保持部と、前記保持部が設けられたベースプレートと、前記ベースプレートを回転させる回転軸と、前記回転軸の回転中心に設けられ、前記基板に向けて処理液を吐出する液体吐出口を先端に有する処理液供給管と、前記液体吐出口を中心に配置し、少なくとも前記回転軸と前記処理液供給管との間の隙間を覆うことができる回転しない円形の頭部と、を備える基板液処理装置の基板乾燥方法であって、
前記ベースプレートは、前記ベースプレートの前記基板に面する一方の面側と他方の面側とを貫通する通気路を有しており、
前記通気路は、前記一方の面側に流れた気流が、前記ベースプレートと前記基板の間の領域のうち気体の淀みが生じる領域へと向かう位置に設けられており、
前記気体の淀みが生じる領域は、前記基板の回転による圧力低下が生じている前記頭部の内側の領域と、前記基板の外部から進入しその後上向きに戻って行く気流及び下向きに戻って行く気流が発生する外側の領域と、の間にある前記頭部の端部の周縁領域であり、
前記回転軸による回転にともない発生する前記ベースプレートの他方の面側から前記一方の面側の前記気体の淀みが生じる領域へと向かって流れる気流を用いて前記基板の一方の面を乾燥することを特徴とする基板乾燥方法。
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