JP6487236B2 - 半導体光素子、及びその製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体光素子主要部の斜視図である。当該実施形態に係る半導体光素子は、分布帰還型(DFB:Distributed Feedback)直接変調半導体レーザ素子であり、以下、単にDFBレーザ素子1と記す。DFBレーザ素子1は、素子の端面(側面)から光を出射する端面発光型レーザであり、主に用いられる波長帯は、1.3μm帯又は1.55μm帯である。DFBレーザ素子1は、p型ドーパントとしてZnを使用しない(Znフリー)半導体光素子であり、後述する通り、p型ドーパントとしてMgとCを用いている。主に、DFBレーザ素子1の構造を示すために、図1には、DFBレーザ素子1の主要部が示されており、光導波路を進行する光の光軸と積層方向を含む断面と、当該光軸に垂直な断面とが、さらに示されている。図1に示す通り、DFBレーザ素子1の基本構造は、埋め込み(BH:Buried-Hetero)構造を有しているが、これに限定されることはなく、例えば、リッジ導波路(RWG:Ridge Wave-Guide)構造を有していてもよい。
以下、当該実施形態に係る半導体光素子が奏する効果について説明する。DFBレーザ素子1は、2層構造を有するp型中間層20を備えている。まず、p型中間層20の役割について説明する。図3は、当該実施形態に係る半導体光素子の半導体層の価電子帯エネルギーを示す概略図である。図3の右側の図の縦軸(z)は、積層方向における複数の半導体層の位置を示している。ここで、複数の半導体層とは、左側の図に示す、p型クラッド層14、p型下側中間層20A、p型上側中間層20B、及びp+型コンタクト層21の4つの半導体層である。p+型コンタクト層21の上表面を位置の基準(z=0)としており、図の下向きは積層方向負の向きであり、zはp+型コンタクト層21の上表面からの深さを表している。図3の右側の図の横軸は、各位置における価電子帯エネルギーEvを模式的に示している。本明細書において、価電子帯エネルギーEvとは、価電子帯のバンド端のエネルギーであり、価電子帯のうちもっとも高いエネルギーである。p+型コンタクト層21の価電子帯エネルギーを基準として、エネルギーが高くなる向きに価電子帯エネルギーEvを定義している。当該実施形態のように、p型コンタクト層をInGaAsで、p型クラッド層をInPで、それぞれ形成する場合、p型コンタクト層とp型クラッド層との間では、価電子帯エネルギーEvの差(ΔEv)が大きくなる。それゆえ、p型クラッド層に接するように(p型中間層なしに)p型コンタクト層を形成する場合、かかるエネルギー差により、正孔(ホール)がp側電極31側からMQW層13側への移動することが抑制され、素子抵抗が上昇したり、素子電圧が上昇したりする等の問題が生じる。
次に、当該実施形態に係るp型上側中間層20B(第1半導体層)の組成波長について説明する。当該実施形態に係るp型上側中間層20Bの組成波長は1.30μmとしている。発明者らは、本発明に想到する前に、比較例に係る半導体光素子を作製し、それについて検討を行っており、当該実施形態について説明する前に、当該比較例に係る半導体光素子について説明する。
本発明に係る半導体光素子の製造方法の主な特徴は、活性層を形成する工程と、p側電極を形成する工程と、前記活性層と前記p側電極との間に、InGaAsP、InGaAsAl、又はInGaAsAlPのいずれかを材料とし、Mg又はBeがドーパントとして添加され、組成波長1.5μm以下となる、第1半導体層を形成する工程と、前記第1半導体層と前記p側電極との間に、前記第1半導体層に接して配置されるよう、InGaAs又はInGaAsAlのいずれかを材料とし、Cがドーパントとして添加される、第2半導体層を形成する工程と、を備えることにある。以下、当該実施形態に係る半導体光素子の製造方法について説明する。
本発明の第2の実施形態に係る半導体光素子は、p+型コンタクト層21に添加されるドーパントがCのみならず、さらに、Mgがドーパントとして添加される点を除いて、第1の実施形態に係る半導体光素子と同じ構造をしている。p+型コンタクト層21を形成する工程において、添加するCのドーピング濃度を1×1019cm−3以上とし、形成後にp+型コンタクト層21に含まれるC濃度を1×1019cm−3以上としている。当該実施形態では、かかる工程において、添加するMgのドーピング濃度を1.5×1017cm−3としている。このように、添加するMgを適当なドーピング濃度に設定して、形成後にp+型コンタクト層21に含まれるMg濃度を2×1017cm−3としている。
本発明の第3の実施形態に係る半導体光素子は、p型中間層20が3層以上の多層構造を有していること以外は、第1又は第2の実施形態に係る半導体光素子と同じ構造をしている。すなわち、第1又は第2の実施形態に係る半導体光素子では、p型中間層20は2層構造を有しているが、当該実施形態に係る半導体光素子では、p型中間層20はN層(層数N)の多層構造を有している(N≧3の自然数)。第1(第2)の実施形態と第3の実施形態とを合わせると、p型上側中間層20Bが第1半導体層であるので、p型クラッド層14とp型上側中間層20Bとの間に配置される、層数1以上の他のp型中間層が、基板上にさらに形成される。
本発明の第4の実施形態に係る半導体光素子は、EA変調器集積型半導体レーザ素子2である。EA変調器集積型半導体レーザ素子2は、変調器部3、レーザ部4、及び導波路部5を備えるが、変調器部3及びレーザ部4のp型半導体層の構造は、第1乃至第3いずれかの実施形態に係る半導体光素子のp型半導体層の構造と同じである。
本発明の第5の実施形態に係る半導体光素子は、レンズ集積型半導体レーザ素子6であり、裏面出射型レーザである。レンズ集積型半導体レーザ素子6は、プレーナBH構造を有するが、p型半導体層の構造は、第1乃至第3いずれかの実施形態に係る半導体光素子のp型半導体層の構造と同じである。
所定の場所に135°の角度を有する反射鏡41、n型基板11の裏面に出射光を収束させるための裏面レンズ42を形成し、さらに、p側電極31を上面に、n側電極32を裏面に、それぞれ形成し、素子として完成する。
Claims (9)
- 活性層と、
p側電極と、
前記活性層と前記p側電極との間に配置され、InGaAsPを材料とし、Mg又はBeがドーパントとして添加され、組成波長が1.5μm以下となる、第1半導体層と、
前記第1半導体層と前記p側電極との間に、前記第1半導体層に接して配置され、InGaAsを材料とし、Cのみがドーパントとして添加される、第2半導体層と、
が、基板上に形成される半導体光素子。 - 請求項1に記載の半導体光素子であって、
前記第1半導体層の組成波長は1.15μm以上である、
ことを特徴とする、半導体光素子。 - 請求項1又は2に記載の半導体光素子であって、
前記活性層と前記第1半導体層との間に配置される、p型クラッド層が、基板上にさらに形成され、
前記第1半導体層がp型中間層であり、
前記第2半導体層がp型コンタクト層である、
ことを特徴とする、半導体光素子。 - 請求項3に記載の半導体光素子であって、
前記第1半導体層の価電子帯のエネルギーは、前記第2半導体層の価電子帯エネルギーと、前記p型クラッド層の価電子帯のエネルギーとの間にある、
ことを特徴とする、半導体光素子。 - 請求項3又は4に記載の半導体光素子であって、
前記p型クラッド層と前記第1半導体層との間に配置される、層数1以上の他のp型中間層が、基板上にさらに形成される、半導体光素子。 - 請求項5に記載の半導体光素子であって、
前記第1半導体層の価電子帯エネルギー、及び、前記層数1以上の他のp型中間層それぞれの価電子帯エネルギーは、ともに、前記第2半導体層の価電子帯エネルギーと、前記p型クラッド層の価電子帯エネルギーと、の間にあり、前記第2半導体層側から前記p型クラッド層側にかけて、順に高くなっている、
ことを特徴とする、半導体光素子。 - 請求項5又は6に記載の半導体光素子であって、
前記第2半導体層側から前記p型クラッド層側にかけて、順に、各中間層の飽和ホール濃度が低くなっている、
ことを特徴とする、半導体光素子。 - 請求項1乃至7のいずれかに記載の半導体光素子であって、
前記第2半導体層に含まれるC濃度が1×1019cm−3以上である、
ことを特徴とする、半導体光素子。 - 活性層を形成する工程と、
p側電極を形成する工程と、
前記活性層と前記p側電極との間に、InGaAsPを材料とし、Mg又はBeがドーパントとして添加され、組成波長1.5μm以下となる、第1半導体層を形成する工程と、
前記第1半導体層と前記p側電極との間に、前記第1半導体層に接して配置されるよう、InGaAsを材料とし、Cのみがドーパントとして添加される、第2半導体層を形成する工程と、
を備える、半導体光素子の製造方法。
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