JP6485326B2 - 金属皮膜の成膜装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施形態に係る金属皮膜の成膜装置1の模式的断面図である。図1に示すように、本発明に係る成膜装置1は、金属イオンを還元することで金属を析出させて、析出した金属からなる金属皮膜を基材Bの表面に成膜する装置である。
以下に本実施形態に係る成膜装置1を用いた成膜方法を説明する。図2は、図1に示す成膜装置1の成膜時の状態を説明するための模式的断面図である。図3(a)は、図2に示す成膜装置1により固体電解質膜13を基材Bの表面fに押圧した状態を示した拡大図である。図3(b)は、図3(a)に示す押圧状態から、基材Bの表面fに金属皮膜Fが成膜された状態を示した拡大図である。
上述した図1に示す成膜装置1を用いて金属皮膜を成膜した。まず、基材として、ガラス繊維にエポキシ樹脂を含浸させたガラスエポキシ基板を準備した。この基材の表面には、厚さ35μmのレジストが形成されており、レジストから露出した表面には、直径1.0mmの銅ランド(銅薄膜)が形成されている。
実施例と同じ基材に対して、銅皮膜を成膜した。実施例と相違する点は、図4に示す成膜装置7を用いた点と、電流密度10mA/cm2、10分間の条件で成膜した点である。なお、比較例で用いる成膜装置が、実施例のものを相違する点は、弾性体を設けていない点と、陽極に、気孔率85%、孔径50μmの発泡チタン板(三菱マテリアル製)からなる多孔質体の陽極91を用い、これを固体電解質膜13に接触させた点である。
実施例および比較例で形成した銅皮膜(2カ所)の形状を顕微鏡で確認し、銅ランドに被覆された銅皮膜の被覆率を算出した。具体的には、被覆率(%)=銅皮膜面積/銅ランド×100の式から、銅皮膜の被覆率を算出した。この結果を図5に示す。
図5に示すように、実施例の場合には銅皮膜の被覆率はいずれも100%であり、銅ランドに銅皮膜が完全に覆われていた。一方、比較例の場合には、銅皮膜の被覆率は、20%、14%であり、銅皮膜から銅ランドが露出していた。
Claims (1)
- 陽極と、前記陽極と陰極となる基材との間に配置される固体電解質膜と、前記陽極と前記固体電解質膜との間に配置され、前記陽極および前記固体電解質膜に金属溶液が接触するように該金属溶液を収容する溶液室と、前記陽極と前記基材との間に電圧を印加する電源部と、を少なくとも備え、前記固体電解質膜を前記基材に押圧した状態で、前記陽極と前記基材との間に電圧を印加して、前記固体電解質膜の内部に含有された前記金属溶液に由来した金属イオンを還元することで金属皮膜を前記基材の表面に成膜する金属皮膜の成膜装置であって、
前記溶液室は、前記金属溶液を収容する収容空間を有しかつ該収容空間が前記基材側に開放した開口部を有するハウジングと、該ハウジングの前記開口部に取り付けられた弾性体により形成されており、前記固体電解質膜は前記弾性体を介して前記溶液室に取付けられており、
前記弾性体は、前記固体電解質膜を前記基材に押圧する際に前記基材の押圧方向に圧縮変形可能なように、前記押圧方向に沿った前記溶液室の外側に延在していることを特徴とする金属皮膜の成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2015216926A JP6485326B2 (ja) | 2015-11-04 | 2015-11-04 | 金属皮膜の成膜装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2017088918A JP2017088918A (ja) | 2017-05-25 |
JP6485326B2 true JP6485326B2 (ja) | 2019-03-20 |
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JP (1) | JP6485326B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7092056B2 (ja) | 2019-01-25 | 2022-06-28 | トヨタ自動車株式会社 | 成膜装置、及びそれを用いた金属膜の形成方法 |
JP7135958B2 (ja) | 2019-03-22 | 2022-09-13 | トヨタ自動車株式会社 | 金属皮膜の成膜装置 |
JP7176468B2 (ja) * | 2019-04-26 | 2022-11-22 | トヨタ自動車株式会社 | 金属皮膜の成膜装置 |
JP2022081023A (ja) | 2020-11-19 | 2022-05-31 | トヨタ自動車株式会社 | 金属被膜の成膜装置及び成膜方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4833433B2 (ja) * | 2001-04-27 | 2011-12-07 | イビデン株式会社 | 電解めっき装置用めっき液保持部材及びその製造方法 |
KR101799710B1 (ko) * | 2013-11-14 | 2017-11-20 | 도요타 지도샤(주) | 금속 피막의 성막 장치 및 그 성막 방법 |
JP5938426B2 (ja) * | 2014-02-04 | 2016-06-22 | 株式会社豊田中央研究所 | 電気めっきセル、及び、金属皮膜の製造方法 |
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2015
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Publication number | Publication date |
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JP2017088918A (ja) | 2017-05-25 |
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