JP2020100864A - 金属皮膜の成膜装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の実施形態に係る金属皮膜の成膜装置の模式的断面図である。図1に示すように、本発明に係る成膜装置1は、金属イオンを還元することで金属を析出させて、析出した金属からなる金属皮膜Fを基材Bに成膜する装置である。
上述した図1に示す成膜装置を用いて金属皮膜を成膜した。図3(a)に示すランド部と、図3(b)に示すスルーホール部を有した基材Bに対して金属皮膜を成膜した。具体的には、基材として、ガラスエポキシ樹脂からなる基板B1の表面に、銅からなる下地の導体部B2を形成し、その一部をソルダレジストからなる絶縁層B3を被覆したものを準備した。なお、導体部B2の表面(成膜領域R)に、絶縁層B3の一部が被覆されることにより、導体部B2と絶縁層B3との段差Dが35μmとなり、導体部B2の成膜領域Rは、絶縁層B3の表面に対して凹んでいる。
実施例と同じようにして、基材Bの導体部B2の成膜領域Rに銅皮膜(金属皮膜)を成膜した。実施例と相違する点は、多孔質体に、樹脂多孔質体を用いず、金属多孔質体のみを用いた点である。したがって、比較例1の成膜装置は、特許文献1に示す成膜装置に相当する。基材Bに通電する電流密度と基材Bを押圧する押圧力を、図5に示す値となるように調整した点である。成膜した銅皮膜の状態を図5に示す。なお、参考に、図2に、比較例1に係る金属皮膜の成膜装置9の模式的断面図を示した。図2では、比較例1に係る成膜装置9の構成のうち、図1に示す成膜装置1と共通する構成は、同じ符号を付している。
図5に示すように、比較例1に係る成膜装置(図2参照)で銅皮膜を成膜した場合には、押圧力に拘わらず、電流密度が25mA/cm2となる条件で、銅皮膜と固体電解質膜との密着異常(固着)が発生した。一方、電流密度が12mA/cm2となる条件では、押圧力を0.5MPaにしたとしても、導体部B2の成膜領域Rの全面に銅皮膜が成膜しなかった。したがって、比較例1に係る成膜装置では、図3(a)、(b)に示すような基材に金属皮膜を成膜することが難しいことがわかった。なお、比較例1の成膜装置では、押圧力を0.5MPa以上にすると、金属多孔質体が圧潰することが分かった。
Claims (1)
- 陽極と、前記陽極と陰極となる基材との間に配置される固体電解質膜と、前記陽極と基材との間に電圧を印加する電源部と、を少なくとも備え、前記固体電解質膜を前記基材に押圧した状態で、前記陽極と前記基材との間に電圧を印加して、前記固体電解質膜の内部に含有された金属イオンを還元することで金属皮膜を前記基材の表面に成膜する金属皮膜の成膜装置であって、
前記陽極と前記固体電解質膜との間には、前記金属イオンを含む溶液が前記陽極と前記固体電解質膜とに接触するように、前記溶液が保持される多孔質体が、配置されており、
前記多孔質体は、前記陽極に接触し、前記陽極の表面に沿った方向に前記溶液が内部に流れる金属多孔質体と、前記金属多孔質体と前記固体電解質膜との間に配置され、前記金属多孔質体と前記固体電解質膜とに接触し、前記固体電解質膜の膜厚方向に圧縮変形自在となる樹脂多孔質体と、を備えることを特徴とする金属皮膜の成膜装置。
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JP2018239128A JP2020100864A (ja) | 2018-12-21 | 2018-12-21 | 金属皮膜の成膜装置 |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004353014A (ja) * | 2003-05-27 | 2004-12-16 | Ebara Corp | めっき装置及びめっき方法 |
JP2015092012A (ja) * | 2013-10-03 | 2015-05-14 | トヨタ自動車株式会社 | 成膜用ニッケル溶液およびこれを用いた成膜方法 |
JP2016125089A (ja) * | 2014-12-26 | 2016-07-11 | トヨタ自動車株式会社 | 金属皮膜の成膜装置およびその成膜方法 |
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2018
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Patent Citations (3)
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