JP6478593B2 - 投影光学系の製造方法、および、デバイス製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、投影光学系の製造方法、および、デバイス製造方法に関する。

露光装置は、半導体デバイスや液晶表示装置等の製造工程であるリソグラフィ工程において、マスク（レチクル）を照明して、投影光学系を介して感光剤（レジスト）が塗布された基板（ウエハやガラスプレート等）上にマスクのパターンを転写する装置である。

例えば、ガラスプレートにパターンを転写する投影露光装置では、近年、マスク上のより大きな面積パターンを基板上に一括露光する露光装置が求められている。この要求に対応するために、高解像力が得られ、かつ、大画面を露光することができるステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置が提案されている。この走査型露光装置は、マスク及び基板を移動させながら、スリットを透過した露光光によりマスクを照明し、投影光学系を介して基板上で露光光を走査することによって、基板上にマスクのパターンを転写するものである。特許文献１には、このような転写工程におけるマスクのパターンの投影倍率を調整するための調整機構を備えている投影光学系を有する露光装置が記載されている。調整機構は、シリンドリル面を有する光学部材を複数備え、光学部材間の間隔を変更することにより、投影倍率を調整する。光学部材の移動は、光学部材やその保持機構に接続されたアクチュエータにより行われる。

特許５３９８１８５号公報

投影光学系を製造する際、複数の光学部材を組み立てて、調整する工程が必要である。調整工程において、組み立て誤差や収差が低減するように光学部材の位置を変更する。特許文献１に記載の調整機構にある光学部材も、調整のために、その位置が変更されうる。つまり、調整工程において、その光学部材の位置が移動されて投影光学系が製造された後、露光工程において投影倍率を調整するために、その光学部材の位置を変更する。調整工程において光学部材を移動してしまうと、露光工程において投影倍率を調整するために必要な光学部材の移動量が光学部材の可動範囲を超えてしまい、投影倍率を十分に調整することができない場合がある。つまり、投影光学系の結像性能の調整範囲が狭くなってしまう。

そこで、本発明は、投影光学系の結像性能の調整範囲を十分に確保することができる、投影光学系の製造方法を提供することを目的とする。

一側面は、物体の像を像面に投影する投影光学系の製造方法において、駆動部により移動可能な可動光学部材を含む複数の光学部材を組み合せて配置することにより、前記投影光学系を組み立てる組立工程と、前記駆動部により前記可動光学部材を移動させることにより前記投影光学系を調整する調整工程と、前記調整工程の後、前記駆動部の駆動範囲の原点に対する前記駆動部の現在位置を取得し、前記駆動部の位置を前記現在位置から前記原点にずらすことによって生じる前記投影光学系の収差の情報を取得する取得工程と、取得された前記収差の情報に基づいて、前記組立工程で組み立てられた前記投影光学系の外にある光学部材と前記可動光学部材の少なくとも一方である加工用光学部材の表面を加工する加工工程と、加工された前記加工用光学部材を前記投影光学系に組み込む組込工程と、加工された前記加工用光学部材が前記投影光学系に組み込まれた状態で、前記駆動部を前記駆動範囲の原点に移動させて前記投影光学系を製造する工程と、を有することを特徴とする。

本発明によれば、投影光学系の結像性能の調整範囲を十分に確保することができる、投影光学系の製造方法を提供することができる。

露光装置の概要図である。 光学部材を移動するための駆動部の概略図である。 投影光学系の従来の製造方法のフローチャートである。 第１実施形態における投影光学系の製造方法のフローチャートである。 第２実施形態における投影光学系の製造方法のフローチャートである。

以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。

（第１実施形態）
図１は、露光装置の概略図である。露光装置は、照明光学系ＩＬ、投影光学系ＰＯを含んでいる。照明光学系ＩＬと投影光学系ＰＯの間には、製造すべきデバイスの回路パターンが描画されているマスク１を保持して移動可能とするマスクステージ２が配置されている。照明光学系ＩＬには光源が含まれており、例えば高圧水銀ランプが使用可能である。ただし、光源は製造するデバイスに対して適切なのもが任意に選択可能である。照明光学系ＩＬは、光源からの光を用いてマスク１を照明し、投影光学系ＰＯでマスク１のパターンの像を、基板ステージ４に保持された基板３に投影する。基板３には露光光に感度があるフォトレジストが塗布されており、露光パターンを現像することにより、基板３上にレジストパターンが形成される。露光時には、マスクステージ２と基板ステージ４とを同期して移動させながら、基板３上を所定の照明領域で走査しながら露光する。

投影光学系ＰＯは、マスク１からの光の進行方向に沿って、順に屈折光学部材５、台形鏡２０の平面鏡２０ａ、第一の凹面鏡６、屈折光学部材７、凸面鏡８、第二の凹面鏡９、台形鏡２０の平面鏡２０ｂ、屈折光学部材１０を含む。屈折光学部材５、１０は、投影光学系ＰＯの結像性能、例えば倍率や収差などを補正するための補正光学系である。各屈折光学部材は、非球面のレンズやプレート、又は、楔状の光学部材などで構成される。

屈折光学部材５、１０にはそれぞれ駆動部１１及び１２が構成されている。図２に、屈折光学部材５と、その駆動部１１の概略図を示す。駆動部１１は、ベース２１と、アクチュエータ２２と、可動機構２３と、屈折光学部材５を保持する保持機構とを有する。アクチュエータ２２はモータや圧電素子などであり、その駆動力を可動機構２３に伝え、可動機構２３を上下動させる。アクチュエータを駆動することによって可動機構を介して屈折光学部材５の位置を変更することが可能である。つまり、屈折光学部材５は可動光学部材として構成される。屈折光学部材の位置は、例えばレーザー干渉計などの位置測定装置により測定が可能である。位置測定装置により測定された屈折光学部材の位置は、屈折光学部材の位置の調整に用いられる。なお、駆動部１１は、可動機構２３と共に又は代わりに、アクチュエータの駆動力を屈折光学部材に伝える、その他の可動機構を備えることもできる。例えば、屈折光学部材であるレンズの光軸に対して垂直な方向に移動する可動機構や、レンズの光軸に対して垂直な軸周りの回転方向にレンズを回転させる可動機構、または、これらの複数の方向に移動する可動機構がある。また、駆動部１１は、アクチュエータに接続された可動機構の位置を測定する、エンコーダやレーザー干渉計などのセンサを備える。制御器１３は、駆動部１１の制御を行い、センサで測定された位置の情報を用いて、アクチュエータ２２のフィードバック制御などを行う。ここでは、屈折光学部材５に備えられた駆動部１１について説明したが、屈折光学部材１０に備えられた駆動部１２も、駆動部１１と同様の構成である。

一般的に、露光装置により製造されるデバイスは、基板３上に形成されたパターンに重ね合わせて、その上にパターンを露光し、基板３上に複数のパターンを積層して形成することにより製造される。基板３は、レジスト塗布や現像処理の際、熱処理などを行うことにより、伸縮する。基板３が伸縮すると、基板上でパターンを重ね合わせて露光する際、重ね合わせ誤差が生じる。その重ね合わせ誤差を低減するために、露光装置に備えられた不図示の計測装置により基板３の伸縮量を計測する。制御器１３は、その計測値に基づき、パターンの重ね合わせ誤差を最小とするための屈折光学部材５、１０の目標位置又は移動量を算出する。そして、制御器１３は、算出した目標位置又は移動量に基づいて、屈折光学部材５、１０を移動させるための駆動部１１、１２のアクチュエータの駆動量を算出する。そして、制御器１３は、算出した駆動量に基づいて、駆動部１１、１２のアクチュエータに駆動指令を送信し、そのアクチュエータを駆動させる。駆動部１１、１２のアクチュエータによって屈折光学部材５、１０を移動させた後、基板３上へのパターンの露光を行うことにより、パターンの重ね合わせ誤差を低減することが可能である。

屈折光学部材５、１０および駆動部１１、１２による投影光学系の結像性能の調整範囲は、原点からみてプラス側への調整と、マイナス側への調整を含む。例えば、投影光学系の倍率の調整範囲として、拡大する方向への倍率調整と、縮小する方向への倍率調整ができるように構成されている。具体的には、アクチュエータに接続された可動機構の可動範囲（駆動部の駆動範囲）の中心付近に可動機構がある状態を初期位置として屈折光学部材を配置するように設計する。そして、その中心付近から一方の側へ可動機構をアクチュエータで移動させることによって、屈折光学部材を移動させて、拡大する方向への倍率調整を行う。一方、その中心付近から一方の側とは反対の側へ可動機構をアクチュエータで移動させることによって、屈折光学部材も反対側へ移動させて、縮小する方向への倍率調整ができるように構成されている。

重ね合わせ誤差は基板によってそれぞればらつきがあるため、より広い範囲の重ね合わせ誤差に対応する必要がある。そのため、屈折光学部材５、１０および駆動部１１、１２による投影光学系の結像性能の調整範囲を、プラス側の調整範囲、および、マイナス側の調整範囲ともに、より広く確保する必要がある。

ただし、屈折光学部材５、１０は、重ね合わせ誤差の調整以外にも、投影光学系ＰＯの組み立て誤差や投影光学系ＰＯの収差の調整にも使用され、各調整のために、駆動部１１、１２のアクチュエータを駆動する必要がある。そのため、投影光学系ＰＯの組み立て誤差や投影光学系ＰＯの収差の調整のためにアクチュエータを駆動すると、重ね合わせ誤差の調整用に確保される、投影光学系の結像性能の調整範囲が狭くなってしまうという問題がある。

投影光学系ＰＯの従来の製造方法の手順を、図３を用いて説明する。図３は、投影光学系の従来の製造方法を示すフローチャートである。

まず、投影光学系を構成するための複数のミラーやレンズなどの光学部材を加工して製造する（Ｓ２０１）。そして、加工された複数の光学部材を組んで、投影光学系を組み立てる（Ｓ２０２ 組立工程）。組み立ての際、駆動部を備える屈折光学部材５、１０については、アクチュエータに接続された可動機構の可動範囲の中心付近に可動機構がある状態となるように配置して組み立てる。一方、各光学部材や組み立てに使用する光学部材の保持機構や駆動部には、設計上の公差範囲内の誤差が存在するため、組み立て誤差が発生する。組み立て誤差は、設計上の公差から組み立て前の段階で予測しておくことにより、発生している誤差を求めることが可能である。組み立て誤差として、例えば、複数の光学部材の間隔の誤差や光学部材の偏心の誤差が挙げられる。

次に、求められた誤差に基づいて、その誤差が低減するように、つまり、設計上の位置となるように、各光学部材の位置を調整する（Ｓ２０３）。

駆動部を備える屈折光学部材５、１０については、位置測定装置により測定された屈折光学部材の位置に基づいて、アクチュエータを駆動することにより可動機構を移動させることによって、屈折光学部材５、１０の位置を調整する。この際、屈折光学部材５、１０を移動させる可動機構は、その可動範囲の中心付近からずれることになる。

Ｓ２０３の調整が完了した後、収差計測装置を用いて投影光学系の収差を計測する（Ｓ２０４）。収差計測装置としては、干渉計など公知の装置を用いることができる。収差を計測することにより、光透過部材の屈折率の均質性など、組み立て時には得られない情報も得ることが可能となり、投影光学系の収差をより高精度に調整することが可能となる。次に、計測された収差に基づいて、その収差が小さくなるように投影光学系の収差を調整する（Ｓ２０５）。収差調整は、屈折光学部材５、１０を駆動部により移動させたり、その他の屈折光学部材や反射鏡の間隔や偏心を調整したりして行うことができる。演算装置は、計測された収差に基づいて、その収差を小さくするための光学部材の目標位置や移動量を算出し、さらに、光学部材の目標位置や移動量から駆動部のアクチュエータの駆動量を算出する。そして、制御器１３は、算出された駆動量に基づいて、駆動部１１、１２のアクチュエータに駆動指令を送信し、そのアクチュエータを駆動させる。そして、そのアクチュエータによって屈折光学部材５、１０を移動させる。この際、屈折光学部材５、１０を移動させる可動機構は、Ｓ２０３における位置から更にずれることになる。

Ｓ２０５で収差の調整を行った後も、高次の収差が補正されずに残存してしまう。そこで、投影光学系に残存する収差を計測する（Ｓ２０６）。残存する収差は、光学部材の間隔調整や偏心調整では補正ができないので、加工用光学部材の表面の形状を加工することによって補正する。そのため、演算装置を用いて、計測された残存収差に基づいて、残存収差を低減するために必要な、加工用光学部材の表面形状の加工量を算出する（Ｓ２０７）。そして、研磨加工装置を用いて、算出された加工量に基づいて、加工用光学部材の表面を研磨して加工する（Ｓ２０８）。研磨加工装置としては、研磨パッドで光学部材の表面を研磨する公知の装置を使用することができる。次に、加工された光学部材を投影光学系に組み込む（Ｓ２０９ 組込工程）。加工用光学部材は、例えば、既に投影光学系内に配置されている屈折光学部材５、１０が適用できる。Ｓ２０８、Ｓ２０９においては、投影光学系から、既に投影光学系内に配置されている屈折光学部材５、１０を取り出して、その表面形状を加工して、投影光学系に戻す。

なお、加工用光学部材の組み込みの際にも、光学部材の間隔誤差や偏心誤差などによって、収差が発生する可能性がある。投影光学系の収差を計測し（Ｓ２１０）、計測された収差に基づいて、計測された収差が無視できない場合は、収差を調整するために投影光学系の光学部材の間隔や偏心の調整を行う（Ｓ２１１）。これにより、加工用光学部材の組み込みの際に発生する収差も低減することができる。収差の調整を行った後、さらに、投影光学系の収差を計測し（Ｓ２１２）、投影光学系の収差が許容範囲内であるかを判断する（Ｓ２１３）。この判断は、Ｓ２１２で計測される波面収差からＲＭＳ（Ｒｏｏｔ Ｍｅａｎｓ Ｓｑｕａｒｅ）の値を求め、仕様として決められている目標値と比較することにより行うことができる。

投影光学系の収差が許容範囲内である場合には、投影光学系ＰＯの製造が完了する。投影光学系の収差が許容範囲内でない場合には、再度、Ｓ２１１の収差調整に戻り、投影光学系の収差が許容範囲内になるまでＳ２１１〜Ｓ２１３を繰り返す。

Ｓ２０３やＳ２０５において、屈折光学部材５、１０の位置を調整するため、最終的に製造された投影光学系ＰＯにおいては、屈折光学部材５、１０を移動させる可動機構は、その可動範囲の中心付近からずれてしまっている。そのため、投影光学系ＰＯが製造された後に、倍率などの投影光学系の結像性能を調整する際の調整範囲は、プラス側の調整範囲、および、マイナス側の調整範囲のどちらか一方は狭くなり、他方は広くなっている。調整範囲が狭くなると、重ね合わせ誤差を十分に低減することができない場合がある。一方、駆動部の構造設計で、投影光学系の結像性能の調整範囲を広げようとすると、駆動部の機構が複雑になったり、大型化したり、スペースや機構の設計制約のために実現できなかったりする。

そこで、本実施形態では、従来の製造方法を改善し、駆動部の構造を変えることなく、投影光学系の結像性能の調整範囲を広げるために、図４に示す投影光学系の製造方法を行う。図４は、本実施形態における投影光学系の製造方法を示すフローチャートである。

Ｓ３０１からＳ３０５までは、従来のＳ２０１からＳ２０５までと同様であるので、説明は省略する。

Ｓ３０５の収差調整の後、収差計測装置を用いて、調整後の投影光学系に残存する収差を計測する（Ｓ３０６）。ここで、得られた残存収差を３１とする。

また、Ｓ３０５の収差調整の後、屈折光学部材５、１０に備えられた駆動部の可動機構の現在位置をセンサを用いて計測し、制御器１３が、センサによる計測信号を取得して、その現在位置の情報を取得する（Ｓ３０７）。制御器１３は、取得した可動機構の現在位置の情報から、可動機構の現在位置と、可動機構の移動範囲（駆動部の駆動範囲）の中心位置と、の差分を求める（Ｓ３０８）。ここで、中心位置として、予め設計されている駆動範囲の上限と下限の値から、それらの真ん中の値として決定する。そして、不図示の演算装置が、求めた差分の情報を取得し、求めた差分から、可動機構を、現在位置から可動機構の移動範囲の中心位置に移動させた場合の、投影光学系の収差変化量を光学シミュレーションによって予測して計算する（Ｓ３０９）。シミュレーションによって計算された収差変化量を３２とする。なお、計算の際、投影光学系に存在する全ての駆動部について、可動機構の移動範囲の中心位置に移動した場合の収差変化量を計算してもよいし、１つの駆動部のみについて計算してもよい。

次に、演算装置は、残存収差３１及び収差変化量３２を補正するために、加工用光学部材の面形状の加工量を算出する（Ｓ３１０）。そして、研磨加工装置を用いて、算出された加工量に基づいて、加工用光学部材の表面を研磨して加工する（Ｓ３１１）。次に、加工された光学部材を投影光学系に組み込む（Ｓ３１２）。加工用光学部材は、既に投影光学系内に配置されている屈折光学部材５、１０でもよいし、投影光学系外に用意された同等の光学部材でもよい。または、それらの組み合わせでもよい。加工用光学部材を、既に投影光学系内に配置されている屈折光学部材５、１０とした場合、Ｓ３１１からＳ３１２においては、投影光学系から、既に投影光学系内に配置されている屈折光学部材５、１０を取り出して、その表面形状を加工して、投影光学系に戻す。加工用光学部材を、投影光学系外に用意された同等の光学部材とした場合、投影光学系外に用意された加工用光学部材の表面形状を加工して、投影光学系にある屈折光学部材５、１０と交換する。

次に、Ｓ３０８において、駆動部の可動機構を可動機構の移動範囲の中心位置に移動させるとした駆動部について、可動機構をアクチュエータによって可動範囲の中心位置に移動させる（Ｓ３１３）。可動機構を可動範囲の中心位置に移動させることによって発生する収差は、加工用光学部材の面形状を加工したことによって補正されるので、投影光学系の残存収差３１及び収差変化量３２を補正することができる。

次のＳ３１４からＳ３１７までは、従来のＳ２１０からＳ２１３までと同様であるので、説明は省略する。

以上のようにして、駆動部の可動機構を可動範囲の中心位置に移動させた状態で光学部材を配置し、その状態で発生する投影光学系の収差は、加工用光学部材の表面形状を加工することで低減するようにしている。このように投影光学系を製造することによって、駆動部の可動機構を可動範囲の中心位置にさせることができ、その後の投影光学系の結像性能のプラス側の調整範囲及びマイナス側の調整範囲のどちらも十分な範囲を確保することができる。つまり、プラス側の調整範囲とマイナス側の調整範囲のどちらかが狭くなるという従来の問題を解決することができる。

露光装置は、このようにして製造された投影光学系を用いて、投影光学系の倍率等の結像性能を調整して、重ね合わせ誤差を低減して、マスクのパターンを基板上に投影する。これにより、露光装置は、重ね合わせ精度を向上させることができる。

（第２実施形態）
次に、図５に基づいて第２実施形態における投影光学系の製造方法を説明する。図５は、本実施形態における投影光学系の製造方法を示すフローチャートである。

Ｓ４０１からＳ４０３までは、従来のＳ２０１からＳ２０３までと同様であるので、説明は省略する。

次に、屈折光学部材５、１０に備えられた駆動部の可動機構の現在位置をセンサを用いて計測し、制御器１３が、センサによる計測信号を取得して、その現在位置の情報を取得する（Ｓ４０４）。制御器１３は、取得した位置の情報に基づいて、可動機構の移動範囲（駆動部の駆動範囲）の中心位置を目標位置として駆動部を制御して、その中心位置に可動機構を移動させる（Ｓ４０５）。

次に、収差計測装置を用いて、投影光学系の収差を計測する（Ｓ４０６）。次に、計測された収差に基づいて、投影光学系の収差を調整する（Ｓ４０７）。Ｓ４０７では、収差の計測結果より、Ｓ４０５で駆動範囲の中心位置に戻された駆動部を備える光学部材以外の光学部材について、間隔調整や偏心調整を行う。

そして、投影光学系に残存する収差を計測する（Ｓ４０８）。次に、演算装置を用いて、計測された残存収差に基づいて、残存収差を低減するために必要な、加工用光学部材の表面形状の加工量を算出する（Ｓ４０９）。そして、研磨加工装置を用いて、算出された加工量に基づいて、加工用光学部材の表面を研磨して加工する（Ｓ４１０）。次に、加工された光学部材を投影光学系に組み込む（Ｓ４１１）。

ここでは、Ｓ４０６の収差計測の後に、Ｓ４０７の収差調整及びＳ４０８の収差計測を行う方法を説明したが、Ｓ４０３の調整で十分修正されている場合は、Ｓ４０６の収差計測結果を用いて、加工用光学部材の表面形状の加工量を算出することも可能である。表面形状の加工量を算出する場合、駆動範囲の中心位置に戻した駆動部を備える光学部材以外の光学部材の間隔や偏心を調整することを前提に、算出することも可能である。

次のＳ４０９からＳ４１１まではＳ３１０からＳ３１２までと、Ｓ４１２からＳ４１５まではＳ３１４からＳ３１７までと同様であるので、説明は省略する。

以上、本実施形態のように投影光学系を製造することによって、第１実施形態と同様に、駆動部の可動機構を可動範囲の中心位置に移動させた状態で光学部材を配置し、加工用光学部材の表面を加工している。そのため、その後の投影光学系の結像性能のプラス側の調整範囲及びマイナス側の調整範囲のどちらも十分な範囲を確保することができる。上述の通り、駆動部を駆動範囲の中心に移動させて収差を計測し、その計測結果より発生している収差を補正するような面形状を加工用光学部材に付加することにより、駆動部を駆動範囲の中心位置させたまま投影光学系の収差を補正することが可能である。駆動部を駆動範囲の中心に位置させることにより、駆動部の複雑化や大型化をすることなく、十分な駆動範囲を確保しつつ、良好な結像性能をもつ投影光学系の製造が可能となる。

（第３実施形態）
次に、前述の露光装置を利用したデバイス（半導体ＩＣ素子、液晶表示素子等）の製造方法を説明する。まず、前述の製造方法によって投影光学系を製造する。そして、製造された投影光学系を備える露光装置を使用して、その投影光学系によりマスクのパターンの像を感光剤が塗布された基板（ウエハ、ガラス基板等）上に投影して、基板を露光する。そして、露光された基板（感光剤）を現像する工程と、現像された基板を加工する他の周知の工程と、を経ることによりデバイスが製造される。他の周知の工程には、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等が含まれる。本デバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。例えば、駆動部の可動機構の位置を測定するセンサは駆動部外にあってもよい。また、投影光学系の収差計測方法としては、実際に基板上にパターンを露光して、その露光結果より投影光学系で発生する収差を計測するなど様々な方法が適用可能である。

また、投影光学系ＰＯの構成は、反射鏡とレンズ等の光屈折部材とを含む投影光学系を例に挙げて説明したが、前記構成に限定されるものではない。物体の像を像面に投影する投影光学系であればよく、例えば、反射鏡を含まない、複数のレンズからなる投影光学系など、任意の構成が可能である。

また、上記実施形態では、Ｓ３０９、Ｓ３１３やＳ４０５において、駆動部をその駆動範囲の中心位置に移動させた状態で光学部材を配置するとした。ただし、投影光学系の結像性能の調整範囲が十分に確保できれば、駆動部の配置すべき位置は駆動範囲の中心位置に限らない。例えば、投影光学系の結像性能の調整範囲と駆動部の駆動範囲との対応関係から、結像性能の調整範囲の原点に対応する駆動範囲内の位置を決定し、前記中心位置の代わりとしてもよい。つまり、駆動範囲から定める所定の位置に駆動部を移動させた状態で光学部材を配置してもよい。

Claims (11)

1. 物体の像を像面に投影する投影光学系の製造方法において、
   駆動部により移動可能な可動光学部材を含む複数の光学部材を組み合せて配置することにより、前記投影光学系を組み立てる組立工程と、
   前記駆動部により前記可動光学部材を移動させることにより前記投影光学系を調整する調整工程と、
   前記調整工程の後、前記駆動部の駆動範囲の原点に対する前記駆動部の現在位置を取得し、前記駆動部の位置を前記現在位置から前記原点にずらすことによって生じる前記投影光学系の収差の情報を取得する取得工程と、
   取得された前記収差の情報に基づいて、前記組立工程で組み立てられた前記投影光学系の外にある光学部材と前記可動光学部材の少なくとも一方である加工用光学部材の表面を加工する加工工程と、
   加工された前記加工用光学部材を前記投影光学系に組み込む組込工程と、
   加工された前記加工用光学部材が前記投影光学系に組み込まれた状態で、前記駆動部を前記駆動範囲の原点に移動させて前記投影光学系を製造する工程と、を有することを特徴とする製造方法。
2. 前記駆動範囲の原点は、前記駆動範囲の中心位置であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
3. 前記加工用光学部材は前記可動光学部材であり、
   前記加工工程おいて、前記投影光学系にある前記可動光学部材を取り出して、前記可動光学部材の表面を加工し、
   前記組込工程において、加工された前記可動光学部材を前記投影光学系に組み込む、
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の製造方法。
4. 前記加工用光学部材は、前記組立工程で組み立てられた前記投影光学系の外にある光学部材であり、
   前記加工工程おいて、前記投影光学系の外にある光学部材の表面を加工し、
   前記組込工程において、前記投影光学系にある前記可動光学部材と、加工された前記加工用光学部材を交換することにより、加工された前記加工用光学部材を前記投影光学系に組み込む、
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の製造方法。
5. 前記取得工程において、取得した前記現在位置と前記駆動範囲の原点との差分に基づいて前記投影光学系の収差の情報を算出することによって、前記投影光学系の収差の情報を取得する、
   ことを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の製造方法。
6. 前記取得工程において、前記駆動部の位置を前記現在位置から前記原点にずらした後の前記投影光学系の収差を計測することにより前記収差の情報を取得することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の製造方法。
7. 前記調整工程において、前記駆動部により前記可動光学部材を移動させることにより前記投影光学系の収差を調整する、ことを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の製造方法。
8. 前記調整工程において、前記投影光学系の組み立て誤差を調整する、ことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の製造方法。
9. 前記投影光学系は、マスクのパターンを像面に投影する投影光学系であることを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の製造方法。
10. 請求項１乃至９の何れか１項に記載の製造方法により製造された投影光学系を用いて、マスクのパターンを基板上に投影して前記基板を露光する工程と、
    露光された基板を現像する工程と、
    現像された基板を加工してデバイスを製造する工程と、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
11. 請求項１乃至９の何れか１項に記載の製造方法により製造された投影光学系を用いて、前記駆動部により前記可動光学部材を移動させることにより前記投影光学系の結像性能を制御して、マスクのパターンを基板上に投影して前記基板を露光する工程と、を有することを特徴とする露光方法。

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