JP2016102981A - 投影光学系の製造方法、および、デバイス製造方法 - Google Patents
投影光学系の製造方法、および、デバイス製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
図1は、露光装置の概略図である。露光装置は、照明光学系IL、投影光学系POを含んでいる。照明光学系ILと投影光学系POの間には、製造すべきデバイスの回路パターンが描画されているマスク1を保持して移動可能とするマスクステージ2が配置されている。照明光学系ILには光源が含まれており、例えば高圧水銀ランプが使用可能である。ただし、光源は製造するデバイスに対して適切なのもが任意に選択可能である。照明光学系ILは、光源からの光を用いてマスク1を照明し、投影光学系POでマスク1のパターンの像を、基板ステージ4に保持された基板3に投影する。基板3には露光光に感度があるフォトレジストが塗布されており、露光パターンを現像することにより、基板3上にレジストパターンが形成される。露光時には、マスクステージ2と基板ステージ4とを同期して移動させながら、基板3上を所定の照明領域で走査しながら露光する。
次に、図5に基づいて第2実施形態における投影光学系の製造方法を説明する。図5は、本実施形態における投影光学系の製造方法を示すフローチャートである。
次に、前述の露光装置を利用したデバイス(半導体IC素子、液晶表示素子等)の製造方法を説明する。まず、前述の製造方法によって投影光学系を製造する。そして、製造された投影光学系を備える露光装置を使用して、その投影光学系によりマスクのパターンの像を感光剤が塗布された基板(ウエハ、ガラス基板等)上に投影して、基板を露光する。そして、露光された基板(感光剤)を現像する工程と、現像された基板を加工する他の周知の工程と、を経ることによりデバイスが製造される。他の周知の工程には、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等が含まれる。本デバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
Claims (10)
- 物体の像を像面に投影する投影光学系の製造方法において、
駆動部を備える可動光学部材を含む複数の光学部材を組み合せて配置することにより、前記投影光学系を組み立てる組立工程と、
前記駆動部により前記可動光学部材を移動させることにより前記投影光学系を調整する調整工程と、
前記駆動部をその駆動範囲から定める所定の位置に移動させた状態における前記投影光学系の収差の情報を取得する取得工程と、
取得された収差の情報に基づいて、加工用光学部材の表面を加工する加工工程と、
加工された前記加工用光学部材を前記投影光学系に組み込む組込工程と、を有し、
さらに、前記駆動部を前記駆動範囲から定める所定の位置に移動させる移動工程と、を有することを特徴とする製造方法。 - 前記駆動範囲から定める所定の位置は、前記駆動範囲の中心位置であることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 前記加工用光学部材は前記可動光学部材であり、
前記加工工程おいて、前記投影光学系にある前記可動光学部材を取り出して、前記可動光学部材の表面を加工し、
前記組込工程において、加工された前記可動光学部材を前記投影光学系に組み込む、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の製造方法。 - 前記加工用光学部材は、前記組立工程で組み立てられた前記投影光学系の外にある光学部材であり、
前記加工工程おいて、前記投影光学系の外にある光学部材の表面を加工し、
前記組込工程において、前記投影光学系にある前記可動光学部材と、加工された前記加工用光学部材を交換することにより、加工された前記加工用光学部材を前記投影光学系に組み込む、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の製造方法。 - 前記移動工程を前記取得工程の後に行い、
前記取得工程において、前記駆動部の位置の情報を取得し、取得した前記位置と前記駆動範囲から定める所定の位置との差分に基づいて前記状態における前記投影光学系の収差の情報を算出することによって、前記投影光学系の収差の情報を取得する、
ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の製造方法。 - 前記移動工程を、前記調整工程の後、前記取得工程の前に行い、
前記取得工程において、前記移動工程を行った後の前記投影光学系の収差を計測することにより前記収差の情報を取得することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の製造方法。 - 前記調整工程において、前記投影光学系の収差を調整する、ことを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の製造方法。
- 前記調整工程において、前記投影光学系の組み立て誤差を調整する、ことを特徴とする請求項1乃至7の何れか1項に記載の製造方法。
- 前記投影光学系は、マスクのパターンを像面に投影する投影光学系であることを特徴とする請求項1乃至8の何れか1項に記載の製造方法。
- 請求項1乃至9の何れか1項に記載の製造方法により投影光学系を製造する工程と、
該製造された投影光学系を用いて、マスクのパターンを基板上に投影して前記基板を露光する工程と、
露光された基板を現像する工程と、
現像された基板を加工してデバイスを製造する工程と、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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