JP6478433B2 - X線顕微鏡 - Google Patents
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Description
X線を放射する機能を有するものであれば特に制限されないが、実験室用途の小型のX線管が好ましく用いられ、その他、放射光施設(SPring−8等)を用いることもできる。可視光線による通常の光学顕微鏡と同様に、X線顕微鏡でも、ケーラー照明や臨界照明を用いることが望ましく、これらの照明を実現できる光源を用いることが望ましい。なお、X線領域では複雑なケーラー照明を行なうことは難しいため、通常、臨界照明を行なうか、視野程度の広さを有するX線を適宜照射する。これにより観察対象となる試料に一様な強度のX線を照射することができ、ボケの少ない鮮明な結像を得ることができる。X線のエネルギーについては特に制限なく、軟X線、X線、硬X線を用いることができるが、200nm以内の高い分解能を得るため、好ましくは、2keV以上のエネルギーを有するX線、硬X線を用いることが望ましい。
試料保持部は、観察対象となる試料をX線の光路上に保持する機能を有する器具であればどのようなものでもよい。例えば、試料を単に載置するための台であってもよいし、試料を挟持するための2枚の誘電体平板であってもよいし、試料を固定するための誘電体単板、また、試料を吊すための枠状物等、さらには液体状の試料を保持する容器であってもよく、試料をX線の光路上に保持する機能を有するあらゆる形態の器具を、試料保持部として用いることができる。試料保持部を構成する材料に特に制限はないが、試料保持部がX線に直接当たる場合、X線透過可能な材料を用いることが望ましい。また、X線の照射による電荷の蓄積が起りにくい材料を選ぶことが望ましい。
上述のWolterミラーの反射面が、曲線の回転軌跡で構成されているのに対して、本発明に用いられるKBミラーは、一方向にのみ曲率を有する1次元集光ミラーである。KBミラーは、平板形状に近いためWolterミラーに比べて表面の加工が容易である。KBミラーによるX線の入射角(KBミラー表面と光軸とのなす角)は、一般的には数ミリラジアン程度であり、入射したX線のうち80〜90%程度が反射される。入射角が大きい場合は、KBミラーを透過してしまう割合が大きくなってしまう。
上述のように、本発明のX線顕微鏡は、少なくとも、凹面KBミラーと凸面KBミラーとを含んでおり、このうち凹面KBミラーは、試料保持部に近い側に配置されるものである。凹面KBミラーの反射凹面の曲率や曲率分布は特に限定されないが、例えば、円弧状、楕円状、双曲線状、放物線状とすることができる。中でも、良好な結像特性を得る観点から、楕円状とすることが好ましい。また、楕円ミラーの焦点位置、特に試料保持部に近い焦点の位置に試料保持部を配置することが好ましい。
上述のように、本発明のX線顕微鏡は、少なくとも、凹面KBミラーと凸面KBミラーとを含んでおり、凸面KBミラーは、受光部に近い側に配置されるものである。反射凸面の断面形状は特に限定されないが、例えば、円弧状、楕円状、双曲線状、放物線状とすることができる。中でも、良好な結像特性を得る観点から、双曲線状とすることが望ましい。また、一方曲線と他方曲線を含む双曲線のうち、一方曲線を含むものであり、受光部は、双曲焦点のうち他方曲線側の焦点位置とすることが好ましい。
本発明における受光部は、本発明のX線顕微鏡の凸面KBミラーと凹面KBミラーによる結像X線像を受光する部材である。受光する部材は、典型的には、アレイセンサーであり、好ましくは二次元アレイセンサーである。二次元アレイセンサーとして、例えば、CCD素子やCMOS素子を用いることができる。アレイセンサーの画素ピッチは、結像X線像を鮮明に受光する観点から、好ましくは20μm以下、より好ましくは9μm以下、さらに好ましくは3μm以下である。
以下、本発明の実施の形態1におけるX線顕微鏡について説明する。
図1は、実施の形態1におけるX線顕微鏡の光学系の斜視図である。図1において、X線光学系の出発点であるX線源1から発せられたX線2は、顕微観察対象となる試料を保持する試料保持部3に照射され、試料保持部3を透過したX線2(発光や散乱光も含む)は、凹面KBミラー4の反射凹面、凸面KBミラー5の反射凸面、凹面KBミラー4の法線に対して直交する法線を有する凹面KBミラー6の反射凹面、凸面KBミラー5の法線に対して直交する法線を有する凸面KBミラー7の反射凸面に、順次反射し、試料保持部3の位置と結像関係の位置にある受光部8に到達する。図1の例では、楕円焦点と双曲焦点が一致しているため、凹面KBミラー4の反射凹面から発された光が、この反射凹面と凸面KBミラー5の反射凸面の計2回の反射を経て双曲焦点にすべて到達し、光路長がすべて等しくなるため、X線が収差なく集光する。なお、楕円焦点と双曲焦点が一致していなくても、集光は可能である。凹面KBミラー4や凸面KBミラー5は、円筒面ミラーなどの他の凹面ミラーや凸面ミラーであってもよいが、球面収差を小さくする観点から、図1のように、凹面KBミラー4として楕円凹面ミラーを用い、凸面KBミラー5として双曲凹面ミラーを用いることが望ましい。X線2が受光部8において結像するためには、「集光」の条件と「コマ収差抑制」の条件が必要であり、コマ収差抑制のためにはX線を図1のように偶数回反射させる必要がある。
Mag=L/f ・・・ (1)
図3は、実施の形態2におけるX線顕微鏡の光学系の斜視図である。実施の形態2におけるX線顕微鏡が、実施の形態1におけるX線顕微鏡と異なる点は、実施の形態2では、凹面KBミラー4および凸面KBミラー5が存在していない点である。その他の点は、実施の形態1のX線顕微鏡と同じものである。
Mag:181倍
L:0.7m
f:4.0mm
凹面KBミラー6と凸面KBミラー7のレンズ系のNA:1.3×10−3
実施の形態2と同様に、凹面KBミラー4および凸面KBミラー5が存在していないX線顕微鏡を想定したX線光路シミュレーションを行なった。図5は、試料保持部(横軸のゼロ点)から120mm離れた場所までの、X線光路を示すものであり、X線光路の途中には、凹面KBミラー6と凸面KBミラー7が順次配置されている。
図6は、実施の形態3に示した凹面KBミラー6および凸面KBミラー7の光軸方向における位置と同位置に、凹面KBミラー6および凸面KBミラー7の代わりに、従来と同様の2つの凹面KBミラー(凹面KBミラー19および凹面KBミラー20)を配置した光学系のX線光路を示すものである。
実施の形態2と同様に、凹面KBミラー4および凸面KBミラー5が存在していないX線顕微鏡を想定したX線光路シミュレーションを行なった。図7は、試料保持部(横軸のゼロ点)から120mm離れた場所までのX線光路を示すものであり、X線光路の途中には、実施の形態3の例とは異なる位置に凹面KBミラー6と凸面KBミラー7が順次配置されている。
図8は、実施の形態4に示した凹面KBミラー6および凸面KBミラー7と光軸方向における同位置に、凹面KBミラー6および凸面KBミラー7の代わりに、従来と同様の2つの凹面KBミラー(凹面KBミラー19および凹面KBミラー20)を配置した光学系のX線光路を示すものである。
実施の形態2と同様に、凹面KBミラー4および凸面KBミラー5が存在していないX線顕微鏡を想定したX線光路シミュレーションを行なった。図9は、試料保持部(横軸のゼロ点)から120mm離れた場所までのX線光路を示すものであり、X線光路の途中には、実施の形態3,4の例とは異なる位置に凹面KBミラー6と凸面KBミラー7が順次配置されている。
図10は、実施の形態5に示した凹面KBミラー6および凸面KBミラー7と光軸方向における同位置に、凹面KBミラー6および凸面KBミラー7の代わりに、従来と同様の2つの凹面KBミラー(凹面KBミラー19および凹面KBミラー20)を配置した光学系のX線光路を示すものである。
図11は、本発明の実施の形態6におけるX線顕微鏡の光学系の斜視図である。実施の形態6におけるX線顕微鏡が実施の形態1におけるX線顕微鏡と異なる点は、実施の形態1ではX軸方向の集光のために凹面KBミラー4および凸面KBミラー5を用いているのに対して、実施の形態6ではX軸方向の集光のために第1の凹面KBミラー21および、同じく凹面である第2の凹面KBミラー22を用いている点である。その他の点は、実施の形態1のX線顕微鏡と同じものである。
他方、凹面KBミラー6は、Y軸方向に曲率を有しX軸方向に曲率を有さず、これにより、X線をY軸方向に集光する機能を有している。また、凸面KBミラー7はY軸方向に曲率を有しX軸方向に曲率を有さず、これにより、X線の進行方向をY軸方向にのみ変更する機能を有している。
図5〜10において、レンズ系の主面の位置は、いずれも点線で表している。
図5(実施の形態3),図6(比較形態1)を比較すると、比較形態1では、レンズの主面の位置が、試料保持部から70mm(図6のf値参照)離れているのに対して、実施の形態3では、レンズの主面の位置が、試料保持部から12mm(図5のf値参照)と、非常に短縮された数値となっている。fの値が小さくなれば、上述の式(1)から分かるように、顕微鏡の拡大倍率Magを同程度とする前提において、Lの値を小さくする設計が可能となる。図6の例では、Lの値が12.6mであるのに対して、図5の例では、Lの値が2.0mと、非常に短縮されている。したがって、X線顕微鏡は、実験室に搬入可能な程度にコンパクトに設計できる。
2 X線
3 試料保持部
4 凹面KBミラー
5 凸面KBミラー
6 凹面KBミラー
7 凸面KBミラー
8 受光部
11 可視光光源
12 可視光線
13 試料保持部
14 可視光凸レンズ
15 可視光凹レンズ
18 受光部
19 凹面KBミラー
20 凹面KBミラー
21 第1の凹面KBミラー
22 第2の凹面KBミラー
Claims (11)
- X線源と、試料保持部と、反射凹面を有するKirkpatrick-Baezミラー(以下、「凹面KBミラー」と記載する)と、反射凸面を有するKirkpatrick-Baezミラー(以下、「凸面KBミラー」と記載する)と、前記試料保持部の位置と結像関係の位置にある受光部とを、順に有するX線顕微鏡。
- 前記凹面KBミラーの前記反射凹面は、楕円形状を含むものであり、前記試料保持部は、該楕円の焦点位置にある請求項1に記載のX線顕微鏡。
- 前記凸面KBミラーの前記反射凸面は、一方曲線と他方曲線を含む双曲線のうち、前記一方曲線を含むものであり、前記受光部は、前記双曲線の焦点のうち他方曲線側の焦点位置にある請求項1または2に記載のX線顕微鏡。
- 前記凸面KBミラーと前記受光部との距離よりも、前記凹面KBミラーと前記受光部との距離が長い請求項1〜3のいずれかに記載のX線顕微鏡。
- 前記試料保持部と前記凹面KBミラーとの間に、前記凸面KBミラーと前記凹面KBミラーを含む結像系の主面が存在する請求項1〜4のいずれかに記載のX線顕微鏡。
- 前記試料保持部の位置と前記受光部の位置との距離が2.5m以内である請求項1〜5のいずれかに記載のX線顕微鏡。
- 前記凸面KBミラーは少なくとも2つ配置されており、前記凹面KBミラーも少なくとも2つ配置されており、
一方の凸面KBミラーの法線と他の凸面KBミラーの法線は互いに非平行であり、
一方の凹面KBミラーの法線と他の凹面KBミラーの法線は互いに非平行である、請求項1〜6のいずれかに記載のX線顕微鏡。 - 前記試料保持部と前記凹面KBミラーとの最短距離が6mm以上である請求項1〜7のいずれかに記載のX線顕微鏡。
- 前記凸面KBミラーまたは前記凹面KBミラーのうち少なくとも一方は、光軸方向に移動可能に設置されている請求項1〜8のいずれかに記載のX線顕微鏡。
- 前記試料保持部と前記凹面KBミラーの間に、第1の凹面KBミラーと第2の凹面KBミラーが配置されており、
前記凹面KBミラーの法線と前記第1の凹面KBミラーの法線は互いに非平行であり、
前記凸面KBミラーの法線と前記第2の凹面KBミラーの法線は互いに非平行である、請求項1〜6のいずれかに記載のX線顕微鏡。 - 前記第1の凹面KBミラーは、前記第2の凹面KBミラーよりも前記試料保持部に近く、
前記第1の凹面KBミラーの反射凹面は双曲線を含んでおり、
前記第2の凹面KBミラーの反射凹面は楕円を含んでいる、
請求項10に記載のX線顕微鏡。
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