JP3256773B2

JP3256773B2 - Ｘ線縮小投影露光装置

Info

Publication number: JP3256773B2
Application number: JP06378695A
Authority: JP
Inventors: 恒之芳賀; 博雄木下
Original assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Current assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date: 1995-03-23
Filing date: 1995-03-23
Publication date: 2002-02-12
Anticipated expiration: 2017-02-12
Also published as: JPH08264415A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路製造に
おける微細パタン形成に用いられるＸ線縮小投影露光装
置に関するものである。さらに詳述すると、本発明は、
Ｘ線縮小投影露光装置において、光源となるシンクロト
ロン放射光あるいはレーザープラズマＸ線源などで発生
したＸ線を集光して縮小投影露光光学系のマスクを照明
するための光学系に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】Ｘ線縮小投影露光とは、波長５〜２０ｎ
ｍの軟Ｘ線領域のＸ線による縮小投影露光方式であり、
従来の光（紫外線）を用いた縮小投影露光が波長による
解像限界のために０．１μｍ以下の線幅のＬＳＩ製造に
は適用できないことから、将来の１Gbit以降の超高集積
ＬＳＩのリソグラフィー技術として期待されている。

【０００３】Ｘ線縮小投影露光は、光の縮小投影露光に
比べて縮小投影光学系のＮＡ（開口数）が非常に小さ
く、０．１程度しかない。現在、原理検証的な実験に用
いられている縮小投影露光用光学系であるシュバルツシ
ルト光学系では、縮小率が数十分の１程度のため、照明
側のＮＡ_O は０．０１以下と非常に小さい。したがっ
て、光源として用いるシンクロトロン放射光やレーザー
プラズマの光源の発散の方が照明側のＮＡ_O よりも大き
くなるため、絞りを用いてＮＡ_O を合わせてインコヒー
レントまたはパーシャルコヒーレント照明を実現してい
る。

【０００４】しかし、シュバルツシルト光学系は、収差
の少ない軸上を露光領域とする回転対称な光学系である
ために露光領域（フィールド）が直径数十μｍと非常に
小さい。そのため、原理検証的な実験には用いることが
できるが、実際のＬＳＩ製造に用いることはできない。
露光領域を拡大する縮小光学系として、ミラーの枚数を
増やして１チップ分の露光領域を確保する方法と、収差
の少ないリング状の露光領域を持つような光学系でマス
クとウエハの同期走査を用いることにより１チップ分の
露光領域を確保する方法がある。しかしながら、ミラー
として多層膜反射鏡を用いるため、一枚当たりの反射率
が６０％程度であることを考慮すると、ミラー枚数の増
加は好ましくなく、同期走査を併用するリングフィール
ド型縮小光学系が有力とされている。

【０００５】このような光学系の例として、たとえば特
開平２−３２８７６６号公報に開示されたＸ線投影露光
装置（以下先行発明１という）が知られている。この先
行発明１は、実用的な露光領域を確保するために軸から
外れたところにおいて収差を低減するようにしたもの
で、Ｘ線を集光してマスクを照明する集光ミラーと、１
枚または２枚の非球面ミラーまたはその２枚のミラーの
どちらか１つを球面ミラーで構成した反射ミラー光学系
を備えている。集光ミラーとしてはトロイダルミラーが
用いられる。この集光ミラーはＸ線を反射ミラー光学系
の光軸上の一点（入射瞳）に向かって集光するようにマ
スク上のパタンを照明する。マスクによって反射したＸ
線は、反射ミラー光学系によって試料面上に略垂直に入
射され、マスク上のパタンを縮小投影する。

【０００６】この先行発明１によるＸ線投影露光装置で
は、マスクサイズと実現でき得る照明領域との問題か
ら、縮小率は１／５程度になると考えられる。そのた
め、縮小光学系のＮＡ（＝０．１）を満足するインコヒ
ーレント照明を実現するためには照明系のＮＡ_O は０．
０２程度が必要となる。しかし、シンクロトロン放射光
の発散や、レーザープラズマＸ線源の集光ミラーのアク
セプタンス（光源から放射された光のうちミラーが受け
る量）を考慮すると、一般的にこの値よりも小さくなる
と考えられ、集光照明系なしにはインコヒーレント照明
を実現することができない。すなわち、光源本来の発散
が小さい場合、縮小投影光学系のＮＡを満足することが
できず、パーシャルコヒーレント照明となる。照明のコ
ヒーレンシーが高くなると、スペックル（斑点状のパタ
ン劣化）等の転写パタンの劣化が生じるため、実用的な
Ｘ線縮小投影露光を考えた場合、集光照明光学系が非常
に重要となってくる。

【０００７】図４〜図６にこれまでに提案された照明光
学系の例を示す。図４は、シンクロトロン放射光を１枚
のミラーにより水平方向に集光するようにしたものであ
る。ここで、１は光源としてのシンクロトロン放射光
源、２はシンクロトロン放射光、３は球面鏡からなる反
射ミラー、４は透過型のマスク、５はシュバルツシルト
光学系からなる反射ミラー光学系、６は試料面としての
ウエハである。この照明光学系は、シンクロトロン放射
光源１から水平方向に放射されたシンクロトロン放射光
２を１枚の反射ミラー３によってマスク４上に集光し、
マスク４を透過した光を反射ミラー光学系５によってウ
エハ６上に結像させる。しかし、この照明光学系では、
反射ミラー３のミラー面が球面なので水平方向にのみ集
光する集光系となる。そのため、垂直方向のＮＡ_O が十
分ではなく、水平方向のパタンの解像度低下が生じると
いう問題があった。

【０００８】図５はこの問題を避けるため、図４に示し
た照明光学系にフルアパーチャーイルミネーション
システムと呼ばれる光学系７を反射ミラー３とマスク４
との間に配置し、二次元の集光を行うようにしたもので
ある。光学系７は、１枚の球面ミラー８と２枚の平面ミ
ラー９とで構成されている。しかしながら、この照明光
学系においても１枚の球面ミラー８で集光しているた
め、水平方向と垂直方向の発散の違いを制御することが
できないという問題があった。

【０００９】図６に示す照明光学系は、軸外しの回転楕
円面により垂直方向にはクリチカル照明（照明光をマス
ク上に集光する照明系）を、水平方向にはケーラー照明
（照明光を入射瞳上に集光する照明系）を行うものであ
る。ここで、１０は光源、１１は結像光学系、１２はそ
の光軸、１３は軸外しの回転楕円ミラーからなるミラ
ー、１４はマスク４の露光領域、１５はｙ−ｚ平面にお
ける軸外しの回転楕円ミラー１３の断面（楕円）、１６
はウエハ上の露光領域、１７はビームの水平方向の軌
跡、１８は回転楕円面１３の長軸、１９は結像光学系１
１の入射瞳である。マスク４と光源１０は回転楕円面１
５の各焦点位置に配置されている。光源１０から出た光
は、ミラー１３によって反射される。ミラー１３はｙ−
ｚ平面に関して１８を長軸とする楕円になっており、ま
たその焦点位置に光源１０とマスク４がそれぞれ配置さ
れているため、ミラー１３によって反射された光は、全
てマスク４上に集光される。そして、この光は結像光学
系１１によってウエハ上に垂直に入射され、マスク４の
パタンを投影する。ウエハ上の露光領域１６は、ミラー
１３を光軸１２に関して回転する回転面であるため、横
長の円弧状領域（リングフィールド）となる。しかしな
がら、この光学系はミラー１３の形状が軸外し回転楕円
という非常に複雑な非球面であるために加工が困難であ
ることと、光源１０からミラー１３までの距離が非常に
近いために放射光を光源とした場合の差動排気系の設
計、レーザープラズマを光源にした場合の飛散粒子対策
を考えた場合現実的ではない。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上記した通り、図４〜
図６に示した従来の光学系はいずれも実用的な光学系を
満足するものではない。すなわち、図４に示した従来の
照明光学系においては、水平方向のみ集光しているた
め、垂直方向のＮＡ_O が不十分で、解像度が低下すると
いう問題があった。図５に示した光学系は、１枚のミラ
ー８を用いているため、水平、垂直方向の発散の違いを
制御できないという問題があった。また、図６に示した
光学系はミラー１３の形状が軸外し回転楕円という非常
に複雑な非球面であるため、その加工が困難であるとい
う問題があった。

【００１１】したがって、本発明は上記した従来の問題
点に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、
照明側の開口数ＮＡ_O を満足するようなインコヒーレン
ト照明を実現するとともに、実用露光領域を確保するこ
とができるようにしたＸ線縮小投影露光装置を提供する
ことにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、光源からの平行光束をマスク上に集光す
るＸ線縮小投影露光照明光学系と、マスク上のパタンを
試料面に投影し露光する縮小投影露光光学系を備えたＸ
線縮小投影露光装置において、前記縮小投影露光照明光
学系を、円弧状に光路を変換する回転ミラーと、回転ミ
ラーによって反射された光を前記マスクに集光する固定
ミラーとで構成し、前記回転ミラーの回転軸を前記縮小
投影露光照明光学系の軸と一致させ、前記固定ミラーを
前記縮小投影露光照明光学系の軸に対して平行にかつ光
軸と直交する方向の曲率中心を前記軸と一致させて配置
し、前記回転ミラーから前記固定ミラーまでの光路長
を、前記固定ミラーから前記マスクを経て前記縮小投影
露光照明光学系の入射瞳までの光路長と等しくしたこと
を特徴とする。また、本発明は、前記回転ミラーがシリ
ンドリカルミラーで、前記固定ミラーがトロイダルミラ
ーであることを特徴とする。

【００１３】

【作用】本発明において、回転ミラーは、縮小投影露光
光学系の軸に関して回転することにより、光路を円弧状
に変換する。固定ミラーは、回転ミラーの回転により光
路を変換された光をマスク上に集光する。マスク上の照
射領域は、回転ミラーが回転することで横長の円弧状領
域（リングフィールド）となる。回転ミラーの回転軸
は、縮小投影露光光学系の軸と一致している。固定ミラ
ーは、縮小投影露光光学系の軸に対して平行に、かつ光
軸と直交する方向の曲率中心を前記軸と一致させて配置
されている。また、回転ミラーから固定ミラーまでの光
路長は、固定ミラーからマスクを経て縮小投影露光光学
系の入射瞳までの光路長と等しい。これらによって、回
転ミラーが回転してもマスクを照明した光は、露光光学
系の軸に関する回転対称性を保ち、全て入射瞳に到達す
る。

【００１４】

【実施例】以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて
詳細に説明する。図１は本発明に係るＸ線縮小投影露光
装置の一実施例を示す概略構成図である。なお、従来技
術で説明したものと同一構成部材等に対しては同一符号
を付し、その説明を省略する。ここで、２２は結像用の
縮小投影露光光学系、２４はＸ線縮小投影露光照明光学
系、２５は縮小投影露光光学系２２の軸、２６は集光光
学系である。

【００１５】本実施例においては、縮小率が１／５で、
実用露光領域として縦２０ｍｍ×横２０ｍｍ、露光光学
系のＮＡ＝０．１で、照明系のＮＡ_O ＝０．０２を満足
するようなインコヒーレント照明を得る例について説明
する。また、本実施例においては、縮小投影露光光学系
２２として上記した先行発明１による２枚非球面光学系
を使用した例を示す。この露光光学系２２は、凹面鏡２
７と凸面鏡２８とで構成されている。ただし、他にも結
像用の縮小露光光学系として、リングフィールドをスキ
ャンニングする方式の光学系であれば、３枚系や４枚系
でも問題ない。これらの光学系の違いによっては本発明
の効果は何等損なわれない。

【００１６】Ｘ線縮小投影露光照明光学系２４は、平行
光束をもつＸ線をマスク４上にクリチカル照明の条件を
満足するように集光するもので、回転ミラー３０と固定
ミラー３１とで構成されている。回転ミラー３０として
は、シリンドリカルミラーが用いられる。この回転ミラ
ー３０は、集光光学系２６と縮小投影露光光学系２２の
入射瞳１９との間に配置されており、縮小投影露光光学
系２２の軸２５に対して角度φだけ傾斜している。ま
た、回転ミラー３０の回転軸は、軸２５と一致してい
る。固定ミラー３１は、凹面鏡２７の位置に前記軸２５
に対して平行に、かつ光軸と直交する方向の曲率中心を
縮小投影露光光学系２２の軸２５と一致させて配置され
る。固定ミラー３１としてはトロイダルミラーが用いら
れる。

【００１７】集光光学系２６は平行光束をもつＸ線を得
るためのもので、本実施例においては本発明者等によっ
て先に提案されたＸ線集光装置（特願平６−８２７５５
号、以下先行発明２という）を用いた例を示す。この集
光光学系２６は、凹面トロイダルミラーからなる凹面鏡
３４と、凸面トロイダルミラーからなる凸面鏡３５とで
構成されており、これらミラーの距離を最適化すること
により、平行性が高く、形状歪みの少ない平行光束３３
をもつシンクロトロン放射光を用いることができる。最
適化の条件としては、凹面鏡３４の光軸と直交する方向
の焦点距離を凹面鏡３４と光源の距離の概ね３分の２と
し、光軸と平行な方向の焦点距離を、凹面鏡３４と光源
の距離の概ね２倍にすればよい。図２は光線追跡プログ
ラムにより求めた結像光学系２６による平行光束をもつ
シンクロトロン放射光のビーム形状を示す。

【００１８】ただし、上記した集光光学系２６を用い
ず、たとえば２枚のトロイダルミラーを用いてもよい
し、レーザープラズマを光源として平行光束を得てもよ
い。これらの平行光束を得るための光源や集光ミラー等
の手段の違いによっては本発明の効果は何ら損なわれな
い。

【００１９】ここで、照明光学系側のＮＡ_O とミラーと
マスク間の距離Ｌと、得られた平行光束のビームサイズ
Ｄとの間には次の関係が成り立つ。ＮＡ_O ＝Ｄ／２・Ｌ・・・・・（１）したがって、照明光学系側のＮＡ_O （＝０．０２）を満
足するためには、得られた平行光束３３のビームサイズ
Ｄが分かると、ミラーと集光点であるマスク４との間隔
が定まる。

【００２０】シンクロトロン放射光源１から放射され集
光光学系２６によって集光された平行光束３３は、回転
ミラー３０によって反射され、縮小投影露光光学系２２
の軸２５から曲げられる。そして、この平行光束３３
は、固定ミラー３１によって反射されて縮小投影露光光
学系２２の入射瞳１９に集光するようにマスク４上のパ
タン領域４ａを照射する。図３にマスク４上に集光され
たビーム形状を示す。そして、マスク４上のパタンの像
は、縮小投影露光光学系２２によりウエハ６上に縮小率
１／５に縮小されて投影される。マスク４上の照射領域
３６は、回転ミラー３０が回転することで円弧状の細長
い照射領域、すなわちリングフィールドとなる。縦方向
の照射領域は狭いので、マスク４を矢印Ａ方向に走査す
ることにより照射領域を大面積とすることができる。ま
た、これに同期してウエハ６を矢印Ｂ方向に走査するこ
とにより、実用露光領域を得ることができる。

【００２１】ここで、縮小投影露光光学系２２のミラー
（凹面鏡２７および凸面鏡２８）と光軸２５との干渉を
避け、かつマスク４と固定ミラー３１との間をできる限
り短くして発散を大きくとれるようにするために、固定
ミラー３１は上記したように凹面鏡２７の位置に設置す
る。本実施例の場合、固定ミラー３１とマスク４との光
路長Ｌ2 を２８３．４６ｍｍとすると、照明系のＮＡ_O
が０．０２であるから、上記（１）式より、平行光束の
垂直方向の大きさが１１．３ｍｍ以上あればインコヒー
レント照明を実現することができる。

【００２２】また、回転ミラー３０の回転軸は、縮小投
影露光光学系２２の軸２５と一致し、かつ固定ミラー３
１の光軸と直交する方向の曲率中心は前記軸２５と一致
しているので、Ｘ線縮小投影露光照明光学系２４全体は
縮小投影露光光学系２２の軸２５に対して回転対称にな
っている。このため、回転ミラー３０の回転による光軸
の移動は、縮小投影露光光学系２２の軸２５に対して完
全に回転対称になる。

【００２３】さらに、回転ミラー３０と固定ミラー３１
との間の光路長をＬ1 、固定ミラー３１とマスク４との
間の距離をＬ2 、マスク４と入射瞳１９との間の光路長
をＬ3 とすると、回転ミラー３０は、Ｌ1 ＝Ｌ2 ＋Ｌ3
を満足するような位置に配置される。こうすることによ
り、回転ミラー３０によって反射されマスク４に集光さ
れた光束は、回転ミラー３０が回転しても縮小投影露光
光学系２２の軸２５に関する回転対称性を保つため、す
べて入射瞳１９に到達することになる。

【００２４】ここで、シンクロトロン放射光の垂直成分
をマスク４上に集光させるための固定ミラー３１の光軸
方向の曲率半径Ｒ3 は、固定ミラー３１とマスク４との
光路長Ｌ2 、および固定ミラー３１の斜入射角φ3 が決
まると、一義的に決まる。すなわち、光軸方向の曲率半
径をＲ、ミラーから集光点までの距離をａ、ミラーから
光源点までの距離をｂ、ミラーの斜入射角をφとする
と、これらの間には一般に次の関係が成り立つ。１／ａ＋１／ｂ＝２／Ｒ・ｓｉｎφ ・・・・・（２）ここで、入射光束は平行光であり、ｂは無限大とみなす
ことができる。このため、固定ミラー３１の光軸方向の
曲率半径Ｒ3 は、固定ミラー３１とマスク４の間の距離
Ｌ2 および固定ミラー３１の斜入射角φ3 を用いて次の
ように書ける。Ｒ3 ＝２・Ｌ2 ／ｓｉｎφ3 ・・・・・（３）したがって、（３）式を満足すれば、垂直成分はマスク
４上に集光する。なお、本実施例においては、Ｌ2 ＝２
８３．４６ｍｍ、Ｒ3 ＝６９２６．１１ｍｍ、φ3 ＝
４．７１１°である。

【００２５】また、水平方向に関しては、固定ミラー３
１の光軸と直交する方向（水平方向）の曲率半径ｒ3 を
縮小投影露光光学系２２の軸２５に曲率中心が一致する
ように８５．８６ｍｍとする。これにより、回転ミラー
３０の回転による光束の軌跡はマスク４の物高（６２．
５ｍｍ）を半径とする円周と一致し、収差の少ないリン
グフィールドを照明することができる。しかし、この曲
率では水平方向の集光点はマスク４より遠くになるた
め、マスク４上に集光するよう収差を補正する必要があ
る。そのため、回転ミラー３０は光軸と直交する方向の
曲率半径ｒ2 として１３７．２２ｍｍをもつようなシリ
ンドリカルミラーを用いる。また、ここで、（１）式の
インコヒーレント照明の条件も同時に満足するようにす
る。これらの構成により、水平、垂直方向ともに等しい
発散をもってマスク４上に集光することができる。すな
わち、ミラーの光軸と直交する方向の曲率半径ｒ、ミラ
ーから集光点までの距離ａ、ミラーから光源点までの距
離ｂ、およびミラーの斜入射角φとの間には一般に次の
関係が成り立つ。１／ａ＋１／ｂ＝２・ｓｉｎφ／ｒ・・・・・（４）ここで、固定ミラー３１からマスク４までの光路長Ｌ2
、回転ミラー３０から固定ミラー３１までの光路長Ｌ1
、固定ミラー３１の斜入射角φ3 、回転ミラー３０の
斜入射角φ2 （φ3 ／２）、回転ミラー３０の焦点をＬ
1 ＋Ｌ4 として、（４）式において、平行光のためｂが
無限大として整理すると、固定ミラー３１の光軸と直交
する方向の曲率半径ｒ3 および回転ミラー３０の光軸と
直交する方向の曲率半径ｒ2 は次のように表される。１／Ｌ2 ＋１／Ｌ4 ＝２・ｓｉｎφ3 ／ｒ3 ・・・・（５）１／（Ｌ4 ＋Ｌ1 ）＝２・ｓｉｎφ2 ／ｒ2 ・・・・（６）したがって、ｒ3 が決まれば、ｒ2 は式（５）、（６）
から求めることができる。

【００２６】実用露光領域を得るためには回転ミラー３
０の回転角により所望のリングフィールド長を得ればよ
い。回転により集光スポットはマスク４上のリングフィ
ールド３６に沿って移動する。例えば、マスク４上の照
明領域として１００ｍｍ（チップの横サイズ２０ｍｍ）
を得るには、回転角を１０６．２６°にすればよい。回
転ミラー３０が回転しても各ミラーへの入射角は変化し
ないため、露光強度の変化は基本的には生じない。その
ため、回転速度を一定に保てばリングフィールド３６の
周上での露光むらは生じない。また、生じたとしても速
度を調整することによりむらを解消することが可能であ
る。

【００２７】さらに、上述したようにマスク４とウエハ
６を矢印Ａ、Ｂ方向に同期してそれぞれ走査することに
よりリングフィールド３６の幅方向の露光領域を拡大す
ることができる。したがって、回転ミラー３０の回転速
度をマスク４の走査に対して十分速くすることにより、
回転ミラー３０の回転による露光むらも生じない。これ
により、実用露光領域２０ｍｍ（横）×２０ｍｍ以上
（縦）の露光を可能にする。

【００２８】なお、本実施例は、実用的な光学系として
反射型のマスクを用いることが主流となっているため、
反射型マスクへの適用を対象としたが、透過型マスクを
用いても発明の効果は何ら失われない。さらに、本実施
例においては、ミラーの形状をできる限り簡略化し、加
工性をよくするために回転シリンドリカルミラーと固定
ドロイダルミラーとの組合せとしたが、これらのミラー
として、回転楕円、放物面、その他の２次曲面等の非球
面鏡を用いることも可能である。

【００２９】

【発明の効果】以上説明したように本発明に係るＸ線縮
小投影露光装置によれば、Ｘ線縮小投影露光照明光学系
を回転ミラーと固定ミラーによって構成したので、高解
像度な縮小投影露光光学系をインコヒーレントで、かつ
実用露光領域を確保して照明することができる。また、
回転ミラーと固定ミラーとしては、シリンドリカルミラ
ーとトロイダルミラーを用いているので、非球面ミラー
に比べて安価に精度よく製作することができる。また、
この照明光学系を用いればリングフィールドをもつ縮小
投影露光光学系のシステムによって０．１μｍ以下の超
高集積ＬＳＩの製造が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るＸ線縮小投影露光照明光学系の
一実施例を示す概略構成図である。

【図２】平行光束をもつシンクロトロン放射光のビー
ム形状を示す図である。

【図３】マスク上に集光されたビーム形状を示す図で
ある。

【図４】シンクロトロン放射光を光源とする照明系の
従来例を示す図である。

【図５】図４の光学系にフルアパーチャーイルミ
ネーションシステムと呼ばれる光学系を追加し、２次
元の集光を行なうようにした光学系の従来例を示す図で
ある。

【図６】軸はずしの回転楕円面により垂直方向にはク
リチカル照明を、水平方向にはケーラー照明を行なう光
学系の従来例を示す図である。

【符号の説明】

１…光源、４…反射型のマスク、６…ウエハ、１９…入
射瞳、２２…結像用の縮小投影露光光学系、２４…Ｘ線
縮小投影露光照明光学系、２５…縮小投影露光光学系の
軸、２６…集光光学系、２７…凹面鏡、２８…凸面鏡、
３０…回転ミラー、３１…固定ミラー、３４…凹面トロ
イダルミラー、３５…凸面トロイダルミラー。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平７−94397（ＪＰ，Ａ) 特開平８−5796（ＪＰ，Ａ) 特開平５−82418（ＪＰ，Ａ) 特開平７−94396（ＪＰ，Ａ) 特開平４−307923（ＪＰ，Ａ) 特開平４−225215（ＪＰ，Ａ) 特開平２−174111（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/027

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】光源からの平行光束をマスク上に集光す
るＸ線縮小投影露光照明光学系と、マスク上のパタンを
試料面に投影し露光する縮小投影露光光学系を備えたＸ
線縮小投影露光装置において、前記縮小投影露光照明光学系を、円弧状に光路を変換す
る回転ミラーと、回転ミラーによって反射された光を前
記マスクに集光する固定ミラーとで構成し、前記回転ミラーの回転軸を前記縮小投影露光照明光学系
の軸と一致させ、前記固定ミラーを前記縮小投影露光照
明光学系の軸に対して平行にかつ光軸と直交する方向の
曲率中心を前記軸と一致させて配置し、前記回転ミラー
から前記固定ミラーまでの光路長を、前記固定ミラーか
ら前記マスクを経て前記縮小投影露光照明光学系の入射
瞳までの光路長と等しくしたことを特徴とするＸ線縮小
投影露光装置。
【請求項２】請求項１に記載のＸ線縮小投影露光装置
において、前記回転ミラーがシリンドリカルミラーで、前記固定ミ
ラーがトロイダルミラーであることを特徴とするＸ線縮
小投影露光装置。