JP6477464B2 - モルフォリノオリゴヌクレオチドの製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、モルフォリノオリゴヌクレオチドの製造方法及び、該製造方法の原料として用いられるモルフォリノヌクレオチドに関する。
モルフォリノオリゴヌクレオチドは、ＤＮＡ、ＲＮＡに対する親和性が高く、各種ヌクレアーゼに対する抵抗性があり、生体内で安定であり、毒性も低いため、アンチセンスオリゴヌクレオチドとしての利用が注目されている化合物である（非特許文献１参照）。
モルフォリノオリゴヌクレオチドの製造方法として、固相合成法および液相合成法が報告されている（非特許文献２、特許文献１〜５参照）。
固相合成法は、自動合成化が可能でありスピード面で有利であるが、設備制約上スケールアップに制限があり、また、反応性が低いため、ヌクレオチド伸長反応において使用される試薬であるモノマーを過剰に使用する必要があり、工業的な大量合成に向かない。また、途中段階での反応の進行状況の確認、中間体構造解析等も困難という欠点もある。
一方、液相合成法は、カラム精製など煩雑な処理が必要であり、アンチセンス医薬品として利用されうる２０ｍｅｒ程度の鎖長のモルフォリノオリゴヌクレオチドを大量かつ迅速に合成することは困難であった。
近年、液相法と固相法のそれぞれの欠点を解消しようとする試みとして、疎水性基結合ヌクレオシド、疑似固相保護ヌクレオシド等を用いたオリゴヌクレオチドの合成方法が報告されている（特許文献６、７参照）。しかし、オリゴヌクレオチド合成とは反応経路や反応そのものが異なるモルフォリノオリゴヌクレオチドの合成については記載も示唆もされてない。
国際公開第９１／０９０３３号 国際公開第２００８／００８１１３号 米国特許出願公開第２００９／０１３１６３２号明細書 国際公開第２００９／０６４４７１号 国際公開第２０１２／０４３７３０号 特開２０１０−２７５２５４号公報 国際公開第２０１２／１５７７２３号
Ｓｕｍｍｅｒｔｏｎ，Ｊ．等，Ａｎｔｉｓｅｎｓｅ ａｎｄ Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄ Ｄｒｕｇ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ，１９９７年，Ｖｏｌ．７，ｐ．１８７． Ｈａｒａｋａｗａ等，Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ ＆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ，２０１２年，Ｖｏｌ．２２，ｐ．１４４５−１４４７
本発明の課題は、液相法で効率的かつ高収率にモルフォリノオリゴヌクレオチドを製造する方法、及び当該方法の原料となる新規モルフォリノヌクレオチドを提供することである。
本発明者らは、モルフォリノオリゴヌクレオチドの液相合成において、５’位水酸基側を特定の保護基で保護することにより、上記課題が解決できることを見出した。
すなわち、５’位水酸基側が当該保護基で保護されたモルフォリノヌクレオチドをモルフォリノオリゴヌクレオチド液相合成の原料として使用することにより、縮合反応自体は液相中で行うことができるので反応性が固相法に比べて格段に向上し、使用するモノマー当量を格段に低減でき、さらに反応後は晶析または抽出操作によりモルフォリノオリゴヌクレオチドを簡便に単離・精製することができるので、医薬品に利用されうる鎖長が２０ｍｅｒ程度のモルフォリノオリゴヌクレオチドを液相法で効率的かつ高収率に合成可能となった。
一方、本発明者らがモルフォリノオリゴヌクレオチドの液相合成を検討する過程において、縮合反応に使用する活性化モルフォリノヌクレオシドモノマーが次サイクルの縮合反応中に微量残留した場合に二重付加を引き起こし、得られるモルフォリノオリゴヌクレオチドの品質が低下するという課題が見出された。これに対しては、縮合反応後に残留した活性化モルフォリノヌクレオシドモノマーをクエンチ剤で処理することにより課題が解決できることを見出した。
すなわち、本発明は以下を含む。
［１］一般式（Ｉ）：
［式中、
ｍは、０以上の任意の整数を示し、
ｍ＋１個のＢａｓｅは、独立してそれぞれ保護されていてもよい核酸塩基を示し、
Ｐ１は、水素原子または酸性条件下で除去可能な一時保護基を示し、
ｍ個のＸは、独立してそれぞれＣ１−６アルコキシ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、または４位窒素原子が保護基で保護され、さらに置換されていてもよいピペラジノ基を示し、
ｍ個のＷは、独立してそれぞれ酸素原子又は硫黄原子を示し、
Ｓ１は、単結合、または＊Ｏ−Ｓ２＊＊（式中、＊は、Ｌとの結合位置を示し、＊＊は５’位水酸基との結合位置を示し、Ｓ２は、主鎖が原子数１ないし２０のスペーサーを示す。）で表される基を示し、
Ｌは、単結合、または式（ａ１）：
［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
＊＊は、Ｓ１との結合位置を示し；
Ｌ１は、置換されていてもよい２価のＣ１−２２炭化水素基を示し；かつ
Ｌ２は、Ｃ（＝Ｏ）を示すか、または＊＊＊Ｎ（Ｒ３）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ２）Ｃ（＝Ｏ）＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｙとの結合位置を示し、Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子もしくは置換されていてもよいＣ１−２２アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基を示す。］で示される基を示し、
Ｙは、単結合、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示し、ならびに
Ｚは、式（ａ２）：
［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
Ｒ４は、水素原子を示すか、あるいはＲｂが、下記式（ａ３）で表される基である場合には、Ｒ６と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ｂと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；
ｋ個のＱは、独立してそれぞれ単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−を示し；
ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基を示し；
ｋは、１〜４の整数を示し；
環Ａは、ｋ個のＱＲ５に加えて、更にハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよく；
Ｒａは、水素原子を示し；
Ｒｂは、水素原子、または式（ａ３）：
（式中、＊は、結合位置を示し；
ｊは、０〜４の整数を示し；
ｊ個のＱは、前記と同意義を示し；
ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれ炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基を示し；
Ｒ６は、水素原子を示すか、またはＲ４と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ａと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；かつ
環Ｂは、ｊ個のＱＲ７に加えて、更にハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよい。）で表される基を示し、あるいは
Ｒａ及びＲｂは一緒になって、酸素原子を形成する。］で表される基を示す。］
で示されるモルフォリノヌクレオチド。
［２］ｍが０である、［１］に記載のモルフォリノヌクレオチド。
［３］一般式（Ｉ）中のＬが、スクシニル基であり、かつ
Ｒ５および／またはＲ７が、炭素原子数１０〜４０のアルキル基である、［１］または［２］に記載のモルフォリノヌクレオチド。
［４］一般式（Ｉ）中のＬが、スクシニル基であり、かつ
ＲａおよびＲｂが、共に水素原子であり、かつＲ５が、炭素原子数１０〜４０のアルキル基である、［１］または［２］に記載のモルフォリノヌクレオチド。
［５］一般式（Ｉ）中のＬが、スクシニル基であり、かつ
Ｒ５および／またはＲ７が、炭素原子数１２〜３０のアルキル基である、［１］または［２］に記載のモルフォリノヌクレオチド。
［６］一般式（Ｉ）中のＬが、スクシニル基であり、かつ
Ｚ−Ｙ−が、３，４，５−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ基、
３，５−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルオキシ基、
３，５−ビス［３’，４’，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルオキシ基、
３，４，５−トリス［３’，４’，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルオキシ基、
３，４，５−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルアミノ基、
２，４−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルアミノ基、
３，５−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルアミノ基、
ジ（４−ドコシルオキシフェニル）メチルアミノ基、
４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルアミノ基、
４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリ（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアミノ基、
２，４−ジ（ドデシルオキシ）ベンジルアミノ基、
フェニル（２，３，４−トリ（オクタデシルオキシ）フェニル）メチルアミノ基、
ジ［４−（１２−ドコシルオキシドデシルオキシ）フェニル］メチルアミノ基、
３，５−ビス［３’，４’，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルアミノ基、および
３，４，５−トリス［３’，４’，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルアミノ基
からなる群より選択される基である、［１］または［２］に記載のモルフォリノヌクレオチド。
［７］Ｚ−Ｙ−Ｌ−が、
２−{２，４−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
３，５−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；
４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；
２−{１−［（２−クロロ−５−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル）］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；
２−{３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
２−{２−［３’，４’，５’−トリ（２’’，３’’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルオキシ］−４−メトキシベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メトキシベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルスクシニル基；
２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
４−［２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイルアミノ］ベンジルスクシニル基；
２−{４−［２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイルアミノ］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
４−（３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ）ベンジルスクシニル基；
２−｛４−（３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
２−{３，５−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
２−{１−［２，３，４−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
２−{１−［４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル］−４’−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
３，４，５−トリス［３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］ベンジルスクシニル基；および
２−{３，４，５−トリス［３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基からなる群から選択される、
［１］または［２］に記載のモルフォリノヌクレオチド。
［８］Ｐ１が、トリチル基、モノメトキシトリチル基、またはジメトキシトリチル基である、［１］〜［７］のいずれか一に記載のモルフォリノヌクレオチド。
［９］（２）５’位水酸基が活性化（チオ）ホスフェート化又は活性化（チオ）ホスホルアミダート化され、かつモルフォリン環窒素原子が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｐは、１以上の任意の整数を示す。）を、５’位水酸基又は５’位水酸基が水酸基を有する置換基を有する場合は該置換基上に存在する水酸基が炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が保護されていないｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｎは、１以上の任意の整数を示す。）と、そのモルフォリン環窒素原子を介して（チオ）ホスホルアミダート結合又は（チオ）ホスホロジアミダート結合により縮合させる工程を含む、ｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドの製造方法。
［１０］ｐが１である、［９］に記載の製造方法。
［１１］反応終了後、反応混合物をクエンチ剤で処理する、［９］または［１０］記載の製造方法。
［１２］更に、下記工程（１）を含有する、［９］〜［１１］のいずれか一に記載の製造方法。
（１）縮合工程（２）の前に、非極性溶媒中において、５’位水酸基又は５’位水酸基が置換基を有する場合は該置換基上に存在する水酸基が炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドを酸と反応させて、モルフォリン環窒素原子の一時保護基を除去する工程。
［１３］一時保護基の除去がカチオン捕捉剤の存在下に行われる、［１２］記載の製造方法。
［１４］工程（１）において、モルフォリン環窒素原子の一時保護基を除去した後、有機塩基により中和する工程をさらに含む、［１２］又は［１３］に記載の製造方法。
［１５］炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基が、下記式（ＩＩ）：
［Ｌは、単結合、または式（ａ１）：
［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
＊＊は、Ｓ１との結合位置を示し；
Ｌ１は、置換されていてもよい２価のＣ１−２２炭化水素基を示し；かつ
Ｌ２は、Ｃ（＝Ｏ）を示すか、または＊＊＊Ｎ（Ｒ３）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ２）Ｃ（＝Ｏ）＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｙとの結合位置を示し、Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子もしくは置換されていてもよいＣ１−２２アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基を示す。］で示される基を示し、
Ｙは、単結合、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示し、ならびに
Ｚは、式（ａ２）：
［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
Ｒ４は、水素原子を示すか、あるいはＲｂが、下記式（ａ３）で表される基である場合には、Ｒ６と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ｂと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；
ｋ個のＱは、独立してそれぞれ単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−を示し；
ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基を示し；
ｋは、１〜４の整数を示し；
環Ａは、ｋ個のＱＲ５に加えて、更にハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよく；
Ｒａは、水素原子を示し；
Ｒｂは、水素原子、または式（ａ３）：
（式中、＊は、結合位置を示し；
ｊは、０〜４の整数を示し；
ｊ個のＱは、前記と同意義を示し；
ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれ炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基を示し；
Ｒ６は、水素原子を示すか、またはＲ４と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ａと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；かつ
環Ｂは、ｊ個のＱＲ７に加えて、更にハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよい。）で表される基を示し、あるいは
Ｒａ及びＲｂは一緒になって、酸素原子を形成する。］で表される基である、［９］〜［１４］のいずれか一に記載の製造方法。
［１６］更に、下記工程（３）を含有する、［１５］記載の製造方法。
（３）工程（１）及び／又は（２）で得られた反応液に極性溶媒を添加して、モルフォリノオリゴヌクレオチドを沈殿させて、固液分離により取得する工程。
［１７］非極性溶媒が、ハロゲン系溶媒、芳香族系溶媒、エステル系溶媒、脂肪族系溶媒、非極性エーテル系溶媒、およびこれらの組合せからなる群より選択される溶媒である、［１２］〜［１６］のいずれか一に記載の製造方法。
［１８］極性溶媒が、アルコール系溶媒、またはニトリル系溶媒である、［１６］又は［１７］に記載の製造方法。
［１９］更に、下記工程（４）を含有する、［９］〜［１８］のいずれか一に記載の製造方法。
（４）得られたｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドの保護基を全て除去する工程。
［２０］酸性条件下で除去可能な一時保護基が、トリチル基、ジメトキシトリチル基、またはモノメトキシトリチル基である、［９］〜［１９］のいずれか一に記載の製造方法。
本発明によれば、モルフォリノヌクレオチドの５’位水酸基側を特定の保護基で保護することにより、反応性の向上により縮合反応における原料モノマー当量を低減することができるという液相法の利点と伸長反応の各段階毎に晶析・洗浄または抽出操作によりモルフォリノオリゴヌクレオチドを簡便に単離・精製できるという固相法の利点を兼ね備えることができるので、医薬品として有用な２０ｍｅｒ程度の鎖長のモルフォリノオリゴヌクレオチドの工業的大量生産を効率的かつ高収率に行うことが可能となった。
また、縮合反応後に残留した活性化モルフォリノヌクレオシドモノマーをクエンチ剤で処理することにより、目的のモルフォリノオリゴヌクレオチドの品質低下を防ぐことができることを併せて見出し、前者の方法と組み合わせることにより、高品質のモルフォリノオリゴヌクレオチドを大量かつ効率的に製造する方法を提供することができた。
本発明は、５’位水酸基側が特定の保護基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護さていてもよい新規なモルフォリノヌクレオチドに関する。
また、本発明の別の態様は、５’位水酸基が活性化（チオ）ホスフェート化又は活性化（チオ）ホスホルアミダート化され、かつモルフォリン環窒素原子が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｐは、１以上の任意の整数を示す。）を、５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が保護されていないｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｎは、１以上の任意の整数を示す。）と、そのモルフォリン環窒素原子を介して（チオ）ホスホルアミダート結合又は（チオ）ホスホロジアミダート結合により縮合させる工程を含む、ｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドの製造方法である。
以下、説明する。
〔用語の説明〕
文中で特に断らない限り、本明細書で用いるすべての技術用語および科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者に一般に理解されるのと同じ意味をもつ。本明細書に記載されたものと同様または同等の任意の方法および材料は、本発明の実施または試験において使用することができるが、好ましい方法および材料を以下に記載する。本明細書で言及したすべての刊行物および特許は、例えば、記載された発明に関連して使用されうる刊行物に記載されている、構築物および方法論を記載および開示する目的で、参照として本明細書に組み入れられる。
本明細書において、モルフォリノオリゴヌクレオチドの構成単位となる「モルフォリノヌクレオシド」とは、下記式（１）で表される化合物である。
（式中、Ｂａｓｅは、保護されていてもよい核酸塩基を示す）
モルフォリノヌクレオシド（１）は、自体公知の方法（例えば、ＷＯ９１／０９０３３Ａ１に記載の方法）、又はそれに準じた方法に従い調製することができる。具体的には、下記スキームに示すように、対応するリボヌクレオシド（２）を過ヨウ素酸ナトリウム等で酸化開環して対応する２’，３’−ジアルデヒド（３）とし、ジアルデヒド（３）をアンモニアで閉環して２’，３’−ジヒドロキシモルフォリノヌクレオシド（４）とし、ジヒドロキシモルフォリノヌクレオシド（４）を還元剤（例、水素化シアノホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウムなど）で還元することにより、モルフォリノヌクレオシド（１）を得ることができる。
なお、本明細書において、モルフォリノヌクレオシドの位置番号（１’、２’など）は、原料であるリボヌクレオシド（２）のリボースの炭素原子の位置番号に対応したものを使用するものとする。
本明細書において、モルフォリノオリゴヌクレオチドとは、２以上のモルフォリノヌクレオシドが５’位水酸基とモルフォリン環の窒素原子を介して（チオ）ホスホルアミダート結合又は（チオ）ホスホロジアミダート結合により重合した化合物を意味し、例えば、ｍ’+１個重合したモルフォリノオリゴヌクレオチドとしては、下記式（５）で表される化合物が挙げられる。
（式中、
ｍ’は、１以上の任意の整数を示し、
ｍ’＋１個のＢａｓｅは、独立してそれぞれ保護されていてもよい核酸塩基を示し、
ｍ’個のＸは、独立してそれぞれＣ１−６アルコキシ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、４位窒素原子が保護基で保護され、さらに置換されていてもよいピペラジノ基等を示し、
ｍ’個のＷは、独立してそれぞれ酸素原子又は硫黄原子を示す。）
本明細書において、「４位窒素原子が保護基で保護され、さらに置換されていてもよいピペラジノ基」とは、ピペラジノ基の４位窒素原子が保護基で保護されていることを意味し、モルフォリノヌクレオチドのモルフォリン環窒素原子の脱保護条件に耐え得る保護基により保護されているピペラジノ基が好ましい。かかる「ピペラジノ基４位窒素原子の保護基」としてはアシル基が好ましく、例えば、モノフルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、２−フルオロプロピオニル基、２，２−ジフルオロプロピオニル基、３，３，３−トリフルオロプロピオニル基、２，３，３，３−テトラフルオロプロピオニル基、ペンタフルオロプロピオニル基等の炭素鎖にフルオロ基を有するアシル基がより好ましい（国際公開第２００８／００８１１３号パンフレット参照）。ピペラジノ基は、ピペラジノ基の炭素原子に結合する水素原子が置換されていてもよく、置換基としては、メチル基等のアルキル基（好ましくは炭素原子数１〜３）等が挙げられる。
本明細書において、核酸化学の慣例に倣い、モルフォリノオリゴヌクレオチドの５’位の遊離水酸基を有する側の末端（上記式（５）の左上側）のモルフォリノヌクレオシドを「５’−末端」、反対側の末端（上記式（５）の右下側）のモルフォリノヌクレオシドを「３’−末端」と称すものとする。
本明細書において、「核酸塩基」とは、核酸の合成に使用されるものであれば特に制限されず、例えば、シトシル基、ウラシル基、チミニル基等のピリミジン塩基、アデニル基、グアニル基等のプリン塩基を挙げることができる。また、「保護されていてもよい核酸塩基」とは、例えば、アミノ基を有する核酸塩基であるアデニル基、グアニル基、またはシトシル基において、アミノ基が保護されていてもよいことを意味し、核酸塩基のアミノ基がモルフォリノヌクレオチドのモルフォリン環窒素原子の脱保護条件に耐え得る保護基により保護されている核酸塩基が好ましい。かかる「アミノ基の保護基」としては、特に限定されず、例えば、グリーンズ・プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｇｒｅｅｎｅ’ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ｉｎ ＯＲＧＡＮＩＣ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ）、第４版、ウィリー・インターサイエンス（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ）出版（２００６年）等に記載されている保護基を挙げることができる。かかる「アミノ基の保護基」の具体例としては、例えば、ピバロイル基、ピバロイロキシメチル基、トリフルオロアセチル基、フェノキシアセチル基、４−イソプロピルフェノキシアセチル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシアセチル基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、ジメチルホルムアミジニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基等を挙げることができる。これらの中でも、フェノキシアセチル基、４−イソプロピルフェノキシアセチル基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基及びジメチルホルムアミジニル基が好ましい。また、核酸塩基のカルボニル基が保護されていてもよく、例えば、フェノール、２，５−ジクロロフェノール、３−クロロフェノール、３，５−ジクロロフェノール、２−ホルミルフェノール、２−ナフトール、４−メトキシフェノール、４−クロロフェノール、２−ニトロフェノール、４−ニトロフェノール、４−アセチルアミノフェノール、ペンタフルオロフェノール、４−ピバロイロキシベンジルアルコール、４−ニトロフェネチルアルコール、２−（メチルスルフォニル）エタノール、２−（フェニルスルフォニル）エタノール、２−シアノエタノール、２−（トリメチルシリル）エタノール、ジメチルカルバミン酸クロライド、ジエチルカルバミン酸クロライド、エチルフェニルカルバミン酸クロライド、１−ピロリジンカルボン酸クロライド、４−モルフォリンカルボン酸クロライド、ジフェニルカルバミン酸クロライド等を反応させて、カルボニル基を保護することが出来る。ここで、カルボニル基の保護基については、特に導入しなくてもよい場合がある。また、該「核酸塩基」には、上記した基の他に、核酸塩基が任意の置換基（例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシ基、アミノ基、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、カルボキシ、シアノ、ニトロ等）により任意の位置に１〜３個置換されている修飾核酸塩基（例えば、８−ブロモアデニル基、８−ブロモグアニル基、５−ブロモシトシル基、５−ヨードシトシル基、５−ブロモウラシル基、５−ヨードウラシル基、５−フルオロウラシル基、５−メチルシトシル基、８−オキソグアニル基、ヒポキサンチニル基等）も包含される。
本明細書中、「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
本明細書中、「アルキル（基）」としては、直鎖状または分岐鎖状の炭素数１以上のアルキル基が挙げられ、特に炭素数範囲の限定がない場合には、好ましくはＣ１−１０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基である。炭素数範囲の限定がない場合の好適な具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられ、特にメチル、エチルが好ましい。
本明細書中、「アラルキル（基）」としては、Ｃ７−２０アラルキル基が挙げられ、好ましくはＣ７−１６アラルキル基（Ｃ６−１０アリール−Ｃ１−６アルキル基）である。好適な具体例としては、ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−フェニルプロピル、ナフチルメチル、１−ナフチルエチル、１−ナフチルプロピル等が挙げられ、特にベンジルが好ましい。
本明細書中、「アルコキシ（基）」としては、炭素数１以上のアルコキシ基が挙げられ、特に炭素数範囲の限定がない場合には、好ましくはＣ１−１０アルコキシ基であり、より好ましくはＣ１−６アルコキシ基である。炭素数範囲の限定がない場合の好適な具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられ、特にメトキシ、エトキシが好ましい。
本明細書中、「アシル（基）」としては、例えば、直鎖状または分岐鎖状のＣ１−６アルカノイル基、Ｃ７−１３アロイル基等が挙げられる。具体的には、例えば、ホルミル、アセチル、ｎ−プロピオニル、イソプロピオニル、ｎ−ブチリル、イソブチリル、ピバロイル、バレリル、ヘキサノイル、ベンゾイル、ナフトイル、レブリニル等が挙げられ、これらはそれぞれ置換されていてもよい。
本明細書中、「アルケニル（基）」としては、直鎖状または分岐鎖状のＣ２−６アルケニル基等が好ましく、例えば、ビニル、１−プロペニル、アリル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル等が挙げられる。中でも、Ｃ２−４アルケニル基が好ましい。
本明細書中、「アルキニル（基）」としては、Ｃ２−６アルキニル基等が好ましく、例えば、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキシニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニル等が挙げられる。中でも、Ｃ２−４アルキニル基が好ましい。
本明細書中、「シクロアルキル（基）」は、環状アルキル基を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。中でも、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等のＣ３−６シクロアルキル基が好ましく、シクロヘキシルが特に好ましい。
本明細書中、「アリール（基）」は、芳香族性を示す単環式あるいは多環式（縮合）の炭化水素基を意味し、具体的には、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、ビフェニリル、２−アンスリル等のＣ６−１４アリール基等が挙げられる。中でもＣ６−１０アリール基がより好ましく、フェニルが特に好ましい。
本明細書中、「炭化水素基」としては、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香脂肪族炭化水素基、単環式飽和炭化水素基および芳香族炭化水素基等が挙げられ、具体的には、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等の１価基およびそれらから誘導される２価基である。
本明細書中、「炭化水素基を有する有機基」とは、前記「炭化水素基」を有する基を意味し、「炭化水素基を有する有機基」中の「炭化水素基」以外の部位は任意に設定することができる。例えば、リンカーとして−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、および−ＣＯＮＨ−等の部位を有していてもよい。
本明細書中、「置換されていてもよい」における「置換基」には、前記のハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基の他、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、グアニジル基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基（アルコキシ部は前記アルコキシ基と同様）、スルホ基、ホスホ基、アルキルチオ基（アルキル部は前記アルキル基と同様）、アルキルスルフィニル基（アルキル部は前記アルキル基と同様）、アルキルスルフォニル基（アルキル部は前記アルキル基と同様）、アミノ基、モノアルキルアミノ基（アルキル部は前記アルキル基と同様）、ジアルキルアミノ基（アルキル部は前記アルキル基と同様）、オキソ基などが包含される。
〔５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が特定の保護基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護さていてもよいモルフォリノヌクレオチド〕
本発明で使用される特定の保護基で５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が保護されたモルフォリノヌクレオチドを使用することにより、液相合成に適したモルフォリノオリゴヌクレオチドの製造方法を提供することができる。
中でも目的とするモルフォリノオリゴヌクレオチドの製造方法において高効率かつ高収率が達成できるという観点から、５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基で保護されたモルフォリノヌクレオチドが好ましい。
５’位水酸基が置換基を有する場合とは、５’位水酸基の水素原子が水酸基を有する置換基で置換されていることを意味する。「水酸基を有する置換基」の「置換基」としては、主鎖が１ないし２０個の原子で構成されるものであれば特に限定はない。ここで、「主鎖」とは、５’位水酸基の酸素原子と置換基上に存在する水酸基の酸素原子を結ぶ最短の原子鎖を意味し、当該原子鎖はさらに置換されていてもよい。主鎖を構成する原子としては、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子等から選択される。「水酸基を有する置換基」としては、具体的には、アルキル基、アラルキル基、アシル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基等の炭化水素基を有する有機基において、炭化水素基上の水素原子が水酸基で置換されているものなどが挙げられる。また例えば、国際公開第２００８／００８１１３号パンフレットに開示されている下記５’位水酸基の置換基等が挙げられる。
「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基」としては、１価基およびそれから誘導される２価基が挙げられる、中でも炭素数１０〜４０のアルキル基が好ましく、炭素数１０〜３０のアルキル基が特に好ましい。「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基」のアルキル基、アルケニル基は直鎖又は分岐鎖のアルキル基、直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を含む。本発明の製造方法においては、直鎖のアルキル基、直鎖のアルケニル基が好ましく、特に直鎖のアルキル基が好ましい。「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基」の好ましい具体例としては、例えば、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、ミリスチル基、セチル基、ステアリル基、オレイル基、リノリル基、アラキル基、ベヘニル基、イソステアリル基等の１価の脂肪族炭化水素基、およびそれらから誘導される２価基が挙げられる。
５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護さていてもよいモルフォリノヌクレオチドとしては、５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が式（ＩＩ）：Ｚ−Ｙ−Ｌ−で表される保護基で保護されたモルフォリノヌクレオチドが好ましく、具体的には、下記一般式（Ｉ）で表される新規化合物（以下、本発明化合物と称することもある。）が挙げられる。
一般式（Ｉ）：
［式中、
ｍは、０以上の任意の整数を示し、
ｍ＋１個のＢａｓｅは、独立してそれぞれ保護されていてもよい核酸塩基を示し、
Ｐ１は、水素原子または酸性条件下で除去可能な一時保護基を示し、
ｍ個のＸは、独立してそれぞれＣ１−６アルコキシ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、または４位窒素原子が保護基で保護され、さらに置換されていてもよいピペラジノ基を示し、
ｍ個のＷは、独立してそれぞれ酸素原子又は硫黄原子を示し、
Ｓ１は、単結合、または＊Ｏ−Ｓ２＊＊（式中、＊は、Ｌとの結合位置を示し、＊＊は５’位水酸基との結合位置を示し、Ｓ２は、主鎖が原子数１ないし２０のスペーサーを示す。）で表される基を示し、
Ｌは、単結合、または式（ａ１）：
［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
＊＊は、Ｓ１との結合位置を示し；
Ｌ１は、置換されていてもよい２価のＣ１−２２炭化水素基を示し；かつ
Ｌ２は、Ｃ（＝Ｏ）を示すか、または＊＊＊Ｎ（Ｒ３）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ２）Ｃ（＝Ｏ）＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｙとの結合位置を示し、Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子もしくは置換されていてもよいＣ１−２２アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基を示す。］で示される基を示し、
Ｙは、単結合、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示し、ならびに
Ｚは、式（ａ２）：
［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
Ｒ４は、水素原子を示すか、あるいはＲｂが、下記式（ａ３）で表される基である場合には、Ｒ６と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ｂと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；
ｋ個のＱは、独立してそれぞれ単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−を示し；
ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基を示し；
ｋは、１〜４の整数を示し；
環Ａは、ｋ個のＱＲ５に加えて、更にハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよく；
Ｒａは、水素原子を示し；
Ｒｂは、水素原子、または式（ａ３）：
（式中、＊は、結合位置を示し；
ｊは、０〜４の整数を示し；
ｊ個のＱは、前記と同意義を示し；
ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれ炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基を示し；
Ｒ６は、水素原子を示すか、またはＲ４と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ａと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；かつ
環Ｂは、ｊ個のＱＲ７に加えて、更にハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよい。）で表される基を示し、あるいは
Ｒａ及びＲｂは一緒になって、酸素原子を形成する。］で表される基を示す。］
本発明化合物は、後述の本発明のモルフォリノオリゴヌクレオチドの製造方法において、５’位水酸基が活性化（チオ）ホスフェート化又は活性化（チオ）ホスホルアミダート化され、かつモルフォリン環窒素原子が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｐは、１以上の任意の整数を示す。）と結合し、ｍ＋１+ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｐは、１以上の任意の整数を示す。）を形成することができる。
ｍが０の時、本発明化合物は、「モルフォリノヌクレオシド」と解し、本発明のモルフォリノオリゴヌクレオチド合成における５’位末端の出発化合物である。また、本発明化合物には、広義には３’末端側のモルフォリン環窒素原子が未保護（Ｐ１が水素原子）のものも包含される。
上記式（Ｉ）におけるｍは、０以上の任意の整数を示し、好ましくは、０である。ｍの上限は、特に限定されるものではないが、４９以下が好ましく、２９以下がより好ましく、１９以下が更に好ましい。
上記式（Ｉ）におけるｍ＋１個のＢａｓｅは、独立してそれぞれ保護されていてもよい核酸塩基を示す。「保護されていてもよい核酸塩基」とは、例えば、アミノ基を有する核酸塩基であるアデニル基、グアニル基、またはシトシル基において、アミノ基が保護されていてもよいこと、或いは、環状イミド基を有するチミル基、ウラシル基において、イミド基が保護されていてもよいことを意味し、核酸塩基のアミノ基がモルフォリノヌクレオチドのモルフォリン環窒素原子の脱保護条件に耐え得る保護基により保護されている核酸塩基が好ましい。かかる「アミノ基の保護基」及び「イミド基の保護基」としては、特に限定されず、例えば、グリーンズ・プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｇｒｅｅｎｅ’ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ｉｎ ＯＲＧＡＮＩＣ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ）、第４版、ウィリー・インターサイエンス（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ）出版（２００６年）等に記載されている保護基を挙げることができる。かかる「アミノ基の保護基」及び「イミド基の保護基」の具体例としては、例えば、ピバロイル基、ピバロイロキシメチル基、トリフルオロアセチル基、フェノキシアセチル基、４−イソプロピルフェノキシアセチル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシアセチル基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、ジメチルホルムアミジニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基等を挙げることができる。これらの中でも、フェノキシアセチル基、４−イソプロピルフェノキシアセチル基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、及びジメチルホルムアミジニル基が好ましい。また、核酸塩基のカルボニル基が保護されていてもよく、例えば、フェノール、２，５−ジクロロフェノール、３−クロロフェノール、３，５−ジクロロフェノール、２−ホルミルフェノール、２−ナフトール、４−メトキシフェノール、４−クロロフェノール、２−ニトロフェノール、４−ニトロフェノール、４−アセチルアミノフェノール、ペンタフルオロフェノール、４−ピバロイロキシベンジルアルコール、４−ニトロフェネチルアルコール、２−（メチルスルフォニル）エタノール、２−（フェニルスルフォニル）エタノール、２−シアノエタノール、２−（トリメチルシリル）エタノール、ジメチルカルバミン酸クロライド、ジエチルカルバミン酸クロライド、エチルフェニルカルバミン酸クロライド、１−ピロリジンカルボン酸クロライド、４−モルフォリンカルボン酸クロライド、ジフェニルカルバミン酸クロライド等を反応させて、カルボニル基を保護することが出来る。ここで、カルボニル基の保護基については、特に導入しなくてもよい場合がある。
本発明化合物の３’末端のモルフォリン環窒素原子の保護基として用いることができる一時保護基Ｐ１としては、酸性条件下で脱保護可能であり、水酸基の保護基として用いられるものであれば、特に限定はされないが、トリチル基、９−（９−フェニル）キサンテニル基、９−フェニルチオキサンテニル基、１，１−ビス（４−メトキシフェニル）−１−フェニルメチル基、ジメトキシトリチル基等のジ（Ｃ１−６アルコキシ）トリチル基、１−（４−メトキシフェニル）−１，１−ジフェニルメチル基、モノメトキシトリチル基等のモノ（Ｃ１−１８アルコキシ）トリチル基等を挙げることができる。これらの中でも、脱保護のしやすさ、入手の容易さの観点から、トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基であることが好ましく、より好ましくは、トリチル基、ジメトキシトリチル基である。
上記式（Ｉ）におけるｍ個のＸは、独立してそれぞれＣ１−６アルコキシ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、または４位窒素原子が保護基で保護され、さらに置換されていてもよいピペラジノ基を示し、好ましくはジＣ１−６アルキルアミノ基である。
Ｃ１−６アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基が好ましく、メトキシ基がより好ましい。
ジＣ１−６アルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基などが好ましく、ジメチルアミノ基が好ましい。
ピペラジノ基の４位窒素原子の保護基としては、アシル基が好ましく、例えば、モノフルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、２−フルオロプロピオニル基、２，２−ジフルオロプロピオニル基、３，３，３−トリフルオロプロピオニル基、２，３，３，３−テトラフルオロプロピオニル基、ペンタフルオロプロピオニル基等の炭素鎖にフルオロ基を有するアシル基がより好ましい。当該保護基は、通常、伸長反応終了後に脱保護するが、国際公開第２００８／００８１１３号パンフレットに記載方法に準じて、脱保護後、ビペラジノ基のアミノ基を更に修飾基で修飾してもよい。修飾基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、グアニジル基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ホスホ基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルフォニル基などが挙げられる。ピペラジノ基における修飾基としては、置換されていてもよいアシル基が好ましく、グアニジル基で置換されていてもよいアシル基（例、６−グアニジノヘキサノイル基）がより好ましい。当該ピペラジノ基は、ピペラジノ基の炭素原子に結合する水素原子が置換されていてもよく、置換基としては、メチル基等のアルキル基（好ましくは炭素原子数１〜３）等が挙げられる。
ｍ個のＷは、独立してそれぞれ酸素原子もしくは硫黄原子を示し、好ましくは酸素原子である。
上記式（Ｉ）におけるＳ１は、単結合、または＊Ｏ−Ｓ２＊＊（式中、＊は、Ｌとの結合位置を示し、＊＊は５’位水酸基との結合位置を示し、Ｓ２は、主鎖が原子数１ないし２０のスペーサーを示す。）で表される基であり、好ましくは単結合である。
Ｓ２で表される「主鎖が原子数１ないし２０のスペーサー」としては、５’位水酸基が置換基を有する場合の前記「水酸基を有する置換基」から水酸基を除去して形成される２価の基が挙げられる。
上記式（ａ１）で表されるリンカーＬの好ましい態様としては、式（ａ１）中、Ｌ１が、エチレン基、またはＣＨ２−Ｏ−１，４−フェニレン−Ｏ−ＣＨ２を示し；かつ
Ｌ２が、Ｃ（＝Ｏ）を示すか、または＊＊＊Ｎ（Ｒ３）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ２）Ｃ（＝Ｏ）＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｙとの結合位置を示し、Ｒ１は、Ｃ１−６アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、独立してそれぞれ水素原子、もしくは置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−６アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基である、基である。
上記式（ａ１）で表されるリンカーＬの別の好ましい態様としては、式（ａ１）中、Ｌ１が、エチレン基を示し；かつ
Ｌ２が、Ｃ（＝Ｏ）を示す、基である。
上記式（ａ１）で表されるリンカーＬの別の好ましい態様としては、式（ａ１）中、Ｌ１が、エチレン基を示し；かつ
Ｌ２中のＮ（Ｒ３）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ２）部分が、ピペラジニレン基を示す、基である。
上記式（ａ１）で表されるリンカーＬの更に別の好ましい態様としては、式（ａ１）中、Ｌ１が、エチレン基を示し；かつ
Ｌ２が、＊＊＊Ｎ（Ｒ３）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ２）Ｃ（＝Ｏ）＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｙとの結合位置を示し、Ｒ１は、ペンチレン基、またはヘキシレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子もしくはメチル基を示す。）で表される基である、基である。
上記リンカーＬの特に好ましい例は、単結合、または入手が容易で安価なスクシニル基である。
上記式（Ｉ）におけるＹは、単結合、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示す。
本明細書中、Ｒで示される「アルキル基」としては、Ｃ１−３０アルキル基が挙げられ、好ましくはＣ１−１０アルキル基、より好ましくはＣ１−６アルキル基である。好適な具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等が挙げられ、特にメチル、エチルが好ましい。
本明細書中、Ｒで示される「アラルキル基」としては、Ｃ７−３０アラルキル基が挙げられ、好ましくはＣ７−２０アラルキル基、より好ましくはＣ７−１６アラルキル基（Ｃ６−１０アリール−Ｃ１−６アルキル基）である。好適な具体例としては、ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、１−（α−ナフチル）エチル、２−（α−ナフチル）エチル、１−（α−ナフチル）プロピル、β−ナフチルメチル、１−（β−ナフチル）エチル、２−（β−ナフチル）エチル、１−（β−ナフチル）プロピル等が挙げられ、特にベンジルが好ましい。
Ｒとしては、水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１６アラルキル基が好ましく、水素原子、メチル、エチルまたはベンジルがより好ましく、水素原子が特に好ましい。
Ｙとしては、単結合、酸素原子またはＮＨが好ましい。
Ｚの好ましい態様としては、式（ａ２）で表される基である。
上記式（Ｉ）におけるＺの好ましい態様、即ち、上記式（Ｉ）におけるＺの式（ａ２）で表される基は、特定のベンジル基（式（ａ２）中、ＲａとＲｂが共に水素原子であり、かつＲ４が水素原子である）；特定のベンゾイル基（式（ａ２）中、ＲａとＲｂが一緒になって酸素原子を形成し、かつＲ４が水素原子である）；特定のジフェニルメチル基（式（ａ２）中、Ｒａが水素原子であり、Ｒ４が水素原子であり、ｋが１〜３であり、かつＲｂが式（ａ３）（式中、Ｒ６が水素原子であり、ｊが０または１である。）で表される基である）；特定のフルオレニル基（式（ａ２）中、Ｒａが水素原子であり、ｋが１であり、Ｒｂが式（ａ３）（式中、ｊが０である。）で表される基であり、かつＲ６がＲ４と一緒になって単結合を示して、環Ａと共にフルオレン環を形成する）；特定のキサンテニル基（式（ａ２）中、Ｒａが水素原子であり、ｋが１であり、Ｒｂが式（ａ３）（式中、ｊが０である。）で表される基であり、かつＲ６がＲ４と一緒になって−Ｏ−を示して、環Ａと共にキサンチン環を形成する）を包含する。
上記式（ａ２）中のｋ個のＱＲ５基、並びに式（ａ３）中のｊ個のＱＲ７基において、Ｑは、単結合であるか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−であり、好ましくは−Ｏ−である。ｋ個のＱＲ５基、並びにｊ個のＱＲ７基は、それぞれ同一のものであっても異なるものであってもよい。
上記式（ａ２）において、「Ｒａ及びＲｂは一緒になって、酸素原子を形成する」とは、Ｒａ及びＲｂが一緒になって、カルボニル基（Ｃ（＝Ｏ））を形成することを意味する。
Ｒ５またはＲ７として示される「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基」とは、その分子構造中に炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する１価の有機基である。
「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基」における「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基」の炭素数としては、炭素数１４〜４０が好ましく、炭素数１４〜３０がより好ましい。
「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基」における「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基」の部位は、特に限定されず、末端に存在しても（１価基）、それ以外の部位に存在してもよい（例えば２価基）。
「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基」としては、１価基およびそれから誘導される２価基が挙げられ、中でも炭素数１４〜４０のアルキル基が好ましく、炭素数１４〜３０のアルキル基が特に好ましい。「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基」の具体例としては、例えば、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、ミリスチル基、セチル基、ステアリル基、オレイル基、リノリル基、アラキル基、ベヘニル基等の１価の直鎖脂肪族炭化水素基、３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシル基、３，７，１１−トリメチルドデシル基、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイル基等の１価の分岐鎖脂肪族炭化水素基、およびそれらから誘導される２価基が挙げられる。
「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基」中の「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基」以外の部位は任意に設定することができる。例えば、リンカーとして−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、および−ＣＯＮＨ−、並びに、炭化水素基（１価基または２価基）等の部位を有していてもよい。かかる「炭化水素基」としては、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香脂肪族炭化水素基、単環式飽和炭化水素基および芳香族炭化水素基等が挙げられ、具体的には、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等の１価基およびそれらから誘導される２価基が用いられる。「脂肪族炭化水素基」以外の部位の「アルキル基」、「アルケニル基」、「アルキニル基」、「シクロアルキル基」、「アリール基」、または「アラルキル基」としては、例えば、前記したのと同様のものを挙げることができる。当該「炭化水素基」は、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子）、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、オキソ基等から選択される置換基で置換されていてもよい。
上記一般式（Ｉ）中のＺを構成する「Ｒ５（基）」および／または「Ｒ７（基）」として示される「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基」は、分岐等によって複数の「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基」が存在してもよい。「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基」中に「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基」が複数存在する場合には、その各々は同一のものであっても異なるものであってもよい。
上記一般式（Ｉ）中のＺを構成する「Ｒ５（基）」および／または「Ｒ７（基）」として示される「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基」における、炭素数合計の下限は１０以上が好ましく、１２以上がより好ましく、１４以上が更に好ましく、１８以上が更に一層好ましく、３０以上が殊更好ましい。一方、「Ｒ５（基）」および／または「Ｒ７（基）」として示される「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基」における、炭素数合計の上限は、２００以下が好ましく、１５０以下がより好ましく、１２０以下が更に好ましく、１００以下が更に一層好ましく、８０以下が殊更好ましく、６０以下が特に好ましい。当該炭素数が大きいほど、モルフォリノオリゴヌクレオチドが長鎖となった場合でも本発明化合物の極性溶媒における結晶性又は溶解性が良好となる。
上記式（ａ２）で表されるＺの好ましい態様としては、式（ａ２）中、
ＲａおよびＲｂは、共に水素原子を示し；
Ｒ４は、水素原子を示し、
ｋ個のＱは、−Ｏ−であり、
ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基（例えば、Ｃ１０−４０アルキル基）を示し；かつ
ｋは、１〜３の整数を示す、基である。
上記式（ａ２）で表されるＺの別の好ましい態様としては、式（ａ２）中、
ｋは、１〜３の整数を示し；
ＲａおよびＲｂは、共に水素原子を示し；
Ｒ４は、水素原子を示し；
ｋ個のＱは、−Ｏ−であり、
ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を１〜３個有するベンジル基、または炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を１〜３個有するシクロヘキシル基を示し；かつ
環Ａが、ｋ個のＱＲ５に加えて、更にハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよい、基である。
上記式（ａ２）で表されるＺの別の好ましい態様としては、式（ａ２）中、
Ｒａは、水素原子を示し；
Ｒｂは、上記式（ａ３）（式中、＊は結合位置を示し；ｊは、０〜３の整数を示し；ｊ個のＱは−Ｏ−を示し；ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれＣ１０−４０アルキル基を示し；
Ｒ４およびＲ６は、共に水素原子を示す。）で表される基である、基である。
上記式（ａ２）で表されるＺの更に別の好ましい態様としては、式（ａ２）中、
Ｒａは、水素原子を示し；
Ｒｂは、上記式（ａ３）（式中、＊は結合位置を示し；ｊは、０〜３の整数を示し；ｊ個のＱは−Ｏ−を示し；ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれＣ１０−４０アルキル基を示し；
Ｒ６は、環ＡのＲ４と一緒になって単結合または−Ｏ−を形成し、それにより環Ａと環Ｂは一緒になってフルオレニル基またはキサンテニル基を示す。）で表される基である、基である。
上記式（ａ２）で表されるＺの別の好ましい態様としては、式（ａ２）中、
ＲａおよびＲｂは、一緒になって酸素原子を形成し；
Ｒ４は、水素原子を示し、
ｋ個のＱは、−Ｏ−であり、
ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基（例えば、Ｃ１０−４０アルキル基）を示し；かつ
ｋは、１〜３の整数を示す、基である。
上記式（ａ２）で表されるＺの別の好ましい態様としては、式（ａ２）中、
ｋは、１〜３の整数を示し；
ＲａおよびＲｂは、一緒になって酸素原子を形成し；
Ｒ４は、水素原子を示し；
ｋ個のＱは、−Ｏ−であり、
ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を１〜３個有するベンジル基、または炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を１〜３個有するシクロヘキシル基を示し；かつ
環Ａが、ｋ個のＱＲ５に加えて、更にハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよい、基である。
式（ＩＩ）：Ｚ−Ｙ−Ｌ−で表される保護基としては、３’末端のモルフォリン環窒素原子の保護基Ｐ１を除去し得る酸性条件下では切断されにくく、塩基性条件下で切断される基が好ましい。
かかる保護基の代表的な例としては、例えば、Ｌが、上記式（ａ１）で表される基（好ましくは、スクシニル基等）であり、かつ
Ｚ−Ｙ−が、以下の基であるものが挙げられる。
３，４，５−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ基、
３，５−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルオキシ基、
３，５−ビス［３’，４'，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルオキシ基、
３，４，５−トリス［３’，４'，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルオキシ基、
３，４，５−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルアミノ基、
２，４−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルアミノ基、
３，５−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルアミノ基、
ジ（４−ドコシルオキシフェニル）メチルアミノ基、
４−メトキシ−２−［３’，４'，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルアミノ基、
４−メトキシ−２−［３’，４'，５’−トリ（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアミノ基、
２，４−ジ（ドデシルオキシ）ベンジルアミノ基、
フェニル（２，３，４−トリ（オクタデシルオキシ）フェニル）メチルアミノ基、
ジ［４−（１２−ドコシルオキシドデシルオキシ）フェニル］メチルアミノ基、
３，５−ビス［３’，４'，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルアミノ基、または
３，４，５−トリス［３’，４'，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルアミノ基。
また、保護基Ｚ−Ｙ−Ｌ−の別の態様としては、以下のベンジルスクシニル基、またはジフェニルメチルスクシニル基が挙げられる。
２−{２，４−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
３，５−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；
４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；
２−{１−［（２−クロロ−５−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル）］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；
２−{３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
２−{２−［３’，４’，５’−トリ（２’’，３’’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルオキシ］−４−メトキシベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メトキシベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルスクシニル基；
２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
４−［２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイルアミノ］ベンジルスクシニル基；
２−{４−［２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイルアミノ］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
４−（３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ）ベンジルスクシニル基；
２−｛４−（３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
２−{３，５−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
２−{１−［２，３，４−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
２−{１−［４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル］−４’−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
３，４，５−トリス［３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］ベンジルスクシニル基；および
２−{３，４，５−トリス［３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基。
式（ＩＩ）：Ｚ−Ｙ−Ｌ−で表される保護基の別の好ましい態様としては、
Ｌ及びＹが、単結合であり、
Ｚが、式（ａ２）を示し、
ＲａおよびＲｂが、一緒になって酸素原子を形成し；
Ｒ４が、水素原子を示し、
ｋ個のＱが、−Ｏ−であり、
ｋ個のＲ５が、独立してそれぞれ炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基（例えば、Ｃ１０−４０アルキル基）を示し；かつ
ｋは、１〜３の整数を示す、基である。
式（ＩＩ）：Ｚ−Ｙ−Ｌ−で表される保護基の別の好ましい態様としては、
Ｌが、式（ａ１）を示し、
Ｌ２が、＊＊＊Ｎ（Ｒ３）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ２）Ｃ（＝Ｏ）＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｙとの結合位置を示し、Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子もしくは置換されていてもよいＣ１−２２アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン結合を形成していてもよい。）を示し、
Ｙが、単結合を示し、
Ｚが、式（ａ２）を示し、
ＲａおよびＲｂが、一緒になって酸素原子を形成し；
Ｒ４が、水素原子を示し、
ｋ個のＱが、−Ｏ−であり、
ｋ個のＲ５が、独立してそれぞれ炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する有機基（例えば、Ｃ１０−４０アルキル基）を示し；かつ
ｋは、１〜３の整数を示す、基である。
一般式（Ｉ）で表される本発明化合物の好ましい態様としては、一般式（Ｉ）中、
ｍが０であり、
Ｂａｓｅが、それぞれ保護されていてもよい、シトシル基、ウラシル基、チミニル基、アデニル基、またはグアニル基であり；
Ｐ１が、トリチル基、ジ（Ｃ１−６アルコキシ）トリチル基、またはモノ（Ｃ１−６アルコキシ）トリチル基であり；
Ｓ１が、単結合であり；かつ
Ｚ−Ｙ−Ｌ−が、前記一般式（Ｉ）において好ましい態様として示された各基の組合せと同様である、
化合物である。
上記一般式（Ｉ）で表される本発明化合物の別の好ましい態様としては、一般式（Ｉ）中、
ｍが０であり、
Ｂａｓｅが、それぞれ保護されていてもよい、シトシル基、ウラシル基、チミニル基、アデニル基、またはグアニル基であり；
Ｐ１が、トリチル基、ジメトキシトリチル基、またはモノメトキシトリチル基であり；
Ｓ１が、単結合であり；かつ
Ｚ−Ｙ−Ｌ−が、前記一般式（Ｉ）において好ましい態様として示された各基の組合せと同様である、
化合物である。
上記一般式（Ｉ）で表される本発明化合物の更に別の好ましい態様としては、一般式（Ｉ）中、
ｍが０であり、
Ｂａｓｅが、それぞれ保護されていてもよい、シトシル基、ウラシル基、チミニル基、アデニル基、またはグアニル基であり；
Ｐ１が、トリチル基であり；
Ｓ１が、単結合であり；かつ
Ｚ−Ｙ−Ｌ−が、前記一般式（Ｉ）において好ましい態様として示された各基の組合せと同様である、
化合物である。
〔本発明化合物の製造方法〕
ｍが０であり、Ｓ１が単結合である一般式（Ｉ）（以下、「一般式（Ｉａ）」と称する）で表される本発明化合物の製造方法としては、特に限定されないが、自体公知の方法またはこれらに準ずる方法（Ｒｉｃｈａｒｄ Ｔ．Ｐｏｎ ｅｔ ａｌ．，Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄｓ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ２００４，３２，６２３−６３１．）に従って、上記保護基の前駆体から製造することができる。
上記一般式（Ｉａ）のＬがスクシニル基である化合物の一般的な製造方法を以下に示す。
（式中の各記号は前記と同義である。）
３’末端モルフォリン環窒素原子が保護基Ｐ１により保護されたモルフォリノヌクレオシド（ａ）を、塩基存在下、コハク酸無水物と反応させることにより、５’位水酸基にコハク酸が導入された化合物（ｂ）を得る。化合物（ｂ）を縮合剤存在下、保護基の前駆体（Ｚ−Ｙ−Ｈ）（アルコールまたはアミン）と脱水縮合させることにより、一般式（Ｉａ）で表される化合物を得ることができる。
上記モルフォリノヌクレオシド（ａ）から化合物（ｂ）の変換工程は、反応に不活性な溶媒中で行うのが有利である。このような溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、またはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、またはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、あるいはそれらの混合溶媒が好ましい。中でもジクロロメタン、またはクロロホルムが特に好ましい。
塩基としては、特に限定されないが、例えば、後述するような有機塩基が挙げられ、好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン等である。
上記脱水縮合工程は、反応に不活性な溶媒中で行うのが有利である。このような溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、またはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、或いはそれらの混合溶媒が好ましい。中でもジクロロメタン、クロロホルムが特に好ましい。
化合物（ｂ）とＺ−Ｙ−Ｈとの縮合反応に使用する縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、ジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＣ）、Ｎ−エチル−Ｎ’−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミドおよびその塩酸塩（ＥＤＣ・ＨＣｌ）、ヘキサフルオロリン酸（ベンゾトリアゾール-1-イルオキシ）トリピロリジノホスホニウム(ＰｙＢｏｐ)、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート（ＴＢＴＵ）、１−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］−５−クロロ−１Ｈ−ベンゾトリアゾリウム−３−オキシド ヘキサフルオロホスフェート（ＨＣＴＵ）、Ｏ−ベンゾトリアゾール−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロホスフェート（ＨＢＴＵ）等が挙げられる。中でもＨＢＴＵ、ＨＣＴＵ、Ｎ−エチル−Ｎ’−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミドおよびその塩酸塩（ＥＤＣ・ＨＣｌ）が好ましい。
縮合剤の使用量は、化合物（ｂ）１モルに対して、１〜１０モル使用することができ、好ましくは１〜５モルである。また、Ｚ−Ｙ−Ｈの使用量は、化合物（ｂ）１モルに対して１〜１０モル使用することができ、好ましくは１〜５モルである。反応温度は、反応が進行しさえすれば特に限定されないが、−１０℃〜５０℃が好ましく、０℃〜３０℃がより好ましい。反応時間は、３０分〜７０時間である。
上記一般式（Ｉａ）中のＬがスクシニル基以外の化合物についても、上記製造方法におけるコハク酸無水物に代えて、対応する酸無水物、対応するジカルボン酸ハライド、対応するジカルボン酸の活性エステル等を用いて、同様の反応を行うことにより製造することができる。
Ｓ１が、＊Ｏ−Ｓ２＊＊（式中、各記号は前記と同義を示す。）である場合の化合物については、公知の方法（例えば、ＷＯ２００８／００８１１３に記載の方法）に準じて、モルフォリノヌクレオシド（ａ）の５’位水酸基に前記「水酸基を有する置換基」を導入した後、上記方法に従って製造することができる。
また、Ｙが単結合である場合の化合物については、Ｚ−Ｙ−Ｈの活性化誘導体（ハロゲン化物、酸ハロゲン化物、活性化カルボキシル基等）を、自体公知の方法に従って、モルフォリノヌクレオシド（ａ）と反応させるか、あるいは、Ｚ−Ｙ−Ｈとモルフォリノヌクレオシド（ａ）を縮合剤の存在下に反応させることにより、製造することができる。Ｚ−Ｙ−Ｈとモルフォリノヌクレオシド（ａ）の縮合反応は、Ｚ−Ｙ−Ｈと化合物（ｂ）の縮合反応と同様に行うことができる。
ｍが１以上である一般式（Ｉ）で示される化合物は、出発原料として、一般式（Ｉａ）で示される化合物を用いて、下記の本発明の製造方法に従い、５’末端伸長プロセスを繰り返すことにより製造することができる。
前記保護基の前駆体（Ｚ−Ｙ−Ｈ）（アルコール、アミンまたはカルボン酸）の製造方法としては、特に限定されないが、自体公知の方法（例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．２００１，７４，７３３−７３８、特開２０００−４４４９３号公報、国際公開第２００６／１０４１６６号パンフレット、国際公開第２００７／０３４８１２号パンフレット、国際公開第２００７／１２２８４７号パンフレット、国際公開第２０１０／１１３９３９号パンフレット、特開２０１０−２７５２５４号公報、国際公開第２０１２／１５７７２３号パンフレット等参照）またはこれらに準ずる方法に従って原料化合物から製造することができる。
なお、原料化合物として使用する化合物、例えば、一般式（Ｉ）中のＺを構成するＲ５、Ｒ７に対応するハロゲン化物等は、市販品として入手可能であるか、あるいは、自体公知の方法またはこれらに準ずる方法に従って製造することができる。
また、該保護基の前駆体（Ｚ−Ｙ−Ｈ）は、上記したとおり、自体公知の方法またはこれらに準ずる方法に従って製造することができるが、原料化合物が反応に影響を及ぼす置換基（例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシ基）を有する場合には、原料化合物を予め公知の方法に従い、適当な保護基で保護した後に反応を行うことが一般的である。かかる保護基は、反応後に、酸処理、アルカリ処理、接触還元等の公知の方法に従い除去することができる。
３’末端モルフォリン環窒素原子が保護基Ｐ１により保護されたモルフォリノヌクレオシド（ａ）の製造方法としては、特に限定されないが、自体公知の方法（例えば、ＷＯ９１／０９０３３Ａ１参照）またはこれらに準ずる方法に従ってモルフォリノヌクレオシド（１）から製造することができる。
例えば、Ｐ１がトリチル基である場合は、モルフォリノヌクレオシド（１）を、トリエチルアミン等の塩基存在下に塩化トリチルと反応させることにより、化合物（ａ）を得ることができる。
また、Ｐ１が水素原子である化合物（ａ）は、Ｐ１が一時保護基である化合物（ａ）を後述の脱保護工程（１）に付することにより得ることができる。
〔本発明の製造方法〕
次に、本発明にかかるモルフォリノオリゴヌクレオチドの製造方法（以下、「本発明の製造方法」ともいう。）について説明する。具体的には、適宜保護されたｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドから、適宜保護されたｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドへの製造方法について説明していくが、例えば、ｎ＝１の場合には、ｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドは、「モルフォリノヌクレオシド」と解し、ｐ＝１の場合には、ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドは、「モルフォリノヌクレオシド」と解し、ｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドは、「モルフォリノジヌクレオチド」と解すべきものである。
本発明の製造方法は、好ましくは、以下の工程（２）を含有する。
（２）５’位水酸基が活性化（チオ）ホスフェート化又は活性化（チオ）ホスホルアミダート化され、かつモルフォリン環窒素原子が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｐは、１以上の任意の整数を示す。）（以下、単に「活性化モルフォリノヌクレオチド」と称することもある）を、５’位水酸基又は５’位水酸基が水酸基を有する置換基を有する場合は該置換基上に存在する水酸基が炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が保護されていないｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｎは、１以上の任意の整数を示す。）と、そのモルフォリン環窒素原子を介して（チオ）ホスホルアミダート結合又は（チオ）ホスホロジアミダート結合により縮合させ、ｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドを得る工程。
ｎの上限は、特に限定されるものではないが、５０以下が好ましく、３０以下がより好ましく、２０以下が更に好ましい。
ｐの上限は、特に限定されるものではないが、５０以下が好ましく、３０以下がより好ましく、２０以下が更に好ましく、５以下が更に一層好ましく、３以下が特に好ましい。
本発明の製造方法は、好ましくは、更に、下記工程（１）を含有し、工程（２）で使用される５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が保護されていないｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドが調製される。
（１）縮合工程（２）の前に、非極性溶媒中において、５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドを酸と反応させて、モルフォリン環窒素原子の一時保護基を除去する工程。
工程（１）は、好ましくは、モルフォリン環窒素原子の一時保護基を除去した後、有機塩基により中和する工程をさらに含む。これにより、工程（１）及び（２）を液中で連続的に行うことが可能になり、モルフォリノヌクレオチドが伸長したモルフォリノオリゴヌクレオチドを連続的に行うことができる。
ｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドの５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基で保護されていることにより、得られるｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドの脂溶性が向上し、例えば、下記工程（３）を含有させることにより、簡便かつ効果的に過剰原料や副生物を除去して、ｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドを精製することができる。
（３）工程（１）及び／又は（２）で得られた反応液に極性溶媒を添加して、ｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドを沈殿させて、固液分離により取得する工程。
工程（３）は、下記（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、工程（１）及び（２）の反応液の両方で行ってもよいし、工程（１）及び（２）の反応液のどちらか一方のみで行ってもよい。
（Ａ）工程（１）→工程（３）→工程（２）→工程（３）
（Ｂ）工程（１）→工程（２）→工程（３）
（Ｃ）工程（１）→工程（３）→工程（２）
炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基は、好ましくは、式（ＩＩ）Ｚ−Ｙ−Ｌ−（式中、各記号は、前述の通りである。）であり、その場合、上記工程（３）をさらに効率的に行うことができる。
原料の当量管理と反応制御することによって副生物の発生量を制御できる状況であれば、工程（１）及び（２）の基本単位として繰り返し、工程（３）を含有させることが好ましい。
また、副生物発生を厳格に管理・制御でき、高純度のモルフォリノオリゴヌクレオチドに導けるという観点で、工程（１）〜工程（３）を含む上記（Ａ）〜（Ｃ）のいずれかを基本単位として繰り返すことが好ましい。
本発明の製造方法には、更に、工程（４）を含有させることにより、モルフォリノオリゴヌクレオチドを単離・製造することができる。
（４）得られたｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドの保護基を全て除去する工程。
以下に、各工程について詳細に説明する。
１．「ｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド」の説明
まず、工程（１）及び（２）の原料に用いられるｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドについて説明する。
工程（１）で使用されるｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドは、例えば、下記一般式（ｉ）に示されるような、５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドを示し、工程（２）で使用されるｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドは、例えば、下記一般式（ｉｉ）に示されるような、５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が保護されていないｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドを示す。
（式中、
ｍは、ｎ−１に相当する０以上の任意の整数を示し、
Ｐ１’は、酸性条件下で除去可能な一時保護基を示し、
Ｐ２は、炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基を示し、
他の記号は、式（Ｉ）における各定義と同義である。）
一般式（ｉ）及び（ｉｉ）中の各記号について、以下に説明する。
ｍの上限は、特に限定されるものではないが、通常９９以下、好ましくは７４以下、さらに好ましくは４９以下、さらに好ましくは２９以下である。
一般式（ｉ）中のＰ１’で表される酸性条件下で除去可能な一時保護基としては、酸性条件下で脱保護可能であり、水酸基の保護基として用いられるものであれば、特に限定はされないが、トリチル基、９−（９−フェニル）キサンテニル基、９−フェニルチオキサンテニル基、１，１−ビス（４−メトキシフェニル）−１−フェニルメチル基、ジメトキシトリチル基等のジ（Ｃ１−６アルコキシ）トリチル基、１−（４−メトキシフェニル）−１，１−ジフェニルメチル基、モノメトキシトリチル基等のモノ（Ｃ１−１８アルコキシ）トリチル基等を挙げることができる。これらの中でも、脱保護のしやすさ、入手の容易さの観点から、トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基であることが好ましく、より好ましくは、トリチル基、ジメトキシトリチル基である。
一般式（ｉ）及び（ｉｉ）中のＰ２で示される「炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基」とは、３’末端モルフォリン環窒素原子の保護基を除去し得る酸性条件で安定な基であり、工程（１）及び（２）において反応が進行するように反応溶媒である非極性溶媒にｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドを溶解させうるものであれば特に限定はないが、下記一般式（ＩＩ）で表される基が好ましい。
［式中、各記号は、前記と同義である。］
５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基の保護基として、炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基、より好ましくは、式（ＩＩ）で表される基を使用すれば、ｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドおよびｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドの脂溶性、溶媒（特に、非極性溶媒）に対する溶解性を向上させることができ、工程（１）及び（２）を円滑に行うことができ、また、後述する工程（３）のように、ｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド、又はｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドを簡便に単離・精製することができる。
式（ＩＩ）におけるＬ、Ｙ及びＺの好ましい態様は、式（Ｉ）におけるＬ、Ｙ及びＺと同様である。
２．「ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド」の説明
まず、工程（２）の原料に用いられるｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドについて説明する。
工程（２）で使用される「５’位水酸基が活性化（チオ）ホスフェート化又は活性化（チオ）ホスホルアミダート化され、かつモルフォリン環窒素原子が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｐは、１以上の任意の整数を示す。）」としては、当該構造要件を満たす限り特に限定されない。
「５’位水酸基が活性化（チオ）ホスフェート化又は活性化（チオ）ホスホルアミダート化され」とは、モルフォリノオリゴヌクレオチド５’位水酸基が、例えば、下記式（ｃ）：
（式中、
＊は、モルフォリノオリゴヌクレオチドの５’末端水酸基に結合する位置を示し、
Ｌ１は、脱離基を示し、
Ｘは、Ｃ１−６アルコキシ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、または４位窒素原子が保護基で保護され、さらに置換されていてもよいピペラジノ基を示し、
Ｗは、酸素原子又は硫黄原子を示す。）
で表される基で修飾されていることを意味する。
「活性化ホスフェート化」とは、上記式において、ＸがＣ１−６アルコキシ基であり、かつＷが酸素原子である場合を意味する。
「活性化チオホスフェート化」とは、上記式において、ＸがＣ１−６アルコキシ基であり、かつＷが硫黄原子である場合を意味する。
「活性化ホスホルアミダート化」とは、上記式において、ＸがジＣ１−６アルキルアミノ基または４位窒素原子が保護基で保護され、さらに置換されていてもよいピペラジノ基であり、かつＷが酸素原子である場合を意味する。
「活性化チオホスホルアミダート化」とは、上記式において、ＸがジＣ１−６アルキルアミノ基または４位窒素原子が保護基で保護され、さらに置換されていてもよいピペラジノ基であり、かつＷが硫黄原子である場合を意味する。
Ｌ１で示される脱離基としては、例えば、ハロゲン原子、メタンスルフォニルオキシ基、ｐ−トルエンスルフォニルオキシ基等が挙げられ、塩素原子が好ましい。
Ｘ及びＷの定義、例示、好ましい態様は、上記式（Ｉ）で説明した通りである。
「酸性条件下で除去可能な一時保護基」の定義、例示、好ましい態様は、上記式（Ｉ）で説明した通りである。
工程（２）に使用される好ましいｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドとしては、一般式（ｉｉｉ）に示される化合物が挙げられる。
（式中、
ｑは、ｐ−１に相当する０以上の任意の整数を示し、
Ｐ１’’は、酸性条件下で除去可能な一時保護基を示し、
他の記号は、式（Ｉ）及び式（ｃ）における各定義と同義である。）
一般式（ｉｉｉ）中のｑとしては、０が好ましい。ｑの上限は、特に限定されるものではないが、通常９９以下、好ましくは７４以下、さらに好ましくは４９以下、さらに好ましくは２９以下である。
一般式（ｉｉｉ）中のＰ１’’で表される酸性条件下で除去可能な一時保護基としては、酸性条件下で脱保護可能であり、水酸基の保護基として用いられるものであれば、特に限定はされないが、トリチル基、９−（９−フェニル）キサンテニル基、９−フェニルチオキサンテニル基、１，１−ビス（４−メトキシフェニル）−１−フェニルメチル基、ジメトキシトリチル基等のジ（Ｃ１−６アルコキシ）トリチル基、１−（４−メトキシフェニル）−１，１−ジフェニルメチル基、モノメトキシトリチル基等のモノ（Ｃ１−１８アルコキシ）トリチル基等を挙げることができる。これらの中でも、脱保護のしやすさ、入手の容易さの観点から、トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基であることが好ましく、より好ましくは、トリチル基、ジメトキシトリチル基である。
一般式（ｉｉｉ）中のその他の記号の好ましい態様は、上記式（Ｉ）及び（ｃ）で説明した通りである。
本発明のｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドは、自体公知の方法（例えば、ＷＯ９１／０９０３３Ａ１に記載の方法）、又はそれに準じた方法に従い調製することができる。例えば、Ｌ１が塩素原子である化合物は、一般式（ｉｉｉ）において５’位水酸基が活性化されていない下記式（ｉｉｉ’）の化合物を、例えば、一般式（ｄ）：Ｃｌ２Ｐ（＝Ｗ）（Ｘ）（式中、Ｗ及びＸは、前記と同義である）で表されるジクロロ（チオ）ホスフェート又はジクロロ（チオ）ホスホロアミダートと反応させることにより製造することができる。
一般式（ｄ）で表されるジクロロ（チオ）ホスフェート又はジクロロ（チオ）ホスホロアミダートとしては、市販品を使用することができ、或るいは公知の方法（例えば、ＷＯ９１／０９０３３やＷＯ２００８／００８１１３等）に記載の方法またはそれに準じる方法により製造することができる。
一般式（ｉｉｉ’）の化合物は、例えば国際公開第９１／０９０３３号パンフレット等の公知の方法により調製することができる。
３．工程（１）〜（４）の説明
以下、工程（１）〜（４）を、便宜上、式（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）等を参照して説明するが、これに限定されるものではない。
工程（１）（脱保護工程）
本工程は、縮合工程（２）の前に、非極性溶媒中において、５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉ）を酸と反応させて、モルフォリン環窒素原子の一時保護基を除去し、５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が保護されていないｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉ）を得る工程（脱保護工程）である。
（式中、各記号は、前記と同義である。）
本工程は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行われる。当該溶媒における溶解度が高い程、優れた反応性が期待できるため、本発明のｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉ）の溶解度の高い非極性溶媒を選択することが好ましい。具体的には、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶媒；酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒；ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、オクタン、ノナン、シクロヘキサン等の脂肪族系溶媒；ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等の非極性エーテル系溶媒が挙げられる。中でも、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、ノナン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等が好ましい。これらの溶媒は２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。
本工程におけるｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉ）の溶媒中の濃度は、溶解していれば特に限定されないが、好ましくは１〜３０質量％である。
本工程に使用する酸としては、良好な脱保護が達成できさえすれば特に限定されないが、トリフルオロ酢酸、シアノピリジントリフルオロ酢酸塩及びトリフルオロエタノール、トリエチルアミントリフルオロ酢酸塩、シアノ酢酸、酢酸、ジクロロ酢酸、リン酸、メシル酸、トシル酸、塩酸等を使用することが好ましい。
良好な反応を達成できるという観点で、トリフルオロ酢酸、シアノピリジントリフルオロ酢酸塩、トリエチルアミントリフルオロ酢酸塩、シアノ酢酸がより好ましく、シアノピリジントリフルオロ酢酸塩、トリエチルアミントリフルオロ酢酸塩が更に好ましく、トリエチルアミントリフルオロ酢酸塩が特に好ましい。これら酸は、上記非極性溶媒で希釈しても構わない。また、前記酸を使用する際には、特定の塩基（例、トリエチルアミン等）を組み合わせて、酸性度を適宜調整して使用しても構わない。
本工程における酸の使用量は、ｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉ）１モルに対し、１〜１００モル使用することができ、好ましくは１〜４０モルである。
本工程においては、脱保護反応によって生じるトリチルカチオン等の保護基Ｐ１のカチオン化物等による副反応を防ぐため、カチオン捕捉剤を添加してもよい。好ましいカチオン捕捉剤としては、ピロール、インドール、エタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、メタノール、アニソール、ｐ−クレゾール、トリイソプロピルシラン、メルカプトエタノール、チオアニソールなどが挙げられる。中でもピロール、インドール、エタノール、２，２，２−トリフルオロエタノールがより好ましく、エタノール、２，２，２−トリフルオロエタノールが特に好ましい。
カチオン捕捉剤の使用量としては、ｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉ）に対するｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）の過剰量（ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）のモル数−ｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉ）のモル数）を考慮して適宜決定することができ、当該過剰量（モル）に対して１〜２０当量が好ましく、１〜１０当量がより好ましい。
本工程の反応温度は、反応が進行しさえすれば特に限定されないが、−１０℃〜５０℃が好ましく、０℃〜４０℃がより好ましい。反応時間は、使用するｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドの種類、酸の種類、溶媒の種類、反応温度等により異なるが、５分〜５時間である。
脱保護剤として使用される酸は次工程の縮合工程中に存在すると、ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）の保護基Ｐ１’’の脱保護を誘発するため、除去または中和処理が必要である。本脱保護工程、それに続く縮合工程を液中で連続して行うためには、本工程において３’末端モルフォリン環窒素原子の一時保護基を除去した後、有機塩基により中和することが好ましい。
中和に使用する有機塩基としては、前出の酸を中和することができ、得られた塩が縮合剤として機能しうるものであれば特に限定されないが、反応が良好に進行するという観点で、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−シアノピリジン、トリエチルアミンが好ましく、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミンがより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンが特に好ましい。
本工程における有機塩基の使用量は、酸１モルに対し、１〜１０モル使用することができ、好ましくは１〜３モルである。
本工程において、特に好ましい酸と有機塩基との組合せは、シアノピリジントリフルオロ酢酸塩とＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンまたはシアノ酢酸とＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンである。
工程（２）（縮合工程）
本工程は、５’位水酸基が活性化（チオ）ホスフェート化又は活性化（チオ）ホスホルアミダート化され、かつモルフォリン環窒素原子が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）を、５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が保護されていないｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉ）と、そのモルフォリン環窒素原子を介して（チオ）ホスホルアミダート結合又は（チオ）ホスホロジアミダート結合により縮合させて、ｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｖ）を得る工程である。
（式中、各記号は、前記と同義である。）
５’位水酸基が活性化（チオ）ホスフェート化又は活性化（チオ）ホスホルアミダート化され、かつモルフォリン環窒素原子が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）としては、ｐが１である場合（すなわち、５’位水酸基が活性化（チオ）ホスフェート化又は活性化（チオ）ホスホルアミダート化され、かつモルフォリン環窒素原子が一時保護基Ｐ１’’により保護されたモルフォリノヌクレオシド）が好ましい。
本工程においては、使用するｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉ）としては特に限定されるものではないが、好ましくは、前記工程（１）で得られたものを使用することができる。その場合、ｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉ）を単離することなく、工程（１）後の反応液に、ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）を直接添加するだけで行うことができる。
或いは、工程（１）の後に、反応液を後述の工程（３）に付して、ｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉ）を一旦単離し、所定の溶媒に溶解させた後に、ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）を添加してもよい。
本工程は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行われる。本発明のｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉ）の溶解度の高い非極性溶媒を選択することが好ましい。具体的には、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶媒；酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒；ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、オクタン、ノナン、シクロヘキサン等の脂肪族系溶媒；ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等の非極性エーテル系溶媒が挙げられる。中でも、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、ノナン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等が好ましい。これらの溶媒は２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。また、ｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉ）が溶解し得る限り、極性溶媒を適宜の割合で混合して用いてもよい。具体的には、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒；アセトン、２−ブタノン等のケトン系溶媒；１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の極性エーテル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒等の極性溶媒が挙げられる。
ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）の使用量は、ｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉ）１モルに対し、１〜１０モル使用することができ、好ましくは１〜５モル、さらに好ましくは１〜２モルである。
反応温度は、反応が進行しさえすれば特に限定されないが、０℃〜１００℃が好ましく、２０℃〜５０℃がより好ましい。反応時間は、縮合させるｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉ）、ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）の種類、反応温度等によって異なるが、３０分〜２４時間である。
本縮合反応の終了後に、反応混合物をクエンチ剤で処理することが好ましい。クエンチ剤を使用することにより、縮合反応中に残留したｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）を完全にクエンチすることができ、次サイクルの縮合反応中において残留した活性化モルフォリノヌクレオチドが二重付加を引き起こすことを回避できるので、目的のモルフォリノオリゴヌクレオチドの品質低下を防ぐことができる。
なお、二重付加とは、前サイクルの縮合反応で使用されて残留した活性化モルフォリノヌクレオチドが次サイクルの縮合反応で反応し、同じ残基が二重に付加されることを言う。
クエンチ剤としては、ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）と反応する求核性試薬であれば制限なく使用することができるが、好ましい例としては有機アミン、チオールが挙げられ、中でも２級アミンが好ましく、特にモルフォリンが好ましい。
クエンチ剤の使用量としては、ｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉ）に対するｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）の過剰量（ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）のモル数−ｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉ）のモル数）を考慮して適宜決定することができ、当該過剰量（モル）に対して０．１〜１０当量が好ましく、０．３〜３当量がより好ましい。
反応混合物にクエンチ剤を添加した後、０℃〜１００℃、好ましくは、２０℃〜５０℃で、３０分〜２４時間、好ましくは３０分〜５時間反応させることにより、ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）を完全にクエンチすることができる。
工程（３）（モルフォリノオリゴヌクレオチドの分離・精製工程）
上記工程（１）および／または（２）の工程において得られるｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｉ）またはｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｉｖ）は、５’末端の水酸基が、炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基、好ましくは、式（ＩＩ）：Ｚ−Ｙ−Ｌ−（式中、各記号は、前記と同義である。）で表される保護基で保護されているため、モルフォリノオリゴヌクレオチドに非常に高い脂溶性が付与されており、カラム精製等の煩雑な操作を要することなく、晶析や抽出操作のみで簡便にモルフォリノオリゴヌクレオチドを単離・精製することができる。
以下に、晶析によるモルフォリノオリゴヌクレオチドの単離・精製法について説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
晶析によるモルフォリノオリゴヌクレオチドの単離・精製工程は、工程（１）及び／又は（２）で得られた反応液に極性溶媒を添加して、モルフォリノオリゴヌクレオチドを沈殿させて、固液分離により取得する工程である。
工程（１）及び／又は（２）で得られた反応液に直接、極性溶媒を添加してもよいし、工程（１）及び／又は（２）で得られた反応液を濃縮した後に極性溶媒を添加してもよい。
本工程における目的物のモルフォリノオリゴヌクレオチドを沈殿させるための極性溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒；アセトン、２−ブタノン等のケトン系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピペリドン等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒；水等、ならびにこれら２種以上の混合溶媒が挙げられる。なお極性溶媒は、沈殿効率を上げる目的で、有機溶媒と水との混合溶媒を用いることができる。この場合、極性溶媒中の水の含量は使用する有機溶媒によって適宜好ましい値を設定すればよいが、通常１〜５０％（Ｖ／Ｖ）、好ましくは１０〜３０％（Ｖ／Ｖ）の範囲で設定することができる。極性溶媒としては、アルコール系溶媒、ニトリル系溶媒、またはこれら各溶媒と水との混合溶媒が好ましく、メタノール、アセトニトリル、またはこれら各溶媒と水との混合溶媒がさらに好ましく、アセトニトリルまたはアセトニトリルと水との混合溶媒が特に好ましい。
本発明のモルフォリノオリゴヌクレオチドの製造方法は、上記工程（１）−（３）−（２）―（３）の順、（１）―（３）−（２）の順、或いは工程（１）−（２）−（３）の順を所望の回数繰返すことで高純度かつ高収率で目的のモルフォリノオリゴヌクレオチドを得ることができる。
工程（４）（脱保護・モルフォリノオリゴヌクレオチド単離工程）
本発明のモルフォリノオリゴヌクレオチドの製造方法においては、工程（３）の後に、保護基の種類・性質に応じて、脱保護を行い、モルフォリノオリゴヌクレオチドを単離することができる。脱保護の方法としては、例えば、グリーンズ・プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｇｒｅｅｎｅ’ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ｉｎ ＯＲＧＡＮＩＣ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ）、第４版、ウィリー・インターサイエンス（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ）出版（２００６年）等に記載されている脱保護方法に従い、モルフォリノオリゴヌクレオチドの全ての保護基を除去する工程を行うことができる。具体的には、本願発明における炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を有する保護基、ならびに核酸塩基の保護基であるフェノキシアセチル基、アセチル基等は、アンモニア水、アンモニア水／エタノール溶液、またはアンモニア水とメチルアミン水溶液の混合液で処理することにより、全て除去することができる。また、モルフォリノオリゴヌクレオチド３’末端モルフォリン環窒素原子の保護基は、工程（１）で使用される酸またはそれらを適宜希釈した溶液で処理することにより除去することができる。
上記各工程における反応の進行の確認は、いずれも一般的な液相有機合成反応と同様の方法を適用できる。すなわち、薄層シリカゲルクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等を用いて反応を追跡することができる。
工程（３）、あるいは工程（４）より得られたモルフォリノオリゴヌクレオチドは、更に有機合成反応を施すことにより、所望のモルフォリノオリゴヌクレオチド誘導体へと導くこともできる。
本発明によって製造されたモルフォリノオリゴヌクレオチドは、各種人体用または動物用の医薬品（ＲＮＡ、ＤＮＡ、オリゴ核酸医薬、ペプチド修飾モルフォリノオリゴヌクレオチド、等）、機能性食品、特定保健食品、食品、化成品、生体用や工業用の高分子材料、等の各種用途に使用することができる。
以下、実施例に沿って本発明を更に詳細に説明するが、これら実施例は本発明の範囲を何ら限定するものではない。また、本発明において使用する試薬や装置、材料は特に言及されない限り、商業的に入手可能である。また、本明細書において、略号で表示する場合、各表示は特に言及しない限り、ＩＵＰＡＣ−ＩＵＢ Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ ｏｎ Ｂｉｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｎｏｍｅｎｃｌａｔｕｒｅによる略号あるいは当該分野における慣用略号に基づくものである。
参考例、実施例で使用される略号は、以下のとおりである。
ｍｏ：モルフォリノヌクレオシド
ｍｏＡ：モルフォリノアデノシン
ｍｏＧ：モルフォリノグアノシン
ｍｏＣ：モルフォリノシチジン
ｍｏＴ：モルフォリノチミジン
ｍｏＵ：モルフォリノウリジン
ＰＭＯ：ホスホロジアミダート モルフォリノオリゴヌクレオチド
例えば、ＰＭＯ［Ａ−Ｇ―Ｃ］と表示した場合は、左側が５’末端、右側が３’末端であり、５’末端からモルフォリノアデノシン、モルフォリノグアノシン、モルフォリノシチジンの順のホスホロジアミダートモルフォリノオリゴヌクレオチドであることを意味する。
ｂｚ：ベンゾイル基
ｐａｃ：フェノキシアセチル基
ｃｅ：２−シアノエチル基
モルフォリノヌクレオシドの核酸塩基が保護されているとき、保護基は核酸塩基の略号（Ａ、Ｇ、Ｃ、Ｔ及びＵ）の右側に上付きで表示するものとする。
例えば、Ｃｂｚは、シトシンのアミノ基がベンジル基で保護されていることを意味し、Ｇｃｅ／ｐａｃはグアニンのアミノ基がフェノキシアセチル基、カルボニル基が２−シアノエチル基で保護されていることを意味する。
ＴＯＢ：３，４，５−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ基
ｓｕｃ：スクシニル基
Ｔｒ、Ｔｒｔ：トリチル基
ＣＹＴＦＡ：シアノピリジン・トリフルオロ酢酸塩
ＤＩＥＡ：Ｎ，Ｎ−ジイソピロピルエチルアミン
ＴＦＥ：２，２，２−トリフルオロエタノール
ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸
ＤＭＡＰ：４−ジメチルアミノピリジン
ＭｅＣＮ：アセトニトリル
ＨＯＢｔ：１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
ＵＨＰＬＣ：超高速液体クロマトグラフィー
ＥＤＣ・ＨＣｌ：Ｎ−エチル−Ｎ’−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩
ＭＭＴｒ：モノメトキシトリチル
ｔｅｇ：トリエチレングリコール
参考例１ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣ ｂｚ −Ｔｒの合成（ＴＯＢアンカーへのｓｕｃ−ｍｏＣ ｂｚ −Ｔｒ中間体導入）
３，４，５−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルアルコール（４５００ｍｇ，４．９２ｍｍｏｌ）をクロロホルム（４５ｍｌ）に溶解し、氷浴下でｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ−Ｔｒ（３６４０ｍｇ，５．４１ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ・ＨＣｌ（１１４１ｍｇ，５．９５ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（３３ｍｇ，０．０５５ｍｍｏｌ）を、それぞれ１時間おきに３分割で加えた。室温で一晩撹拌し、途中、ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ−Ｔｒ（５０３ｍｇ，０．７４ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ・ＨＣｌ（１５７ｍｇ，０．８２ｍｍｏｌ）を追加投入し、反応終了をＨＰＬＣで確認した。溶媒を減圧留去して、ＭｅＣＮ（１０ｍｌ）を加えて再度減圧留去を行った。残渣に、ＭｅＣＮ（５０ｍｌ）を加え、沈殿物を濾取し、クロロホルム（３０ｍｌ）に完全溶解した後、ＭｅＣＮ（９０ｍｌ）で再結晶させた。減圧乾燥してＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ−Ｔｒを得た（７３３７ｍｇ、収率９５％）。
ＴＯＦ−ＭＳ＋（ｍ／ｚ）１５６６．８
参考例２ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣ ｂｚ −Ｔｒの脱Ｔｒ反応
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ−Ｔｒ（５００ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）をクロロホルム（５ｍｌ）に溶解し、氷浴下にてＡ液＊を１６ｍｌ、３０分かけてゆっくりと滴下し、１．５時間室温で撹拌した。反応終了後、氷浴下にてＤＩＥＡ（１３７μｌ）／クロロホルム（１ｍｌ）の希釈溶液をゆっくりと添加し、その後、ＭｅＣＮ（５０ｍｌ）を加え、沈殿物を濾過した。得た結晶をＭｅＣＮ（１０ｍｌ）で再度洗浄し、減圧乾燥してＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚを得た（３９５ｍｇ、収率９４％）。
＊Ａ液の組成は以下の通りである。
ＥｔＯＨ／ＴＦＥ／ＴＦＡ／ＴＥＡ／クロロホルム＝２５０μｌ／２．５ｍｌ／１７３μｌ／１６１μｌ／２２．２５ｍｌ
ＴＯＦ−ＭＳ＋（ｍ／ｚ）１３２４．９
実施例１及び２のスキームを以下に示す。
実施例１ 化合物２の合成：化合物１［ｍｏ（Ｔｒ）Ｃ ｂｚ ］へのスクシニルリンカーの結合
アルゴン雰囲気下、化合物１［ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ］（５７３ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（１８３ｍｇ，１．５ｍｍｏｌ）を乾燥ジクロロメタン（７．０ｍｌ）に溶解し、無水コハク酸（１５０ｍｇ，１．５ｍｍｏｌ）を加えて、室温にて３時間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認した後、メタノール（１．０ｍｌ）を加え、反応液を減圧濃縮した。得られた濃縮残渣に酢酸エチル（８．０ｍｌ）および０．５ｍｏｌ／ｌＫＨ２ＰＯ４水溶液（８．０ｍｌ）を加えて抽出分層し、更に水層へ酢酸エチル（８．０ｍｌ）を加えて抽出した。得られた酢酸エチル層を合わせて、０．５ｍｏｌ／ｌＫＨ２ＰＯ４水溶液（１３．０ｍｌ）、水（１３．０ｍｌ）、飽和食塩水（１３．０ｍｌ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過した。ろ液を濃縮乾固して化合物２［ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ］（６８０ｍｇ，ｑｕａｎｔ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ１．２０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），１．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ），２．５２−２．７５（４Ｈ，ｍ），３．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ），３．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），３．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ），４．３７−４．５９（２Ｈ，ｍ），６．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．１５−７．８８（２２Ｈ，ｍ）
実施例２ 化合物３の合成：化合物２［ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃ ｂｚ ］のＴＯＢアンカー［３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルアルコール］への担持
アルゴン雰囲気下、３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルアルコール（１３３ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（２１ｍｇ，０．１８ｍｍｏｌ）、化合物２［ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ］（１２３ｍｇ，０．１８ｍｍｏｌ）を乾燥ジクロロメタン（２．４ｍｌ）に溶解し、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（１０１ｍｇ，０．５３ｍｍｏｌ）を加え、室温にて終夜撹拌した。薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認後、メタノール（６．０ｍｌ）を加えて得られた混合液を減圧濃縮した。濃縮残渣にメタノール（６．０ｍｌ）を加えて得られたスラリーを１５分間撹拌し、ろ過した。得られた固体を減圧加熱乾燥し、化合物３［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ］（２１８ｍｇ，９５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．８８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２２−１．８５（９８Ｈ，ｍ），２．５４−２．６８（４Ｈ，ｍ），３．１２−３．１８（１Ｈ，ｍ），３．５８−３．６５（１Ｈ，ｍ），３．８８−３．９８（６Ｈ，ｍ），４．０７−４．１５（２Ｈ，ｍ），４．３５−４．４３（１Ｈ，ｍ），５．００（２Ｈ，ｓ），６．２５−６．２９（１Ｈ，ｍ），６．５３（２Ｈ，ｓ），７．１５−７．８８（２２Ｈ，ｍ），８．５０−８．５６（１Ｈ，ｍ）
ｍ／ｚ １５６９．１４［Ｍ＋Ｈ］＋
実施例３〜１２の反応スキームを下記に示す。
実施例３ 化合物４［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣ ｂｚ ］の合成（脱Ｔｒ化剤としてＣＹＴＦＡ（シアノピリジンとトリフルオロ酢酸の塩）を用いる方法）
アルゴン雰囲気下、化合物３［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ］（６２．７ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌ）に対して、２％ＣＹＴＦＡ，１％エタノール，１０％ＣＦ３ＣＨ２ＯＨを含むジクロロメタン溶液（１．５ｍｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認した後、５％Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン，２５％２−プロパノールを含むジクロロメタン溶液（２．３ｍｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。その後、メタノール（１．５ｍｌ）を加え、溶液を減圧濃縮した。濃縮残渣に再度メタノール（１．５ｍｌ）を加え、室温で１５分間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、固体をメタノール（１．５ｍｌ）で洗浄した。この固体を真空加熱乾燥し、脱Ｔｒ化された化合物４［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ］（５２．０ｍｇ，９８．０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．８８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２２−１．８５（９６Ｈ，ｍ），２．４５−２．５３（１Ｈ，ｍ），２．６２−２．７４（５Ｈ，ｍ），２．９４−３．００（１Ｈ，ｍ），３．３８−３．３．４６（１Ｈ，ｍ），３．８９−４．００（７Ｈ，ｍ），４．１３−４．２４（２Ｈ，ｍ），４．９８−５．０７（２Ｈ，ｍ），５．７５−５．８２（１Ｈ，ｍ），６．５４（２Ｈ，ｓ），７．４５−７．６５（４Ｈ，ｍ），７．８３−８．００（３Ｈ，ｍ），８．６２（１Ｈ，ｂｒｓ）
実施例４ 化合物４［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣ ｂｚ ］の合成（脱Ｔｒ化剤としてシアノ酢酸を用いる方法）
アルゴン雰囲気下、化合物３［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ］（６２．７ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌ）に対して、１０％シアノ酢酸，２０％アセトニトリルを含むジクロロメタン溶液（０．７５ｍｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認した後、５％Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン，２５％２−プロパノールを含むジクロロメタン溶液（４．５ｍｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。その後、メタノール（１．５ｍｌ）を加え、溶液を減圧濃縮した。濃縮残渣に再度メタノール（１．５ｍｌ）を加えて室温で１５分間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、固体をメタノール（１．５ｍｌ）で洗浄した。この固体を真空加熱乾燥し、脱Ｔｒ化された化合物４［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ］（５０．０ｍｇ，９４．３％）を得た。
実施例５ 化合物５［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｔ］−Ｔｒ］の合成（Ｔモノマーを３当量用いた方法）
アルゴン雰囲気下、化合物４［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ］（４８．８ｍｇ，０．０３６ｍｍｏｌ）に対して、ＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｔ（６１ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（０．４ｍｌ）および２５％Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを含む１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン溶液（０．４ｍｌ）を加えて室温で１．５時間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認した後、反応液にメタノール（１．５ｍｌ）を加え、この溶液を減圧濃縮した。濃縮残渣にメタノール（１．５ｍｌ）を加えて室温で１５分間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、固体をメタノール（１．５ｍｌ）で洗浄した。この固体を真空加熱乾燥し、化合物５［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］−Ｔｒ］（６６．０ｍｇ，９８．０％）を得た。
実施例６ 化合物５［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｔ］−Ｔｒ］の合成（Ｔモノマーを１．１当量に減じた方法）
アルゴン雰囲気下、化合物４［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ］（５４．２ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌ）に対して、ＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｔ（２７ｍｇ，０．０４４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（０．４ｍｌ）および２５％Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを含む１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン溶液（０．４ｍｌ）を加えて室温で１．５時間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認した後、反応液にメタノール（１．５ｍｌ）を加え、この溶液を減圧濃縮した。濃縮残渣にメタノール（１．５ｍｌ）を加えて室温で１５分間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、固体をメタノール（１．５ｍｌ）で洗浄した。この固体を真空加熱乾燥し、化合物５［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］−Ｔｒ］（７０．８ｍｇ，９３．２％）を得た。
実施例７ 化合物５［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｔ］−Ｔｒ］の合成（化合物３からのワンポット法）
アルゴン雰囲気下、化合物３［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ］（６２．７ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌ）に対して、２％ＣＹＴＦＡ，１％エタノール，１０％ＣＦ３ＣＨ２ＯＨを含むジクロロメタン溶液（１．８ｍｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認した後、５％Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン，２５％２−プロパノールを含むジクロロメタン溶液（２．７ｍｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。その後、この反応液に、ＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｔ（７３．１ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（０．４ｍｌ）および２５％Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを含む１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン溶液（０．５ｍｌ）を加えて室温で３０分、更に３８℃で１時間撹拌した。反応液にメタノール（１．５ｍｌ）を加え、この溶液を減圧濃縮した。濃縮残渣にメタノール（１．５ｍｌ）を加えて室温で１５分間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、固体をメタノール（１．５ｍｌ）で洗浄した。この固体を真空加熱乾燥し、化合物５［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］−Ｔｒ］（７５．０ｍｇ，９８．８％）を得た。
実施例８ 化合物６［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｔ］］の合成（脱Ｔｒ化剤としてＣＹＴＦＡを用いる方法）
アルゴン雰囲気下、化合物５［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］−Ｔｒ］（３７．４ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ）に対して、２％ＣＹＴＦＡ，１％エタノール，１０％ＣＦ３ＣＨ２ＯＨを含むジクロロメタン溶液（０．７５ｍｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認した後、５％Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン，２５％２−プロパノールを含むジクロロメタン溶液（１．０ｍｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。その後、メタノール（１．５ｍｌ）を加え、溶液を減圧濃縮した。濃縮残渣に再度メタノール（１．５ｍｌ）を加えて室温で１５分間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、固体をメタノール（１．５ｍｌ）で洗浄した。この固体を真空加熱乾燥し、脱Ｔｒ化された化合物６［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］］（３０．０ｍｇ，９２．１％）を得た。
実施例９ 化合物６［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｔ］］の合成（脱Ｔｒ化剤としてシアノ酢酸を用いる方法）
アルゴン雰囲気下、化合物５［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］−Ｔｒ］（３７．４ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ）に対して、１０％シアノ酢酸，２０％アセトニトリルを含むジクロロメタン溶液（０．３８ｍｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認した後、５％Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン，２５％２−プロパノールを含むジクロロメタン溶液（２．３ｍｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。その後、メタノール（１．５ｍｌ）を加え、溶液を減圧濃縮した。濃縮残渣に再度メタノール（１．５ｍｌ）を加えて室温で１５分間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、固体をメタノール（１．５ｍｌ）で洗浄した。この固体を真空加熱乾燥し、脱Ｔｒ化された化合物６［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］］（３１．０ｍｇ，９５．２％）を得た。
実施例１０ 化合物７［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ ］−Ｔｒ］の合成（Ｃモノマーを３当量用いる方法）
アルゴン雰囲気下、化合物６［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］］（２５．８ｍｇ，０．０１６ｍｍｏｌ）に対し、ＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（３２．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（０．２ｍｌ）および２５％Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを含む１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン溶液（０．２ｍｌ）を加えて室温で１．５時間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認した後、反応液にメタノール（１．５ｍｌ）を加え、この溶液を減圧濃縮した。濃縮残渣にメタノール（１．５ｍｌ）を加えて室温で１５分間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、固体をメタノール（１．５ｍｌ）で洗浄した。この固体を真空加熱乾燥し、化合物７［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ］−Ｔｒ］（３２．９ｍｇ，９０．９％）を得た。
実施例１１ 化合物７［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ ］−Ｔｒ］の合成（Ｃモノマーを１．５当量に減じた方法）
アルゴン雰囲気下、化合物６［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］］（９９．４ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）に対し、ＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（６２．８ｍｇ，０．０９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（０．６ｍｌ）および２５％Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを含む１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン溶液（０．７５ｍｌ）を加えて室温で５時間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認した後、反応液にメタノール（２．７ｍｌ）を加え、この溶液を減圧濃縮した。濃縮残渣にメタノール（２．７ｍｌ）を加えて室温で１５分間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、固体をメタノール（２．７ｍｌ）で洗浄した。この固体を真空加熱乾燥し、化合物７［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ］−Ｔｒ］（１３１ｍｇ，９４．４％）を得た。
実施例１２ 化合物７［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ ］−Ｔｒ］の合成（化合物５からのワンポット法）
アルゴン雰囲気下、化合物５［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］−Ｔｒ］（７５．９ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌ）に対して、２％ＣＹＴＦＡ，１％エタノール，１０％ＣＦ３ＣＨ２ＯＨを含むジクロロメタン溶液（１．５ｍｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認した後、５％Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン，２５％２−プロパノールを含むジクロロメタン溶液（２．３ｍｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。その後、この反応液に、ＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（８３．８ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（０．４ｍｌ）および２５％Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを含む１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン溶液（０．５ｍｌ）を加えて室温で３０分、更に３８℃で４５分撹拌した。反応液にメタノール（１．５ｍｌ）を加え、この溶液を減圧濃縮した。濃縮残渣にメタノール（１．５ｍｌ）を加えて室温で１５分間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、固体をメタノール（１．５ｍｌ）で洗浄した。この固体を真空加熱乾燥し、化合物７［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ］−Ｔｒ］（９０．８ｍｇ，９７．９％）を得た。
実施例１３の反応スキームを、以下に示す。
実施例１３ 化合物８［ＰＭＯ［ＣＴＣ］］の合成
化合物７［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ］−Ｔｒ］（１６２ｍｇ，０．０７ｍｍｏｌ）に２８％アンモニア水（３．５ｍｌ）とエタノール（１４．０ｍｌ）の混合液を加え、オートクレーブに封入し５５℃にて終夜加熱撹拌した。室温まで冷却し、薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認し、内容物をメタノールおよびジクロロメタンで洗浄しながらメタノール中へ移液した。この混合液を減圧濃縮し、得られた濃縮残渣にメタノール（１４．０ｍｌ）を加えて３０分間スラリー洗浄した。固体をろ別し、ろ過液を濃縮して得られた固体を０．２ｍｏｌ／ｌＫＨ２ＰＯ４水溶液（ｐＨ２．０）に溶解し１５分間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで原料消失を確認した後、２．０ｍｏｌ／ｌ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ１３〜ｐＨ１４に調整し、メンブレンフィルターでろ過し、ろ過液をＨＰＬＣ分析に供したところ、目的物分析標品と一致した。
逆相ＨＰＬＣ分析（Ｃｏｌｕｍｎ＝ＩｎｅｒｔＳｕｓｔａｉｎ Ｃ１８， ５μｍ， ４．６ｘ１５０ｍｍ； Ｓｏｌｖｅｎｔ Ａ＝５０ｍＭ ＴＥＡＡ（ｐＨ７．０）， Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂ＝ＣＨ３ＣＮ； Ｇｒａｄｉｅｎｔ＝０％ ｔｏ ４０％ Ｂ（２０ｍｉｎ）； Ｆｌｏｗ Ｒａｔｅ＝０．７５ｍｌ／ｍｉｎ； Ｔｅｍｐ＝６０℃）： ＲＴ１１．６ｍｉｎ，１１．７ｍｉｎ，１１．８ｍｉｎ，１２．０ｍｉｎ（４異性体混合物）
実施例１４〜１６の反応スキームを以下に示す。
実施例１４ 化合物９［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｇ ｐａｃ −Ｇ ｐａｃ −Ｔ−Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｇ ｐａｃ ］−Ｔｒ］の合成（１回単離／１サイクルの方法）
化合物３［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ］（７８．４ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）から実施例７および１２に記載の方法に従ってトリチル基の脱保護および対応するモノマーのカップリングをワンポットで順次行った。各段階で単離した生成物重量と重量収率を下表に示す。
実施例１５ 化合物９［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｇ ｐａｃ −Ｇ ｐａｃ −Ｔ−Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｇ ｐａｃ ］−Ｔｒ］の合成（２回単離／１サイクル、脱Ｔｒ化剤としてシアノ酢酸を使用する方法）
化合物３［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ］（９４．１ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）から実施例４および９に記載の方法に従ってトリチル基の脱保護を行い、実施例５および１０に記載の方法に従って、対応するモノマーのカップリングを順次行った。各段階で単離した生成物重量と重量収率を下表に示す。
実施例１６ 化合物１０［ＰＭＯ［ＣＣＴＣＣＧＧＴＴＣＴＧ］−Ｔｒ］の合成
実施例１５にて合成した化合物９［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｇｐａｃ−Ｇｐａｃ−Ｔ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｔ−Ｇｐａｃ］−Ｔｒ］（６．０ｍｇ，１．０μｍｏｌ）に２８％アンモニア水／エタノール＝１／３（ｖ／ｖ）（０．２ｍｌ）を加え、オートクレーブに封入し、５５℃で終夜加熱撹拌した。室温へ戻し、メタノールで洗浄しながら濾過して固形物を除去した。ろ過液を濃縮し、化合物１０［ＰＭＯ［ＣＣＴＣＣＧＧＴＴＣＴＧ］−Ｔｒ］の粗生成物（３．３ｍｇ，８０％）を取得した。
逆相ＨＰＬＣ分析（Ｃｏｌｕｍｎ＝ＩｎｅｒｔＳｕｓｔａｉｎ Ｃ１８， ５μｍ， ４．６ｘ１５０ｍｍ； Ｓｏｌｖｅｎｔ Ａ＝５０ｍＭ ＴＥＡＡ（ｐＨ７．０）， Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂ＝ＣＨ３ＣＮ； Ｇｒａｄｉｅｎｔ＝１０％ ｔｏ ７０％ Ｂ（２０ｍｉｎ）； Ｆｌｏｗ Ｒａｔｅ＝０．７５ｍｌ／ｍｉｎ； Ｔｅｍｐ＝６０℃）： ＲＴ１３．１ｍｉｎ
実施例１７および１８の反応スキームを以下に示す。
実施例１７ 化合物１１［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｇ ｐａｃ −Ｇ ｐａｃ −Ｔ−Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｇ ｐａｃ −Ａ ｂｚ −Ａ ｂｚ −Ｇ ｐａｃ −Ｇ ｐａｃ −Ｔ−Ｇ ｐａｃ −Ｔ−Ｔ−Ｃ ｂｚ ］−Ｔｒ］の合成
化合物３［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ］（７８．４ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）から実施例３および８に記載の方法に従ってトリチル基の脱保護を行い、実施例５および１０に記載の方法に従って、対応するモノマーのカップリングを順次行った。各段階で単離した生成物重量と重量収率を下表に示す。
実施例１８ 化合物１２［ＰＭＯ［ＣＣＴＣＣＧＧＴＴＣＴＧＡＡＧＧＴＧＴＴＣ］−Ｔｒ］の合成
化合物１１［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｇｐａｃ−Ｇｐａｃ−Ｔ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｔ−Ｇｐａｃ−Ａｂｚ−Ａｂｚ−Ｇｐａｃ−Ｇｐａｃ−Ｔ−Ｇｐａｃ−Ｔ−Ｔ−Ｃｂｚ］−Ｔｒ］（６ｍｇ，０．６１ｍｍｏｌ）を２８％アンモニア水／エタノール＝１／３（ｖ／ｖ）（２００μｌ）に溶解し、オートクレーブに封入し、５５℃で終夜撹拌した。室温へ戻し、メタノールで洗浄しながら濾過して固形物を除去した。ろ過液を濃縮し、化合物１２［ＰＭＯ［ＣＣＴＣＣＧＧＴＴＣＴＧＡＡＧＧＴＧＴＴＣ］−Ｔｒ］の粗生成物（３．１ｍｇ，７１％）を取得した。
逆相ＨＰＬＣ分析（Ｃｏｌｕｍｎ＝Ｉｎｅｒｔ Ｓｕｓｔａｉｎ Ｃ１８， ５μｍ， ４．６ｘ１５０ｍｍ； Ｓｏｌｖｅｎｔ Ａ＝５０ｍＭ ＴＥＡＡ（ｐＨ７．０）， Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂ＝ＣＨ３ＣＮ； Ｇｒａｄｉｅｎｔ＝１０％ ｔｏ ７０％ Ｂ（２０ｍｉｎ）； Ｆｌｏｗ Ｒａｔｅ＝０．７５ｍｌ／ｍｉｎ； Ｔｅｍｐ＝６０℃）： ＲＴ１２．４ｍｉｎ
陰イオン交換ＨＰＬＣ分析（Ｃｏｌｕｍｎ＝ＤＮＡＰａｃＰＡ−１００， ４．０ｘ２５０ｍｍ； Ｓｏｌｖｅｎｔ Ａ＝１０ｍＭ ＮａＯＨ水溶液， Ｂ＝１Ｍ ＮａＣｌ，１０ｍＭ ＮａＯＨ水溶液； Ｇｒａｄｉｅｎｔ＝ ２０％ ｔｏ １００％ Ｂ（３０ｍｉｎ）； Ｆｌｏｗ Ｒａｔｅ＝１．０ｍｌ／ｍｉｎ； Ｔｅｍｐ＝３５℃）： ＲＴ１０．８ｍｉｎ
ｍ／ｚ ７１６７．５０ ［Ｍ＋Ｈ］＋
実施例１９及び２０の反応スキームを以下に示す。
実施例１９ 化合物１３［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｔ］−Ｔｒ］の合成
化合物３［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ］（５０２ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）から実施例３および８に記載の方法に従ってトリチル基の脱保護を行い、実施例５および１０に記載の方法に従って、対応するモノマーのカップリングを順次行った。グアノシンに対応するモノマーは、Ｏ６位にシアノエチル基を保護基として有するＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｇｃｅ／ｐａｃを用いた。各段階で単離した生成物重量と重量収率を下表に示す。
実施例２０ 化合物１４［ＰＭＯ［ＣＣＴＣＣＧＧＴ］−Ｔｒ］の合成
実施例１９で合成した化合物１３［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｔ］−Ｔｒ］（１９．３ｍｇ，４．２μｍｏｌ）を２８％アンモニア水／エタノール＝１／３（ｖ／ｖ）（２．０ｍｌ）に懸濁させ、オートクレーブに封入して一晩５５℃に加熱撹拌した。室温に冷却した後、ジクロロメタン（１．５ｍｌ）およびメタノール（１．５ｍｌ）を用いてナスフラスコへ移液し、減圧濃縮した。濃縮残渣にメタノール（２．０ｍｌ）を加えて析出した固体をメンブレンフィルターでろ別し、ろ過液を濃縮乾固して化合物１４［ＰＭＯ［ＣＣＴＣＣＧＧＴ］−Ｔｒ］を定量的に得た。
ｍ／ｚ ９２９．２［Ｍ＋３Ｈ］３＋， １３９３．３［Ｍ＋２Ｈ］２＋
実施例２１及び２２の反応スキームを以下に示す。
実施例２１ 化合物１５［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｔ−Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ａ ｂｚ ］−Ｔｒ］の合成
実施例１９で合成した化合物１３［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｔ］−Ｔｒ］（４８７ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１２に記載の方法に従って、トリチル基の脱保護と対応するモノマーとのカップリングを行った。グアノシンに対応するモノマーは、Ｏ６位にシアノエチル基を保護基として有するＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｇｃｅ／ｐａｃを用いた。各段階で単離した生成物重量と重量収率を下表に示す。
実施例２２ 化合物１６［ＰＭＯ［ＣＣＴＣＣＧＧＴＴＣＴＧＡ］−Ｔｒ］の合成
実施例２１で合成した化合物１５［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｔ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｔ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ａｂｚ］−Ｔｒ］（８．６ｍｇ，１．３μｍｏｌ）を２８％アンモニア水／エタノール＝１／３（ｖ／ｖ）（１．０ｍｌ）に懸濁させ、オートクレーブに封入して一晩５５℃に加熱撹拌した。室温に冷却した後、ジクロロメタン（１．０ｍｌ）およびメタノール（１．０ｍｌ）を用いてナスフラスコへ移液し、減圧濃縮した。濃縮残渣にメタノール（１．０ｍｌ）を加えて析出した固体をメンブレンフィルターでろ別し、ろ過液を濃縮乾固して化合物１６［ＰＭＯ［ＣＣＴＣＣＧＧ］−Ｔｒ］を定量的に得た。
ｍ／ｚ １１１４．８［Ｍ＋４Ｈ］４＋， １４８６．０［Ｍ＋３Ｈ］３＋
実施例２３及び２４の反応スキームを以下に示す。
実施例２３ 化合物１７［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ ］−Ｔｒ］の合成
アルゴン雰囲気下、化合物３［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ］（３００ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）に対して、２％ＣＹＴＦＡ，１％エタノール，１０％ＣＦ３ＣＨ２ＯＨを含むジクロロメタン溶液（８．０ｍｌ）を加え、室温で９０分間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認した後、５％Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン，２５％２−プロパノールを含むジクロロメタン溶液（１２．０ｍｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。この溶液を減圧濃縮して得られた濃縮残渣に、アセトニトリル（８．０ｍｌ）を加えて室温で１５分間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、固体をアセトニトリル（８．０ｍｌ）で洗浄した。この固体を真空加熱乾燥し、脱Ｔｒ化された化合物４［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ］（２５４ｍｇ，１００％）を得た。
アルゴン雰囲気下、化合物４［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ］（２４２ｍｇ，０．１８ｍｍｏｌ）に対して、ＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（３８２ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．８ｍｌ）溶液および２５％Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを含む１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン溶液（２．０ｍｌ）を加えて室温で３０分撹拌した。薄層クロマトグラフィーで反応終了を確認した後、モルフォリン（４８μｌ，０．５５ｍｍｏｌ）を加え１０分間撹拌した。その後、この溶液にアセトニトリル（７．３ｍｌ）を加えて減圧濃縮し、得られた濃縮残渣に再度アセトニトリル（７．３ｍｌ）を加えて得られたスラリーを１５分撹拌した。このスラリーをろ過して得られた固体をアセトニトリル（７．３ｍｌ）で洗浄し、減圧加熱乾燥してＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ］−Ｔｒ（３５５ｍｇ，９８％）を得た。
以下同様に、脱トリチル化と対応するモノマーとのカップリングを順次行い、表題化合物１７［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｇｃｅ／ｐａｃ］−Ｔｒ］を得た。各段階で単離した生成物重量と重量収率を下表に示す。
実施例２４ 化合物１８［ＰＭＯ［ＣＣＴＣＣＧＧ］−Ｔｒ］の合成
実施例２３で合成した化合物１７［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｇｃｅ／ｐａｃ］−Ｔｒ］（４ｍｇ，０．９４μｍｏｌ）から実施例２２に記載の方法に従って脱保護および担体からの切出しを行い、化合物１８［ＰＭＯ［ＣＣＴＣＣＧＧ］−Ｔｒ］を得た。
ｍ／ｚ ８１９．３［Ｍ＋３Ｈ］３＋， １２２８．４［Ｍ＋２Ｈ］２＋
実施例２５ ［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ ］］（１ポット伸長）
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ（３９５ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（４ｍｌ）に溶解し、氷浴下にて、ＤＩＥＡ（１．８ｅｑ，０．５４ｍｍｏｌ，５０μｌ）、ＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（１．５ｅｑ，０．４５ｍｍｏｌ，３１２ｍｇ）を３０分間隔で３分割して加え、室温で一晩撹拌した。その後、ＤＩＥＡ（０．１ｅｑ，０．０３ｍｍｏｌ，５μｌ）、ＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（０．１ｅｑ，０．０３ｍｍｏｌ，２１ｍｇ）をそれぞれ３回追加投入し、さらに終夜撹拌を行った。反応終了後、モルフォリン（１．２８ｅｑ，０．３７ｍｍｏｌ，３４μｌ）を加え、１．５時間撹拌し、残留したＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚの消失を確認後、参考例２のＡ液（１６．８ｍｌ）を１０分かけてゆっくりと滴下し、２時間室温で撹拌した。脱Ｔｒ化反応が終了後、氷浴下、ＤＩＥＡ（１４２μｌ，１．０ｅｑ ｖｓ ＴＦＡ）／ジクロロメタン（１ｍｌ）の希釈溶液をゆっくりと添加し、ＭｅＣＮ（５０ｍｌ）を加えて沈澱化した。懸濁液の沈殿物を濾過して、濾物をＭｅＣＮで洗浄し［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ］］を得た（ｗｅｔ．５２６ｍｇ）。
ＴＯＦ−ＭＳ＋（ｍ／ｚ） １７４３．８
実施例２６ ［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｔ］］の合成（縮合３および１ポット伸長）
［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ］］を湿晶のまま（ｗｅｔ．５２６ｍｇ）ジクロロメタン（１０ｍｌ）に溶解し氷浴下にて、ＤＩＥＡ（０．５４ｍｍｏｌ，５０μｌ）、ＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｔ（０．４５ｍｍｏｌ，２７２ｍｇ）を３０分間隔で３分割して加えた。室温で一晩撹拌した。その後、ＤＩＥＡ（０．０３ｍｍｏｌ，３μｌ）、ＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｔ（０．０３ｍｍｏｌ，１７ｍｇ）を２回追加投入し、室温で４時間撹拌を行った。反応終了後、モルフォリン（０．５ｅｑ，０．１４ｍｍｏｌ，２１μｌ）を常温で加え、３時間撹拌した。氷浴下にて参考例２のＡ液（３０ｍｌ）を、１５分かけてゆっくりと滴下し、滴下終了後、４時間室温で撹拌した。反応終了後、氷浴下でＤＩＥＡ（７７μｌ）／ジクロロメタン（１ｍｌ）の希釈溶液をゆっくりと添加し、その後、ＭｅＣＮ（５０ｍｌ）を加え、白色スラリー液とした。この液を２５ｍｌ減圧留去し、ＭｅＣＮ（２０ｍｌ）を加えて、スラリーを１５分間撹拌した後にろ過を行った。得た結晶をＭｅＣＮ（３０ｍｌ）で再度洗浄し減圧乾燥させ収率９５％にて［ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｔ］］を得た（ｖｓ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ）。
ＴＯＦ−ＭＳ＋（ｍ／ｚ） ２０７３．４
比較例１ モルフォリンによる過剰モノマーのクエンチの品質へ与える影響評価
実施例１４で記載の合成途上で得られる２ｍｅｒから５ｍｅｒの中間体について、実施例１４記載の方法によって脱保護および担体からの切出しを行い、質量分析（ＬＣ−ＭＳ）にて不純物解析を実施した。同様に、実施例２３に記載の合成途上で得られた２ｍｅｒから７ｍｅｒの中間体についても同様に脱保護と担体からの切出しを行い、質量分析（ＬＣ−ＭＳ）にて不純物解析を実施した。それぞれの分析結果を比較し、モルフォリンを用いて過剰モノマーをクエンチした実施例２３に記載の方法では、ｎ＋１ｍｅｒなどの過剰に伸長した不純物は副生していないことが分かった。
実施例２７ ＤＰＭ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃ ｂｚ の合成
α，α−ジ−４，４’−ドコシルオキシフェニルメチルアミン（１．０ｇ，１．２０ｍｍｏｌ）をクロロホルム（２０ｍＬ）に溶解し、ＨＯＢｔ（１６２．３ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）、ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（９６９．８ｍｇ，１．４４ｍｍｏｌ）およびＥＤＣ・ＨＣｌ（１５２．０ｍｇ，０．７９ｍｍｏｌ）を加えて室温で２０分間撹拌した。その後、この反応液にＥＤＣ・ＨＣｌ（１５２．０ｍｇ，０．７９ｍｍｏｌ）を再度加えて、室温で２４時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣にアセトニトリル（１０ｍＬ）を加え、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（１０ｍＬ） で再度洗浄し、減圧乾燥してＤＰＭ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚを得た（１．７０ｇ、収率９６％）。
ＴＯＦ−ＭＳ＋ （ｍ／ｚ） １４８６．９
実施例２８及び２９の反応スキームを以下に示す。
実施例２８ ＤＰＭ−ｓｕｃ−ｍｏＣ ｂｚ の合成
ＤＰＭ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（１．６９ｇ，１．１３ｍｍｏｌ）をクロロホルム（１６．９ｍＬ）に溶解して氷冷し、２，２，２−トリフルオロエタノール（４．３ｍＬ） およびエタノール（０．５２ｇ，１１．３ｍｍｏｌ）を投入した後、トリフルオロ酢酸（１．０３ｇ，９．０７ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．５７ｇ，５．６７ｍｍｏｌ）のクロロホルム（７．０ｍＬ）溶液を滴下し、１５℃で１時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を氷冷し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．５９ｇ，４．５４ｍｍｏｌ）のクロロホルム（６ｍＬ）溶液を滴下した。反応液にアセトニトリル（１６．９ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られた残渣にアセトニトリル（１６．９ｍＬ）を加え、０℃で３０分間撹拌した後、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（１６．９ｍＬ）で再度洗浄して、ＤＰＭ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚを得た。この結晶は乾燥することなくそのまま次の反応の原料として使用した。
ＴＯＦ−ＭＳ＋ （ｍ／ｚ） １２４４．９
実施例２９ ＤＰＭ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ ］−Ｔｒの合成
ＤＰＭ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ湿結晶（３．３３ｇ，１．１３ｍｍｏｌ相当）をクロロホルム（９．８ｍＬ）に溶解し、シクロヘキサン（４．２ｍＬ）を加えた。Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン （０．２６ｇ，２．０３ｍｍｏｌ）およびＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（１．１８ｇ，１．６９ｍｍｏｌ）を投入し、４０℃で２１時間加熱撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を室温に冷却し、モルフォリン（０．２０ｇ，２．２５ｍｍｏｌ）を投入して室温で１時間撹拌した。反応液にアセトニトリル（１４ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られたスラリーを０℃で３０分間撹拌した後、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（１４ｍＬ）で再度洗浄し、減圧乾燥してＤＰＭ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ］−Ｔｒを得た（１．９６ｇ、収率９１％）。
ＴＯＦ−ＭＳ＋ （ｍ／ｚ） １９０６．３
実施例３０ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ ］−ＭＭＴｒの合成
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（１．０ｇ，０．６４ｍｍｏｌ）をクロロホルム（１０ｍＬ）に溶解して氷冷し、２，２，２−トリフルオロエタノール（２．８ｍＬ）およびエタノール（０．２９ｇ，６．４ｍｍｏｌ）を投入した後、トリフルオロ酢酸（０．２９ｇ，２．５５ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．１４ｇ，１．２７ｍｍｏｌ）のクロロホルム（４．５ｍＬ）溶液を滴下し、室温で２時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、この反応液を氷冷し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．３３ｇ，２．５５ｍｍｏｌ）のクロロホルム（３ｍＬ）溶液を滴下した。反応液にアセトニトリル（３０ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られた残渣にアセトニトリル（２０ｍＬ）を加え、０℃で３０分間撹拌した後、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（２０ｍＬ）で再度洗浄してＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚを得た。この結晶は乾燥することなくそのまま次の反応の原料として使用した。
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ湿結晶（１．３９ｇ，０．６４ｍｍｏｌ相当）をクロロホルム（１０ｍＬ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン （０．１５ｇ，１．１５ｍｍｏｌ）およびＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（ＭＭＴｒ）Ｃｂｚ（６９５ｍｇ，０．９６ｍｍｏｌ）を投入し、室温で１７時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、得られた溶液にアセトニトリル（２０ｍＬ）を加え、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（２０ｍＬ）で再度洗浄し、減圧乾燥してＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ］−ＭＭＴｒを得た（１．１９ｇ、収率９２％）。
ＴＯＦ−ＭＳ＋ （ｍ／ｚ） ２０１７．３
実施例３１ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｔ］の合成（伸長−２）
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ（４．３ｇ，３．２３ｍｍｏｌ）をクロロホルム（３３ｍＬ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．７３ｇ，５．８１ｍｍｏｌ）およびＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｔ（２．９５ｇ，４．８５ｍｍｏｌ）を投入し、室温で１９時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を室温に冷却し、モルフォリン（０．２８ｇ，３．２３ｍｍｏｌ）を投入して室温で１時間撹拌した。反応液を氷冷し、２，２，２−トリフルオロエタノール（１３．１ｍＬ）およびエタノール（１．４９ｇ，３２．３ｍｍｏｌ）を投入した後、トリフルオロ酢酸（２．９５ｇ，２５．８ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（１．２１ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）のクロロホルム（９．９ｍＬ）溶液を滴下し、１５℃で１．５時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を氷冷し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（３．２６ｇ，２５．８ｍｍｏｌ）のクロロホルム（４．５ｍＬ）溶液を滴下した。反応液にアセトニトリル（８６ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られたスラリーを０℃で３０分間撹拌した後、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（４３ｍＬ）で再度洗浄してＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］を得た。この結晶は乾燥することなくそのまま次の反応の原料として使用した。
実施例３２ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ ］の合成（伸長−３）
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］湿結晶（５．７ｇ，３．２０ｍｍｏｌ相当）をクロロホルム（４３ｍＬ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．７３ｇ，２５．６ｍｍｏｌ）およびＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（３．３５ｇ，４．８ｍｍｏｌ）を投入し、室温で１６時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を室温に冷却し、モルフォリン（０．２８ｇ，３．２０ｍｍｏｌ）を投入して室温で１時間撹拌した。反応液を氷冷し、２，２，２−トリフルオロエタノール（１３．０ｍＬ）およびエタノール（１．４８ｇ，３２．０ｍｍｏｌ）を投入した後、トリフルオロ酢酸（２．９２ｇ，２５．６ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（１．２０ｇ，１１．８ｍｍｏｌ）のクロロホルム（９．８ｍＬ）溶液を滴下し、１５℃で１．５時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を氷冷し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（３．２３ｇ，２５．６ｍｍｏｌ）のクロロホルム（４．５ｍＬ）溶液を滴下した。反応液にアセトニトリル（１０６ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られたスラリーを０℃で１５分間撹拌した後、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（５３ｍＬ）で再度洗浄してＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ］を得た。この結晶は乾燥することなくそのまま次の反応の原料として使用した。
実施例３３ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｔ］の合成（塩化リチウム添加系、伸長−２）
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ湿結晶（４．９ｇ，３．０８ｍｍｏｌ相当）をクロロホルム（３４．９ｍＬ）に溶解し、塩化リチウム（１４３ｍｇ，３．３８ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．７２ｇ，５．５４ｍｍｏｌ）およびＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｔ（２．８１ｇ，４．６１ｍｍｏｌ）を投入し、４０℃で１６時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を室温に冷却し、モルフォリン（０．３２ｇ，３．６９ｍｍｏｌ）を投入して室温で１時間撹拌した。反応液を氷冷し、２，２，２−トリフルオロエタノール（１２．５ｍＬ）およびエタノール（１．４１ｇ，３０．８ｍｍｏｌ）を投入した後、トリフルオロ酢酸（１．７５ｇ，１５．４ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．４９ｇ，４．８６ｍｍｏｌ）のクロロホルム（５．９ｍＬ）溶液を滴下し、室温で１時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を氷冷し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（２．０ｇ，１５．４ｍｍｏｌ）のクロロホルム（２．７ｍＬ）溶液を滴下した。反応液にアセトニトリル（８２ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られたスラリーを０℃で３０分間撹拌した後、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（４１ｍＬ）で再度洗浄してＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］を得た。この結晶は乾燥することなくそのまま次の反応の原料として使用した。
実施例３４ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ ］の合成（塩化リチウム添加系、伸長−３）
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］湿結晶（５．５ｇ，３．０５ｍｍｏｌ相当）をクロロホルム（４４．６ｍＬ）に溶解し、塩化リチウム（１４２ｍｇ，３．３６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．７１ｇ，５．４９ｍｍｏｌ）およびＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（３．１９ｇ，４．５８ｍｍｏｌ）を投入し、４０℃で１６時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を室温に冷却し、モルフォリン（０．２６ｇ，３．０５ｍｍｏｌ）を投入して室温で１時間撹拌した。反応液を氷冷し、２，２，２−トリフルオロエタノール（１２．４ｍＬ）およびエタノール（１．４１ｇ，３０．５ｍｍｏｌ）を投入した後、トリフルオロ酢酸（１．７４ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．５２ｇ，５．１９ｍｍｏｌ）のクロロホルム（５．８ｍＬ）溶液を滴下し、室温で１時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を氷冷し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１．９７ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）のクロロホルム（２．７ｍＬ）溶液を滴下した。反応液にアセトニトリル（１００ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られたスラリーを０℃で１５分間撹拌した後、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（５０ｍＬ）で再度洗浄し、減圧乾燥してＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ］を得た（６．７４ｇ、収率１０６％）。
実施例３５ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｔ］の合成（塩化リチウムおよび無水酢酸添加系、伸長−２）
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ（４．３ｇ，３．２３ｍｍｏｌ）をクロロホルム（４２．８ｍＬ）に溶解し、塩化リチウム（１５０ｍｇ，３．５５ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．７３ｇ，５．８１ｍｍｏｌ）およびＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｔ（２．９５ｇ，４．８５ｍｍｏｌ）を投入し、室温で１５時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を室温に冷却し、無水酢酸（０．０３ｍＬ，０．３２ｍｍｏｌ）および２，６−ルチジン（０．１９ｍＬ，１．６２ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間撹拌した。反応液にモルフォリン（０．２８ｇ，３．２３ｍｍｏｌ）を投入して室温で１時間撹拌した。反応液を氷冷し、インドール（３．７８ｇ，３２．３ｍｍｏｌ）を投入した後、トリフルオロ酢酸（２．８６ｇ，２５．８ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１９．２ｍＬ）溶液を滴下し、室温で１．５時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を氷冷し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（３．２５ｇ，２５．８ｍｍｏｌ）のクロロホルム（４．５ｍＬ）溶液を滴下した。反応液にアセトニトリル（８６ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られたスラリーを０℃で１５分間撹拌した後、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（４３ｍＬ）で再度洗浄してＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］を得た。この結晶は乾燥することなくそのまま次の反応の原料として使用した。
実施例３６ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ ］の合成（塩化リチウムおよび無水酢酸添加系、伸長−３）
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ］湿結晶（６．５ｇ，３．２３ｍｍｏｌ相当）をクロロホルム（５３．４ｍＬ）に溶解し、塩化リチウム（１５０ｍｇ，３．３６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．７３ｇ，５．８１ｍｍｏｌ）およびＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（３．３８ｇ，４．８５ｍｍｏｌ）を投入し、室温で４０時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を室温に冷却し、無水酢酸（０．０３ｍＬ，０．３２ｍｍｏｌ）および２，６−ルチジン（０．１５ｍＬ，１．２９ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間撹拌した。反応液にモルフォリン（０．２８ｇ，３．２３ｍｍｏｌ）を投入して室温で１時間撹拌した。反応液を氷冷し、インドール（３．７８ｇ，３２．３ｍｍｏｌ）を投入した後、トリフルオロ酢酸（２．８６ｇ，２５．８ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１９．２ｍＬ）溶液を滴下し、室温で１．５時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を氷冷し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（３．２５ｇ，２５．８ｍｍｏｌ）のクロロホルム（４．５ｍＬ）溶液を滴下した。反応液にアセトニトリル（１０７ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られたスラリーを０℃で１５分間撹拌した後、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（５３ｍＬ）で再度洗浄し、減圧乾燥してＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ］を得た。この結晶は乾燥することなくそのまま次の反応の原料として使用した。
実施例３７ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ ］の合成（伸長−２）
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ湿結晶（１６．１ｇ，３．２ｍｍｏｌ相当）をクロロホルム（４２ｍＬ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン （０．７４ｇ，５．７６ｍｍｏｌ）およびＣｌＰＯＮＭｅ２ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（３．３５ｇ，４．８０ｍｍｏｌ）を投入し、室温で１５時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を室温に冷却し、モルホリン（０．２８ｇ，３．２ｍｍｏｌ）を投入して室温で１時間撹拌した。反応液を氷冷し、２，２，２−トリフルオロエタノール（１４．１ｍＬ）およびエタノール（１．５ｇ，３２．０ｍｍｏｌ）を投入した後、トリフルオロ酢酸（２．９２ｇ，２５．６ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（１．１３ｇ，１１．２ｍｍｏｌ）のクロロホルム（４０ｍＬ）溶液を滴下し、１５℃で３０分間撹拌した。反応液に２，２，２−トリフルオロエタノール（３．５ｍＬ）を追加し、さらに１５℃で１時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を氷冷し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン （３．３１ｇ，２５．６ｍｍｏｌ）のクロロホルム（３０ｍＬ）溶液を滴下した。反応液にアセトニトリル（７５ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られた残渣にアセトニトリル（２５ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した後、アセトニトリル（１００ｍＬ）を加えた。得られたスラリーを０℃で３０分間撹拌した後、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（１００ｍＬ）で再度洗浄し、減圧乾燥してＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ］を得た（５．４ｇ、収率９６．６％対ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏＣｂｚ）。
実施例３８ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｔ］の合成（伸長−３）
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ］（５．４ｇ，３．０９ｍｍｏｌ）をクロロホルム（５４ｍＬ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン （０．７２ｇ，５．５６ｍｍｏｌ）およびＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｔ（２．８２ｇ，４．６４ｍｍｏｌ）を投入し、室温で２３時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を室温に冷却し、モルフォリン（０．２７ｇ，３．０９ｍｍｏｌ）を投入して室温で１時間撹拌した。反応液を氷冷し、２，２，２−トリフルオロエタノール（１７ｍＬ）およびエタノール（１．４２ｇ，３０．９ｍｍｏｌ）を投入した後、トリフルオロ酢酸（２．８２ｇ，２４．７ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（１．１６ｇ，１１．４ｍｍｏｌ）のクロロホルム（３９ｍＬ）溶液を滴下し、１５℃で１．５時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を氷冷し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（３．１９ｇ，２４．７ｍｍｏｌ）のクロロホルム（３０ｍＬ）溶液を滴下した。反応液にアセトニトリル（１６０ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られた残渣にアセトニトリル（８０ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した後、アセトニトリル（１００ｍＬ）を加えた。得られたスラリーを０℃で３０分間撹拌した後、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（１００ｍＬ）で再度洗浄し、減圧乾燥してＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｔ］を得た。この結晶は乾燥することなくそのまま次の反応の原料として使用した。
実施例３９ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｔ−Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ａ ｂｚ −Ａ ｂｚ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｔ−Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｔ−Ｔ−Ｃ ｂｚ ］−Ｔｒの合成（結果一覧）
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（５．０ｇ，３．２ｍｍｏｌ）から実施例３７および３８に記載の方法に従って、対応するモノマーのカップリングおよびトリチル基の脱保護をワンポットで順次行った。各段階での工程収率を下表に示す。なお、数値のない鎖長の生成物は、乾燥せずに次工程で使用した。
実施例４０ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｔ−Ｔ−Ｃ ｂｚ ］の合成（塩化リチウム添加系、伸長−１０）
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｔ−Ｔ］湿結晶（１２．９ｇ，２．３７ｍｍｏｌ相当）をクロロホルム（１００ｍＬ）に溶解し、塩化リチウム（１５０ｍｇ，３．５６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．５３ｇ，４．２７ｍｍｏｌ）およびＣｌＰＯＮＭｅ２ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（２．４８ｇ，３．５６ｍｍｏｌ）を投入し、室温で３３時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を室温に冷却し、モルフォリン（０．７８ｇ，９．０ｍｍｏｌ）を投入して室温で１時間撹拌した。反応液を氷冷し、２，２，２−トリフルオロエタノール（１０．２ｍＬ）およびエタノール（１．１ｇ，２３．７ｍｍｏｌ）を投入した後、トリフルオロ酢酸（１．８９ｇ，１６．６ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１０ｍＬ）溶液を滴下し、室温で２時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を氷冷し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（２．０７ｇ，１６．０ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１０ｍＬ）溶液を滴下した。反応液にアセトニトリル（２００ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られた残渣にアセトニトリル（１００ｍＬ）を加えた。得られたスラリーを０℃で３０分間撹拌した後、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（１００ｍＬ）で再度洗浄してＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｔ−Ｔ−Ｃｂｚ］を得た。この結晶は乾燥することなくそのまま次の反応の原料として使用した。
実施例４１ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｔ−Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｔ］の合成（塩化リチウム添加系、伸長−１１）
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｔ−Ｔ−Ｃｂｚ］湿結晶（１２．６ｇ，２．３７ｍｍｏｌ）をクロロホルム（１１０ｍＬ）に溶解し、塩化リチウム（１５０ｍｇ，３．５６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．５３ｇ，４．２７ｍｍｏｌ）およびＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｔ（２．１７ｇ，３．５６ｍｍｏｌ）を投入し、室温で１９時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を室温に冷却し、モルフォリン（０．７８ｇ，９．０１ｍｍｏｌ）を投入して室温で１時間撹拌した。反応液を氷冷し、２，２，２−トリフルオロエタノール（１０．２ｍＬ）およびエタノール（１．０９ｇ，２３．７ｍｍｏｌ）を投入した後、トリフルオロ酢酸（１．８９ｇ，１６．６ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１０ｍＬ）溶液を滴下し、室温で２時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を氷冷し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（２．０７ｇ，１６．０ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１０ｍＬ）溶液を滴下した。反応液にアセトニトリル（１５０ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られた残渣にアセトニトリル（２００ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した後、アセトニトリル（５０ｍＬ）を加えた。得られたスラリーを０℃で３０分間撹拌した後、沈殿物をろ取した。得られた結晶をアセトニトリル（１００ｍＬ）で再度洗浄し、減圧乾燥してＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｃｂｚ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｇｃｅ／ｐａｃ−Ｔ−Ｔ−Ｃｂｚ−Ｔ］を得た。この結晶は乾燥することなくそのまま次の反応の原料として使用した。
実施例４２ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ＰＭＯ［Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｃ ｂｚ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｔ−Ｔ−Ｃ ｂｚ −Ｔ−Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ａ ｂｚ −Ａ ｂｚ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｔ−Ｇ ｃｅ／ｐａｃ −Ｔ−Ｔ−Ｃ ｂｚ ］−Ｔｒの合成（結果一覧）
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（５．０ｇ，３．２ｍｍｏｌ）から実施例３７、３８、４０および４１に記載の方法に従って、対応するモノマーのカップリングおよびトリチル基の脱保護をワンポットで順次行った。各段階での工程収率を下表に示す。なお、数値のない鎖長の生成物は、乾燥せずに次工程で使用した。
実施例４３、４４及び４５の反応スキームを以下に示す。
実施例４３ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｔｅｇ−Ｔｒの合成
３，４，５−トリ（オクタデシル）ベンジルアルコール（９１．４ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）をクロロホルム（１．０ｍＬ）に溶解し、ｓｕｃ−ｔｅｇ−Ｔｒ（７２．６ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ・ＨＣｌ（２３．０ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（１．２ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）を加えて、室温で６５時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、アセトニトリル（２ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られた残渣にアセトニトリル（４ｍＬ）を加え、沈殿物をろ取し、減圧乾燥してＴＯＢ−ｓｕｃ−ｔｅｇ−Ｔｒを得た（１４０ｍｇ、収率９３％）。
ＴＯＦ−ＭＳ＋ （ｍ／ｚ） １５０１．０
実施例４４ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｔｅｇ−Ｈの合成
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｔｅｇ−Ｔｒ（１３９ｍｇ，０．０９ｍｍｏｌ）をクロロホルム（１．４ｍＬ）に溶解して氷冷し、２，２，２−トリフルオロエタノール（０．４ｍＬ）およびエタノール（４２．８ｇ，０．９３ｍｍｏｌ）を投入した後、トリフルオロ酢酸（８２．７ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（４７．４ｍｇ，０．４７ｍｍｏｌ）のクロロホルム（０．５ｍＬ）溶液を滴下し、室温で２時間撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を氷冷し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（９７ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）のクロロホルム（０．５ｍＬ）溶液を滴下した。反応液にアセトニトリル（５ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られた残渣にアセトニトリル（４ｍＬ）を加え、０℃で３０分間撹拌した後、沈殿物をろ取してＴＯＢ−ｓｕｃ−ｔｅｇ−Ｈを得た。この結晶は乾燥することなくそのまま次の反応の原料として使用した。
ＴＯＦ−ＭＳ＋ （ｍ／ｚ） １２５７．９
実施例４５ ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｔｅｇ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃ ｂｚ の合成
ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｔｅｇ−Ｈ湿結晶（１６８ｍｇ，０．０９ｍｍｏｌ相当）をクロロホルム（１．２ｍＬ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（２０．７ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）およびＣｌＰＯＮＭｅ２−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚ（９２．８ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）を投入し、室温で１３時間加熱撹拌した。反応終了をＵＨＰＬＣで確認した後、反応液を室温に冷却し、モルフォリン（１１．３ｍｇ，０．０９ｍｍｏｌ）を投入して室温で１時間撹拌した。反応液にアセトニトリル（２．４ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。得られた残渣にアセトニトリル（３ｍＬ）を加え、０℃で３０分間撹拌した後、沈殿物をろ取し、減圧乾燥してＴＯＢ−ｓｕｃ−ｔｅｇ−ｍｏ（Ｔｒ）Ｃｂｚを得た（１４８ｍｇ、収率８６％、対ＴＯＢ−ｓｕｃ−ｔｅｇ−Ｔｒ）。
ＴＯＦ−ＭＳ＋ （ｍ／ｚ） １９１９．０
本発明の５’位水酸基又は５’位水酸基の置換基上に存在する水酸基が特定の保護基で保護されたモルフォリノヌクレオチドにより、液相合成法において効率的かつ高収率にモルフォリノオリゴヌクレオチドを製造できる方法を提供できるようになった。
本出願は、日本で出願された特願２０１３−１１０３５８を基礎としており、その内容は本明細書にすべて包含されるものである。

Claims (19)

  1. 一般式（Ｉ）：

    ［式中、
    ｍは、０以上の任意の整数を示し、
    ｍ＋１個のＢａｓｅは、独立してそれぞれ核酸塩基または修飾核酸塩基を示し、
    前記核酸塩基は、ピリミジン塩基またはプリン塩基であり、
    前記修飾核酸塩基は、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシ基、シアノ基およびニトロ基からなる群から選ばれる１〜３個の置換基で置換されている前記核酸塩基であり、
    前記核酸塩基または前記修飾核酸塩基のアミノ基は、ピバロイル基、ピバロイロキシメチル基、トリフルオロアセチル基、フェノキシアセチル基、４−イソプロピルフェノキシアセチル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシアセチル基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、ジメチルホルムアミジニル基、または９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基で保護されていてもよく、
    前記核酸塩基または前記修飾核酸塩基のカルボニル基は、フェノール、２，５−ジクロロフェノール、３−クロロフェノール、３，５−ジクロロフェノール、２−ホルミルフェノール、２−ナフトール、４−メトキシフェノール、４−クロロフェノール、２−ニトロフェノール、４−ニトロフェノール、４−アセチルアミノフェノール、ペンタフルオロフェノール、４−ピバロイロキシベンジルアルコール、４−ニトロフェネチルアルコール、２−（メチルスルフォニル）エタノール、２−（フェニルスルフォニル）エタノール、２−シアノエタノール、２−（トリメチルシリル）エタノール、ジメチルカルバミン酸クロライド、ジエチルカルバミン酸クロライド、エチルフェニルカルバミン酸クロライド、１−ピロリジンカルボン酸クロライド、４−モルホリンカルボン酸クロライド、またはジフェニルカルバミン酸クロライドと反応することによって保護されていてもよく、
    Ｐ１は、水素原子、またはトリチル基、９−（９−フェニル）キサンテニル基、９−フェニルチオキサンテニル基、１，１−ビス（４−メトキシフェニル）−１−フェニルメチル基、ジ（Ｃ１−６アルコキシ）トリチル基、１−（４−メトキシフェニル）−１，１−ジフェニルメチル基及びモノ（Ｃ１−１８アルコキシ）トリチル基からなる群より選択される一時保護基を示し、
    ｍ個のＸは、独立してそれぞれＣ１−６アルコキシ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、または４位窒素原子がアシル基で保護され、さらに置換されていてもよいピペラジノ基を示し、
    ｍ個のＷは、独立してそれぞれ酸素原子又は硫黄原子を示し、
    Ｓ１は、単結合、または＊Ｏ−Ｓ２＊＊（式中、＊は、Ｌとの結合位置を示し、＊＊は５’位水酸基との結合位置を示し、Ｓ２は、アルキル基、アラルキル基、アシル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基及びアルコキシカルボニル基からなる群より選択される炭化水素基上の水素原子を除去して形成される２価の基、または

    で表される基から水酸基を除去して形成される２価の基である、主鎖が原子数１ないし２０のスペーサーを示す。）で表される基を示し、
    Ｌは、単結合、または式（ａ１）：

    ［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
    ＊＊は、Ｓ１との結合位置を示し；
    Ｌ１は、置換されていてもよい２価のＣ１−２２炭化水素基を示し；かつ
    Ｌ２は、Ｃ（＝Ｏ）を示すか、または＊＊＊Ｎ（Ｒ３）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ２）Ｃ（＝Ｏ）＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｙとの結合位置を示し、Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子もしくは置換されていてもよいＣ１−２２アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基を示す。］で示される基を示し、
    Ｙは、単結合、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示し、ならびに
    Ｚは、式（ａ２）：

    ［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
    Ｒ４は、水素原子を示すか、あるいはＲｂが、下記式（ａ３）で表される基である場合には、Ｒ６と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ｂと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；
    ｋ個のＱは、独立してそれぞれ単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−を示し；
    ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ炭素数１０〜４０のアルキル基、炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を１〜３個有するベンジル基、または炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を１〜３個有するシクロヘキシル基を示し；
    ｋは、１〜４の整数を示し；
    環Ａは、ｋ個のＱＲ５に加えて、更にハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよく；
    Ｒａは、水素原子を示し；
    Ｒｂは、水素原子、または式（ａ３）：

    （式中、＊は、結合位置を示し；
    ｊは、０〜４の整数を示し；
    ｊ個のＱは、前記と同意義を示し；
    ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれ炭素数１０〜４０のアルキル基を示し；
    Ｒ６は、水素原子を示すか、またはＲ４と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ａと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；かつ
    環Ｂは、ｊ個のＱＲ７に加えて、更にハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよい。）で表される基を示し、あるいは
    Ｒａ及びＲｂは一緒になって、酸素原子を形成する。］で表される基を示す。］
    で示されるモルフォリノヌクレオチド。
  2. ｍが０である、請求項１に記載のモルフォリノヌクレオチド。
  3. 一般式（Ｉ）中のＬが、スクシニル基であり、かつ
    Ｒ５が、炭素原子数１０〜４０のアルキル基である、請求項１または２に記載のモルフォリノヌクレオチド。
  4. 一般式（Ｉ）中のＬが、スクシニル基であり、かつ
    ＲａおよびＲｂが、共に水素原子であり、かつＲ５が、炭素原子数１０〜４０のアルキル基である、請求項１または２に記載のモルフォリノヌクレオチド。
  5. 一般式（Ｉ）中のＬが、スクシニル基であり、かつ
    Ｒ５および／またはＲ７が、炭素原子数１２〜３０のアルキル基である、請求項１または２に記載のモルフォリノヌクレオチド。
  6. 一般式（Ｉ）中のＬが、スクシニル基であり、かつ
    Ｚ−Ｙ−が、３，４，５−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ基、
    ３，５−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルオキシ基、
    ３，５−ビス［３’，４’，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルオキシ基、
    ３，４，５−トリス［３’，４’，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルオキシ基、
    ３，４，５−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルアミノ基、
    ２，４−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルアミノ基、
    ３，５−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルアミノ基、
    ジ（４−ドコシルオキシフェニル）メチルアミノ基、
    ４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルアミノ基、
    ４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリ（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアミノ基、
    ２，４−ジ（ドデシルオキシ）ベンジルアミノ基、
    フェニル（２，３，４−トリ（オクタデシルオキシ）フェニル）メチルアミノ基、
    ジ［４−（１２−ドコシルオキシドデシルオキシ）フェニル］メチルアミノ基、
    ３，５−ビス［３’，４’，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルアミノ基、および
    ３，４，５−トリス［３’，４’，５’−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルアミノ基
    からなる群より選択される基である、請求項１または２に記載のモルフォリノヌクレオチド。
  7. Ｚ−Ｙ−Ｌ−が、
    ２−{２，４−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
    ３，５−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；
    ４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；
    ２−{１−［（２−クロロ−５−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル）］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
    ３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；
    ２−{３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
    ２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
    ２−{２−［３’，４’，５’−トリ（２’’，３’’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルオキシ］−４−メトキシベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
    ２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メトキシベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
    ４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルスクシニル基；
    ２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
    ４−［２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイルアミノ］ベンジルスクシニル基；
    ２−{４−［２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイルアミノ］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
    ４−（３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ）ベンジルスクシニル基；
    ２−｛４−（３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
    ２−{３，５−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
    ２−{１−［２，３，４−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
    ２−{１−［４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル］−４’−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；
    ３，４，５−トリス［３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］ベンジルスクシニル基；および
    ２−{３，４，５−トリス［３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基からなる群から選択される、
    請求項１または２に記載のモルフォリノヌクレオチド。
  8. Ｐ１が、トリチル基、モノメトキシトリチル基、またはジメトキシトリチル基である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のモルフォリノヌクレオチド。
  9. （２）５’位水酸基が活性化（チオ）ホスフェート化又は活性化（チオ）ホスホルアミダート化され、かつモルフォリン環窒素原子がトリチル基、９−（９−フェニル）キサンテニル基、９−フェニルチオキサンテニル基、１，１−ビス（４−メトキシフェニル）−１−フェニルメチル基、ジ（Ｃ１−６アルコキシ）トリチル基、１−（４−メトキシフェニル）−１，１−ジフェニルメチル基及びモノ（Ｃ１−１８アルコキシ）トリチル基からなる群より選択される一時保護基で保護されたｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｐは、１以上の任意の整数を示す。）を、５’位水酸基又は５’位水酸基が水酸基を有する置換基を有する場合は該置換基上に存在する水酸基が式：

    [式中、
    Ｓ１は、単結合、または＊Ｏ−Ｓ２＊＊（式中、＊は、Ｌとの結合位置を示し、＊＊は５’位水酸基との結合位置を示し、Ｓ２は、アルキル基、アラルキル基、アシル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基及びアルコキシカルボニル基からなる群より選択される炭化水素基上の水素原子を除去して形成される２価の基、または

    で表される基から水酸基を除去して形成される２価の基である、主鎖が原子数１ないし２０のスペーサーを示す。）で表される基を示し；
    Ｌは、単結合、または式（ａ１）：

    ［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
    ＊＊は、Ｓ１との結合位置を示し；
    Ｌ１は、置換されていてもよい２価のＣ１−２２炭化水素基を示し；かつ
    Ｌ２は、Ｃ（＝Ｏ）を示すか、または＊＊＊Ｎ（Ｒ３）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ２）Ｃ（＝Ｏ）＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｙとの結合位置を示し、Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子もしくは置換されていてもよいＣ１−２２アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基を示す。］で示される基を示し、
    Ｙは、単結合、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示し、ならびに
    Ｚは、式（ａ２）：

    ［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
    Ｒ４は、水素原子を示すか、あるいはＲｂが、下記式（ａ３）で表される基である場合には、Ｒ６と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ｂと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；
    ｋ個のＱは、独立してそれぞれ単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−を示し；
    ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ炭素数１０〜４０のアルキル基、炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を１〜３個有するベンジル基、または炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を１〜３個有するシクロヘキシル基を示し；
    ｋは、１〜４の整数を示し；
    環Ａは、ｋ個のＱＲ５に加えて、更にハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよく；
    Ｒａは、水素原子を示し；
    Ｒｂは、水素原子、または式（ａ３）：

    （式中、＊は、結合位置を示し；
    ｊは、０〜４の整数を示し；
    ｊ個のＱは、前記と同意義を示し；
    ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれ炭素数１０〜４０のアルキル基を示し；
    Ｒ６は、水素原子を示すか、またはＲ４と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ａと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；かつ
    環Ｂは、ｊ個のＱＲ７に加えて、更にハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよい。）で表される基を示し、あるいは
    Ｒａ及びＲｂは一緒になって、酸素原子を形成する。］で表される基を示す。]で表される基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子が保護されていないｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチド（ｎは、１以上の任意の整数を示す。）と、そのモルフォリン環窒素原子を介して（チオ）ホスホルアミダート結合又は（チオ）ホスホロジアミダート結合により縮合させる工程を含む、ｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドの製造方法。
  10. ｐが１である、請求項９に記載の製造方法。
  11. 反応終了後、反応混合物をクエンチ剤で処理する、請求項９または１０記載の製造方法。
  12. 更に、下記工程（１）を含有する、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の製造方法。
    （１）縮合工程（２）の前に、非極性溶媒中において、５’位水酸基又は５’位水酸基が置換基を有する場合は該置換基上に存在する水酸基が式：

    [式中、
    Ｓ１は、単結合、または＊Ｏ−Ｓ２＊＊（式中、＊は、Ｌとの結合位置を示し、＊＊は５’位水酸基との結合位置を示し、Ｓ２は、アルキル基、アラルキル基、アシル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基及びアルコキシカルボニル基からなる群より選択される炭化水素基上の水素原子を除去して形成される２価の基、または

    で表される基から水酸基を除去して形成される２価の基である、主鎖が原子数１ないし２０のスペーサーを示す。）で表される基を示し；
    Ｌは、単結合、または式（ａ１）：

    ［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
    ＊＊は、Ｓ１との結合位置を示し；
    Ｌ１は、置換されていてもよい２価のＣ１−２２炭化水素基を示し；かつ
    Ｌ２は、Ｃ（＝Ｏ）を示すか、または＊＊＊Ｎ（Ｒ３）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ２）Ｃ（＝Ｏ）＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｙとの結合位置を示し、Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子もしくは置換されていてもよいＣ１−２２アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基を示す。］で示される基を示し、
    Ｙは、単結合、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示し、ならびに
    Ｚは、式（ａ２）：

    ［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
    Ｒ４は、水素原子を示すか、あるいはＲｂが、下記式（ａ３）で表される基である場合には、Ｒ６と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ｂと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；
    ｋ個のＱは、独立してそれぞれ単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−を示し；
    ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ炭素数１０〜４０のアルキル基、炭素数１０以上３００以下のアルキル基及び／又は炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を１〜３個有するベンジル基、または炭素数１０以上３００以下のアルケニル基を１〜３個有するシクロヘキシル基を示し；
    ｋは、１〜４の整数を示し；
    環Ａは、ｋ個のＱＲ５に加えて、更にハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよく；
    Ｒａは、水素原子を示し；
    Ｒｂは、水素原子、または式（ａ３）：

    （式中、＊は、結合位置を示し；
    ｊは、０〜４の整数を示し；
    ｊ個のＱは、前記と同意義を示し；
    ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれ炭素数１０〜４０のアルキル基を示し；
    Ｒ６は、水素原子を示すか、またはＲ４と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ａと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；かつ
    環Ｂは、ｊ個のＱＲ７に加えて、更にハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよい。）で表される基を示し、あるいは
    Ｒａ及びＲｂは一緒になって、酸素原子を形成する。］で表される基を示す。]で表される基で保護され、かつモルフォリン環窒素原子がトリチル基、９−（９−フェニル）キサンテニル基、９−フェニルチオキサンテニル基、１，１−ビス（４−メトキシフェニル）−１−フェニルメチル基、ジ（Ｃ１−６アルコキシ）トリチル基、１−（４−メトキシフェニル）−１，１−ジフェニルメチル基及びモノ（Ｃ１−１８アルコキシ）トリチル基からなる群より選択される一時保護基で保護されたｎ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドを酸と反応させて、モルフォリン環窒素原子の一時保護基を除去する工程。
  13. 一時保護基の除去がカチオン捕捉剤の存在下に行われる、請求項１２記載の製造方法。
  14. 工程（１）において、モルフォリン環窒素原子の一時保護基を除去した後、有機塩基により中和する工程をさらに含む、請求項１２又は１３に記載の製造方法。
  15. 更に、下記工程（３）を含有する、請求項９〜１４のいずれか一項に記載の製造方法。
    （３）工程（１）及び／又は（２）で得られた反応液に極性溶媒を添加して、モルフォリノオリゴヌクレオチドを沈殿させて、固液分離により取得する工程。
  16. 非極性溶媒が、クロロホルム、ジクロロメタン及び１，２−ジクロロエタンから選択されるハロゲン系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン及びメシチレンから選択される芳香族系溶媒；酢酸エチル及び酢酸イソプロピルから選択されるエステル系溶媒；ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、オクタン、ノナン及びシクロヘキサンから選択される脂肪族系溶媒；ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル及びｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルから選択される非極性エーテル系溶媒；並びにこれらの組合せからなる群より選択される溶媒である、請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の製造方法。
  17. 極性溶媒が、メタノール、エタノール及びイソプロパノールから選択されるアルコール系溶媒、またはアセトニトリル及びプロピオニトリルから選択されるニトリル系溶媒である、請求項１５又は１６に記載の製造方法。
  18. 更に、下記工程（４）を含有する、請求項９〜１７のいずれか一項に記載の製造方法。
    （４）得られたｎ＋ｐ個重合モルフォリノオリゴヌクレオチドの保護基を全て除去する工程。
  19. 一時保護基が、トリチル基、ジメトキシトリチル基、またはモノメトキシトリチル基である、請求項９〜１８のいずれか一項に記載の製造方法。
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