JP6477381B2 - エピタキシャルウェーハの成膜条件決定方法、ならびにエピタキシャルウェーハの製造方法および製造装置 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 44
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 144
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 27
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 19
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 14
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 12
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 9
- 238000000611 regression analysis Methods 0.000 claims description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 152
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 25
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 17
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 11
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 7
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 7
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 229930091051 Arenine Natural products 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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Description
ΔGR(xj)=a1S1(xj)+a2S2(xj)+a3S3(xj)+…+aNSN(xj)
を立てる。サンプリング点xjはM個(M>N)あり、j=1〜MのM個の上記方程式が成立する。このM個の方程式を用いて公知の回帰計算が実行され、その結果、ΔGR(xj)をjについて1からMまで合計した値が最小になるように、ガス流路毎の流量調整値a1〜aNが求められる。
膜厚面内分布以外の要因とは、たとえば、コスト(工数に基づく製造コスト、原料コスト等)の低減や、膜厚面内分布以外の品質に影響する制御因子の利用を最小にすることなどである。
(1)ウェーハ上にエピタキシャル膜を形成してエピタキシャルウェーハを製造する際の成膜条件を決定する方法であって、
ウェーハ上に形成されたエピタキシャル膜の厚さを、当該エピタキシャル膜のN点(Nは2以上の整数)の部位で測定し、測定された膜厚の値に基づいて、膜厚のばらつきの少なさの指標である膜厚面内分布指標を求める膜厚面内分布指標実測値算出工程と、
エピタキシャル膜の膜厚面内分布を調整するためのM個(Mは2以上の整数)の制御因子から1〜M個の制御因子を選択する全組み合わせのそれぞれに対して、前記測定された膜厚の値に基づき、前記膜厚面内分布指標が最小化するように各制御因子の操作量を最適化し、当該最小化する膜厚面内分布指標の予測値を求める膜厚面内分布指標予測値算出工程と、
前記制御因子の全組み合わせのうち、前記膜厚面内分布指標予測値算出工程で求めた前記膜厚面内分布指標の予測値が許容範囲内にあるものの中から、前記膜厚面内分布指標以外の要因に基づいて、前記制御因子の組み合わせの1つを選択する制御因子選択工程と、
前記制御因子選択工程で選択された組み合わせの前記制御因子について、前記膜厚面内分布指標予測値算出工程で前記膜厚面内分布指標が最小化するように最適化された操作量を、成膜条件として採用する、成膜条件採用工程と
を含み、
前記膜厚面内分布指標予測値算出工程において、前記膜厚面内分布指標の予測値の算出に、各制御因子を単位量操作したときの対象ウェーハの部位毎の膜厚変化量である影響係数を用い、
前記影響係数は、過去の膜厚調整実績から対象ウェーハの部位毎に膜厚偏差が最小になるように重回帰分析を行うことにより求めたものである、エピタキシャルウェーハの成膜条件決定方法。
エピタキシャル膜の膜厚面内分布に影響を及ぼす制御因子を変更可能な調整機構の操作量を、前記成膜条件決定工程で決定された成膜条件である各制御因子の操作量に設定して、ウェーハ上にエピタキシャル膜を形成する成膜工程と、
を含む、エピタキシャルウェーハの製造方法。
エピタキシャル膜の膜厚面内分布に影響を及ぼす制御因子を変更可能な調整機構と、
前記調整機構を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部が、前記制御因子の各々を単位量操作したときの対象ウェーハの部位毎の膜厚変化量である影響係数が格納された記憶装置を備えており、
前記影響係数は、過去の膜厚調整実績から対象ウェーハの部位毎に膜厚偏差が最小になるように重回帰分析を行うことにより求めたものであり、
前記制御部が、
M個(Mは2以上の整数)の前記制御因子から1〜M個の前記制御因子を選択する全組み合わせのそれぞれに対して、当該製造装置でウェーハ上に形成されたエピタキシャル膜のN点(Nは2以上の整数)で測定された膜厚の値に基づき、前記影響係数を用いて、膜厚のばらつきの少なさの指標である膜厚面内分布指標が最小化するように各制御因子の操作量を最適化し、当該最小化する膜厚面内分布指標の予測値を求め、
前記制御因子の全組み合わせのうち、前記膜厚面内分布指標の予測値が許容範囲内にあるものの中から、前記膜厚面内分布指標以外の予め定められた要因に基づいて、前記制御因子の組み合わせの1つを選択し、
前記選択された制御因子の組み合わせについて、前記最適化した操作量が得られるように、前記調整機構を制御する、製造装置。
本発明の製造装置により、本発明の成膜条件決定方法、および製造方法を実施することができる。
図1は、本発明の一実施形態に係る、エピタキシャルウェーハの製造装置の構造を示す縦断面図である。図2は、図1に示す製造装置の平面図である。
原料混合ガスにおけるトリクロロシランの混合割合、およびガス弁16a、16bの開度により、ガス供給源14からチャンバ2内に導入されるトリクロロシランガスの総流量(以下、「TCSガス流量」という。)が制御される。原料混合ガスにおける水素ガスの混合割合、およびガス弁16a、16bの開度により、ガス供給源14からチャンバ2内に導入される水素ガスの総流量(以下、「メイン水素流量」という。)が制御される。
[膜厚偏差]=[調整後の膜厚]−[調整前の膜厚]=[制御因子aの操作量]×[制御因子aの影響係数]+[制御因子bの操作量]×[制御因子bの影響係数]+・・・+[制御因子kの操作量]×[制御因子kの影響係数] (a)
まず、図示しない移載機構により、ウェーハWを、スリットバルブ26を介して、チャンバ2内に搬入し、サセプタ20上に載置する。このウェーハWは、モニターウェーハとすることができる。次に、ガス供給源14からガス管15aへと、原料混合ガスを送出し、チャンバ2内の雰囲気をこの原料混合ガスに置換する。また、制御部50により、駆動機構30を制御して、所望の回転速度でのウェーハWの回転を開始する。
この工程では、第1エピタキシャルウェーハ製造工程で形成されたエピタキシャル膜について、膜厚測定を行う。膜厚の測定は、たとえば、赤外分光光度計(FT−IR)を用いる公知の方法により行うことができる。
この工程では、膜厚面内分布指標実測値算出工程で測定された膜厚の値に基づいて、膜厚のばらつきの少なさの指標である膜厚面内分布指標の値を求め、その値が、許容範囲内にあるか否かを判定する。膜厚面内分布指標は、
(膜厚面内分布指標)=(最大膜厚−最小膜厚)/(最大膜厚+最小膜厚)×100
で定義する。
ここで、「最大膜厚」とは、ウェーハ上に形成されたエピタキシャル膜について、N点の部位で測定された膜厚のうち最大の膜厚を意味し、「最小膜厚」とは、当該エピタキシャル膜について、N点の部位で測定された膜厚のうち最小の膜厚を意味する。
一方、膜厚面内分布指標の値が許容範囲内にはないと判定される場合は、膜厚面内分布指標予測値算出工程を実施する。この工程では、エピタキシャル膜の膜厚面内分布を調整するためのM個(Mは2以上の整数)の制御因子から1〜M個の制御因子を選択する全組み合わせのそれぞれに対して、上述の測定された膜厚の値に基づき、膜厚面内分布指標が最小化するように各制御因子の操作量を最適化し、当該最小化する膜厚面内分布指標の予測値を求める。この工程は、制御部50により実施される。
(i) メイン水素流量(以下、「制御因子a」ともいう。)
(ii) 回転数(以下、「制御因子b」ともいう。)
(iii) 混合ガス内側流量(以下、「制御因子c」ともいう。)
(iv) 混合ガス外側流量(以下、「制御因子d」ともいう。)
1.制御因子a、b、c、dの組み合わせ
2.制御因子a、b、cの組み合わせ、
3.制御因子a、b、dの組み合わせ、
4.制御因子a、c、dの組み合わせ、および
5.制御因子b、c、dの組み合わせ
6.制御因子a、bの組み合わせ、
7.制御因子a、cの組み合わせ、
8.制御因子a、dの組み合わせ、
9.制御因子b、cの組み合わせ、
10.制御因子b、dの組み合わせ、および
11.制御因子c、dの組み合わせ
12.制御因子aを採用、
13.制御因子bを採用、
14.制御因子cを採用、および
15.制御因子dを採用
すなわち、4C4+4C3+4C2+4C1=1+4+6+4=15個の組み合わせが存在する。
[膜厚予測値]=[膜厚面内分布指標実測値算出工程で測定された膜厚]+[制御因子aの操作量]×[制御因子aの影響係数]+[制御因子bの操作量]×[制御因子bの影響係数]+[制御因子cの操作量]×[制御因子cの影響係数]+[制御因子dの操作量]×[制御因子dの影響係数] (b)
この工程では、制御因子の全組み合わせのうち、膜厚面内分布指標の予測値が、許容範囲内にあるものの中から、膜厚面内分布指標以外の要因に基づいて、制御因子の組み合わせの1つを選択する。この工程は、制御部50により、実施される。
膜厚面内分布指標以外の要因は、膜厚面内分布以外の品質であってもよい。
この工程では、制御因子選択工程で選択された組み合わせの制御因子を、上述のようにして最適化された操作量に設定して、チャンバ2内で、ウェーハW上にエピタキシャル膜を形成する。制御部50は、この成膜条件が得られるように、ガス弁16a、16b、28を制御する。
30:駆動機構、 50:制御部、 50a:記憶装置、 W:ウェーハ
Claims (7)
- ウェーハ上にエピタキシャル膜を形成してエピタキシャルウェーハを製造する際の成膜条件を決定する方法であって、
ウェーハ上に形成されたエピタキシャル膜の厚さを、当該エピタキシャル膜のN点(Nは2以上の整数)の部位で測定し、測定された膜厚の値に基づいて、膜厚のばらつきの少なさの指標である膜厚面内分布指標を求める膜厚面内分布指標実測値算出工程と、
エピタキシャル膜の膜厚面内分布を調整するためのM個(Mは2以上の整数)の制御因子から1〜M個の制御因子を選択する全組み合わせのそれぞれに対して、前記測定された膜厚の値に基づき、前記膜厚面内分布指標が最小化するように各制御因子の操作量を最適化し、当該最小化する膜厚面内分布指標の予測値を求める膜厚面内分布指標予測値算出工程と、
前記制御因子の全組み合わせのうち、前記膜厚面内分布指標予測値算出工程で求めた前記膜厚面内分布指標の予測値が許容範囲内にあるものの中から、前記膜厚面内分布指標以外の要因に基づいて、前記制御因子の組み合わせの1つを選択する制御因子選択工程と、
前記制御因子選択工程で選択された組み合わせの前記制御因子について、前記膜厚面内分布指標予測値算出工程で前記膜厚面内分布指標が最小化するように最適化された操作量を、成膜条件として採用する、成膜条件採用工程と
を含み、
前記膜厚面内分布指標予測値算出工程において、前記膜厚面内分布指標の予測値の算出に、各制御因子を単位量操作したときの対象ウェーハの部位毎の膜厚変化量である影響係数を用い、
前記影響係数は、過去の膜厚調整実績から対象ウェーハの部位毎に膜厚偏差が最小になるように重回帰分析を行うことにより求めたものである、エピタキシャルウェーハの成膜条件決定方法。 - 請求項1に記載の成膜条件決定方法であって、
前記膜厚面内分布指標実測値算出工程で算出された前記膜厚面内分布指標の値が、許容範囲内にあるか否かを判定する膜厚面内分布良否判定工程を、さらに含み、
前記膜厚面内分布良否判定工程で前記膜厚面内分布指標の値が前記許容範囲内にはないと判定される場合に、前記膜厚面内分布指標予測値算出工程を実施する、エピタキシャルウェーハの成膜条件決定方法。 - 請求項1または2に記載の成膜条件決定方法であって、
前記膜厚面内分布指標予測値算出工程が、各膜厚測定部位について、前記測定された膜厚の値に、各制御因子の操作量と当該制御因子の前記影響係数との積を、すべての前記影響係数について加算した値である膜厚予測値に基づいて、前記膜厚面内分布指標を求める工程を含む、エピタキシャルウェーハの成膜条件決定方法。 - 請求項1〜3のいずれかに記載の成膜条件決定方法により、成膜条件を決定する成膜条件決定工程と、
エピタキシャル膜の膜厚面内分布に影響を及ぼす制御因子を変更可能な調整機構の操作量を、前記成膜条件決定工程で決定された成膜条件である各制御因子の操作量に設定して、ウェーハ上にエピタキシャル膜を形成する成膜工程と、
を含む、エピタキシャルウェーハの製造方法。 - ウェーハ上にエピタキシャル膜を形成してエピタキシャルウェーハを製造するための装置であって、
エピタキシャル膜の膜厚面内分布に影響を及ぼす制御因子を変更可能な調整機構と、
前記調整機構を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部が、前記制御因子の各々を単位量操作したときの対象ウェーハの部位毎の膜厚変化量である影響係数が格納された記憶装置を備えており、
前記影響係数は、過去の膜厚調整実績から対象ウェーハの部位毎に膜厚偏差が最小になるように重回帰分析を行うことにより求めたものであり、
前記制御部が、
M個(Mは2以上の整数)の前記制御因子から1〜M個の前記制御因子を選択する全組み合わせのそれぞれに対して、当該製造装置でウェーハ上に形成されたエピタキシャル膜のN点(Nは2以上の整数)で測定された膜厚の値に基づき、前記影響係数を用いて、膜厚のばらつきの少なさの指標である膜厚面内分布指標が最小化するように各制御因子の操作量を最適化し、当該最小化する膜厚面内分布指標の予測値を求め、
前記制御因子の全組み合わせのうち、前記膜厚面内分布指標の予測値が許容範囲内にあるものの中から、前記膜厚面内分布指標以外の予め定められた要因に基づいて、前記制御因子の組み合わせの1つを選択し、
前記選択された制御因子の組み合わせについて、前記最適化した操作量が得られるように、前記調整機構を制御する、製造装置。 - 請求項5に記載の製造装置であって、
前記調整機構が、
ウェーハを支持するサセプタの回転数を制御する駆動機構と、
前記サセプタ上に支持されたウェーハにガスを供給するガス管に介装され、前記ガス管内を流れるガスの流量を調整するガス弁と、を含む、製造装置。 - 請求項5または6に記載の製造装置であって、
前記最小化する膜厚面内分布指標の予測値を求めることが、各膜厚測定部位について、前記測定された膜厚の値に、各制御因子の操作量と当該制御因子の前記影響係数との積を、すべての前記影響係数について加算した値である膜厚予測値に基づいて、前記膜厚面内分布指標を求めることを含む、製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015182578A JP6477381B2 (ja) | 2015-09-16 | 2015-09-16 | エピタキシャルウェーハの成膜条件決定方法、ならびにエピタキシャルウェーハの製造方法および製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015182578A JP6477381B2 (ja) | 2015-09-16 | 2015-09-16 | エピタキシャルウェーハの成膜条件決定方法、ならびにエピタキシャルウェーハの製造方法および製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017059658A JP2017059658A (ja) | 2017-03-23 |
JP6477381B2 true JP6477381B2 (ja) | 2019-03-06 |
Family
ID=58390373
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015182578A Active JP6477381B2 (ja) | 2015-09-16 | 2015-09-16 | エピタキシャルウェーハの成膜条件決定方法、ならびにエピタキシャルウェーハの製造方法および製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6477381B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4269665A1 (en) | 2022-04-28 | 2023-11-01 | Epicrew Corporation | Parameter determination device, parameter determination method, and parameter determination program for epitaxial growth system |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6724852B2 (ja) * | 2017-04-19 | 2020-07-15 | 株式会社Sumco | エピタキシャルシリコンウェーハのエピタキシャル層厚の測定方法、及びエピタキシャルシリコンウェーハの製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000315639A (ja) * | 1999-04-28 | 2000-11-14 | Nikon Corp | 接続装置、露光装置、及び、その露光装置の光軸調整方法 |
JP2004072030A (ja) * | 2002-08-09 | 2004-03-04 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置 |
JP4329474B2 (ja) * | 2003-10-01 | 2009-09-09 | 信越半導体株式会社 | 薄膜形成方法 |
JP5049302B2 (ja) * | 2008-03-17 | 2012-10-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置、熱処理装置の温度調整方法、及び、プログラム |
JP2009267159A (ja) * | 2008-04-25 | 2009-11-12 | Sumco Techxiv株式会社 | 半導体ウェーハの製造装置及び方法 |
JP2011066191A (ja) * | 2009-09-17 | 2011-03-31 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置の製造方法およびボンディング装置 |
-
2015
- 2015-09-16 JP JP2015182578A patent/JP6477381B2/ja active Active
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---|---|---|---|---|
EP4269665A1 (en) | 2022-04-28 | 2023-11-01 | Epicrew Corporation | Parameter determination device, parameter determination method, and parameter determination program for epitaxial growth system |
KR20230153242A (ko) | 2022-04-28 | 2023-11-06 | 에피크루 가부시키가이샤 | 에피택셜 성장 장치를 위한 파라미터 결정 장치, 파라미터 결정 방법 및 파라미터 결정 프로그램 |
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---|---|
JP2017059658A (ja) | 2017-03-23 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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