JP2000315639A - 接続装置、露光装置、及び、その露光装置の光軸調整方法 - Google Patents

接続装置、露光装置、及び、その露光装置の光軸調整方法

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JP2000315639A
JP2000315639A JP11122779A JP12277999A JP2000315639A JP 2000315639 A JP2000315639 A JP 2000315639A JP 11122779 A JP11122779 A JP 11122779A JP 12277999 A JP12277999 A JP 12277999A JP 2000315639 A JP2000315639 A JP 2000315639A
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optical system
bmu
connection
exposure apparatus
optical axis
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Kyoji Nakamura
協司 中村
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光源装置と露光装置本体との間の接続光学系
における光軸の調整を、人手によることなく短時間に容
易かつ正確に行うことができ、露光装置本体内のパター
ン上に均一な照明光を供給可能な接続光学系を提供す
る。 【解決手段】 光源装置13と露光装置本体12とを、
床下BMU16と送光パイプ17と床上BMU18とか
らなるBMU15を介して光学的に接続する。前記床下
BMU16と床上BMU18に装着された傾斜センサ4
4,45により、両BMU16,18間の基準状態に対
する傾斜量を計測する。その傾斜量に基づいて、床下B
MU16内の可動ミラー28を駆動させ、その可動ミラ
ー28に対する照明光の入射角を変更する。これによ
り、建屋14の傾動に伴って生じるBMU15内におけ
る前記照明光の光軸のずれを調整する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、半導体素
子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド、撮像素子等のマイ
クロデバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフ
ィ工程で使用される露光装置において、露光装置本体と
光源装置とを光学的に接続する接続光学系を有する接続
装置に関するものである。また、その接続装置を備えた
露光装置、及びその露光装置における光軸調整方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】この種の露光装置においては、マスク上
に形成されたパターンの像を投影光学系を介して基板上
に転写する露光装置本体と、前記パターンを照明するた
めの照明光を出射する光源装置とを備えている。この露
光装置を建屋内に設置する場合には、露光装置本体と光
源装置とを、建屋の上下に異なったフロアに配置した
り、あるいは同一フロアにおいて離間した位置に配置す
ることがある。このような場合には、前記露光装置本体
と前記光源装置との間を、接続装置内に配備された接続
光学系により光学的に接続している。
【0003】しかしながら、前記建屋は一日を通じて、
あるいは一年を通じて微妙に傾動している。このため、
露光装置本体及び光源装置を上下に異なるフロアに配置
した場合、それらの配置面間に位置ずれが生じて、光源
装置から前記接続光学系を介して露光装置本体に供給さ
れる照明光の光軸にずれが発生する。そして、このよう
に光軸にずれが発生すると、照明光が露光装置本体内の
フライアイレンズの中心に正確に入射されず、前記パタ
ーン上における照度むらが生じて正確な露光を行うこと
ができなくなるという問題があった。
【0004】また、前記露光装置本体及び前記光源装置
を同一フロア上で離間位置に配置した場合には、それら
の配置条件が異なることが多い。例えば、露光装置本体
はコンクリートの防振台上に配置され、光源装置はグレ
ーティング上に配置されることがある。このような場
合、グレーティング上を作業者や自動搬送車が通過した
とき、グレーティングが振動して、露光装置本体及び光
源装置の配置面間に位置ずれが生じる。さらに、グレー
ティングが経年変形したときにも、両配置面間に位置ず
れが生じる。これにより、前記の場合と同様に、照明光
の光軸にずれが発生して、照明光が前記フライアイレン
ズの中心に正確に入射されず、前記パターン上における
照度むらが生じて正確な露光を行うことができなくなる
という問題があった。
【0005】このような問題に対処するため、従来の露
光装置では例えば次のような光軸調整方法が採られてい
た。すなわち、露光装置本体及び光源装置が接続光学系
を介して光学的に接続された構成において、その接続光
学系を有する接続装置が露光装置本体側のユニット及び
光源装置側のユニットを含む複数のユニットに分割され
ている。そして、前記露光装置本体側のユニット内に支
持されたミラーの裏側には、接続光学系における光軸の
ずれを検出するためのインデックスが配設されている。
【0006】このインデックスは、例えば円形のガラス
板上に四角形状の設計値に基づく照明光の断面形状を刻
設して形成されている。そして、前記照明光がミラーに
照射される際にそのミラーの反射コート層を透過する漏
れ光を、前記インデックスに照射させる。この状態で、
照射されている照明光の断面形状がと前記設計値に基づ
く断面形状からどの程度ずれているかを目視観察して、
前記光軸のずれを検出している。また、この検出結果に
基づいて、光源装置側のユニット内に配設されたミラー
を、押しネジや引きネジ等を使用して手動操作により移
動させ、光軸のずれを調整している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記従来の
光軸調整方法では、前記露光装置本体側のユニットと光
源装置側のユニットとの離間した位置において、異なっ
た作業者が目視による光軸のずれ検出と、手動操作によ
る光軸のずれ調整とを行う必要がある。このため、光軸
の調整作業が非常に面倒で時間がかかるとともに、光軸
の調整を正確に行うことが困難であるという問題があっ
た。
【0008】特に、前記両ユニットが前記建屋内の上下
に異なるフロアに設置されたり、前記両ユニットの間に
障害物等があったりして、前記作業者が互いに視認でき
ないような場合には、トランシーバ等で連絡を取り合い
ながら、前記光軸のずれ検出と前記光軸のずれ調整とを
行う必要がある。このため、前記光軸の調整作業が一層
面倒なものとなる。
【0009】しかも、前記露光装置の建屋の傾動状況に
は、一日のうちでは時間格差が存在し、一週間のうちで
は日格差が存在し、一年のうちでは季節格差が存在す
る。このため、その都度、前記目視による光軸のずれの
検出を行って、前記手動操作による細かな光軸の調整作
業が要求され、非常に煩わしいという問題があった。
【0010】本発明は、このような従来の技術に存在す
る問題点に着目してなされたものである。その目的とし
ては、光源装置と露光装置本体との間の接続光学系にお
ける光軸の調整を人手によることなく短時間に容易かつ
正確に行うことができて、露光装置本体内のパターン上
に均一な照明光を供給可能な接続装置を提供することに
ある。
【0011】また、本発明のその上の目的は、接続光学
系を介して光源装置から露光装置本体内のパターン上に
均一な照明光を供給することができて、正確な露光を行
うことができる露光装置を提供することにある。
【0012】さらに、本発明のその他の目的は、光源装
置と露光装置本体との間の接続光学系における光軸の調
整を、人手によることなく短時間に容易かつ正確に行う
ことができる光軸調整方法を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、接続装置に係る本願請求項1に記載の発明は、露光
装置本体(12)と光源装置(13)とを光学的に接続
する接続光学系(22〜32)を有する接続装置(1
5)において、基準状態に対する位置ずれを計測する計
測手段(44,44A,44B,45,45A,45
B)を備え、前記計測手段(44,44A,44B,4
5,45A,45B)の計測結果に基づいて、前記露光
装置本体(12)と前記光源装置(13)との少なくと
も一方に対する前記接続光学系(15)の光軸(AX)
調整を行う調整手段(28,47)を備えたことを特徴
とするものである。
【0014】このため、本願請求項1に記載の発明で
は、光源装置と露光装置本体との間の接続装置における
位置ずれ量を常時計測しつつ、その位置ずれ量の計測結
果に基づく接続光学系の光軸調整を人手によることなく
短時間に容易かつ正確に行われる。これにより、接続光
学系における光軸のずれを確実に解消することができ
て、露光装置本体内のパターン上に、常時、均一な照明
光を供給することができる。
【0015】また、本願請求項2に記載の発明は、前記
請求項1に記載の発明において、前記接続装置(15)
は複数のユニット(16〜18,54,55)に分割さ
れてなり、前記計測手段(44,44A,44B,4
5,45A,45B)は前記接続光学系を構成する光学
素子(22〜32)を内部に有する前記ユニット(1
6,18,54,55)に装着したことを特徴とするも
のである。
【0016】このため、本願請求項2に記載の発明で
は、前記請求項1に記載の発明の作用に加えて、ユニッ
トの位置ずれ量の計測結果に基づいて、そのユニットの
内部に支持された光学素子を駆動することにより、接続
光学系における光軸のずれを容易かつ確実に解消するこ
とができる。
【0017】また、本願請求項3に記載の発明は、前記
請求項1に記載の発明において、前記接続装置(15)
は少なくとも前記接続光学系を構成する光学素子(22
〜32)を有する光学系ユニット(16,18,54,
55)を含む複数のユニット(16〜18,54,5
5)に分割されてなり、直接または前記光学素子を有し
ない連結ユニット(17)を介して隣り合う前記光学系
ユニット(16,18,54,55)において、少なく
とも、一方の光学系ユニット(16,54)に支持され
た第1の光学素子(29)と、他方の光学系ユニット
(18,55)に支持されるとともに前記第1の光学素
子(29)に隣り合う第2の光学素子(30)との間隔
が最長であるような前記両光学系ユニット(16,1
8,54,55)に前記計測手段(44,44A,44
B,45,45A,45B)を装着したことを特徴とす
るものである。
【0018】隣り合う光学系ユニット内の光学素子の間
隔が最長であるような両光学系ユニット間では、照明光
の光軸のずれが最大となる。このため、本願請求項3に
記載の発明では、前記請求項1に記載の発明の作用に加
えて、前記照明光の光軸のずれが最大となる両光学系ユ
ニット間の位置ずれ量の計測結果に基づいて、接続光学
系における光軸のずれを効果的に解消することができ
る。
【0019】また、本願請求項4に記載の発明は、前記
請求項3に記載の発明において、前記調整手段(28,
47)を、直接または前記連結ユニット(17)を介し
て隣り合う前記光学系ユニット(16,18,54,5
5)の少なくとも前記光源装置(13)側の光学系ユニ
ット(16,54)に設けたことを特徴とするものであ
る。
【0020】このため、本願請求項4に記載の発明で
は、前記請求項3に記載の発明の作用に加えて、隣り合
う光学系ユニットのうちで、少なくとも照明光の上流側
である光源装置側の光学系ユニットにおいて光軸調整が
行われる。これにより、接続光学系における光軸のずれ
を効果的に解消することができる。
【0021】また、本願請求項5に記載の発明は、前記
請求項1〜請求項4のうちいずれか一項に記載の発明に
おいて、前記計測手段(44,44A,44B,45,
45A,45B)の計測結果が所定の範囲内であるとき
に、前記調整手段(28,47)に対して前記光軸(A
X)調整を指令する指令手段(46)を設けたことを特
徴とするものである。
【0022】このため、本願請求項5に記載の発明で
は、前記請求項1〜請求項4のうちいずれか一項に記載
の発明の作用に加えて、接続装置に生じた位置ずれが所
定の範囲に達しない微細なものであるときには、光軸調
整を行わないようにすることができる。また、前記位置
ずれが、例えば前記調整手段の光軸調整の可能な範囲を
超えるような過大なものであるときには、光軸調整を行
わないようにすることができる。これにより、位置ずれ
が所定の範囲内にある場合のみに光軸調整を的確に行う
とともに、調整手段の負担を軽減することができる。
【0023】また、本願請求項6に記載の発明は、前記
請求項1〜請求項5のうちいずれか一項に記載の発明に
おいて、前記調整手段(28,47)は、前記光軸(A
X)調整の範囲が所定の範囲を超えたときに警報を発す
る報知手段(48)を有することを特徴とするものであ
る。
【0024】このため、本願請求項6に記載の発明で
は、前記請求項1〜請求項5のうちいずれか一項に記載
の発明の作用に加えて、接続装置に、例えば前記調整手
段における光軸調整の可能な範囲を超えるような過大な
位置ずれが生じたときに、その異常事態を、作業者に対
して速やかに報知することができる。
【0025】また、本願請求項7に記載の発明は、前記
請求項1〜請求項6のうちいずれか一項に記載の発明に
おいて、前記接続光学系(22〜32)は、露光装置
(11)が設置される建屋(14)内において、それぞ
れ異なるフロア(14a,14b)に配置された前記露
光装置本体(12)と前記光源装置(13)と接続する
ものであることを特徴とするものである。
【0026】このため、本願請求項7に記載の発明で
は、前記請求項1〜請求項6のうちいずれか一項に記載
の発明の作用に加えて、光源装置と露光装置本体との間
の接続装置の長さが大きくなって、その接続装置に大き
な位置ずれが発生しやすい構成において、接続光学系の
光軸のずれを効果的に解消することができる。
【0027】また、露光装置に係る本願請求項8に記載
の発明は、マスク(R)上に形成されたパターンの像を
投影光学系(PL)を介して基板(W)上に転写する露
光装置本体(12)と、前記パターンを照明するための
照明光(IL)を出射する光源装置(13)とを備えた
露光装置(11)において、前記露光装置本体(12)
と前記光源装置(13)とを前記請求項1〜請求項7の
うちいずれか一項に記載の接続装置(15)で接続した
ことを特徴とするものである。
【0028】このため、本願請求項8に記載の発明で
は、接続光学系を介して光源装置から露光装置本体内の
パターン上に、常時、照度むらのない均一な照明光が供
給される。これにより、正確な露光を行うことができる
とともに、製品供給の安定化を図ることができる。
【0029】また、露光装置の光軸調整方法に係る本願
請求項9に記載の発明は、露光装置本体(12)と光源
装置(13)とを接続装置(15)内の接続光学系(2
2〜32)を介して光学的に接続した露光装置(11)
の光軸(AX)調整方法において、前記接続装置(1
5)に装着された計測手段(44,44A,44B,4
5,45A,45B)により前記接続装置(15)の基
準状態に対する位置ずれを計測し、前記接続装置(1
5)の位置ずれ量に基づいて、前記接続光学系における
少なくとも1つの光学素子(23〜32)を駆動して、
前記露光装置本体(12)と前記光源装置(13)との
少なくとも一方に対する前記接続光学系(15)の光軸
(AX)調整を行うことを特徴とするものである。
【0030】このため、本願請求項9に記載の発明で
は、光源装置と露光装置本体との間の接続光学系におけ
る光軸のずれを常時監視することができるとともに、光
軸調整を人手によることなく短時間に容易かつ正確に行
うことができる。
【0031】
【発明の実施の形態】(第1実施形態)以下に、本発明
を半導体素子製造用の露光装置及びそのビーム・マッチ
ング・ユニットに具体化した第1実施形態について図1
及び図2に基づいて説明する。
【0032】図1に示すように、この実施形態の露光装
置11は、露光装置本体12と、KrFエキシマレーザ
光、ArFエキシマレーザ、F2エキシマレーザ光等の
照明光ILを出射する光源装置13とを備えている。前
記露光装置本体12は、露光装置11が設置される建屋
14内において、例えば2階等の階上フロア14aに配
置され、前記光源装置13は前記露光装置本体12とは
異なるフロア、例えば1階等の階下フロア14bに配置
されている。そして、前記露光装置本体12と前記光源
装置13とは、接続装置としてのビーム・マッチング・
ユニット(以下、「BMU」と略す。)15を介して光
学的に連結されている。
【0033】前記BMU15は、一方の光学系ユニット
としての床下ビーム・マッチング・ユニット(以下、
「床下BMU」と略す。)16と、連結ユニットとして
の送光パイプ17と、他方の光学系ユニットとしての床
上ビーム・マッチング・ユニット(以下、「床上BM
U」と略す。)18との3つに分割して構成されてい
る。前記床下BMU16は、階下フロア14bに図示し
ない固定金具等を介して固定されている。この床下BM
U16は、その入射側端部が前記光源装置13に接続さ
れるとともに、出射側端部がフッ素ゴム等よりなる蛇腹
筒19を介して前記送光パイプ17の下端部に接続され
ている。
【0034】前記送光パイプ17は、階上フロア14a
と階下フロア14bとの間の骨組材14cに対し複数の
連結材20を介して固定されている。前記床上BMU1
8は階上フロア14aに固定金具21等を介して固定さ
れ、その入射側端部が前記と同様の蛇腹筒19を介して
送光パイプ17の上端部に接続されるとともに、出射側
端部が露光装置本体12に接続されている。
【0035】図2に示すように、前記BMU15の床下
BMU16の内部には、複数の光学素子としてのハービ
ングガラス22、ミラー23、第1リレーレンズ24、
第2リレーレンズ25、ミラー26、シリンダズームレ
ンズ27、可動ミラー28及び第3リレーレンズ29が
配列されている。前記ハービングガラス22は、光源装
置13から出射される照明光ILの光軸のずれを調整す
る。前記シリンダズームレンズ27は、前記照明光IL
の断面形状を一括露光に適合する形状に変更する。
【0036】前記床上BMU18の内部には、複数の光
学素子としての第4リレーレンズ30及びミラー31,
32が支持されている。また、送光パイプ17の内部に
は光学素子が支持されておらず、この結果、床下BMU
16内の出射側端部に支持された第1の光学素子として
の第3リレーレンズ29が、床上BMU18内の入射側
端部に支持された第2の光学素子としての第4リレーレ
ンズ30に対して、最長の間隔をおいて隣り合った状態
に対向配置されている。
【0037】そして、これらのハービングガラス22、
ミラー23,26,31,32、各リレーレンズ24,
25,29,30、シリンダズームレンズ27、可動ミ
ラー28からなる光学素子により、前記露光装置本体1
2と光源装置13とを光学的に接続する接続光学系が構
成されている。
【0038】前記露光装置本体12内には、照明光学系
IUを構成するミラー33、ハービングガラス34、ミ
ラー35、ケプラズームレンズ36、ミラー37、フラ
イアイレンズ38及びミラー39,40が配列されてい
る。そして、前記光源装置13からBMU15を介して
入射された照明光ILが、この照明光学系IUを介して
所定の断面形状及び均一な照度分布に形成されて、所定
のパターンを形成したマスクとしてのレチクルRに照射
される。
【0039】前記露光装置本体12内において、前記レ
チクルRの出射側には投影光学系PLが配置されてい
る。そして、前記レチクルRを通過した照明光ILが前
記投影光学系PLに入射され、そのレチクルR上のパタ
ーンの像が投影光学系PLを介して、図示しないステー
ジ上に載置された基板としてのウエハWに投影転写され
る。
【0040】図1に示すように、前記BMU15におい
て、送光パイプ17を介して隣り合う床下BMU16と
床上BMU18とには、計測手段としての傾斜センサ4
4,45がそれぞれ装着されている。そして、建屋14
の傾動等に伴って前記各BMU16,BMU18に傾き
が生じると、これらの傾斜センサ44,45により前記
各BMU16,18の基準位置に対する位置ずれとして
のそれぞれ傾斜量が計測される。これらの傾斜量の計測
結果は、指令手段としての主制御系46に出力される。
【0041】なお、前記各傾斜センサ44,45として
は、それぞれ1つのセンサでX方向及びY方向の二軸の
傾斜量を同時に計測するものが使用されている。また、
この傾斜センサ44,45の計測動作は、露光装置11
の運転中に常時または所定時間おきに定期的に実行され
るようになっている。
【0042】ここで、前記床下BMU16及び床上BM
U18の基準位置は、例えば以下のように設定される。
すなわち、床上BMU18の第4リレーレンズ30の上
方から下方に向けて、例えばHe−Neレーザ光を照射
し、前記第4リレーレンズ30の光軸と前記床下BMU
16の第3リレーレンズ29の光軸とを一致させる。こ
の状態で、前記各BMU16,18上に装着された各傾
斜センサ44,45により計測される傾斜量がゼロとな
るように設定される。
【0043】前記主制御系46は、前記各傾斜センサ4
4,45から傾斜量の計測結果が入力されたとき、それ
らの計測結果を相対比較して、建屋14のX方向及びY
方向における前記両BMU16,18間の傾斜量を演算
する。そして、前記主制御系46は、算出された傾斜量
が予め設定された所定の範囲内にある否かを判断し、所
定範囲内にあるときには、光源装置13側に配置された
床下BMU16内の可動ミラー28を駆動するための駆
動用モータ47に対して、傾斜量の演算結果に応じた駆
動信号を出力する。
【0044】前記可動ミラー28及び駆動用モータ47
は、前記BMU15の光軸調整を行うための調整手段を
構成している。そして、前記主制御系46から駆動用モ
ータ47に駆動信号が出力されたとき、前記可動ミラー
28が駆動され、その入射光、つまり光源装置13から
出射された照明光ILの入射角が前記傾斜量の演算結果
に基づいて変更される。この照明光ILの入射角の変更
により、前記BMU15の光軸調整が行われるようにな
っている。
【0045】前記主制御系46には、報知手段としての
ブザーまたはランプ等よりなる報知器48が付設されて
いる。そして、前記BMU15の床下BMU16と床上
BMU18との間に所定の範囲を越える過大な傾きが生
じて、可動ミラー28の駆動による光軸の調整範囲が所
定の範囲を越えたときには、この報知器48が作動され
て警報が発せられるようになっている。
【0046】次に、前記のように構成されたBMU15
を備える露光装置11について作用を説明する。さて、
この露光装置11において、建屋14の階下フロア14
bに配置された光源装置13から照明光ILが出射され
ると、その照明光ILはBMU15を介して、階上フロ
ア14aに配置された露光装置本体12内に入射され
る。さらに、この照明光ILは照明光学系IUにより均
一な照度分布に形成された後、レチクルRに照射され
る。そして、この照明光ILの照射により、前記レチク
ルR上に形成されたパターンの像が投影光学系PLを介
して、ウエハW上に投影転写される。
【0047】このような露光装置11の露光運転に際し
て、前記露光装置11を設置した建屋14は、一日を通
じてあるいは一年を通じて微妙に傾動している。このた
め、前記露光装置本体12及び前記光源装置13が上下
に異なったフロア14a,14bに配置されている場
合、それらの配置面間に位置ずれが生じて、光源装置1
3からBMU15を介して露光装置本体12に供給され
る照明光ILの光軸AXにずれが発生する。そして、こ
のように光軸にずれが発生すると、照明光ILが露光装
置本体12内のフライアイレンズ38の中心に正確に入
射されなくなる。このフライアイレンズ38は多数の微
小なレンズエレメントを二次元的に配列したものであ
り、その出射側面に多数の二次光源像が形成される。こ
の多数の二次光源像が前記レチクルR上で重畳されて、
そのレチクルR上での前記照明光ILの均一な照度分布
が実現されるようになっている。
【0048】ここで、前記のように、前記照明光ILの
光軸AXが前記フライアイレンズ38の中心から大きく
ずれると、一部の前記レンズエレメントに前記照明光I
Lが照射されなくなることがある。このような状態では
照度むらが生じ、前記レチクルR上が均一に照明されな
くなるおそれがある。
【0049】本実施形態の露光装置11では、前記のよ
うに露光装置本体12及び光源装置13に対するBMU
15の光軸にずれが発生した場合、その光軸のずれを解
消するように次のような光軸調整が行われる。すなわ
ち、露光装置11の運転時には、BMU15の床下BM
U16及び床上BMU18上に装着された傾斜センサ4
4,45により、前記各BMU16,18間の傾斜量が
常時または定期的に計測される。
【0050】そして、主制御系46により、前記傾斜セ
ンサ44,45からの傾斜量の計測結果が相対比較され
て、建屋14のX方向及びY方向の傾斜量が演算される
とともに、その傾斜量の演算結果が予め設定された所定
の範囲内にある否かが判別される。この判別の結果、前
記傾斜量が所定範囲内にあるときには、駆動モータ47
に駆動指令が出力されて、床下BMU16内の可動ミラ
ー28が駆動される。これにより、前記照明光ILの前
記可動ミラー28に対する入射角が前記傾斜量に応じて
変更されて、BMU15の光軸調整が行われる。従っ
て、BMU15における光軸AXのずれが確実に解消さ
れて、露光装置本体12内のフライアイレンズ38のほ
ぼ中心に照明光ILが供給される。そして、前記レチク
ルR上のパターンが均一な照度分布で照明され、正確な
露光が行われる。
【0051】一方、前記建屋14の傾斜量が所定の範囲
に達しない微細なもの、つまり前記照明光ILの光軸A
Xと前記フライアイレンズ38の中心とのずれ量が照度
むらを生じない程度のものであるときには、主制御系4
6は前記光軸AXの調整が不要と判断する。そして、主
制御系46は前記駆動用モータ47に対し駆動指令を出
力せず、前記光軸AXの調整は行われない。
【0052】また、建屋14の傾斜量が所定の範囲を越
える過大なものであるときには、前記主制御系46は、
前記駆動モータ47及び可動ミラー28による前記光軸
AXの自動的な調整が不可能であると判断する。そし
て、前記主制御系46は、駆動用モータ47に対し駆動
指令を出力せず、前記可動ミラー28による前記光軸A
Xの調整は行われない。このような場合には、前記主制
御系46は、報知器48に対し動作指令を出力し、その
報知器48から警報が発せられて異常事態が作業者に報
知される。
【0053】従って、前記のように構成した本実施形態
によれば、以下のような効果を得ることができる。 (イ) 本実施形態の露光装置11では、露光装置本体
12と光源装置13とを光学的に接続するBMU15上
に、基準状態に対する位置ずれを計測するための傾斜セ
ンサ44,45が装着されている。この傾斜センサ4
4,45による位置ずれ量の計測結果に基づいて、BM
U15の内部に支持された可動ミラー28が駆動され、
露光装置本体12に対するBMU15の光軸調整が行わ
れるようになっている。
【0054】このため、光源装置13と露光装置本体1
2との間のBMU15における傾斜量を計測して、その
傾斜量の計測結果に基づいてBMU15の光軸調整を、
人手によることなく短時間に容易かつ正確に行うことが
できる。従って、BMU15における照明光ILの光軸
AXのずれを確実に解消することができて、露光装置本
体12内のフライアイレンズ38のほぼ中心に前記照明
光ILを供給することができる。そして、前記建屋14
の傾動に伴って発生する前記レチクルR上における照度
むらを回避することができる。
【0055】また、前記傾斜センサ44,45により、
前記BMU15の傾斜量を常時監視し、前記光軸AXの
調整を行うこともできる。このようにした場合、常に、
前記フライアイレンズ38のほぼ中心に前記照明光IL
を供給することができ、露光装置11の安定した稼働状
態を確保することができる。
【0056】(ロ) 本実施形態のBMU15は、床下
BMU16,送光パイプ17,床上BMU18の3つの
ユニットに分割して構成されている。それらのユニット
のうち、内部に複数のミラー及びレンズ等の光学素子を
有する床下BMU16及び床上BMU18上に傾斜セン
サ44,45が装着されている。
【0057】このため、前記傾斜センサ44,45によ
り計測される前記両BMU16,18間の傾斜量に基づ
いて、前記床下BMU16内に支持された可動ミラー2
8を駆動することにより、BMU15における照明光I
Lの光軸AXのずれを容易に解消することができる。
【0058】(ハ) 本実施形態のBMU15は、内部
に複数のミラー及びレンズ等の光学素子を有する床下B
MU16と床上BMU18とが、内部に光学素子を有し
ない送光パイプ17を介して隣り合うように連結されて
いる。前記床下BMU16内に支持された第3リレーレ
ンズ29と、前記床上BMU18内に支持された第4リ
レーレンズ30とが、前記BMU15内の全ての隣り合
う光学素子のうちで、最長の間隔を有するように対向配
置されている。そして、前記両BMU26,28上に傾
斜センサ44,45がそれぞれ装着されている。
【0059】前記照明光ILの光軸AXのずれ量は、こ
のような対向間隔が最長であるような前記両リレーレン
ズ29,30間で最大となる。このため、前記両リレー
レンズ29,30をそれぞれ有する前記両BMU16,
18間の傾斜量を計測し、その傾斜量に基づいて、BM
U15における前記光軸AXのずれを効果的に解消する
ことができる。
【0060】(ニ) 本実施形態のBMU15では、床
下BMU16と床上BMU18とのうちで、光源装置1
3側の前記床下BMU16内に支持された可動ミラー2
8を駆動することで、照明光ILの光軸AXの調整が行
われるようになっている。このため、前記BMU15内
における前記光軸AXのずれを効果的に解消することが
できる。
【0061】(ホ) 本実施形態のBMU15では、床
下BMU16内に支持された可動ミラー28を駆動し
て、その可動ミラー28に入射する照明光ILの入射角
を変更することにより、その照明光ILの光軸AXの調
整が行われるようになっている。このため、前記光軸A
Xを調整するための構成が簡単であるとともに、前記可
動ミラー28の駆動により前記光軸AXのずれを容易に
解消することができる。
【0062】(ヘ) 本実施形態のBMU15では、傾
斜センサ44,45により計測された床下BMU16と
床上BMU18との間の傾斜量が所定の範囲内であると
きに、主制御系46から可動ミラー28の駆動用モータ
47に駆動指令が出力されるようになっている。
【0063】このため、BMU15に生じた照明光IL
の光軸AXのずれが露光装置本体12内のフライアイレ
ンズ38の許容範囲内であるような微細なものであると
きには、前記光軸AXの調整は不要であるとして行われ
ない。また、前記光軸AXのずれが可動ミラー28及び
駆動用モータ47での調整可能範囲を超えるような過大
なものであるときには、前記光軸AXの自動的な調整が
不可能であるとして行われない。従って、BMU15内
における前記光軸AXのずれが、調整の必要かつ可能な
範囲内にある場合のみに前記光軸AXの調整を的確に行
うことができるとともに、前記可動ミラー28及び駆動
用モータ47の負担を軽減することができる。
【0064】(ト) 本実施形態のBMU15では、そ
のBMU15内で生じた照明光ILの光軸AXのずれ
が、可動ミラー28及び駆動用モータ47による調整可
能範囲を超えたときに、報知器48が作動されて警報が
発せられるようになっている。このため、作業者が、B
MU15に前記調整可能範囲を越えるような異常事態が
生じたことを速やかに認識することができて、そのよう
な異常事態に迅速に対応することができる。
【0065】(チ) 本実施形態の露光装置11では、
光源装置13と露光装置本体12とが、前記(イ)〜
(ト)に記載したような優れた効果を奏する構成のBM
U15を介して光学的に接続されている。
【0066】このため、前記光源装置13から出射され
る照明光ILの光軸AXを、前記露光装置本体12内の
フライアイレンズ38の中心にほぼ一致させることがで
きる。従って、前記露光装置本体12内のレチクルR上
に形成されたパターンを照度むらのない均一な照明光I
Lで照明することができて、正確な露光を行うことがで
きる。
【0067】また、前記BMU15で生じる前記照明光
ILの光軸AXのずれを常時計測し、その計測結果に基
づいて前記光軸AXを調整することができる。これによ
り、前記パターン上に、常時照度むらのない均一な照明
光ILを供給することができて、製品供給の安定化を図
ることができる。
【0068】(リ) 本実施形態の露光装置11は、設
置される建屋14内において、露光装置本体12が階上
フロア14aに、光源装置13が階下フロア14bにそ
れぞれ配置されている。そして、前記光源装置13と前
記露光装置本体12とが、前記(イ)〜(ト)に記載し
たような優れた効果を奏する構成のBMU15を介して
光学的に接続されている。
【0069】このような露光装置11では、前記光源装
置13と前記露光装置本体12との間のBMU15が必
然的に長くなり、そのBMU15内で生じる照明光IL
の光軸AXのずれが大きくなりやすい。これに対して、
前記BMU15は、設置される建屋14の傾動に伴って
その内部で生じる照明光ILの光軸AXのずれを短時間
で、正確かつ効果的に解消することができる。従って、
前記BMU15の構成は、前記のように露光装置本体1
2と光源装置13とがそれぞれ異なったフロア14a,
14bに配置されるような露光装置11のBMU15と
して特に好適である。
【0070】(第2実施形態)次に、本発明の第2実施
形態について、前記第1実施形態と異なる部分を中心に
説明する。
【0071】この第2実施形態においては、図3に示す
ように、露光装置本体12と光源装置13とが、露光装
置11を設置する建屋内において、同一フロアで離間し
た位置に異なる配置条件にて配置されている。例えば、
露光装置本体12はコンクリート製の防振台51上に配
置され、光源装置13は配線等を落とし込むための溝5
2を覆うためのグレーティング53上に配置されてい
る。
【0072】そして、前記第1実施形態と同様に、露光
装置本体12と光源装置13とがBMU15を介して光
学的に接続されている。そして、BMU15が、一方の
光学系ユニットとしての第1ビーム・マッチング・ユニ
ット(以下、「第1BMU」と略す。)54と送光パイ
プ17と他方の光学系ユニットとしての第2ビーム・マ
ッチング・ユニット(以下、「第2BMU」と略す。)
55とに分割されている。前記第1BMU54の内に
は、可動ミラー28及び第3リレーレンズ29を含む複
数の光学素子が配列支持されている。前記第2BMU5
5の内部には第4リレーレンズ30及びシリンダズーム
レンズ27を含む複数の光学素子が配列支持されてい
る。
【0073】前記第1BMU54上には、計測手段を構
成する一対の傾斜センサ44A,44Bが装着されてい
る。前記第2BMU55上には、計測手段を構成する一
対の傾斜センサ45A,45Bが装着されている。これ
らの傾斜センサ44A,44B,45A,45Bとして
は、X方向またはY方向のいずれか一軸の傾斜量を各別
に計測するものが使用されている。
【0074】そして、前記第1実施形態と同様に、主制
御系46により、傾斜センサ44A,44B,45A,
45Bからの傾斜量の計測結果が相対比較されて、前記
第1BMU54と第2BMU55との間のX方向及びY
方向の傾斜量が演算される。前記主制御系46は、その
傾斜量が所定の範囲内にあるときに、駆動用モータ47
を介して前記第1BMU54内の可動ミラー28が駆動
させる。これにより、前記可動ミラー28に対するの照
明光ILの入射角が変更されて、BMU15内における
前記照明光ILの光軸AXの調整が行われるようになっ
ている。
【0075】よって、この露光装置11では、作業者や
自動搬送車等の通過に伴う前記グレーティング53の振
動の伝達、前記グレーティング53の経年変形等によ
り、前記BMU15内に生じる前記光軸AXのずれが発
生した場合には、前記第1実施形態と同様に、その光軸
AXのずれが速やかに解消される。このため、光源装置
13からBMU15を介して露光装置本体12内のフラ
イアイレンズ38のほぼ中心に照明光ILが供給され
て、照度むらを発生することなく正確な露光が行われ
る。
【0076】従って、本実施形態によれば、前記第1実
施形態における(イ)〜(チ)に記載の効果に加えて、
以下のような効果を得ることができる。 (ヌ) 本実施形態の露光装置11では、露光装置本体
12と光源装置13とが、建屋内の同一のフロア上の離
間した位置に異なった設置条件にて配置されている。そ
して、前記露光装置本体12と前記光源装置13とが、
前記(イ)〜(ト)に記載したのと同様な優れた効果を
奏する構成のBMU15を介して光学的に接続されてい
る。
【0077】このため、前記露光装置本体12と前記光
源装置13との配置面間に相対振動が発生したり、前記
配置面が変位したりして、前記BMU15内で照明光I
Lの光軸AXにずれが生じた場合でも、その光軸AXの
ずれを効果的に解消することができる。
【0078】(変更例)なお、本発明の実施形態は、以
下のように変更してもよい。 ・ 前記各実施形態では、BMU15を各2つ光学系ユ
ニット(床下BMU16と床下BMU18、第1BMU
54と第2BMU55)と送光パイプ17との3つのユ
ニットに分割して構成したが、BMU15を分割するこ
となく1つの光学系ユニットにて構成してもよい。この
ように構成した場合には、前記各実施形態における
(イ)及び(ホ)〜(チ)とほぼ同様の効果に加えて、
前記BMU15の構成の簡素化を図ることができる。
【0079】・ 前記各実施形態では、BMU15を各
2つ光学系ユニット(床下BMU16と床下BMU1
8、第1BMU54と第2BMU55)と送光パイプ1
7との3つのユニットに分割して構成したが、BMU1
5を2つまたは4つ以上のユニットに分割して構成して
もよい。このように構成した場合には、前記各実施形態
における(イ)〜(ヌ)とほぼ同様の効果に加えて、前
記BMU15の設計の自由度を向上することができ、露
光装置11の設置場所の状態への対応が容易になる。
【0080】・ 前記各実施形態では、BMU15の各
2つ光学系ユニット(床下BMU16と床下BMU1
8、第1BMU54と第2BMU55)を送光パイプ1
7を介して連結したが、前記各光学系ユニット同士を直
接連結するように構成してもよい。
【0081】これらのように構成しても、前記各実施形
態における(イ)〜(ヌ)とほぼ同様の効果が得られ
る。 ・ 前記各実施形態では、床下BMU16または第1B
MU54内に支持された可動ミラー28に対する照明光
ILの入射角を変更して、BMU15内における前記照
明光ILの光軸AXの調整を行うように構成したが、床
上BMU18または第2BMU55内に支持されたミラ
ー31に対する照明光ILの入射角を変更して、BMU
15内における前記光軸AXの調整を行うように構成し
てもよい。
【0082】また、前記可動ミラー28と、床上BMU
18または第2BMU55内のミラー31との双方の前
記照明光ILの入射角を変更して、BMU15内におけ
る前記光軸AXの調整を行うように構成してもよい。
【0083】また、床下BMU16または第1BMU5
4内の第3リレーレンズ29及び床上BMU18または
第2BMU55内の第4リレーレンズ30の少なくとも
一方を、前記照明光ILの光軸AXと直交する二方向に
移動させて、BMU15内における前記光軸AXの調整
を行うように構成してもよい。
【0084】また、床下BMU16または第1BMU5
4と光源装置13とを可動台上に載置しておいて、これ
らをX軸及びY軸方向に移動させることにより、BMU
15内における前記光軸AXの調整を行うように構成し
てもよい。
【0085】これらのように構成しても、前記各実施形
態における(イ)〜(ハ)、(へ)〜(ヌ)とほぼ同様
の効果が得られる。 ・ 前記各実施形態では、床下BMU16上の傾斜セン
サ44または第1BMU54上の傾斜センサ44A,4
4Bの計測結果と、床上BMU18上の傾斜センサ45
または第2BMU55上の傾斜センサ45A,45Bの
計測結果とを相対比較して、X軸及びY軸の傾斜量を演
算し、その傾斜量に基づいて、床下BMU16または第
1BMU54内の可動ミラー28を駆動調整している
が、各傾斜センサ44,44A,44B,45,45
A,45Bの計測結果を相対比較することなく、傾斜セ
ンサ44,44A,44Bの計測結果に基づいて、床下
BMU16または第1BMU54内の可動ミラー28を
駆動調整し、傾斜センサ45,45A,45Bの計測結
果に基づいて、床上BMU18または第2BMU55内
のミラー31を駆動調整するように構成してもよい。
【0086】また、前記各実施形態では、BMU15の
各光学系ユニット(床下BMU16と床下BMU18、
第1BMU54と第2BMU55)に装着された傾斜セ
ンサ44,44A,44B,45,45A,45Bによ
り、BMU15の傾斜量を計測し、その計測結果に基づ
いて前記BMU15内における照明光ILの光軸AXの
調整を行うようにしたが、床上BMU18または第2B
MU55内のミラー31の裏側にCCDカメラを配設
し、このCCDカメラにより前記照明光ILの光軸AX
のずれを直接計測して、その計測結果に基づいて前記光
軸AXの調整を行うように構成してもよい。
【0087】これらのように構成しても、前記各実施形
態における(イ)〜(ヌ)と同様の効果が得られる。な
お、前記各実施形態では、本発明を半導体素子製造用の
露光装置に具体化したが、例えば液晶表示素子、撮像素
子、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイス製造用の露光
装置、レチクル等のフォトマスク製造用の露光装置等に
具体化してもよい。また、前記各実施形態では、光源装
置13がエキシマレーザ光を出射するものとしたが、露
光装置本体12とは別体に構成された光源装置であれば
よく、出射する光は、例えば金属蒸気レーザ光、YAG
レーザ光、ファイバーレーザ光、固体レーザ光等の高調
波、g線、h線、i線等の可視光または紫外光の輝線等
でもよい。
【0088】
【発明の効果】以上詳述したように、本願請求項1に記
載の発明によれば、接続光学系の光軸のずれを常時監視
しつつ、その光軸調整を人手によることなく短時間に容
易かつ正確に行うことができる。従って、露光装置本体
内のパターン上に、常時、均一な照明光を供給すること
ができる。
【0089】また、本願請求項2に記載の発明によれ
ば、前記請求項1に記載の発明の効果に加えて、分割さ
れたユニットの内部に支持された光学素子を駆動するこ
とにより、接続光学系における光軸のずれを容易かつ確
実に解消することができる。
【0090】また、本願請求項3に記載の発明によれ
ば、前記請求項1に記載の発明の効果に加えて、照明光
の光軸のずれが最大となる両光学系ユニット間の位置ず
れ量の計測結果に基づいて、接続光学系における光軸の
ずれを効果的に解消することができる。
【0091】また、本願請求項4に記載の発明によれ
ば、請求項3に記載の発明の効果に加えて、隣り合う光
学系ユニットのうちで、少なくとも照明光の上流側であ
る光源装置側の光学系ユニットについて光軸調整が行な
われて、接続光学系における光軸のずれを効果的に解消
することができる。
【0092】また、本願請求項5に記載の発明によれ
ば、前記請求項1〜請求項4のうちいずれか一項に記載
の発明の効果に加えて、接続装置に生じた位置ずれ量が
所定の範囲内にある場合のみに接続光学系の光軸調整を
的確に行うとともに、調整手段の負担を軽減することが
できる。
【0093】また、本願請求項6に記載の発明によれ
ば、前記請求項1〜請求項5のうちいずれか一項に記載
の発明の効果に加えて、作業者が接続装置に所定の範囲
を越える過大な位置ずれが生じたことを速やかに認識す
ることができ、そのような異常事態に迅速に対処するこ
とができる。
【0094】また、本願請求項7に記載の発明によれ
ば、前記請求項1〜請求項6のうちいずれか一項に記載
の発明の効果に加えて、光源装置と露光装置本体との間
の接続装置の長さが大きくなって、その接続装置に大き
な位置ずれが発生しやすい構成において、接続光学系の
光軸のずれを効果的に解消することができる。
【0095】また、本願請求項8に記載の発明によれ
ば、正確な露光を行うことができるとともに、製品供給
の安定化を図ることができる。また、本願請求項9に記
載の発明によれば、光源装置と露光装置本体との間の接
続光学系における光軸のずれを常時監視することができ
るとともに、光軸調整を短時間に容易かつ正確に行うこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 第1実施形態の接続装置を備えた露光装置を
示す斜視図。
【図2】 図1の接続光学系における光学素子の配列状
態を示す斜視図。
【図3】 第2実施形態の接続装置を備えた露光装置を
示す概略構成図。
【符号の説明】
11…露光装置、12…露光装置本体、13…光源装
置、14…建屋、14a…異なるフロアの一方を構成す
る階上フロア、14b…異なるフロアの他方を構成する
階下フロア、15…接続装置としてのビーム・マッチン
グ・ユニット、16…一方の光学系ユニットとしての床
上ビーム・マッチング・ユニット、17…連結ユニット
としての送光パイプ、18…他方の光学系ユニットとし
ての床下ビーム・マッチング・ユニット、22…接続光
学系を構成する光学素子としてのハービングガラス、2
3,26,31,32…接続光学系を構成する光学素子
としてのミラー、24…接続光学系を構成する光学素子
としての第1リレーレンズ、25…接続光学系を構成す
る光学素子としての第2リレーレンズ、27…接続光学
系を構成する光学素子としてのシリンダズームレンズ、
28…接続光学系を構成するとともに調整手段を構成す
る光学素子としての可動ミラー、29…接続光学系を構
成する第1の光学素子としての第3リレーレンズ、30
…接続光学系を構成する第2の光学素子としての第4リ
レーレンズ、38…フライアイレンズ、44,44A,
44B,45,45A,45B…計測手段を構成する傾
斜センサ、46…指令手段を構成する主制御系、47…
調整手段を構成する駆動用モータ、48…報知手段を構
成する報知器、54…一方の光学系ユニットとしての第
1ビーム・マッチング・ユニット、55…他方の光学系
ユニットとしての第2ビーム・マッチング・ユニット、
AX…照明光の光軸、IL…照明光、PL…投影光学
系、R…マスクとしてのレチクル、W…基板としてのウ
エハ。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 露光装置本体と光源装置とを光学的に接
    続する接続光学系を有する接続装置において、 基準状態に対する位置ずれを計測する計測手段を備え、
    前記計測手段の計測結果に基づいて、前記露光装置本体
    と前記光源装置との少なくとも一方に対する前記接続光
    学系の光軸調整を行う調整手段を備えたことを特徴とす
    る接続装置。
  2. 【請求項2】 前記接続装置は複数のユニットに分割さ
    れてなり、前記計測手段は前記接続光学系を構成する光
    学素子を内部に有する前記ユニットに装着したことを特
    徴とする請求項1に記載の接続装置。
  3. 【請求項3】 前記接続装置は少なくとも前記接続光学
    系を構成する光学素子を有する光学系ユニットを含む複
    数のユニットに分割されてなり、直接または前記光学素
    子を有しない連結ユニットを介して隣り合う前記光学系
    ユニットにおいて、少なくとも、一方の光学系ユニット
    に支持された第1の光学素子と、他方の光学系ユニット
    に支持されるとともに前記第1の光学素子に隣り合う第
    2の光学素子との間隔が最長であるような前記両光学系
    ユニットに前記計測手段を装着したことを特徴とする請
    求項1に記載の接続装置。
  4. 【請求項4】 前記調整手段を、直接または前記連結ユ
    ニットを介して隣り合う前記光学系ユニットの少なくと
    も前記光源装置側の光学系ユニットに設けたことを特徴
    とする請求項3に記載の接続装置。
  5. 【請求項5】 前記計測手段の計測結果が所定の範囲内
    であるときに、前記調整手段に対して前記光軸調整を指
    令する指令手段を設けたことを特徴とする請求項1〜請
    求項4のうちいずれか一項に記載の接続装置。
  6. 【請求項6】 前記調整手段は、前記光軸調整の範囲が
    所定の範囲を超えたときに警報を発する報知手段を有す
    ることを特徴とする請求項1〜請求項5のうちいずれか
    一項に記載の接続装置。
  7. 【請求項7】 前記接続光学系は、露光装置が設置され
    る建屋内において、それぞれ異なるフロアに配置された
    前記露光装置本体と前記光源装置と接続するものである
    ことを特徴とする請求項1〜請求項6のうちいずれか一
    項に記載の接続装置。
  8. 【請求項8】 マスク上に形成されたパターンの像を投
    影光学系を介して基板上に転写する露光装置本体と、前
    記パターンを照明するための照明光を出射する光源装置
    とを備えた露光装置において、 前記露光装置本体と前記光源装置とを前記請求項1〜請
    求項7のうちいずれか一項に記載の接続装置で接続した
    ことを特徴とする露光装置。
  9. 【請求項9】 露光装置本体と光源装置とを接続装置内
    の接続光学系を介して光学的に接続した露光装置の光軸
    調整方法において、 前記接続装置に装着された計測手段により前記接続装置
    の基準状態に対する位置ずれを計測し、前記接続装置の
    位置ずれ量に基づいて、前記接続光学系における少なく
    とも1つの光学素子を駆動して、前記露光装置本体と前
    記光源装置との少なくとも一方に対する前記接続光学系
    の光軸調整を行うことを特徴とする露光装置の光軸調整
    方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102375345A (zh) * 2010-08-18 2012-03-14 上海微电子装备有限公司 可动光学元件调节驱动装置
JP2017059658A (ja) * 2015-09-16 2017-03-23 株式会社Sumco エピタキシャルウェーハの成膜条件決定方法、ならびにエピタキシャルウェーハの製造方法および製造装置

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