JP6471447B2 - ワイヤーグリッド偏光子の製造用部材の修正方法とワイヤーグリッド偏光子の製造方法および露光方法 - Google Patents
ワイヤーグリッド偏光子の製造用部材の修正方法とワイヤーグリッド偏光子の製造方法および露光方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6471447B2 JP6471447B2 JP2014203652A JP2014203652A JP6471447B2 JP 6471447 B2 JP6471447 B2 JP 6471447B2 JP 2014203652 A JP2014203652 A JP 2014203652A JP 2014203652 A JP2014203652 A JP 2014203652A JP 6471447 B2 JP6471447 B2 JP 6471447B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- defect
- wire grid
- pattern
- grid polarizer
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
近年、配向膜の製造において、ワイヤーグリッド偏光子を用いた光配向処理が用いられている。この光配向処理は、微細な金属細線を平行に複数備えたワイヤーグリッド偏光子に紫外線を照射し、出射された直線偏光を硬化性樹脂組成物に照射することにより異方性を持たせるものである。例えば、波長が200〜400nm程度の紫外線を使用する場合、ワイヤーグリッド偏光子は、金属細線が波長の1/2以下程度のピッチで配列されて構成されるグリッドを備える必要があり、このようなワイヤーグリッド偏光子の製造においては微細な加工技術が必要である。そのため、半導体製造に使われるリソグラフィ技術やエッチング技術を利用して、ガラス基板上にグリッドを形成することによりワイヤーグリッド偏光子を製造している(特許文献1)。
また、ガラス基板上へのグリッドの形成工程が終了した後に、ネガ型感光性樹脂と遮光性材料とを含む組成物をワイヤーグリッド偏光子のグリッド側に塗布し、グリッドが形成されていない面側から露光する工程を有するワイヤーグリッド偏光子の製造方法が提案されている(特許文献2)。このワイヤーグリッド偏光子の製造方法は、欠陥箇所において無偏光光が漏れてしまうことを逆に利用し、欠陥箇所のみを露光することにより遮光膜を形成するものである。
本発明は、上述のような実情に鑑みてなされたものであり、ワイヤーグリッド偏光子の製造に使用する部材の簡便かつ適切な修正方法と、白欠陥の発生を抑制したワイヤーグリッド偏光子の製造方法、ワイヤーグリッド偏光子を使用した露光方法を提供することを目的とする。
本発明の他の態様として、前記製造用部材は、前記第1パターンとしての遮光部及び前記第2パターンとしての開口部を有し、ネガ型感光性レジストを使用してレジストパターンを形成するためのフォトマスクであり、前記欠陥修正工程では、前記フォトマスクにおいて修正する必要のある、隣接する前記遮光部同士が繋がっている前記黒欠陥の欠陥箇所を含む所望の領域において、前記遮光部を除去することにより、当該所望の領域の前記パターンのみを消滅させるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記製造用部材は、前記第1パターンとしての遮光部及び前記第2パターンとしての開口部を有し、ポジ型感光性レジストを使用してレジストパターンを形成するためのフォトマスクであり、前記欠陥修正工程では、前記フォトマスクにおいて修正する必要のある、前記遮光部の少なくとも一部が欠損している前記白欠陥の欠陥箇所を含む所望の領域を遮光材料で被覆することにより、当該所望の領域の前記パターンのみを消滅させるような構成とした。
また、本発明のワイヤーグリッド偏光子の製造方法は、白欠陥のないワイヤーグリッド偏光子を、個々のワイヤーグリッド偏光子における欠陥修正を行うことなく、高いスループットで製造することが可能である。
また、本発明の露光方法は、白欠陥のないワイヤーグリッド偏光子を使用することにより、仮にワイヤーグリッド偏光子に黒欠陥が存在しても、黒欠陥の周辺部から出射される直線偏光によって補うことができ、被露光体に対して安定した露光を行うことが可能である。
尚、図面は模式的または概念的なものであり、各部材の寸法、部材間の大きさの比等は、必ずしも現実のものと同一とは限らず、また、同じ部材等を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比が異なって表される場合もある。
ライン形状の開口部16のライン幅W1は、ワイヤーグリッド偏光子に使用する光のピーク波長に応じて設定することができ、例えば、10〜100nmの範囲内で適宜設定することができ、開口部16間に位置するワイヤー部17の幅W2も、10〜100nmの範囲内で適宜設定することができる。
尚、本発明において透明とは、波長200〜400nmにおける光線透過率が50%以上、好ましくは70%以上であることを意味する。光線透過率の測定は、日本分光(株)製 V−650を用いて行うことができる。
また、ワイヤーグリッド15を構成するワイヤー部17の材質(グリッド材料層14の材質)としては、例えば、アルミニウム、金、銀、銅、珪素化モリブデン、酸化チタン等の金属、金属化合物等の導電性材料、誘電性材料を挙げることができ、これらのいずれかを単独で、あるいは、組み合わせで使用することができる。このようなワイヤー部17の厚みは、10〜500nmの範囲で適宜設定することができる。
ここで、図4に示されるように、ワイヤーグリッド15を構成するワイヤー部17が欠損した欠陥(白欠陥)、および、ワイヤー部17の間隙部位(開口部16)に遮光性の異物等が位置するような欠陥(黒欠陥)が存在するワイヤーグリッド偏光子を本発明の露光方法に使用した場合の不具合を説明する。
以下に、ワイヤーグリッド偏光子の製造用部材に存在する欠陥と、本発明による製造用部材の修正方法を説明する。
図5〜図7は、ワイヤーグリッド偏光子の製造用部材がインプリント用モールドであり、このインプリント用モールドに存在する欠陥を説明するための図である。
図5は、ワイヤーグリッド偏光子の製造用のインプリント用モールドが備える凹凸構造の例を示す部分平面図であり、図6は、図5に示されるインプリント用モールドのII−II線における縦断面図である。インプリント用モールド21は、基材22と、この基材22の一方の面の所望の領域に形成された凹凸構造23を有している。凹凸構造23は、矢印A方向に沿ったライン形状の凹部23aと、このような凹部23aを画定する凸部23bを有している。図5では、凹凸構造23を構成する凸部23bに斜線を付して示している。インプリント用モールド21を構成する基材22の材質は、特に制限はなく、例えば、ワイヤーグリッド偏光子の製造に使用する硬化性レジストが光硬化性である場合には、これを硬化させるための照射光が透過可能な材料を用いることができ、例えば、石英ガラス、珪酸系ガラス、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、アクリルガラス等のガラス類の他、サファイアや窒化ガリウム、更にはポリカーボネート、ポリスチレン、アクリル、ポリプロピレン等の樹脂、あるいは、これらの任意の積層材、可撓性を有するものを用いることができる。また、使用する硬化性レジストが光硬化性ではない場合や、ワイヤーグリッド偏光子を構成する透明基板側から硬化性レジストを硬化させるための光を照射可能である場合には、基材22は光透過性を具備しなくてもよく、上記の材料以外に、例えば、シリコンやニッケル、チタン、アルミニウム等の金属およびこれらの合金、酸化物、窒化物、あるいは、これらの任意の積層材を用いることができる。
図7は、このような欠陥を有するインプリント用モールド21を、インプリントリソグラフィ方法において使用することにより、ワイヤーグリッド偏光子を製造する例を示す工程図である。この図7には、図6に示すインプリント用モールド21の断面が示されている。まず、透明基板12の面12a上にグリッド材料層14を形成し、このグリッド材料層14上に硬化性レジスト101を供給する。次いで、インプリント用モールド21と透明基板12とを近接させて、インプリント用モールド21と硬化性レジスト101とを接触させることにより、インプリント用モールド21の凹凸構造23の凹部23a内に硬化性レジストを展開する(図7(A))。
上記のような欠陥を有するインプリント用モールド21を例として、本発明の修正方法の一実施形態を説明する。
また、インプリント用モールド21の白欠陥24Wは、そのまま残存させても、後述のように、ワイヤーグリッド偏光子の製造において特に支障を来すことはないが、例えば、レーザアシストCVD、集束イオンビームアシストCVD、電子線アシストCVD等により、白欠陥24Wのみにピンポイントで遮光材料を堆積することにより修正を行うことを排除するものではない。
尚、図示例のインプリント用モールド21Rは、白欠陥24Wがそのまま残存する例となっている。
このような本発明のワイヤーグリッド偏光子の製造方法は、個々のワイヤーグリッド偏光子における欠陥修正を行うことなく、白欠陥のないワイヤーグリッド偏光子を高いスループットで製造することが可能である。
図12〜図14は、ワイヤーグリッド偏光子の製造用部材がネガ型感光性レジストを使用するフォトマスクであり、このフォトマスクに存在する欠陥を説明するための図である。
図12は、ワイヤーグリッド偏光子の製造用のフォトマスクが備える遮光部の例を示す部分平面図であり、図13は、図12に示されるフォトマスクのV−V線における縦断面図である。フォトマスク41は、基材42と、この基材42の一方の面の所望の領域に形成された遮光部43を有している。図12では、遮光部43に斜線を付して示している。フォトマスク41を構成する基材42の材質は、特に制限はなく、ネガ型感光性レジストを露光するための照射光が透過可能な材料を用いることができる。
この例では、フォトマスク41は、遮光部形成時に異物付着等の理由により、隣接する遮光部43が繋がっている黒欠陥44Bと、遮光部43の一部が欠損している白欠陥44Wが存在する状態を示している。
次に、露光後のレジスト層201を現像することにより未露光部位を除去する。これにより、グリッド材料層14上にエッチングレジスト層202が形成された状態となる(図14(B))。このように形成されたエッチングレジスト層202には、フォトマスク41の遮光部43間を透過した光で硬化することにより形成されたレジストパターン203が存在し、また、フォトマスク41に存在する黒欠陥44Bに起因したレジストパターンの欠損部位203′、白欠陥44Wに起因したレジストパターンの繋がり部位204が存在している。
上記のような欠陥を有するフォトマスク41を例として、本発明の修正方法の一実施形態を説明する。
また、フォトマスク41に白欠陥44Wが存在する場合、この白欠陥44Wは、そのまま残存させても、ワイヤーグリッド偏光子の製造において白欠陥を生じる原因とはならないが、例えば、レーザアシストCVD、集束イオンビームアシストCVD、電子線アシストCVD等により、白欠陥44Wのみにピンポイントで遮光材料を堆積して修正を行うことを排除するものではない。
このような本発明のワイヤーグリッド偏光子の製造方法は、個々のワイヤーグリッド偏光子における欠陥修正を行うことなく、白欠陥のないワイヤーグリッド偏光子を高いスループットで製造することが可能である。
図19〜図21は、ワイヤーグリッド偏光子の製造用部材がポジ型感光性レジストを使用するフォトマスクであり、このフォトマスクに存在する欠陥を説明するための図である。
図19は、ワイヤーグリッド偏光子の製造用のフォトマスクが備える遮光部の例を示す部分平面図であり、図20は、図19に示されるフォトマスクのVIII−VIII線における縦断面図である。フォトマスク61は、基材62と、この基材62の一方の面の所望の領域に形成された遮光部63を有している。図19では、遮光部63に斜線を付して示している。フォトマスク61を構成する基材62の材質は、特に制限はなく、ポジ型感光性レジストを露光するための照射光が透過可能な材料を用いることができる。
この例では、フォトマスク61は、遮光部63の一部が欠損している白欠陥64Wと、遮光部形成時に異物付着等の理由により、隣接する遮光部63が繋がっている黒欠陥64Bが存在する状態を示している。
次に、露光後のレジスト層301を現像することにより露光部位を除去する。これにより、グリッド材料層14上にエッチングレジスト層302が形成された状態となる(図21(B))。このように形成されたエッチングレジスト層302には、フォトマスク61の遮光部63に対応する未露光部位に形成されたレジストパターン303が存在するとともに、フォトマスク61に存在する白欠陥64Wに起因したレジストパターンの欠損部位303′と、黒欠陥64Bに起因したレジストパターンの繋がり部位304が存在している。
上記のような欠陥を有するフォトマスク61を例として、本発明の修正方法の一実施形態を説明する。
また、フォトマスク61に黒欠陥64Bが存在する場合、この黒欠陥64Bは、そのまま残存させても、ワイヤーグリッド偏光子の製造において白欠陥を生じる原因とはならないが、例えば、集束イオンビーム、電子線で黒欠陥64Bを除去したり、原子間力顕微鏡のプローブを用いて物理的に黒欠陥64Bを削ることを排除するものではない。
このような本発明のワイヤーグリッド偏光子の製造方法は、個々のワイヤーグリッド偏光子における欠陥修正を行うことなく、白欠陥のないワイヤーグリッド偏光子を高いスループットで製造することが可能である。
上述のワイヤーグリッド偏光子の製造用部材の修正方法、ワイヤーグリッド偏光子の製造方法、ワイヤーグリッド偏光子を使用した露光方法の実施形態は例示であり、本発明はこれに限定されるものではない。
12…透明基板
13…グリッド領域
14…グリッド材料層
15…ワイヤーグリッド
16…開口部
17…ワイヤー部
18W…白欠陥
18B,18B′…黒欠陥
21,21R…インプリント用モールド
22…基材
23…凹凸構造
23a′…修正箇所である凹部
24W…白欠陥
24B…黒欠陥
41,41R…フォトマスク
43…遮光部
44W…白欠陥
44B…黒欠陥
61,61R…フォトマスク
63…遮光部
64W…白欠陥
64B…黒欠陥
66…遮光部材
Claims (6)
- 基板、並びに前記基板の一方の面に設けられた開口部及びワイヤー部を有するワイヤーグリッド偏光子を製造する工程において前記開口部及び前記ワイヤー部を前記基板の一方の面に形成するために用いられる、第1パターン及び第2パターンを含むパターンを有する製造用部材に存在するパターン欠陥を修正する方法であって、
前記製造用部材に存在する前記パターン欠陥の種類が、前記第1パターンの少なくとも一部が欠損している白欠陥であるか、隣接する前記第1パターン同士が繋がっている黒欠陥であるかを判別し、前記パターン欠陥の存在する箇所である欠陥箇所を特定する外観検査工程と、
前記製造用部材に存在する前記パターン欠陥の種類が前記製造用部材を用いて製造された前記ワイヤーグリッド偏光子に前記ワイヤー部の少なくとも一部が欠損している白欠陥を生じさせる原因となるために前記製造用部材において修正の必要な欠陥である場合に、前記修正の必要な欠陥の欠陥箇所を含む所望の領域の前記パターンのみを消滅させる欠陥修正工程と
を有することを特徴とするワイヤーグリッド偏光子の製造用部材の修正方法。 - 前記製造用部材は、前記第1パターンとしての凸部及び前記第2パターンとしての凹部を含む凹凸構造を有するインプリント用モールドであり、
前記欠陥修正工程では、前記インプリント用モールドが備える凹凸構造における隣接する前記凸部同士が繋がっている前記黒欠陥の欠陥箇所を含む所望の領域を、前記凹凸構造を構成する前記凹部と同等以上の深さを有する凹部とすることにより、当該所望の領域の前記パターンのみを消滅させることを特徴とする請求項1に記載のワイヤーグリッド偏光子の製造用部材の修正方法。 - 前記製造用部材は、前記第1パターンとしての遮光部及び前記第2パターンとしての開口部を有し、ネガ型感光性レジストを使用してレジストパターンを形成するためのフォトマスクであり、
前記欠陥修正工程では、前記フォトマスクにおいて修正する必要のある、隣接する前記遮光部同士が繋がっている前記黒欠陥の欠陥箇所を含む所望の領域において、前記遮光部を除去することにより、当該所望の領域の前記パターンのみを消滅させることを特徴とする請求項1に記載のワイヤーグリッド偏光子の製造用部材の修正方法。 - 前記製造用部材は、前記第1パターンとしての遮光部及び前記第2パターンとしての開口部を有し、ポジ型感光性レジストを使用してレジストパターンを形成するためのフォトマスクであり、
前記欠陥修正工程では、前記フォトマスクにおいて修正する必要のある、前記遮光部の少なくとも一部が欠損している前記白欠陥の欠陥箇所を含む所望の領域を遮光材料で被覆することにより、当該所望の領域の前記パターンのみを消滅させることを特徴とする請求項1に記載のワイヤーグリッド偏光子の製造用部材の修正方法。 - 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の修正方法により前記パターン欠陥が修正された前記製造用部材を用いて、一の面にグリッド材料層を備える透明基板の該グリッド材料層上にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをエッチングマスクとして前記グリッド材料層をエッチングすることにより開口部及びワイヤー部を有するワイヤーグリッドを形成する工程と
を有することを特徴とするワイヤーグリッド偏光子の製造方法。 - 請求項5に記載のワイヤーグリッド偏光子の製造方法により製造したワイヤーグリッド偏光子を介して光源からの照射光を被露光体に照射する露光方法において、
前記ワイヤーグリッド偏光子の前記ワイヤー部の長手方向に沿って前記被露光体と前記ワイヤーグリッド偏光子とを互いに相対的に移動させることを特徴とする露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014203652A JP6471447B2 (ja) | 2014-10-02 | 2014-10-02 | ワイヤーグリッド偏光子の製造用部材の修正方法とワイヤーグリッド偏光子の製造方法および露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014203652A JP6471447B2 (ja) | 2014-10-02 | 2014-10-02 | ワイヤーグリッド偏光子の製造用部材の修正方法とワイヤーグリッド偏光子の製造方法および露光方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016071306A JP2016071306A (ja) | 2016-05-09 |
JP6471447B2 true JP6471447B2 (ja) | 2019-02-20 |
Family
ID=55866858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014203652A Active JP6471447B2 (ja) | 2014-10-02 | 2014-10-02 | ワイヤーグリッド偏光子の製造用部材の修正方法とワイヤーグリッド偏光子の製造方法および露光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6471447B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10557979B2 (en) | 2016-09-29 | 2020-02-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Substrate for wire grid polarizer, wire grid polarizer, manufacturing method for wire grid polarizer, and display device including wire grid polarizer |
KR20180035985A (ko) | 2016-09-29 | 2018-04-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 와이어 그리드 편광자 제조용 마스터 몰드, 와이어 그리드 편광자 및 이를 제조하는 방법 및 와이어 그리드 편광자를 포함하는 표시 장치 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4506412B2 (ja) * | 2004-10-28 | 2010-07-21 | ウシオ電機株式会社 | 偏光素子ユニット及び偏光光照射装置 |
JP2007310250A (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Hitachi Maxell Ltd | ワイヤグリッド偏光子の製造方法及びワイヤグリッド偏光子 |
JP5274006B2 (ja) * | 2007-12-26 | 2013-08-28 | チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド | ワイヤグリッド偏光子およびその製造方法 |
JP5786383B2 (ja) * | 2011-03-14 | 2015-09-30 | セイコーエプソン株式会社 | 偏光素子の製造方法、偏光素子、プロジェクター、液晶装置、電子機器 |
WO2013161454A1 (ja) * | 2012-04-26 | 2013-10-31 | Jx日鉱日石エネルギー株式会社 | 微細パターン転写用のモールドの製造方法及びそれを用いた凹凸構造を有する基板の製造方法、並びに該凹凸構造を有する基板を有する有機el素子の製造方法 |
JP5983223B2 (ja) * | 2012-09-14 | 2016-08-31 | 株式会社リコー | 光学素子の検査方法、及び光学素子の検査装置 |
CN104685970B (zh) * | 2012-09-28 | 2016-10-19 | 吉坤日矿日石能源株式会社 | 检查具有不规则凹凸表面的基板的装置及使用该装置的检查方法 |
-
2014
- 2014-10-02 JP JP2014203652A patent/JP6471447B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016071306A (ja) | 2016-05-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7056013B2 (ja) | テンプレート及びテンプレートブランクス、並びにインプリント用テンプレート基板の製造方法、インプリント用テンプレートの製造方法、及び、テンプレート | |
JP2010152031A (ja) | フォトマスクのパタン位置補正方法および位置補正されたフォトマスク | |
WO2017045391A1 (zh) | 掩模板及其制备方法和曝光系统 | |
TWI459442B (zh) | 成像裝置及其形成方法及形成半導體裝置結構之方法 | |
JP6471447B2 (ja) | ワイヤーグリッド偏光子の製造用部材の修正方法とワイヤーグリッド偏光子の製造方法および露光方法 | |
TW201543138A (zh) | 反射型空白光罩、反射型光罩、反射型光罩之製造方法、曝光方法及曝光裝置 | |
JP2015169803A (ja) | マスク及びパターン形成方法 | |
JP7139751B2 (ja) | インプリントモールドの製造方法 | |
JP6281592B2 (ja) | レプリカテンプレートの製造方法 | |
JP7135797B2 (ja) | パターンの修正方法 | |
JP6372205B2 (ja) | 偏光子、偏光子の製造方法、および光配向装置 | |
JP4881413B2 (ja) | 識別マーク付きテンプレート及びその製造方法 | |
US11635679B1 (en) | Alternating phase shift mask | |
JP6996333B2 (ja) | ブランクス基材、インプリントモールド、インプリントモールドの製造方法及びインプリント方法 | |
JP6631271B2 (ja) | インプリントモールドの製造方法 | |
JP6628121B2 (ja) | 偏光子の製造方法および電子線照射装置 | |
JP6417728B2 (ja) | テンプレートの製造方法 | |
KR20090108268A (ko) | 바이너리 마스크의 패턴 선폭 보정방법 | |
JP2010060636A (ja) | 偏光子の製造方法、偏光子および投射型液晶表示装置 | |
JP2008292929A (ja) | 遮光パターンの製造方法 | |
JP6957917B2 (ja) | インプリントモールド用マスクブランク及びその製造方法、インプリントモールド及びその製造方法、並びにインプリント方法 | |
KR20100010696A (ko) | 포토마스크 검사용 정렬 패턴을 구비하는 포토마스크 및 그제조방법 | |
JP2012190827A (ja) | インプリントモールド及びその作製方法、パターン形成体 | |
JP2018133591A (ja) | テンプレートの製造方法 | |
JP2018067607A (ja) | インプリント用モールド、該モールドを用いたパターン形成方法、及び、パターン形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170829 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180515 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20181225 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190107 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6471447 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |