JP6471078B2 - 多結晶材表面の加工方法およびそれを用いて加工された多結晶材の接合方法 - Google Patents
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Description
上記した以外の課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
図1は本発明に係る多結晶材表面の加工方法(鏡面研磨法)の原理を説明するための図であり、第一段階研磨(研磨1)における加工対象の表面を概念的に示した断面図である。図1の(1)において、100は母材であり、200は不動態皮膜である。300は不動態皮膜の厚さであり、400は研磨前の不動態被膜表面の凹凸の大きさ(凸部の頂部から凹部の底部までの長さ)である。不動態皮膜300の厚さは図1に示すように母材表面に形成されている凹凸が反映されたものになっている。図1の(2)に示すように、加工(研磨)対象を除去加工厚さ510まで研磨する。ここで、除去加工厚さ510は、不動態皮膜の厚さ300より小さい。また、除去加工厚さ510は、母材300の凸部領域の一部が除去され、凸部領域の母材が露出するように設定される。すなわち、除去加工厚さ510は、不動態被膜を全て除去するのではなく凹部領域の不動態被膜の一部を残し、凸部領域の母材が露出するように設定される。時間が経過すると、図1の(3)のように、310の厚さまで不動態皮膜は再生する。この不動態皮膜の再生のときに母材の凸部の一部の厚さ610を消費する。すなわち、凸部領域が除去されて露出した母材表面には不動態被膜が生成(再生)され、不動態被膜の一部が残っている凹部領域における不動態膜の厚さは実質的に変化しない。これにより表面の凹凸の大きさが小さくなる。すなわち、このときの凹凸の大きさは410であり、凹凸の大きさ410は凹凸の大きさ400より小さい。凹凸の大きさ400から凹凸の大きさ410を引いた差分が、第一段階研磨の粗さ低減効果である。
図3の(1)において、701及び801は母材の結晶粒を表しており、結晶粒701と結晶粒801は結晶方位が異なる。ここで、結晶粒701は結晶粒801に比べて研磨加工されにくい、すなわちすべりにくい面方位の結晶粒である。本実施例における加工(研磨)は基本的には図1に示す第一段階研磨と同じ作業が行われるが、ここでは、結晶粒701と結晶粒801の結晶方位が異なることに起因する段差が生じている。201は不動態皮膜である。301は不動態皮膜の厚さであり、401は研磨前の凹凸の大きさである。図3の(2)において、除去加工厚さ511(511は、不動態皮膜の厚さ301より小さい)まで研磨する。この研磨で凸部領域が除去される。この研磨としては、イオンビームを用いた研磨(Arイオン研磨加工やNeイオン研磨加工など)が用いられるが、これに限定されるものではない。また、本実施例では、研磨は多結晶材表面の皮膜の状態を計測して行われている。すなわち、本実施例では、母材が凹部となっている箇所に形成されている不動態膜も全て研磨により除去するのではなく、凹部における不動態膜を確実に残すことが重要である。表面の被膜の状態を計測しながら、凸部領域の母材表面が露出するまで除去加工することにより凹部における不動態膜を確実に残すことができる。表面の被膜の状態は、例えば、ステンレス母材よりも不動態皮膜は導電性が低いことを利用して、微弱な電流を流しておき、電流値の触れを見て皮膜の状態を監視する。
この研磨の際、結晶粒701は結晶粒801より研磨加工されにくいので、結晶粒701と結晶粒801との間には段差911が発生する。時間が経過すると、図3の(3)のように、311の厚さまで不動態皮膜は再生する。この不動態皮膜の再生のときに母材の凸部の一部の厚さ611を消費する。また、このときの凹凸の大きさは411であり、凹凸の大きさ411は凹凸の大きさ401より小さい。凹凸の大きさ401から凹凸の大きさ411を引いた差分が、第一段階研磨の粗さ低減効果である。
上述した多結晶材表面加工方法で得られた平滑面を持つ多結晶材は他の構造物(半導体センサや他の金属など)と接合される。この接合は、例えば、表面活性化接合などの常温接合が適用される。このように接合方法とすることにより、表面粗さが大きい場合に比べて、接合面積が大きくなるので、大きな接合力が得られる。
常温接合の場合、上述の第二段階研磨において不動態被膜が再生される前に接合を行えば、表面活性化の工程を省略することができる。例えば、不動態被膜の再生を抑制するために、上述の第二段階研磨は不活性ガス中で行うようにして、研磨終了後に不動態膜が形成されないようにし(図4の(3)の工程を省略)、同じ雰囲気中で常温接合を行うようにする。
さらに、第二段階研磨の後に、第三段階研磨を行い、第三段階研磨では接合面となる箇所の不動態膜を全て除去して母材を露出させ、それに常温接合を行うようにすれば、より良好な接合面が得られる。
200 不動態皮膜
201 実際の多結晶の不動態皮膜
202 本発明を用いない場合の不動態皮膜
300 不動態皮膜の厚さ
301 実際の多結晶の不動態皮膜の厚さ
302 本発明を用いない場合の不動態皮膜の厚さ
310 研磨1後の不動態皮膜の厚さ
311 実際の多結晶の研磨1後の不動態皮膜の厚さ
320 研磨2後の不動態皮膜の厚さ
321 実際の多結晶の研磨2後の不動態皮膜の厚さ
400 研磨前の凹凸の大きさ
401 実際の多結晶の研磨前の凹凸の大きさ
402 本発明を用いない場合の研磨前の凹凸の大きさ
410 研磨1後の凹凸
411 実際の多結晶の研磨1後の凹凸の大きさ
420 研磨2後の凹凸の大きさ
421 実際の多結晶の研磨2後の凹凸の大きさ
510 研磨1での除去加工厚さ
511 実際の多結晶の研磨1での除去加工厚さ
512 本発明を用いない場合の研磨1での除去加工厚さ
520 研磨2での除去加工厚さ
521 実際の多結晶の研磨2での除去加工厚さ
610 不動態皮膜の再生に使われた厚さ1
611 実際の多結晶の不動態皮膜の再生に使われた厚さ1
620 不動態皮膜の再生に使われた厚さ2
621 実際の多結晶の不動態皮膜の再生に使われた厚さ2
701 実際の多結晶の研磨加工されにくい結晶粒
702 本発明を用いない場合の多結晶の研磨加工されにくい結晶粒
802 本発明を用いない場合の多結晶の研磨加工されやすい結晶粒
801 実際の多結晶の研磨加工されやすい結晶粒
911 実際の多結晶の結晶粒ごとの段差1
912 本発明を用いない場合の結晶粒ごとの段差1
922 本発明を用いない場合の結晶粒ごとの段差2
932 本発明を用いない場合の結晶粒ごとの段差3
Claims (9)
- 多結晶材の母材表面に生成されている皮膜の厚さの範囲内で母材表面の凸部領域を除去加工する除去加工工程と、
除去加工後に表面の皮膜の再生を行う皮膜再生工程と、を有し、
前記凸部領域の除去はイオンビームを用いることを特徴とする多結晶材表面の加工方法。 - 請求項1に記載の多結晶材表面の加工方法において、
前記皮膜再生工程で再生した皮膜の厚さの範囲内で、表面の凸部領域を除去加工する工程を繰り返すことを特徴とする多結晶材表面の加工方法。 - 請求項1に記載の多結晶材表面の加工方法において、
前記多結晶材は金属材であることを特徴とする多結晶材表面の加工方法。 - 請求項3に記載の多結晶材表面の加工方法において、
前記金属材は、ステンレスであることを特徴とする多結晶材表面の加工方法。 - 請求項1に記載の多結晶材表面の加工方法において、
前記皮膜は不動態膜であることを特徴とする多結晶材表面の加工方法。 - 請求項1に記載の多結晶材表面の加工方法において、
前記多結晶材表面の皮膜の状態を計測して表面の凸部領域を除去加工する工程を有することを特徴とする多結晶材表面の加工方法。 - 請求項1に記載の多結晶材表面の加工方法で得られた平滑面を持つ多結晶材を他の構造物と接合する工程を有する接合方法。
- 請求項7に記載の接合方法において、前記接合方法は常温接合法を用いて接合することを特徴とする接合方法。
- 請求項7に記載の接合方法において、前記他の構造物は半導体センサであることを特徴とする接合方法。
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