JP6460162B2 - 波長変換装置の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、プロジェクターなどに用いることができる波長変換装置の製造方法に関する。
特許文献1に記載の光源装置は、励起光として発光する固体光源と、少なくとも1種類の蛍光を含む蛍光体層と、放熱基板と、を備え、蛍光体層は放熱基板と接合部によって接合されている(例えば、図2参照)。そして、蛍光体層からの熱を、接合部を介して放熱基板へと放散している。
特開2012−15001号公報
しかし、特許文献1に記載の光源装置では、蛍光体層における熱を下面からしか放熱できず、十分な放熱効果を得ることができなかった。これにより、波長変換部材における変換効率が低下し、所望の光出力が得られなくなるという問題があった。
本発明は、熱による蛍光体の特性劣化を抑制するために、効率よく放熱できる波長変換装置の製造方法を提供することを目的とする。
本発明に係る波長変換装置の製造方法は、波長変換部材を準備する工程と、前記波長変換部材の下面に反射膜を形成する工程と、前記波長変換部材の側面及び前記反射膜の側面が、下面から上面に向かって広がる形状となるように前記波長変換部材及び前記反射膜を加工する工程と、前記波長変換部材の側面、前記反射膜の側面及び前記反射膜の下面に金属材料を含む介在膜を形成する工程と、前記介在膜の下面と放熱部材とを、金属材料を含む接続部材を用いて接続し、前記接続部材を前記介在膜の側面に這い上がらせる工程を含む。
本発明は、波長変換部材からの熱を効率よく放熱部材へと排熱できる波長変換装置の製造方法とすることができる。
図1は、第1実施形態に係る波長変換装置を説明するための概略断面図である。 図2は、第1実施形態に係る波長変換装置の製造方法を説明するための模式図である。 図3は、第2実施形態に係る波長変換装置を説明するための概略断面図である。 図4は、実施例及び比較例の発光効率の測定結果を示すグラフである。
以下に図面を参照しながら、本発明を実施するための形態を説明する。ただし、以下に示す形態は、本発明の技術思想を具体化するための例示であって、本発明を以下に限定するものではない。また、各図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするために誇張していることがある。さらに、同一の名称、符号については、原則として同一もしくは同質の部材を示しており、重複した説明は適宜省略する。
<第1実施形態>
図1に、本実施形態に係る波長変換装置100を示す。波長変換装置100は、放熱部材50と、放熱部材50上に設けられた波長変換部材10と、金属材料を含み放熱部材50と波長変換部材10を接続する接続部材40と、を有する。特に、波長変換部材10は、上面と、側面と、下面と、を有し、接続部材40は、波長変換部材10の側面及び下面と熱的に接続されている。
これにより、波長変換部材10の劣化を抑制することができる。これは、接続部材40が、下面のみならず、側面にも熱的に接続されているため、放熱経路を増やすことができるからである。
ここで、本明細書では、説明の便宜上、図に示す断面図の下側を「下」と表現し、上側を「上」と表現している。しかし、これらの位置関係は相対的なものであればよく、例えば各図の上下を逆にしても本明細書の範囲内であることは言うまでもない。また、本明細書における「熱的に接続されている」とは、直接接続されているものに限定されず、熱伝導性の部材を介して接続されているものも含む。
以下、波長変換装置100における主な構成要素について説明する。
(波長変換部材10)
波長変換部材10は、LEDやLDなどの光源から照射された励起光を波長変換させるものである。波長変換部材10は例えば、蛍光体粉末と保持体とを混合させ、SPS(Spark Plasma Sintering:放電プラズマ焼結)、HIP(Hot Isostatic Pressing:熱間静水圧成形)、CIP(Cold Isostatic Pressing:冷間等方加圧成形)等の焼結法を用いて形成することができる。光源としてLDを用いる場合、LD光は光密度が高いので、波長変換部材10は発熱しやすい。しかし、放熱性に優れる波長変換装置であれば、光源としてLDを用いる場合であっても十分に使用することができる。
波長変換部材10の形状は、板状体が好ましい。これにより、放熱部材50上に安定して波長変換部材10を配置することができる。本実施形態では、波長440〜480nmの青色の励起光により励起し、波長500〜540nmの緑色の光を放出するような蛍光体を用いている。このような条件を満たす波長変換部材10の材料としては、LAG系蛍光体、YAG系蛍光体などが挙げられる。保持体としては、酸化アルミ、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化ルテチウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化タングステン、五酸化二バナジウム、三酸化モリブデン、酸化ナトリウム、酸化イットリウム、二酸化ケイ素、酸化ホウ素、五酸化二リン等を用いることができる。
波長変換部材10の側面は、下面から上面に向かって広がるように傾斜して設けることができる。つまり、波長変換部材10の側面は、下面から上面に向かうにつれて徐々に外側へ広がった形状とすることができる。このとき、傾斜角度(下面と側面が成す角度)は好ましくは5°以上85°以内、より好ましくは20°以上70°以内、さらに好ましくは30°以上60°以内とすることができる。これにより、波長変換部材10の側面における表面積を大きくすることができるため、放熱性を向上させることができる。
さらに、図示していないが波長変換部材10の側面は、粗面とすることもできる。これにより、光を乱反射させることができるので、効率良く光を取り出すことができる。また、粗面とすることで側面の表面積が増加するため、放熱性をより向上させることができ、さらに、接続部材40や介在膜30等の側面に接着する部材との密着性も向上させることができる。
(反射膜20)
本実施形態では、波長変換部材10と接続部材40との間に反射膜20を設けている。反射膜20は、波長変換部材10の上面側から入射した光を、再度上面側に反射させるためのものである。反射膜20は波長変換部材10の下面と接続部材40との間に設けられている。こうすることで、光を効率よく反射させ、光取り出し効率を向上させることができる。反射膜20は、単膜であってもよいし、多層膜であってもよい。本実施形態においては、反射膜20として誘電体材料よりなる第1反射膜21及び金属材料からなる第2反射膜22を設けているが、いずれか一方のみを用いることもできるし、他の構成を採用することもできる。以下、第1反射膜21と第2反射膜22について説明する。
(第1反射膜21)
第1反射膜21は、誘電体材料からなるものを用いることができる。第1反射膜21としては、酸化ケイ素、酸化ニオブ、酸化アルミ、酸化ジルコニウム、窒化アルミ、窒化ケイ素等を用いることができる。
第1反射膜21の膜厚は、10nm以上10000nm以下、好ましくは100nm以上1000nm以下とすることができる。これにより、浅い角度で入射した光を、全反射させることができる。
第1反射膜21に誘電体材料を用いると、反射率が向上し、光取り出し効率は向上するものの、誘電体の熱伝導率は一般に小さいため、放熱性は低下してしまう。しかし、本発明によれば、接続部材40は、波長変換部材10の下面のみならず側面とも熱的に接続されているため、高い光取り出し効率を維持したままで、放熱性の低下も抑制することができる。
(第2反射膜22)
第2反射膜22は、金属材料よりなるものとすることができ、第1反射膜21の下側に設けることができる。第2反射膜22は、例えば、アルミニウム、銀、ロジウムから選択された少なくとも一種の金属を含む金属膜とすることができるが、反射率の高い銀を用いるのが好ましい。これにより、第1反射膜21で反射できなかった光も反射することができるため、光を損失なく反射できる。なお、第2反射膜に銀を用いる場合は、反射膜は波長変換部材の下面のみに形成されている。すなわち、波長変換部材の側面には形成されていない。波長変換部材の側面まで反射膜を形成すると、側面の一部が露出してしまい、露出した領域から硫化し黒色化してしまう。反射膜を下面のみに設けることにより、介在膜で完全に被覆することができるため、劣化を誘発する元素に第2反射膜が晒されない。よって、硫化を抑制することができる。
また、図示していないが、反射膜20の下面に拡散防止膜を形成することもできる。つまり、反射膜と、介在膜との間に拡散防止膜を形成することもできる。拡散防止膜としては例えば、ルテニウム、チタン/ニッケル/プラチナ、チタン/ニッケル/ルテニウム等を用いることができる。
(介在膜30)
介在膜30は、金属材料を含み、波長変換部材10の側面から反射膜20の下面にわたって形成することができる。つまり、波長変換部材10の側面、反射膜20の側面及び反射膜20の下面の露出する領域全てを被覆しており、波長変換部材10と接続部材40との間に設けることが好ましい。接続部材40として共晶材料を用いた場合、共晶材料と波長変換部材10とは密着性が悪く、接合性が問題となるところ、間に介在膜30を介すことで密着性を向上させることができる。また、反射膜20を被覆していることにより、反射膜20の劣化も抑制することができる。
介在膜30としては、例えば波長変換部材10側からチタン/ロジウム/金、ニッケル/ロジウム/金等を積層したものを用いることができる。これにより、側面から抜ける光を反射させることができ、光取出し効率を向上させることができる。介在膜30の膜厚は、1nm以上10000nm以下、好ましくは100nm以上5000nm以下とすることができる。
なお、第2反射膜22に銀を用いた場合、第2反射膜22が硫化する(黒色に変色する)ことにより、反射率が大幅に低下する恐れもある。しかし、本実施形態によれば、第2反射膜22は介在膜30で被覆されているため、第2反射膜22の劣化も防止することができる。
(接続部材40)
接続部材40は、金属材料を含んでおり、放熱部材50と波長変換部材10と機械的に固定すると同時に、両者を熱的に接続するためのものである。接続部材40は、放熱伝導率の良い材料を用いることが好ましい。例えば、銀、金、パラジウムなどの導電ペーストや、金スズなどの共晶はんだ、低融点金属等のロウ材を用いることができる。中でも、比較的低温で溶融して接着でき、放熱性も良好な金スズとの共晶はんだを用いることが好ましい。
接続部材40は、波長変換部材10の上面以外の領域の全てと、熱的に接続されていることが好ましい。つまり、反射膜20を有しない場合は、波長変換部材10の側面及び下面と熱的に接続されており、波長変換部材10の下側に反射膜20を有する場合は、波長変換部材10の側面、反射膜20の側面及び反射膜20の下面と熱的に接続されているのが良い。これにより、広範囲での放熱経路を確保することができる。なお、接続部材40は波長変換部材10と直接接続されている必要はなく、例えば間に介在膜30を介することもできる。
(放熱部材50)
放熱部材50は、いわゆるヒートシンクであり、接続部材40を介して波長変換部材10と熱的に接続されている。放熱部材50は熱伝導率を考慮して選択することができる。具体的には、金、銀、アルミニウム、ニッケル、銅、鉄、タングステン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ダイヤモンド、ステンレス、真鍮、カーボン等、好ましくは鉄、より好ましくは銅を用いることができる。これにより、波長変換部材10の特性劣化を抑制することができるので、信頼性の高い波長変換装置を提供することができる。
放熱部材50の形状は典型的には板状とすることができる。また、放熱部材50は、表面をめっき処理してもよい。めっき処理の材料としては、例えば、ニッケル/金めっきが挙げられる。こうすることで、放熱部材50の腐食を防止することができる。
(保護膜60)
また、波長変換部材10の上面に酸化ケイ素等からなる保護膜60を設けることもできる。これにより、波長変換部材10が直接むき出しにならないため、劣化を抑制することができる。
<波長変換装置の製造方法>
以下に、図2(a)〜(d)を参照しながら、本実施形態に係る波長変換装置の製造方法について示す。
(波長変換部材10準備工程)
まず、蛍光体と保持体を混合させ、SPS焼結法により得られたウエハ状の波長変換部材10を準備した。波長変換部材10の上面及び下面は、機械研磨により荒く研磨した後、CMPにより仕上げ研磨することがこのましい。これにより、機械研磨のダメージを取り除くことができるので、発光効率の高い波長変換部材とすることができる。
(反射膜20形成工程)
次に、図2(a)に示すように、ウエハ状の波長変換部材10の上面に保護膜60を形成するとともに、波長変換部材10の下面に反射膜20を形成した。反射膜20は、波長変換部材10側から順に、第1反射膜21と第2反射膜22とを有している。
(個片化工程)
次に、図2(b)に示すように、反射膜20及び保護膜60を形成した波長変換部材10を複数の素子に個片化する。個片化する際に、ベベルカット用ブレードを用いて、波長変換部材の側面が下面から上面に向かって広がった傾斜となるようにする。
(介在膜30形成工程)
次に、図2(c)に示すように、個片化した素子に金属材料よりなる介在膜30を形成する。つまり、波長変換部材10の側面、反射膜20の側面及び反射膜20の下面に介在膜30を形成する。介在膜30を形成する方法としては、スパッタ法、蒸着法、化学気相成長(CVD)法、イオンブレーディング法等を用いることができる。この工程において、波長変換部材10の側面が下面から上面に向かって広がって傾斜(ベベルカット)していれば、スパッタであっても波長変換部材10の側面全域に精度良く介在膜30を形成することができる。
(接続工程)
次に、図2(d)に示すように、反射膜20の下面と放熱部材50とを、金属材料を含む接続部材40で接続する。接続する方法としては、はんだ法等が挙げられる。接続工程において、接続部材40は介在膜30が形成された領域へと這い上がる現象が起こる。これは、金属を含む接続部材40が表面張力により、金属である介在膜30に引っ張られるためである。本実施形態における製造方法によれば、波長変換部材の側面を露出することなく介在膜30が形成されているため、接続部材40も波長変換部材10の上面以外の露出した領域全てを精度よく被覆することができる。
<第2実施形態>
波長変換装置100と異なる形態として、図3に示す波長変換装置200のような構成とすることもできる。波長変換装置200は、第1実施形態に示した第1反射膜21と第2反射膜22との間に、誘電体多層膜よりなる第3反射膜23を有する。第3反射膜23は、第1反射膜21に対して主に垂直方向に入射する光を反射することができる。この構成では、誘電体多層膜により、反射率は向上するものの放熱性が低下する。しかし、本発明においては、下面のみならず側面にも接続部材を設けているため、一定の効果が期待できる。
誘電体多層膜は、第1反射膜21における誘電体膜の材料のうち、屈折率が異なる2種以上の層を所定の膜厚で交互に積層したものを用いることができる。例えば、酸化ケイ素/酸化ニオブ、酸化ケイ素/酸化アルミ等を2ペア以上積層したものが好ましい。
<実施例1>
図1に基づいて本実施例にかかる波長変換装置について説明する。まず、粉末状のLAG系蛍光体と粉末状のアルミナからなる保持体とをSPS法により焼結したウエハ状の波長変換部材を準備した。ウエハ状の波長変換部材の上面にスパッタ法を用いて酸化ケイ素(膜厚100nm)よりなる保護膜を形成し、波長変換部材の下面に波長変換部材側から順に酸化アルミ(膜厚1000nm)よりなる第1反射膜、銀(膜厚1000nm)よりなる第2反射膜を有する反射膜をスパッタ法で形成した。
次に、ベベルカット用ブレードを用いて波長変換部材の側面が下面から上面に向かって広がるように傾斜させた。このとき、傾斜角度(下面と側面とが成す角度)は45度とした。
次に、波長変換部材の側面、反射膜の側面、反射膜の下面及び保護膜の側面を一体に被覆するようにチタン(膜厚10nm)/ロジウム(膜厚100nm)/金(膜厚100nm)よりなる介在膜をスパッタ法で形成した。
次に、介在膜の露出面とニッケル/金メッキを施した銅よりなる放熱部材とを金スズ共晶合金を熱圧着法にて接続した。以上のようにして本実施例の波長変換装置を作成した。
<比較例>
比較例として、介在膜30及び接続部材40が波長変換部材10の下面にしか形成されず、波長変換部材10の側面が下面から上面に向かって傾斜していない波長変換装置を図1に示す波長変換装置100と比較した。より詳細には、比較例の波長変換装置は、実施例1の波長変換装置と、波長変換部材の上面の面積は同じであるが、側面が傾斜していないため、下面の面積が異なっている。
図4に実施例と比較例との発光効率の測定結果を示す。実線が実施例であり、破線が比較例である。図4において、縦軸は発光効率を示し、横軸は励起光の出力を示している。図から明らかなように、比較例では励起光の出力を上げれば発光効率が低下してしまうが、実施例では励起光の出力を上げても発光効率の低下は少ない(つまり、実施例は比較例よりも発光効率が優れている)。実施例が比較例よりも放熱性に優れているためと考えられる。
波長変換部材から一定の明るさの光を得る場合、波長変換部材の発光効率が優れていれば、光源への投入電力を減らすことができる。これにより、光源の寿命を延ばすことができるだけでなく、波長変換部材における発熱も抑制できるので波長変換部材そのものの寿命も延ばすことができる。また、通常、光源と波長変換装置との間にはコーティングされたレンズが配置されるが、光源の出力を抑えることにより、コーティングの劣化も抑制することが可能となる。
100…波長変換装置
10…波長変換部材
20…反射膜
21…第1反射膜
22…第2反射膜
23…第3反射膜
30…介在膜
40…接続部材
50…放熱部材
60…保護膜

Claims (6)

  1. 波長変換部材を準備する工程と、
    前記波長変換部材の下面に反射膜を形成する工程と、
    前記波長変換部材の側面及び前記反射膜の側面が、下面から上面に向かって広がる形状となるように前記波長変換部材及び前記反射膜を加工する工程と、
    前記波長変換部材の側面、前記反射膜の側面及び前記反射膜の下面に金属材料を含む介在膜を形成する工程と、
    前記介在膜の下面と放熱部材とを、導電ペースト、共晶はんだ又はロウ材からなる金属材料を含む接続部材を用いて接続し、前記接続部材を前記介在膜の側面に這い上がらせる工程を含む波長変換装置の製造方法。
  2. 前記波長変換部材を準備する工程において、ウエハ状の波長変換部材を準備し、
    前記波長変換部材及び前記反射膜を加工する工程において、前記ウエハ状の波長変換部材を加工して複数の波長変換部材に個片化する請求項1に記載の波長変換装置の製造方法。
  3. 前記波長変換部材を準備する工程において、蛍光体粉末と保持体とを混合し、焼結法により形成した波長変換部材を準備する請求項1又は2に記載の波長変換装置の製造方法。
  4. 前記反射膜は誘電体多層膜を含む請求項1〜のいずれか1項に記載の波長変換部材の製造方法。
  5. 前記反射膜は銀を含む請求項1〜のいずれか1項に記載の波長変換装置の製造方法。
  6. 前記波長変換部材の上面に保護膜を形成する工程をさらに含む請求項1〜のいずれか1項に記載の波長変換装置の製造方法。
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