JP6458547B2 - シャワーヘッド、シャワーヘッドシステム、及び成膜装置 - Google Patents
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Description
<第1の実施形態>
1.成膜装置1の構成
成膜装置1の構成を、図1〜図5に基づき説明する。図1に示すように、成膜装置1は、シャワーヘッドシステム3、及び成膜室5を備える。
(2−1)成膜の準備
供給ユニット11の材料容器39に、成膜材料として、ビス(2、2、6、6−テトラメチル−3、5−ヘプタンジオン酸)ストロンチウムを収容した。また、供給ユニット13のうち、ガス供給系統13Aの材料容器39に、成膜材料として、トリメチルアルミニウムを収容した。
上記(2−1)の状態において、供給ユニット11を材料供給状態とし、供給ユニット9、及び供給ユニット13の全ガス供給系統をバイパス状態とした。このとき、供給ユニット11から、ビス(2、2、6、6−テトラメチル−3、5−ヘプタンジオン酸)ストロンチウムを含むガスがシャワーヘッド7に供給され、さらに、そのガスがスリット31から成膜室5内に放出された。その結果、成膜室5内に載置されたウエハ35の表面に、ビス(2、2、6、6−テトラメチル−3、5−ヘプタンジオン酸)ストロンチウムの層が形成された。その層の膜厚は0.1〜5nm程度であった。
次に、供給ユニット13のうち、ガス供給系統13Aを材料供給状態とし、供給ユニット9、供給ユニット11、及び供給ユニット13のガス供給系統13B〜13Eをバイパス状態とした。このとき、ガス供給系統13Aから、トリメチルアルミニウムを含むガスがシャワーヘッド7に供給され、さらにそのガスがスリット31から成膜室5内に放出された。その結果、ビス(2、2、6、6−テトラメチル−3、5−ヘプタンジオン酸)ストロンチウムの層の上に、トリメチルアルミニウムの層が形成された。その層の膜厚は0.1〜5nm程度であった。
前記(2−2)、(2−3)の工程を、交互に数十〜数百回繰り返し、合計膜厚50nmの積層膜を形成した。
積層膜の膜厚を、ウエハ35の5点でそれぞれ測定し、膜厚の分布(標準偏差)を算出した。その結果、膜厚の分布は±2.5%以下であり、顕著に小さかった。また、高温のガスによる成膜における成膜レートと、低温のガスによる成膜における成膜レートとをそれぞれ算出した。その値はいずれも0.1nm/cycであり、顕著に大きかった。
(1A)成膜装置1を用いれば、成膜レートを大きくし、膜厚の分布を小さくすることができる。その理由は以下のように推測される。
(1D)シャワーヘッド7は、ガスの流路に沿って配列された複数のスリット31を備える。そのため、成膜室5内にガスを均等に放出することができる。
<第2の実施形態>
1.成膜装置101の構成
本実施形態における成膜装置101の構成は、基本的には前記第1の実施形態と同様であるため、共通する構成については説明を省略し、相違点を中心に説明する。
本実施形態の成膜装置101を用いれば、前記第1の実施形態と同様に成膜を行うことができる。
以上詳述した第2の実施形態によれば、前述した第1の実施形態の効果(1A)、(1D)に加え、以下の効果が得られる。
<その他の実施形態>
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されることなく、種々の形態を採り得る。
(2)供給ユニット13における材料容器39に収容する成膜材料38は適宜選択することができ、例えば、四塩化チタン等を用いることができる。
(4)シャワーヘッド7内の屈曲したガスの流路は、邪魔板17以外の構成により実現してもよい。例えば、前記第2の実施形態における円筒形状のシャワーヘッド107を屈曲させることで、屈曲したガスの流路を実現してもよい。
(7)上記実施形態における1つの構成要素が有する機能を複数の構成要素として分散させたり、複数の構成要素が有する機能を1つの構成要素に統合させたりしてもよい。また、上記実施形態の構成の少なくとも一部を、同様の機能を有する公知の構成に置き換えてもよい。また、上記実施形態の構成の一部を省略してもよい。また、上記実施形態の構成の少なくとも一部を、他の上記実施形態の構成に対して付加又は置換してもよい。なお、特許請求の範囲に記載した文言のみによって特定される技術思想に含まれるあらゆる態様が本発明の実施形態である。
Claims (4)
- ガスの供給を受ける第1の供給口及び第2の供給口と、供給された前記ガスを成膜室内に放出する放出口とを備えたシャワーヘッドであって、
前記シャワーヘッドの内部における、前記第1の供給口から前記放出口に至るガスの流路の途中に、前記第2の供給口が設けられており、
前記放出口は、前記ガスの流路に沿って配列された複数のスリットであり、
前記ガスの流路は屈曲した形状を有することを特徴とするシャワーヘッド。 - 請求項1に記載のシャワーヘッドであって、
前記シャワーヘッドの内部に、前記流路を屈曲させる邪魔板を備えることを特徴とするシャワーヘッド。 - シャワーヘッドシステムであって、
ガスの供給を受ける第1の供給口及び第2の供給口と、供給された前記ガスを成膜室内に放出する放出口とを備えたシャワーヘッドと、
前記第1の供給口に第1の温度のガスを供給する第1の供給ユニットと、
前記第2の供給口に前記第1の温度より低い第2の温度のガスを供給する第2の供給ユニットと、
を備え、
前記シャワーヘッドの内部における、前記第1の供給口から前記放出口に至るガスの流路の途中に、前記第2の供給口が設けられていることを特徴とするシャワーヘッドシステム。 - 請求項3に記載のシャワーヘッドシステムと、前記成膜室と、を備えることを特徴とする成膜装置。
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