JP6445374B2 - コンデンサ構造 - Google Patents

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Description

本発明は、コンデンサ構造に関する。
LDO(Low Drop Out)リニアレギュレータやスイッチングレギュレータなどの半導体集積回路において、ノイズに対する耐性は必要不可欠なファクターであり、ノイズ対策として上記半導体集積回路においてはコンデンサが用いられている。特に高周波帯域(数百MHz〜GHz)でのノイズキャンセルが必要であるが、その場合、コンデンサの容量としては数fF〜数pFの容量値と小さくなる。半導体集積回路の外部でこのような小さい容量値を設定しようとすると、コンデンサの半田付けに用いる半田の形成具合などにより正確な容量値を設定することが困難である。そのため、このような場合には半導体集積回路の内部でコンデンサを構成することが望ましい。
半導体集積回路に含まれるコンデンサ構造の従来の縦構造例を図7に示す。図7に示したコンデンサ構造10は、直流電源電圧Vccに含まれるノイズ成分などを吸収し、安定した直流電源を供給するための所謂バイパスコンデンサとして用いられるものである。
図7に示すように、コンデンサ構造10は、半導体基板105と、半導体基板105上に形成された絶縁膜104と、絶縁膜104上に形成されたコンデンサ部C10を備えている。
コンデンサ部C10は、第1電極層101と、絶縁膜104上に形成された第2電極層103と、第1電極層101と第2電極層103によって挟まれる誘電体層102を備えている。
第1電極層101には直流電源電圧Vccの印加端が接続され、第2電極層103には接地電位の印加端が接続される。これにより、図7に示したコンデンサ構造10を用いた電源安定化回路は、図8に示した回路構成としても表される。
なお、上記に関連する従来技術の一例は、特許文献1及び特許文献2に開示されている。
特開2001−237374号公報 特開2014−107415号公報
しかしながら、昨今ますます微細化する半導体製造プロセスにおいては薄膜化が進み、電極間耐圧の高いコンデンサ部C10を1つの素子で形成することは難しい。そこで、従来では、高耐圧を確保するためには、複数のコンデンサ部を直列接続する必要があった。
その一例を示す図9においては、半導体基板1051上に形成された絶縁膜1041上にコンデンサ部C10−1、C10−2、・・・C10−nが形成されている。コンデンサ部C10−1の第1電極層101−1に直流電源電圧Vccの印加端が接続される。コンデンサ部C10−1の第2電極層103−1とコンデンサ部C10−2の第1電極層102−1が接続され、以下コンデンサC10−nまで同様に電極層同士が接続される。そして、コンデンサ部C10−nの第2電極層103−nが接地電位に接続される。
しかしながら、コンデンサ部を直列に接続すると合成容量値が減少するので、所望の容量を確保するためには大容量のコンデンサ部を複数接続する必要があった。そのため、半導体集積回路の面積に対して、コンデンサ部が占める面積が非常に大きくなり、設計コスト面などで問題があった。
上記状況に鑑み、本発明は、高耐圧を確保しつつ、コンデンサ部の形成面積を削減することが可能となるコンデンサ構造を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明のコンデンサ構造は、
半導体基板と、
前記半導体基板上に形成される絶縁層と、
第1電極層、前記絶縁層上に形成される第2電極層、及び、前記第1電極層と前記第2電極層によって挟まれて形成される誘電体層を含んだコンデンサ部と、を備え、
前記第1電極層と前記第2電極層とが短絡される構成としている(第1の構成)。
また、上記第1の構成において、前記半導体基板は、p型基板部を少なくとも有することとしてもよい(第2の構成)。
また、上記第2の構成において、前記半導体基板は、前記p型基板部上に形成されるエピタキシャル層を更に有し、前記エピタキシャル層上に前記絶縁層が形成されることとしてもよい(第3の構成)。
また、上記第3の構成において、前記エピタキシャル層の一部にpウェル層が形成されることとしてもよい(第4の構成)。
また、上記第1〜第4のいずれかの構成において、直流電源電圧の印加端が前記第1電極層に接続され、バイパスコンデンサとして機能することとしてもよい(第5の構成)。
また、上記第1〜第4のいずれかの構成において、入力電圧の印加端がその一端に接続される抵抗の他端と、出力電圧の出力端とに前記第1電極層が接続されることとしてもよい(第6の構成)。
また、本発明の一態様に係るリニアレギュレータは、上記第5の構成のコンデンサ構造と、前記直流電源電圧の印加端と前記第1電極層との接続点に生じる電圧が入力電圧としてその一端に印加されるトランジスタと、を備えることとしている。
また、本発明の一態様に係るリニアレギュレータは、第6の構成のコンデンサ構造と、出力電圧を分圧して分圧後の電圧を前記抵抗の一端に印加させる分圧用抵抗と、前記抵抗と前記第1電極層との接続点に生じる帰還信号がその入力端に印加されるエラーアンプと、を備えることとしている。
また、本発明の一態様に係る半導体集積回路は、上記第1〜第6のいずれかの構成のコンデンサ構造を備える。
また、本発明の一態様に係るレギュレータは、上記第1〜第6のいずれかの構成のコンデンサ構造を備える。
本発明によると、高耐圧を確保しつつ、コンデンサ部の形成面積を削減することが可能となる。
本発明の一実施形態に係るコンデンサ構造の縦構造を示す図である(バイパスコンデンサとしての適用例)。 図1に示す構成と等価な回路構成を示す図である。 本発明の一実施形態に係るコンデンサ構造の縦構造を示す図である(ローパスフィルタへの適用例)。 図3に示す構成と等価な回路構成を示す図である。 本発明の一実施形態に係るコンデンサ構造をバイパスコンデンサとして用いたリニアレギュレータの構成例を示す図である。 本発明の一実施形態に係るコンデンサ構造を用いたローパスフィルタを適用したリニアレギュレータの構成例を示す図である。 従来例に係るコンデンサ構造の縦構造を示す図である。 図7に示す構成と等価な回路構成を示す図である。 従来例に係るコンデンサ部を直列接続した構成を示す図である。
以下に本発明の一実施形態について図面を参照して説明する。本発明の一実施形態に係るコンデンサ構造の縦構造を図1に示す。図1に示すコンデンサ構造1は、半導体集積回路の一部を構成し、直流電源電圧Vccに含まれるノイズ成分などを吸収して安定化した直流電源を供給するための所謂バイパスコンデンサとして用いている。
コンデンサ構造1は、半導体基板15と、半導体基板15上に形成される絶縁膜14と、絶縁膜14上に形成されるコンデンサ部C1を備えている。
半導体基板15は、p型基板部15Aと、p型基板部15A上に積層されたp型エピタキシャル層15Bを有しており、p型エピタキシャル層15Bの一部には高濃度のp型不純物領域であるpウェル層15Cが形成されている。
pウェル層15Cを含んだエピタキシャル層15B上に絶縁膜14が形成される。コンデンサ部C1は、第1電極層11と、絶縁膜14上に形成される第2電極層13と、第1電極層11と第2電極層13により挟まれる誘電体層12を備えている。第1電極層11及び第2電極層13は、例えばポリシリコンによって形成される。
そして、第1電極層11には直流電源電圧Vccの印加端が接続されると共に、第1電極層11と第2電極層13とが短絡されている。これにより、コンデンサ部C1の両電極間が短絡された構成となる。また、第2電極層13、半導体基板15、及びそれらによって挟まれる絶縁膜14によって寄生容量Cs1が構成される。従って、図1に示すコンデンサ構造1を用いた電源安定化回路は図2に示す回路となり、コンデンサ部C1と寄生容量Cs1は直列に接続され、寄生容量Cs1の一端は接地電位に接続される。
即ち、コンデンサ構造1において本来のコンデンサとしての機能を果たすコンデンサ部C1の機能は電極間の短絡によりカットし、寄生容量Cs1をバイパスコンデンサとして機能させるようにしている。
例えば50Vのような高耐圧製品で直流電源電圧Vccの印加端と接地電位との間にコンデンサを挿入したい場合、使用するプロセスにもよるが、図7に示した従来のコンデンサ構造10ではコンデンサ部C10の第1電極層101と第2電極層103間の耐圧が例えば7Vと低く、そのままでは耐圧破壊が生じてしまう。そこで、従来は図9に示したように、所望の耐圧を確保するためにコンデンサ部C10−1〜C10−nを直列に接続する必要があった。
50Vのような高耐圧製品としては、一つで電極間の耐圧が7Vであるコンデンサ部を7〜8個直列に接続する必要がある。ここで例えば、直流電源電圧Vccの印加端と接地電位の間に2pFの容量を挿入したい場合であれば、14pF〜16pFのコンデンサ部を7〜8個直列に接続しなければならない。14pF〜16pFのコンデンサ部は、或るプロセスでは100μm×80μm程度の面積となるので、直列接続した場合の全体の面積は64000μm2程度必要となる。
これに対し、本実施形態に係るコンデンサ構造1(図1)であれば、コンデンサ部C1の電極間の耐圧に依存せず、第2電極層13と半導体基板15間の耐圧で耐圧は決定されるため、耐圧の自由度は向上し、コンデンサ部C1としては一素子のみで高耐圧を確保できる。
そして、コンデンサ部C1の一素子に対して寄生容量Cs1は例えば5%程の容量が見込めるので、例えば40pFのコンデンサ部C1の一素子で2pFの寄生容量Cs1を挿入することができる。この場合、コンデンサ部C1の面積は例えば200μm×120μm(=24000μm2)程度となるので、上記従来の直列接続による面積の約40%の面積で済むこととなり、省スペース化が可能となる。従って、設計コスト面などで有利となる。
即ち、従来では14〜16pFのコンデンサ部を7〜8個直列に接続するので、98〜128pFの容量値が必要となったが、これに対して本実施形態であれば、40pFの容量値を挿入するだけで実現可能となり、特に半導体集積回路の面積縮小の効果が大きい。
このように、本実施形態によれば、高耐圧を確保しつつも、コンデンサ部の形成面積を削減することが可能となる。特に、本実施形態では、コンデンサ部に対する寄生容量の容量比によって寄生容量の容量値を予測可能であり、設計がし易いものとなる。
次に、上記実施形態に係るコンデンサ構造1を用いてローパスフィルタを構成した一例を図3に示す。
図3に示すように、抵抗R1の一端に入力電圧Vinの印加端が接続され、抵抗R1の他端がコンデンサ部C1の第1電極層11に接続される。そして、抵抗R1の上記他端は出力電圧Voutの出力端にも接続される。
これにより、図3に示すローパスフィルタは、図4に示すように、電極間が短絡されたコンデンサ部C1と、寄生容量Cs1が、抵抗R1の上記他端と接地電位の間に直列接続される構成となる。このようなローパスフィルタは、ノイズフィルタとして用いることもできるし、高周波帯域での位相補償にも利用することができる。
このような実施形態によっても、高耐圧を確保しつつ、コンデンサ部の形成面積を削減し、挿入したい所望の容量を確保できる。
次に、上記実施形態に係るコンデンサ構造をリニアレギュレータに適用した一例について説明する。
本実施形態に係るコンデンサ構造1をバイパスコンデンサとして用いたものを(図1、図2)、リニアレギュレータに適用した一例を図5に示す。
図5に示すリニアレギュレータは、pチャネルMOSFET(metal-oxide-semiconductor field-effect transistor)であるトランジスタM1と、分圧用抵抗である抵抗R11、R12と、エラーアンプA1を備えている。
トランジスタM1のソースには直流電源電圧Vccの印加端が接続され、ドレインには抵抗R11の一端と出力電圧Voutの出力端が共通接続される。出力電圧Voutの出力ラインと接地電位の間には、抵抗R11と抵抗R12が直列に接続される。
抵抗R11と抵抗R12との接続点はエラーアンプA1の非反転入力端に接続される。エラーアンプA1の反転入力端には基準電圧Vrefが印加される。エラーアンプA1の出力端は、トランジスタM1のゲートに接続される。
そして、コンデンサ構造1における電極間が短絡されたコンデンサ部C1と寄生容量Cs1が直流電源電圧Vccの印加端と接地電位との間に直列に接続され、直流電源電圧Vccの印加端とコンデンサ部C1の第1電極層(図1の第1電極層11)との接続点に生じる入力電圧VinがトランジスタM1のソースに印加される。
図5に示すリニアレギュレータは、帰還(フィードバック)ループ回路として構成される。即ち、入力電圧Vinや負荷の変動により出力電圧Voutが変動しても、エラーアンプA1が連続的に、抵抗R11と抵抗R12の接続点に生じる帰還信号FBと基準電圧Vrefを比較し、それらの差分がゼロとなるようにトランジスタM1を駆動する。これにより、出力電圧Voutが一定に制御される。そして、寄生容量Cs1によって直流電源電圧Vccに含まれる高周波ノイズリップルを除去し、安定化した入力電圧Vinを供給することが可能となる。
また、本実施形態に係るコンデンサ構造1を用いて構成したローパスフィルタ(図3、図4)をリニアレギュレータに適用した一例を図6に示す。
図6に示すリニアレギュレータでは、抵抗R11と抵抗R12との接続点にローパスフィルタを構成する抵抗R1の一端が接続される。そして、コンデンサ構造1におけるコンデンサ部C1の第1電極層(図3の第1電極層11)と抵抗R1の接続点にエラーアンプA1の非反転入力端が接続される。
このような構成により、出力電圧Voutにノイズが含まれても、ローパスフィルタによりノイズはカットされ、安定した帰還信号FBをエラーアンプA1に入力させることが可能となる。
なお、本明細書中に開示された種々の技術的特徴については、上記実施形態の他、その技術的創作の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えることが可能である。即ち、上記実施形態は、全ての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきであり、本発明の技術的範囲は、上記実施形態の説明ではなく、特許請求の範囲によって示されるものであり、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内に属する全ての変更が含まれると理解されるべきである。
例えば、コンデンサ構造における半導体基板の構成については種々の変形が可能であり、例えばp型基板部上にエピタキシャル層を形成せずに、p型基板部上に直接的に絶縁膜を設ける構成としてもよい。
また、本実施形態に係るコンデンサ構造を用いたバイパスコンデンサやローパスフィルタなどは、例えばスイッチングレギュレータ、またはその他の半導体集積回路に適用することも可能である。
本発明は、半導体集積回路に用いるコンデンサとして利用することができる。
1 コンデンサ構造
11 第1電極層
12 誘電体層
13 第2電極層
14 絶縁膜
15 半導体基板
15A p型基板部
15B p型エピタキシャル層
15C pウェル層
C1 コンデンサ部
Cs1 寄生容量
Vcc 直流電源電圧
R1 抵抗
M1 トランジスタ
R11、R12 抵抗
A1 エラーアンプ
Vref 基準電圧
FB 帰還信号

Claims (10)

  1. 半導体基板と、
    前記半導体基板上に形成される絶縁層と、
    第1電極層、前記絶縁層上に形成される第2電極層、及び、前記第1電極層と前記第2電極層によって挟まれて形成される誘電体層を含んだコンデンサ部と、を備え、
    前記第1電極層と前記第2電極層とが短絡される、ことを特徴とするコンデンサ構造。
  2. 前記半導体基板は、p型基板部を少なくとも有することを特徴とする請求項1に記載のコンデンサ構造。
  3. 前記半導体基板は、前記p型基板部上に形成されるエピタキシャル層を更に有し、
    前記エピタキシャル層上に前記絶縁層が形成されることを特徴とする請求項2に記載のコンデンサ構造。
  4. 前記エピタキシャル層の一部にpウェル層が形成されることを特徴とする請求項3に記載のコンデンサ構造。
  5. 直流電源電圧の印加端が前記第1電極層に接続され、バイパスコンデンサとして機能することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のコンデンサ構造。
  6. 入力電圧の印加端がその一端に接続される抵抗の他端と、出力電圧の出力端とに前記第1電極層が接続されることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のコンデンサ構造。
  7. 請求項5に記載のコンデンサ構造と、
    前記直流電源電圧の印加端と前記第1電極層との接続点に生じる電圧が入力電圧としてその一端に印加されるトランジスタと、を備えることを特徴とするリニアレギュレータ。
  8. 請求項6に記載のコンデンサ構造と、
    出力電圧を分圧して分圧後の電圧を前記抵抗の一端に印加させる分圧用抵抗と、
    前記抵抗と前記第1電極層との接続点に生じる帰還信号がその入力端に印加されるエラーアンプと、を備えることを特徴とするリニアレギュレータ。
  9. 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のコンデンサ構造を備える半導体集積回路。
  10. 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のコンデンサ構造を備えるレギュレータ。
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