JP6442492B2 - ミラー、特にマイクロリソグラフィー投影露光装置用ミラー - Google Patents
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Description
発明の分野
本発明は、ミラー、特にマイクロリソグラフィー投影露光装置用のミラーに関するものである。
マイクロリソグラフィーは、例えば集積回路またはLCD(liquid crystal display:液晶表示装置)のような微小構造部品を生産するために用いられる。マイクロリソグラフィー・プロセスは、照射装置及び投影レンズを有するいわゆる投影露光装置において実行される。この場合、照射装置によって照射されるマスク(レチクル)の像が、投影レンズを用いて、感光層(フォトレジスト)でコーティングされ投影レンズの像平面内に配置された基板(例えばシリコンウェハー)上に投影されて、マスク構造が基板の感光コーティングに転写される。
ΔD=d33×U (1)
ΔDは厚さ(の絶対値)の変化を表し、Uは電圧を表す。
ミラー基板と、
光学有効面に入射する電磁放射を反射させるための反射積層と、
少なくとも2つの圧電層とを有し、これらの圧電層は、ミラー基板と反射積層との間に、反射積層の積層方向に順に配置され、これらの圧電層に電界を印加して、局所的に可変な変形を生成することができ、
結晶材料製の少なくとも1つの中間層が、これらの圧電層間に配置され、
この中間層は、当該中間層に反射積層の積層方向に隣接する圧電層の領域内に存在する電界を実質的に無影響のままにするように設計されている。
ミラー基板と、
光学有効面に入射する電磁放射を反射させるための反射積層と、
少なくとも2つの圧電層とを有し、これらの圧電層は、ミラー基板と反射積層との間に、反射積層の積層方向に順に配置され、これらの圧電層に電界を印加して、局所的に可変な変形を生成することができ、
結晶材料製の少なくとも1つの中間層が、これらの圧電層間に配置されている。
図1に、本発明によるミラーの構成を本発明の一実施形態において説明するための概略図を示す。ミラー10は、特にミラー基板12を具え、これはあらゆる所望の適切なミラー基板材料製である。適切なミラー基板材料は、例えば二酸化チタン(TiO2)でドーピングした石英ガラスであり、使用可能な材料は、ほんの一例として(本発明はこれらに限定されない)、商品名ULE(登録商標)(コーニング社による)またはZerodur(登録商標)(Schott AG社による)で市販されているものである。
Claims (11)
- 光学有効面を有するミラーであって、
ミラー基板(12)と、
前記光学有効面(11)上に入射する電磁放射を反射させるための反射積層(21)と、
少なくとも2つの圧電層(16a, 16b, 16c)とを有し、該圧電層は、前記ミラー基板(12)と前記反射積層(21)との間に、前記反射積層(21)の積層方向に連続して配置され、前記連続して配置された圧電層の最上部及び最下部に配置された電極間に電圧を印加し、これにより前記圧電層に電界を印加して、局所的に可変な変形を生成することができ、
結晶材料製の少なくとも1つの中間層(22a, 22b)が、前記圧電層(16a, 16b, 16c)間に配置され、
前記中間層(22a, 22b)は、当該中間層(22a, 22b)に前記反射積層(21)の積層方向に隣接する前記圧電層(16a, 16b, 16c)の領域内に存在する電界を実質的に無影響のままにするように設計されている、ミラー。 - 前記ミラーが少なくとも3つの前記圧電層(16a, 16b, 16c)を有し、当該圧電層が、前記ミラー基板(12)と前記反射積層(21)との間に、前記反射積層(21)の積層方向に連続して配置されていることを特徴とする請求項1に記載のミラー。
- 前記結晶材料は、結晶水晶(SiO2)、ニオブ酸カルシウム(CaNbO3)、及びチタン酸ストロンチウム(SrTiO3)を含むグループから選択した結晶材料であることを特徴とする請求項1または2に記載のミラー。
- 前記少なくとも1つの中間層(22a, 22b)が電気絶縁材料製であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のミラー。
- 前記圧電層(16a, 16b, 16c)の各々が、3μm未満の厚さを有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のミラー。
- 前記ミラーが、30nm未満の動作波長用に設計されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のミラー。
- 前記ミラーが、マイクロリソグラフィー投影露光装置用のミラーであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のミラー。
- 請求項1〜7のいずれかに記載のミラーを有する光学系。
- 前記ミラーが平面内に配置され、この平面内で、次式
- 前記ミラーが平面内に配置され、この平面内で、次式
- 照射装置及び投影レンズを有するマイクロリソグラフィー投影露光装置であって、請求項8〜10のいずれかに記載の光学系を有することを特徴とするマイクロリソグラフィー投影露光装置。
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