JP6419417B2 - 自立性美容シート - Google Patents
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Description
少なくとも1種の生体適合性及び/又は生分解性の疎水性ポリマー層を含み、
30〜1000nm、好ましくは50〜500nm、より好ましくは100〜400nmの厚さを有し、
少なくとも1種の紫外線遮蔽剤を含む、
皮膚用自立性美容シートによって実現することができる。
本発明の美容シートは自立性である。本明細書中の用語「自立性」は、本発明の美容シートをシートの形態とすることができ、基材又は担体の補助なしで独立したシートとして取り扱うことができることを意味する。すなわち、用語「自立性」は、「自己支持性」と同じ意味を持つことができる。
本発明による自立性美容シートは、少なくとも1種の紫外線遮蔽剤を含む。
本発明による自立性美容シートは、少なくとも1種の無機紫外線遮蔽剤を含むことができる。2種又はそれ以上の無機紫外線遮蔽剤を使用する場合、それらは同じものでも異なってもよく、同じものであることが好ましい。
池田物産株式会社の製品「Sunveil」等、シリカで被覆された酸化チタン;
池田物産株式会社の製品「Sunveil F」等、シリカ及び酸化鉄で被覆された酸化チタン;
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 500 SA」、Tioxideの製品「Tioveil」、Rhodiaの製品「Mirasun TiW 60」等、シリカ及びアルミナで被覆された酸化チタン;
石原産業の製品「Tipaque TTO-55 (B)」及び「Tipaque TTO-55 (A)」、並びに、Kemiraの製品「UVT 14/4」等、アルミナで被覆された酸化チタン;
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 100 T、MT 100 TX、MT 100 Z又はMT-01」、Uniqemaの製品「Solaveil CT-10 W」及び「Solaveil CT 100」、並びに、Merckの製品「Eusolex T-AVO」等、アルミナ及びステアリン酸アルミニウムで被覆された酸化チタン;
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 100 S」等、アルミナ及びラウリン酸アルミニウムで被覆された酸化チタン;
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 100 F」等、酸化鉄及びステアリン酸鉄で被覆された酸化チタン;
テイカの製品「BR351」等、酸化亜鉛及びステアリン酸亜鉛で被覆された酸化チタン;
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 600 SAS」、「Microtitanium Dioxide MT 500 SAS」、及び、「Microtitanium Dioxide MT 100 SAS」等、シリカ及びアルミナで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン;
チタン工業株式会社の製品「STT-30-DS」等、シリカ、アルミナ及びステアリン酸アルミニウムで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン;
Kemiraの製品「UV-Titan X 195」等、シリカで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン;
石原産業株式会社の製品「Tipaque TTO-55 (S)」又はKemiraの製品「UV Titan M 262」等、アルミナで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン;
チタン工業株式会社の製品「STT-65-S」等、トリエタノールアミンで被覆された酸化チタン;
石原産業株式会社の製品「Tipaque TTO-55 (C)」等、ステアリン酸で被覆された酸化チタン;或いは
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 150 W」等、ヘキサメタリン酸ナトリウムで被覆された酸化チタンでよい。
平均一次粒径が15nmの、テイカの製品「MT-100 TV」等のステアリン酸(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2;
平均一次粒径が15nmの、三好化成工業株式会社の製品「SA-TTO-S4」等のジメチコーン(及び)ステアリン酸(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2;
平均一次粒径が15nmの、テイカの製品「MT-100 WP」等のシリカ(及び)TiO2;
平均一次粒径が10nmの、テイカの製品「MT-Y02」及び「MT-Y-110 M3S」等のジメチコーン(及び)シリカ(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2;
平均一次粒径が15nmの、三好化成工業株式会社の製品「SA-TTO-S3」等のジメチコーン(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2;
平均一次粒径が15nmの、Sachtlebenの製品「UV-TITAN M170」等のジメチコーン(及び)アルミナ(及び)TiO2;
平均一次粒径が15nmの、テイカの製品「MT-100 AQ」等のシリカ(及び)水酸化アルミニウム(及び)アルギン酸(及び)TiO2。
Sunsmartにより「Z-cote」の商標で市販されているもの、
Elementisにより「Nanox」の商標で市販されているもの、及び
Nanophase Technologiesにより「Nanogard WCD 2025」の商標で市販されているもの
である。
東芝により「Oxide Zinc CS-5」の商標で市販されているもの(ポリメチルヒドロシロキサンで被覆されているZnO)、
Nanophase Technologiesにより「Nanogard Zinc Oxide FN」の商標で(C12〜C15アルキルベンゾエートであるFinsolv TN中40%分散液として)市販されているもの、
大東化成により「Daitopersion Zn-30」及び「Daitopersion Zn-50」の商標で市販されているもの(オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン/シクロポリメチルシロキサン中に、シリカ及びポリメチルヒドロシロキサンで被覆されている亜鉛ナノオキシドを30%又は50%含む分散液)、
ダイキン工業により「NFD Ultrafine ZnO」の商標で市販されているもの(ペルフルオロアルキルのリン酸エステル及びペルフルオロアルキルエチルをベースとしたコポリマーで被覆されている、シクロペンタシロキサン分散液としてのZnO)、
信越化学工業により「SPD-Z1」の商標で市販されているもの(シリコーングラフトアクリルポリマーで被覆されているZnOをシクロジメチルシロキサンに分散させたもの)、
ISPにより「Escalol Z100」の商標で市販されているもの(メトキシケイ皮酸エチルヘキシル/PVP-ヘキサデセンコポリマー/メチコーン混合物に分散させたアルミナ処理ZnO)、並びに
冨士色素により「Fuji ZnO-SMS-10」の商標で市販されているもの(シリカ及びポリメチルシルセスキオキサンで被覆されているZnO)、Elementisにより「Nanox Gel TN」の商標で市販されているもの(ヒドロキシステアリン酸重縮合物を含有するC12〜C15アルキルベンゾエートに55%で分散させたZnO)である。
本発明による自立性美容シートは、少なくとも1種の有機紫外線遮蔽剤を含むことができる。2種又はそれ以上の有機紫外線遮蔽剤を使用する場合、それらは同じものでも異なってもよく、同じものであることが好ましい。
- ジベンゾイルメタン化合物:特にHoffmann-La Rocheにより「Parsol 1789」の商標で市販されているブチルメトキシジベンゾイルメタン;及びイソプロピルジベンゾイルメタン。
- ケイ皮酸化合物:特にHoffmann-La Rocheにより「Parsol MCX」の商標で市販されているメトキシケイ皮酸エチルヘキシル;メトキシケイ皮酸イソプロピル;メトキシケイ皮酸イソプロポキシ;Haarmann and Reimerにより「Neo Heliopan E 1000」の商標で市販されているメトキシケイ皮酸イソアミル;シノキセート(4-メトキシケイ皮酸2-エトキシエチル);メトキシケイ皮酸DEA;メチルケイ皮酸ジイソプロピル;及びジメトキシケイ皮酸エチルヘキサン酸グリセリル。
- サリチル酸化合物:Rona/EM Industriesにより「Eusolex HMS」の商標で市販されているホモサレート(サリチル酸ホモメンチル);Haarmann and Reimerにより「Neo Heliopan OS」の商標で市販されているサリチル酸エチルヘキシル;サリチル酸グリコール;サリチル酸ブチルオクチル;サリチル酸フェニル;Scherにより「Dipsal」の商標で市販されているサリチル酸ジプロピレングリコール;及びHaarmann and Reimerにより「Neo Heliopan TS」の商標で市販されているサリチル酸TEA。
- カンファー化合物、特にベンジリデンカンファー誘導体:Chimexにより「Mexoryl SD」の商標で製造されている3-ベンジリデンカンファー;Merckにより「Eusolex 6300」の商標で市販されている4-メチルベンジリデンカンファー;Chimexにより「Mexoryl SL」の商標で製造されているベンジリデンカンファースルホン酸;Chimexにより「Mexoryl SO」の商標で製造されているメト硫酸カンファーベンザルコニウム;Chimexにより「Mexoryl SX」の商標で製造されているテレフタリリデンジカンファースルホン酸;及びChimexにより「Mexoryl SW」の商標で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー。
- ベンゾフェノン化合物:BASFにより「Uvinul 400」の商標で市販されているベンゾフェノン-1(2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン);BASFにより「Uvinul D50」の商標で市販されているベンゾフェノン-2(テトラヒドロキシベンゾフェノン);BASFにより「Uvinul M40」の商標で市販されているベンゾフェノン-3(2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン)又はオキシベンゾン;BASFにより「Uvinul MS40」の商標で市販されているベンゾフェノン-4(ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸);ベンゾフェノン-5(ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム);Norquayにより「Helisorb 11」の商標で市販されているベンゾフェノン-6(ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノン);American Cyanamidにより「Spectra-Sorb UV-24」の商標で市販されているベンゾフェノン-8;BASFにより「Uvinul DS-49」の商標で市販されているベンゾフェノン-9(ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノンジスルホン酸二ナトリウム);ベンゾフェノン-12、及びn-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート(BASFによるUVINUL A+)。
- β,β-ジフェニルアクリレート化合物:特にBASFにより「Uvinul N539」の商標で市販されているオクトクリレン;及び特にBASFにより「Uvinul N35」の商標で市販されているエトクリレン。
- トリアジン化合物:Sigma 3Vにより「Uvasorb HEB」の商標で市販されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン;2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン;CIBA GEIGYにより「TINOSORB S」の商標で市販されているビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、及びBASFにより「UVINUL T150」の商標で市販されているエチルヘキシルトリアゾン。
- ベンゾトリアゾール化合物、特にフェニルベンゾトリアゾール誘導体:分枝及び直鎖の2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-ドデシル-4-メチルフェノ;並びにUSP 5240975に記載のもの。
- ベンザルマロネート化合物:4'-メトキシベンザルマロン酸ジネオペンチル、及びベンザルマロン酸官能基を含むポリオルガノシロキサン、例えば、Hoffmann-La Rocheにより「Parsol SLX」の商標で市販されているポリシリコーン-15。
- ベンゾイミダゾール化合物、特にフェニルベンゾイミダゾール誘導体:特にMerckにより「Eusolex 232」の商標で市販されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、及び、Haarmann and Reimerにより「Neo Heliopan AP」の商標で市販されているフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
- イミダゾリン化合物:エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート。
- ビス-ベンゾアゾリル化合物:EP-669,323及び米国特許第2,463,264号に記載の誘導体。
- パラ-アミノ安息香酸化合物:PABA(p-アミノ安息香酸)、エチルPABA、エチルジヒドロキシプロピルPABA、ペンチルジメチルPABA、特にISPにより「Escalol 507」の商標で市販されているエチルヘキシルジメチルPABA、グリセリルPABA、及び、BASFにより「Uvinul P25」の商標で市販されているPEG-25 PABA。
- メチレンビス-(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)化合物、例えばFairmount Chemicalにより「Mixxim BB/200」の商標で固体形態で市販されている2,2'-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-フェノール]、BASFにより「Tinosorb M」の商標で、又はFairmount Chemicalにより「Mixxim BB/100」の商標で水性分散液中微粉化形態で市販されている2,2'-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール]、及び米国特許第5,237,071号、第5,166,355号、GB-2,303,549、DE-197,26,184及びEP-893,119に記載の誘導体、並びに
以下に表すような、Rhodia Chimieにより「Silatrizole」の商標で、又は、L'Orealにより「Mexoryl XL」の商標で市販されているドロメトリゾールトリシロキサン。
- 遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン:WO 93/04665に記載のシリコーン。
- α-アルキルスチレン由来ダイマー:DE-19855649に記載のダイマー。
- 4,4-ジアリールブタジエン化合物:1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン。
ブチルメトキシジベンゾイルメタン、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、ホモサレート、サリチル酸エチルヘキシル、オクトクリレン、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、ベンゾフェノン-3、ベンゾフェノン-4、ベンゾフェノン-5、n-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート、1,1'-(1,4-ピペラジンジイル)ビス[1-[2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]フェニル]-メタノン、4-メチルベンジリデンカンファー、テレフタリリデンジカンファースルホン酸、フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、エチルヘキシルトリアゾン、ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、2,4-ビス-(n-ブチル4'-アミノベンザルマロネート)-6[(3-{1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリルオキシ]-ジシロキサニル}プロピル)アミノ]-s-トリアジン、2,4,6-トリス-(ジ-フェニル)-トリアジン、2,4,6-トリス-(テル-フェニル)-トリアジン、メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ドロメトリゾールトリシロキサン、ポリシリコーン-15、ジネオペンチル4'-メトキシベンザルマロネート、1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、カンファーベンジルコニウムメトスルフェート並びにそれらの混合物。
例えば少なくとも1種の生体適合性及び/又は生分解性ポリマー並びに少なくとも1種の紫外線遮蔽剤の極薄層を形成し、例えばSiO2担体等の担体上に生体適合性及び/又は生分解性ポリマー並びに紫外線遮蔽剤の溶液又は懸濁液をキャスティング又はスピンコーティングし、後続して前記溶液又は懸濁液を乾燥することによって、厚さが非常に薄い本発明による自立性美容シートを調製することが可能である。
本発明は、化粧方法、特に、皮膚をケア及び/もしくはメーキャップし、皮膚の黒ずみを制限して肌の色及びむらを改善し、かつ/又は皮膚の老化を処置する非治療的化粧方法にも関する。それぞれの可能な非治療的化粧方法は、本発明による皮膚用自立性美容シートを皮膚上に適用する工程を含む。
テレフタリリデンジカンファースルホン酸(Mexoryl SX)を含有するナノシートを以下のように調製した。
実施例1による上記のプロセスを、Mexoryl SXを多層ナノシートに浸さず、比較例1として、Mexoryl SXを含まないポリリシン/アルギン酸ナトリウムナノシートを形成するという条件で、繰り返した。
表1に示す配合を有する流体日焼け止め剤を、比較例2として調製した。
多層ナノシート(実施例1)及びPVA担持膜から構成される複合膜を、PMMA(ポリメチルメタクリレート)プレート上に乗せ、第1のナノシート層を形成し、次いでPVA担持膜を水で溶解した。PMMAプレート上の単一ナノシートのSPF値を、SPFアナライザーUV-2000Sによって測定した。
Claims (14)
- 少なくとも1種の生体適合性及び/又は生分解性の疎水性ポリマー層を含み、
30〜1000nmの厚さを有し、
フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、テレフタリリデンジカンファースルホン酸、フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、及び、金属酸化物からなる群から選択される少なくとも1種の親水性紫外線遮蔽剤を含む、
皮膚用自立性美容シート。 - 生体適合性及び/又は生分解性の疎水性ポリマーが、非架橋である、請求項1に記載の皮膚用自立性美容シート。
- 生体適合性及び/又は生分解性の疎水性ポリマー層が、少なくとも1種のカチオン性ポリマー及び少なくとも1種のアニオン性ポリマーを含む、請求項1に記載の皮膚用自立性美容シート。
- カチオン性ポリマーが、第四級アンモニウム基、グアニジン基、ビグアニド基、イミダゾール基、イミノ基、ピリジル基及びアミノ基からなる群から選択される少なくとも1つの正荷電性部分を有する、請求項3に記載の皮膚用自立性美容シート。
- カチオン性ポリマーが、キトサン、コラーゲン、ポリアリルアミン、ポリビニルアミン、ポリジアリルジアルキルアンモニウムクロリド、ポリアニリン、ポリビニルイミダゾール、ポリジメチルアミノエチレンメタクリレート、ポリ-1-メチル-2-ビニルピリジン、ポリアミン、ポリイミン、ポリエチレンイミン、ポリビニルピリジン、ポリ(第四級ピリジン)、ポリリシン、ポリオルニチン、ポリアルギニン、ポリヒスチジン、ポリアミノプロピルビグアニド、及び、それらの塩からなる群から選択される、請求項3又は4に記載の皮膚用自立性美容シート。
- アニオン性ポリマーが、硫酸基、スルフェート基、スルホン酸基、スルホネート基、リン酸基、ホスフェート基、ホスホン酸基、ホスホネート基、カルボキシル基及びカルボキシレート基からなる群から選択される少なくとも1つの負荷電性部分を有する、請求項3から5のいずれか一項に記載の皮膚用自立性美容シート。
- アニオン性ポリマーが、アルギン酸、ヒアルロン酸、ポリグルタミン酸、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリアミド酸、ポリスチレンスルホネート、ポリ(ビニルスルフェート)、デキストランスルフェート、コンドロイチンスルフェート、ポリマレイン酸、ポリフマル酸、カルボキシメチルセルロース、スチレン無水マレイン酸誘導体及びそれらの塩からなる群から選択できる、請求項3から6のいずれか一項に記載の皮膚用自立性美容シート。
- 親水性紫外線遮蔽剤の量が、美容シートの総質量に対して、0.1から70質量%である、請求項1から7のいずれか一項に記載の皮膚用自立性美容シート。
- 基材シートに接着されている、請求項1から8のいずれか一項に記載の皮膚用自立性美容シート。
- 基材シートから取り外し可能である、請求項9に記載の皮膚用自立性美容シート。
- 請求項1から10のいずれか一項に記載の皮膚用自立性美容シートを皮膚上に適用する工程を含む、皮膚をケア及び/又はメーキャップする非治療的化粧方法。
- 請求項1から10のいずれか一項に記載の皮膚用自立性美容シートを皮膚上に適用する工程を含む、皮膚の黒ずみを制限し、肌の色及びむらを改善する非治療的化粧方法。
- 請求項1から10のいずれか一項に記載の皮膚用自立性美容シートを皮膚上に適用する工程を含む、皮膚のアンチエイジング美容処理方法。
- 少なくとも1種の非架橋ポリ(乳酸)及びその誘導体から選択される非架橋ポリマー層を含み、
30〜1000nmの厚さを有し、
少なくとも1種の親油性紫外線遮蔽剤を含む、
皮膚用自立性美容シート。
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