JP2015107939A - 美容処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、ケラチン基質上に、
少なくとも1種の第1のポリマーを含む第1の溶液又は分散液をスプレーする工程と、
少なくとも1種の第2のポリマーを含む第2の溶液又は分散液をスプレーして
ケラチン基質上に膜を調製する工程とを含み、
膜の厚さが、30〜1000nm、好ましくは50〜600nm、より好ましくは100〜400nmである、美容処理方法に関する。本発明は、容易な工程で、皮膚及び毛髪等のケラチン基質上に極薄膜を直接形成でき、この薄膜は美容機能を有することができる。
【選択図】なし
Description
少なくとも1種の第1のポリマーを含む第1の溶液又は分散液をスプレーする工程と、
少なくとも1種の第2のポリマーを含む第2の溶液又は分散液をスプレーして
ケラチン基質上に膜を調製する工程と
を含み、
膜の厚さが、30〜1000nm、好ましくは50〜600nm、より好ましくは100〜400nmである美容処理方法によって実現できる。
(1)第1のノズルを備えた第1の区画であって、少なくとも1種の第1のポリマーを含む第1の溶液又は分散液を含有する第1の区画と、
(2)第2のノズルを備えた第2の区画であって、少なくとも1種の第2のポリマーを含む第2の溶液又は分散液を含有する第2の区画と
を含み、
第1の溶液又は分散液が第1のノズルを通ってスプレーされ、第2の溶液又は分散液が第2のノズルを通ってスプレーされる多区画キットにも関する。
少なくとも1種の第1のポリマーを含む第1の溶液又は分散液をスプレーする工程と、
少なくとも1種の第2のポリマーを含む第2の溶液又は分散液をスプレーして
ケラチン基質上に膜を調製する工程と
を含み、
膜の厚さが、30〜1000nm、好ましくは50〜600nm、より好ましくは100〜400nmである美容処理方法に関する。
(1)第1のノズルを備えた第1の区画であって、少なくとも1種の第1のポリマーを含む第1の溶液又は分散液を含有する第1の区画と、
(2)第2のノズルを備えた第2の区画であって、少なくとも1種の第2のポリマーを含む第2の溶液又は分散液を含有する第2の区画と
を含み、
第1の溶液又は分散液が第1のノズルを通ってスプレーされ、第2の溶液又は分散液が第2のノズルを通ってスプレーされる多区画キットを用いて実施できる。
本発明による美容処理方法は、ケラチン基質上に、
少なくとも1種の第1のポリマーを含む第1の溶液又は分散液をスプレーする工程と、
少なくとも1種の第2のポリマーを含む第2の溶液又は分散液をスプレーして
ケラチン基質上に極薄膜を調製する工程とを含む。
第1のポリマーはカチオン性ポリマーから選択され、第2のポリマーはアニオン性ポリマーから選択される、又は
第1のポリマーはアニオン性ポリマーから選択され、第2のポリマーはカチオン性ポリマーから選択される。
(1)第1のノズルを備えた第1の区画であって、少なくとも1種の第1のポリマーを含む第1の溶液又は分散液を含有する第1の区画と、
(2)第2のノズルを備えた第2の区画であって、少なくとも1種の第2のポリマーを含む第2の溶液又は分散液を含有する第2の区画と
を含み、
第1の溶液又は分散液が第1のノズルを通ってスプレーされ、第2の溶液又は分散液が第2のノズルを通ってスプレーされる多区画キットを用いて実施されることが好ましい。
本発明によれば、第1及び/又は第2の溶液又は分散液は、少なくとも1種の美容有効成分を含んでよい。第1及び/又は第2の溶液又は分散液が少なくとも1種の美容有効成分を含む場合、基質上の薄膜は、美容有効成分に基づく美容機能を少なくとも1つ実施するための美容有効成分を含むことができる。
本発明による薄膜は、少なくとも1種の無機紫外線遮蔽剤を含むことができる。2種又はそれ以上の無機紫外線遮蔽剤を使用する場合、それらは同じものでも異なってもよく、同じものであることが好ましい。
池田物産株式会社の製品「Sunveil」等、シリカで被覆された酸化チタン;
池田物産株式会社の製品「Sunveil F」等、シリカ及び酸化鉄で被覆された酸化チタン;
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 500 SA」、Tioxide社の製品「Tioveil」、Rhodia社の製品「Mirasun TiW 60」等、シリカ及びアルミナで被覆された酸化チタン;
石原産業の製品「Tipaque TTO-55 (B)」及び「Tipaque TTO-55 (A)」、並びに、Kemira社の製品「UVT 14/4」等、アルミナで被覆された酸化チタン;
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 100 T、MT 100 TX、MT 100 Z又はMT-01」、Uniqema社の製品「Solaveil CT-10 W」及び「Solaveil CT 100」、並びに、Merck社の製品「Eusolex T-AVO」等、アルミナ及びステアリン酸アルミニウムで被覆された酸化チタン;
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 100 S」等、アルミナ及びラウリン酸アルミニウムで被覆された酸化チタン;
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 100 F」等、酸化鉄及びステアリン酸鉄で被覆された酸化チタン;
テイカの製品「BR351」等、酸化亜鉛及びステアリン酸亜鉛で被覆された酸化チタン;
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 600 SAS」、「Microtitanium Dioxide MT 500 SAS」、及び、「Microtitanium Dioxide MT 100 SAS」等、シリカ及びアルミナで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン;
チタン工業株式会社の製品「STT-30-DS」等、シリカ、アルミナ及びステアリン酸アルミニウムで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン;
Kemira社の製品「UV-Titan X 195」等、シリカで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン;
石原産業株式会社の製品「Tipaque TTO-55 (S)」又はKemira社の製品「UV Titan M 262」等、アルミナで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン;
チタン工業株式会社の製品「STT-65-S」等、トリエタノールアミンで被覆された酸化チタン;
石原産業株式会社の製品「Tipaque TTO-55 (C)」等、ステアリン酸で被覆された酸化チタン;或いは
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 150 W」等、ヘキサメタリン酸ナトリウムで被覆された酸化チタンでよい。
平均一次粒径が15nmの、テイカの製品「MT-100 TV」等のステアリン酸(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2;
平均一次粒径が15nmの、三好化成工業株式会社の製品「SA-TTO-S4」等のジメチコーン(及び)ステアリン酸(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2;
平均一次粒径が15nmの、テイカの製品「MT-100 WP」等のシリカ(及び)TiO2;
平均一次粒径が10nmの、テイカの製品「MT-Y02」及び「MT-Y-110 M3S」等のジメチコーン(及び)シリカ(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2;
平均一次粒径が15nmの、三好化成工業株式会社の製品「SA-TTO-S3」等のジメチコーン(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2;
平均一次粒径が15nmの、Sachtleben社の製品「UV-TITAN M170」等のジメチコーン(及び)アルミナ(及び)TiO2;
平均一次粒径が15nmの、テイカの製品「MT-100 AQ」等のシリカ(及び)水酸化アルミニウム(及び)アルギン酸(及び)TiO2。
Sunsmart社により「Z-cote」の商標で市販されているもの、
Elementis社により「Nanox」の商標で市販されているもの、及び
Nanophase Technologies社により「Nanogard WCD 2025」の商標で市販されているものである。
東芝により「Oxide Zinc CS-5」の商標で市販されているもの(ポリメチルヒドロシロキサンで被覆されているZnO)、
Nanophase Technologies社により「Nanogard Zinc Oxide FN」の商標で(C12〜C15アルキルベンゾエートであるFinsolv TN中40%分散液として)市販されているもの、
大東化成により「Daitopersion Zn-30」及び「Daitopersion Zn-50」の商標で市販されているもの(オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン/シクロポリメチルシロキサン中に、シリカ及びポリメチルヒドロシロキサンで被覆されている亜鉛ナノオキシドを30%又は50%含む分散液)、
ダイキン工業により「NFD Ultrafine ZnO」の商標で市販されているもの(ペルフルオロアルキルのリン酸エステル及びペルフルオロアルキルエチルをベースとしたコポリマーで被覆されている、シクロペンタシロキサン分散液としてのZnO)、
信越化学工業により「SPD-Z1」の商標で市販されているもの(シリコーングラフトアクリルポリマーで被覆されているZnOをシクロジメチルシロキサンに分散させたもの)、
ISP社により「Escalol Z100」の商標で市販されているもの(メトキシケイ皮酸エチルヘキシル/PVP-ヘキサデセンコポリマー/メチコーン混合物に分散させたアルミナ処理ZnO)、
冨士色素により「Fuji ZnO-SMS-10」の商標で市販されているもの(シリカ及びポリメチルシルセスキオキサンで被覆されているZnO)、並びにElementis社により「Nanox Gel TN」の商標で市販されているもの(ヒドロキシステアリン酸重縮合物を含有するC12〜C15アルキルベンゾエートに55%で分散させたZnO)である。
本発明による薄膜は、少なくとも1種の有機紫外線遮蔽剤を含むことができる。2種又はそれ以上の有機紫外線遮蔽剤を使用する場合、それらは同じものでも異なってもよく、同じものであることが好ましい。
- ジベンゾイルメタン化合物:特にHoffmann-La Roche社により「Parsol 1789」の商標で市販されているブチルメトキシジベンゾイルメタン;及びイソプロピルジベンゾイルメタン。
- ケイ皮酸化合物:特にHoffmann-La Roche社により「Parsol MCX」の商標で市販されているメトキシケイ皮酸エチルヘキシル;メトキシケイ皮酸イソプロピル;メトキシケイ皮酸イソプロポキシ;Haarmann and Reimer社により「Neo Heliopan E 1000」の商標で市販されているメトキシケイ皮酸イソアミル;シノキセート(4-メトキシケイ皮酸2-エトキシエチル);メトキシケイ皮酸DEA;メチルケイ皮酸ジイソプロピル;及びジメトキシケイ皮酸エチルヘキサン酸グリセリル。
- サリチル酸化合物:Rona/EM Industries社により「Eusolex HMS」の商標で市販されているホモサレート(サリチル酸ホモメンチル);Haarmann and Reimer社により「Neo Heliopan OS」の商標で市販されているサリチル酸エチルヘキシル;サリチル酸グリコール;サリチル酸ブチルオクチル;サリチル酸フェニル;Scher社により「Dipsal」の商標で市販されているサリチル酸ジプロピレングリコール;及びHaarmann and Reimer社により「Neo Heliopan TS」の商標で市販されているサリチル酸TEA。
- カンファー化合物、特にベンジリデンカンファー誘導体:Chimex社により「Mexoryl SD」の商標で製造されている3-ベンジリデンカンファー;Merck社により「Eusolex 6300」の商標で市販されている4-メチルベンジリデンカンファー;Chimex社により「Mexoryl SL」の商標で製造されているベンジリデンカンファースルホン酸;Chimex社により「Mexoryl SO」の商標で製造されているメト硫酸カンファーベンザルコニウム;Chimex社により「Mexoryl SX」の商標で製造されているテレフタリリデンジカンファースルホン酸;及びChimex社により「Mexoryl SW」の商標で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー。
- ベンゾフェノン化合物:BASF社により「Uvinul 400」の商標で市販されているベンゾフェノン-1(2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン);BASF社により「Uvinul D50」の商標で市販されているベンゾフェノン-2(テトラヒドロキシベンゾフェノン);BASF社により「Uvinul M40」の商標で市販されているベンゾフェノン-3(2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン)又はオキシベンゾン;BASF社により「Uvinul MS40」の商標で市販されているベンゾフェノン-4(ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸);ベンゾフェノン-5(ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム);Norquay社により「Helisorb 11」の商標で市販されているベンゾフェノン-6(ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノン);American Cyanamid社により「Spectra-Sorb UV-24」の商標で市販されているベンゾフェノン-8;BASFにより「Uvinul DS-49」の商標で市販されているベンゾフェノン-9(ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノンジスルホン酸二ナトリウム);ベンゾフェノン-12、及びn-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート(BASFによるUVINUL A+)。
- β,β-ジフェニルアクリレート化合物:特にBASF社により「Uvinul N539」の商標で市販されているオクトクリレン;及び特にBASF社により「Uvinul N35」の商標で市販されているエトクリレン。
- トリアジン化合物:Sigma 3V社により「Uvasorb HEB」の商標で市販されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン;2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン;CIBA GEIGY社により「TINOSORB S」の商標で市販されているビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、及びBASF社により「UVINUL T150」の商標で市販されているエチルヘキシルトリアゾン。
- ベンゾトリアゾール化合物、特にフェニルベンゾトリアゾール誘導体:分枝及び直鎖の2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-ドデシル-4-メチルフェノ;並びにUSP 5240975に記載のもの。
- ベンザルマロネート化合物:4'-メトキシベンザルマロン酸ジネオペンチル、及びベンザルマロン酸官能基を含むポリオルガノシロキサン、例えば、Hoffmann-La Roche社により「Parsol SLX」の商標で市販されているポリシリコーン-15。
- ベンゾイミダゾール化合物、特にフェニルベンゾイミダゾール誘導体:特にMerck社により「Eusolex 232」の商標で市販されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、及び、Haarmann and Reimer社により「Neo Heliopan AP」の商標で市販されているフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
- イミダゾリン化合物:エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート。
- ビス-ベンゾアゾリル化合物:EP-669,323及び米国特許第2,463,264号に記載の誘導体。
- パラ-アミノ安息香酸化合物:PABA(p-アミノ安息香酸)、エチルPABA、エチルジヒドロキシプロピルPABA、ペンチルジメチルPABA、特にISP社により「Escalol 507」の商標で市販されているエチルヘキシルジメチルPABA、グリセリルPABA、及び、BASF社により「Uvinul P25」の商標で市販されているPEG-25 PABA。
- メチレンビス-(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)化合物、例えばFairmount Chemical社により「Mixxim BB/200」の商標で固体形態で市販されている2,2'-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-フェノール]、BASF社により「Tinosorb M」の商標で、又はFairmount Chemical社により「Mixxim BB/100」の商標で水性分散液中微粉化形態で市販されている2,2'-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール]、及び米国特許第5,237,071号、第5,166,355号、GB-2,303,549、DE-197,26,184及びEP-893,119に記載の誘導体、並びに
以下に表すような、Rhodia Chimie社により「Silatrizole」の商標で、又は、L'Oreal社により「Mexoryl XL」の商標で市販されているドロメトリゾールトリシロキサン。
- 遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン:WO 93/04665に記載のシリコーン。
- α-アルキルスチレン由来ダイマー:DE-19855649に記載のダイマー。
- 4,4-ジアリールブタジエン化合物:1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン。
ブチルメトキシジベンゾイルメタン、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、ホモサレート、サリチル酸エチルヘキシル、オクトクリレン、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、ベンゾフェノン-3、ベンゾフェノン-4、ベンゾフェノン-5、n-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート、1,1'-(1,4-ピペラジンジイル)ビス[1-[2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]フェニル]-メタノン、4-メチルベンジリデンカンファー、テレフタリリデンジカンファースルホン酸、フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、エチルヘキシルトリアゾン、ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、2,4-ビス-(n-ブチル4'-アミノベンザルマロネート)-6[(3-{1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリルオキシ]-ジシロキサニル}プロピル)アミノ]-s-トリアジン、2,4,6-トリス-(ジ-フェニル)-トリアジン、2,4,6-トリス-(テル-フェニル)-トリアジン、メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ドロメトリゾールトリシロキサン、ポリシリコーン-15、ジネオペンチル4'-メトキシベンザルマロネート、1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、カンファーベンジルコニウムメトスルフェート並びにそれらの混合物。
本発明による薄膜は、上記の成分に加えて、化粧料に通常用いられる成分、特に、例えば酸、塩基、塩、顔料、粉末、界面活性剤、油、有機溶媒、シリコーン、シリコーン誘導体、動物又は植物由来の天然エキス、蝋等を、本発明の効果を損なわない範囲内で含むことができる。
本発明によれば、美容処理方法によって調製された薄膜は、皮膚の外観を変え、皮膚の触り心地を変え、且つ/又は皮膚を保護するために使用してよい。そのため、本発明は、皮膚の外観を変え、皮膚の触り心地を変え、且つ/又は皮膚を保護するための薄膜の美容上の使用にも関する。
極薄膜は、以下のように、皮膚上に高分子電解質(ポリリシン及びアルギン酸ナトリウム)をスプレーすることによって調製した。
複数の層のポリリシン及びアルギン酸Naで構成される自立性ナノシートを、Adv. Mater. 2007、19、3549〜3553頁、及びBiomaterials、2010、31、6269〜6278頁によるスピンコーティングを利用した交互積層法を用いて、但しキトサンの代わりにポリリシンを使用して、SiO2基材上に作製した。
テレフタリリデンジカンファースルホン酸(Mexoryl SX(登録商標))を含有する極薄膜を以下のように調製した。
ポリリシン、ヒアルロン酸、及びMexoryl SXで構成されるナノシートを以下のように調製した。
比較研究として、Mexoryl SX(登録商標)を含有する製剤を、以下の表1の成分を混合することによって調製した。
実施例2で得た薄膜のSPF値をSPFアナライザーUV-2000Sによって測定した。Mexoryl SXを含有するポリリシン/ヒアルロン酸薄膜のSPF値は「8」であり、紫外線を効果的にシールドした。
テレフタリリデンジカンファースルホン酸{Mexoryl SX(登録商標)}を含有する極薄膜を以下のように調製した。
Claims (16)
- ケラチン基質上に、
少なくとも1種の第1のポリマーを含む第1の溶液又は分散液をスプレーする工程と、
少なくとも1種の第2のポリマーを含む第2の溶液又は分散液をスプレーして
ケラチン基質上に膜を調製する工程と
を含み、
膜の厚さが、30〜1000nm、好ましくは50〜600nm、より好ましくは100〜400nmである、美容処理方法。 - 第1の溶液又は分散液及び第2の溶液又は分散液を同時に又は交互にスプレーする、請求項1に記載の美容処理方法。
- 第1及び/又は第2の溶液又は分散液が水性である、請求項1又は2に記載の美容処理方法。
- 第1のポリマーがカチオン性ポリマーから選択され、第2のポリマーがアニオン性ポリマーから選択される、又は
第1のポリマーがアニオン性ポリマーから選択され、第2のポリマーがカチオン性ポリマーから選択される
請求項1から3のいずれか一項に記載の美容処理方法。 - カチオン性ポリマーが、第四級アンモニウム基、グアニジン基、ビグアニド基、イミダゾール基、イミノ基、ピリジル基及びアミノ基からなる群から選択される少なくとも1つの正荷電性部分を有する、請求項4に記載の美容処理方法。
- カチオン性ポリマーが、キトサン、コラーゲン、ポリアリルアミン、ポリビニルアミン、ポリジアリルジアルキルアンモニウムクロリド、ポリアニリン、ポリビニルイミダゾール、ポリジメチルアミノエチレンメタクリレート、ポリ-1-メチル-2-ビニルピリジン、ポリアミン、ポリイミン、ポリエチレンイミン、ポリビニルピリジン、ポリ(第四級ピリジン)、ポリリシン、ポリオルニチン、ポリアルギニン、ポリヒスチジン、ポリアミノプロピルビグアニド、及び、それらの塩からなる群から選択される、請求項4又は5に記載の美容処理方法。
- アニオン性ポリマーが、硫酸基、スルフェート基、スルホン酸基、スルホネート基、リン酸基、ホスフェート基、ホスホン酸基、ホスホネート基、カルボキシル基及びカルボキシレート基からなる群から選択される少なくとも1つの負荷電性部分を有する、請求項4に記載の美容処理方法。
- アニオン性ポリマーが、アルギネート及びその誘導体、ヒアルロン酸、ポリグルタミン酸、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリアミド酸、ポリスチレンスルホネート、ポリ(ビニルスルフェート)、デキストランスルフェート、コンドロイチンスルフェート、ポリマレイン酸、ポリフマル酸、カルボキシメチルセルロース、スチレン無水マレイン酸コポリマー及びそれらの塩からなる群から選択される、請求項4又は5に記載の美容処理方法。
- アニオン性ポリマーが、疎水性であり、好ましくは非架橋型であり、より好ましくは非架橋ポリ(乳酸)及びその誘導体から選択される、請求項4に記載の美容処理方法。
- 第1及び/又は第2の溶液又は分散液が、少なくとも1種の美容有効成分を含む、請求項1から9のいずれか一項に記載の美容処理方法。
- 美容有効成分が、紫外線遮蔽剤、酸化防止剤、クレンジング剤、遊離基捕捉剤、保湿剤、美白剤、脂肪調節剤、抗アクネ剤、抗フケ剤、抗老化剤、柔軟剤、抗皺剤、角質溶解剤、抗炎症剤、フレッシュナー、ヒーリング剤、血管保護剤、抗菌剤、抗真菌剤、制汗剤、デオドラント、皮膚コンディショナー、麻酔剤、免疫調節剤、栄養剤、及び皮脂吸収剤又は水分吸収剤から選択される、請求項10に記載の美容処理方法。
- 美容有効成分の量が、膜の総質量に対して、0.01〜50質量%、好ましくは0.05〜40質量%、より好ましくは0.1〜35質量%である、請求項10又は11に記載の美容処理方法。
- ケラチン基質が皮膚又は毛髪である、請求項1から12のいずれか一項に記載の美容処理方法。
- 膜が、皮膚の外観を変え、皮膚の触り心地を変え、且つ/又は皮膚を保護するためのものである、請求項13に記載の美容処理方法。
- 膜が、皮膚をケアし、皮膚をメーキャップし、皮膚の黒ずみを制限し、且つ/又は肌の色若しくはむらを改善するためのものである、請求項13に記載の美容処理方法。
- (1)第1のノズルを備えた第1の区画であって、少なくとも1種の第1のポリマーを含む第1の溶液又は分散液を含有する第1の区画と、
(2)第2のノズルを備えた第2の区画であって、少なくとも1種の第2のポリマーを含む第2の溶液又は分散液を含有する第2の区画と
を含み、
第1の溶液又は分散液が第1のノズルを通ってスプレーされ、第2の溶液又は分散液が第2のノズルを通ってスプレーされる、多区画キット。
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