JP6412873B2 - 粘着シート - Google Patents

粘着シート Download PDF

Info

Publication number
JP6412873B2
JP6412873B2 JP2015539338A JP2015539338A JP6412873B2 JP 6412873 B2 JP6412873 B2 JP 6412873B2 JP 2015539338 A JP2015539338 A JP 2015539338A JP 2015539338 A JP2015539338 A JP 2015539338A JP 6412873 B2 JP6412873 B2 JP 6412873B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
sensitive adhesive
meth
acrylic acid
adhesive sheet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015539338A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2015046341A1 (ja
Inventor
朋治 宮永
朋治 宮永
章生 加太
章生 加太
明徳 佐藤
明徳 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lintec Corp filed Critical Lintec Corp
Publication of JPWO2015046341A1 publication Critical patent/JPWO2015046341A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6412873B2 publication Critical patent/JP6412873B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L21/6836Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/62Polymers of compounds having carbon-to-carbon double bonds
    • C08G18/6216Polymers of alpha-beta ethylenically unsaturated carboxylic acids or of derivatives thereof
    • C08G18/625Polymers of alpha-beta ethylenically unsaturated carboxylic acids; hydrolyzed polymers of esters of these acids
    • C08G18/6254Polymers of alpha-beta ethylenically unsaturated carboxylic acids and of esters of these acids containing hydroxy groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/81Unsaturated isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/8108Unsaturated isocyanates or isothiocyanates having only one isocyanate or isothiocyanate group
    • C08G18/8116Unsaturated isocyanates or isothiocyanates having only one isocyanate or isothiocyanate group esters of acrylic or alkylacrylic acid having only one isocyanate or isothiocyanate group
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/81Unsaturated isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/8141Unsaturated isocyanates or isothiocyanates masked
    • C08G18/815Polyisocyanates or polyisothiocyanates masked with unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/8158Polyisocyanates or polyisothiocyanates masked with unsaturated compounds having active hydrogen with unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/8175Polyisocyanates or polyisothiocyanates masked with unsaturated compounds having active hydrogen with unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen with esters of acrylic or alkylacrylic acid having only one group containing active hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04Polyurethanes
    • C09D175/14Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09D175/16Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09J133/062Copolymers with monomers not covered by C09J133/06
    • C09J133/066Copolymers with monomers not covered by C09J133/06 containing -OH groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/35Heat-activated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/326Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for bonding electronic components such as wafers, chips or semiconductors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2433/00Presence of (meth)acrylic polymer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68327Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/6834Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used to protect an active side of a device or wafer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Dicing (AREA)

Description

本発明は、エネルギー線硬化性の粘着剤層を有する粘着シートに関するものである。
従来より、例えば半導体ウエハを研削、切断する工程においては、半導体ウエハの固定や回路などの保護を目的として、粘着シートが用いられている。この粘着シートとして、半導体ウエハを貼付した後の処理工程においては強い粘着力を有し、一方剥離時にはエネルギー線の照射により粘着力が低下する、エネルギー線硬化性の粘着剤層を備えた粘着シートが用いられることがある。
上記のようなエネルギー線硬化性の粘着剤層は、通常、エネルギー線硬化性粘着成分と、所望により架橋剤とを含有する粘着剤組成物から形成される。エネルギー線硬化性粘着成分としては、エネルギー線硬化性を有しないアクリル系重合体およびエネルギー線硬化性化合物を含有するもの、あるいは側鎖にエネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体を含有するものが一般的に使用される。
側鎖にエネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体を含有する粘着剤を使用した粘着シートとしては、例えば、特許文献1及び2に記載のものが知られている。特許文献1の実施例では、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸2−ヒドロキシエチルおよびアクリル酸オクタデシルを共重合した後、当該共重合体および2−イソシアネートエチルメタクリレートを反応させて得られた(メタ)アクリル系ポリマーと、架橋剤であるポリイソシアネート化合物と、光重合開始剤とを混合して放射線硬化性粘着剤組成物を調製し、当該放射線硬化性粘着剤組成物からなる粘着剤層と基材フィルムとを積層し、ダイシング用の粘着シートとしている。
また、特許文献2の実施例では、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸エチル、アクリル酸およびアクリル酸2−ヒドロキシエチルを共重合した後、当該共重合体およびメタクリル酸2−イソシアネートエチルを反応させて得られた重合性ポリマーと、多官能オリゴマーであるペンタエリスリトールトリアクリレートと、架橋剤であるポリイソシアネート化合物と、光重合開始剤とを混合して再剥離型粘着剤を調製し、当該再剥離型粘着剤からなる粘着剤層と基材フィルムとを積層し、ダイシング用の粘着シートとしている。
特開2010−232629号公報 特許第2887274号公報
特許文献1又は2の粘着シートを使用する場合、当該粘着シートを半導体ウエハに貼付し、ダイシングを行った後、粘着剤層に対して紫外線等のエネルギー線を照射して粘着力を低下させ、チップを粘着シートの粘着剤層から剥離してピックアップする。
しかしながら、特許文献1及び2の粘着シートでは、エネルギー線照射後に基材フィルムと粘着剤層との密着性が低くなるため、上記のようにピックアップしたときに、基材フィルムと粘着剤層との間で剥離が生じ、チップを粘着剤層から良好にピックアップすることができないことがあった。
本発明は、上記のような実状に鑑みてなされたものであり、エネルギー線照射後にも粘着剤層と基材との密着性に優れた粘着シートを提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、第1に本発明は、基材と、前記基材の少なくとも一方の面に積層された粘着剤層とを備えており、前記粘着剤層は、エネルギー線硬化性の(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)と、エポキシ系架橋剤(B)とを含有する粘着剤組成物から形成されたものであり、前記(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)は、(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)と、水酸基を有する水酸基含有モノマー(A2)と、エポキシ基と反応可能な官能基(水酸基を除く)を有する官能基含有モノマー(A3)とを共重合したアクリル系共重合体(AP)と、水酸基と反応可能な官能基およびエネルギー線硬化性の炭素−炭素二重結合を有する硬化性基含有化合物(A4)とを反応させて得られるものであることを特徴とする粘着シートを提供する(発明1)。
上記発明(発明1)によれば、粘着剤層が、上記(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)およびエポキシ系架橋剤(B)を含有する粘着剤組成物から形成されることにより、エネルギー線照射後にも粘着剤層と基材との密着性が優れたものとなる。
上記発明(発明1)において、前記(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)は、前記硬化性基含有化合物(A4)に由来する硬化性基を、当該(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)が有する水酸基に対して、50モル%以上含有することが好ましい(発明2)。
上記発明(発明1,2)において、前記(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)全体の質量に占める前記(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)由来の構造部分の質量の割合は、50〜99質量%であることが好ましい(発明3)。
上記発明(発明1〜3)において、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)のアルキル基の炭素数は、6以上であることが好ましい(発明4)。
上記発明(発明1〜4)において、前記(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)全体の質量に占める前記官能基含有モノマー(A3)由来の構造部分の質量の割合は、0.1〜5質量%であることが好ましい(発明5)。
上記発明(発明1〜5)において、前記アクリル系共重合体(AP)全体の質量に占める前記水酸基含有モノマー(A2)由来の構造部分の質量の割合は、1〜25質量%であることが好ましい(発明6)。
上記発明(発明1〜6)において、前記基材は、ポリオレフィン系フィルムを主体とするものであることが好ましい(発明7)。
上記発明(発明1〜7)において、前記粘着シートは、半導体加工用の粘着シートであることが好ましい(発明8)。
本発明に係る粘着シートは、エネルギー線照射後にも粘着剤層と基材との密着性に優れる。
本発明の一実施形態に係る粘着シートの断面図である。
以下、本発明の実施形態について説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る粘着シートの断面図である。本実施形態に係る粘着シート1は、基材2と、基材2の一方の面(図1では上側の面)に積層された粘着剤層3とを備えて構成される。本実施形態に係る粘着シート1は、例えば、被着体を半導体ウエハ等とするダイシングシート、バックグラインドシートなどの半導体加工用の粘着シートとして使用することができるが、これに限定されるものではない。以下、ダイシングシートまたはバックグラインドシートとして使用される場合を中心に説明する。
1.基材
本実施形態に係る粘着シート1の基材2は、粘着シート1の使用工程で所望の機能を発揮する限り、例えば、バックグラインド工程、ダイシング工程、エキスパンド工程などにおいて破断しない限り、その構成材料は特に限定されず、通常は樹脂系の材料を主材とするフィルム(樹脂フィルム)を主体として構成され、好ましくは樹脂フィルムから構成される。その樹脂フィルムの具体例として、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム等のエチレン系共重合フィルム;低密度ポリエチレン(LDPE)フィルム、直鎖低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム、高密度ポリエチレン(HDPE)フィルム等のポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、エチレン−ノルボルネン共重合体フィルム、ノルボルネン樹脂フィルム等の、オレフィン系炭化水素のみを重合単量体としたポリオレフィン系フィルム;ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム等のポリ塩化ビニル系フィルム;ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム等のポリエステル系フィルム;ポリウレタンフィルム;ポリイミドフィルム;ポリスチレンフィルム;ポリカーボネートフィルム;フッ素樹脂フィルムなどが挙げられる。またこれらの架橋フィルム、アイオノマーフィルムのような変性フィルムも用いられる。上記の基材2はこれらの1種からなる樹脂フィルムでもよいし、さらにこれらを2種類以上組み合わせた積層フィルムであってもよい。なお、本明細書における「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸およびメタクリル酸の両方を意味する。他の類似用語についても同様である。
上記の中でも、ポリオレフィン系フィルムが好ましく、特にポリエチレンフィルムおよびポリプロピレンフィルムが好ましく、さらにはポリプロピレンフィルムが好ましい。これらのポリオレフィン系フィルムは、耐熱性および耐溶剤性に優れる。
基材2においては、上記の樹脂フィルム内に、顔料、染料、難燃剤、可塑剤、帯電防止剤、滑剤、フィラー等の各種添加剤が含まれていてもよい。顔料としては、例えば、二酸化チタン、カーボンブラック等が挙げられる。また、フィラーとしては、メラミン樹脂のような有機系材料、ヒュームドシリカのような無機系材料およびニッケル粒子のような金属系材料が例示される。こうした添加剤の含有量は特に限定されないが、基材2が所望の機能を発揮し、平滑性や柔軟性を失わない範囲に留めるべきである。
粘着剤層3を硬化させるために照射するエネルギー線として紫外線を用いる場合には、基材2は紫外線に対して透過性を有することが好ましい。なお、エネルギー線として電子線を用いる場合には、基材2は電子線の透過性を有していることが好ましい。
ここで、本技術分野においては、他の層との密着性向上のために、樹脂フィルムの表面にプライマー層を設けることが知られているが、その場合には塗工等の製膜工程が必要となり、コスト増大の要因となり望ましくない。本実施形態の粘着剤層3であれば、プライマー層がなくても、樹脂フィルムとの密着性に優れる。
基材2の厚さは、粘着シート1が使用される工程において適切に機能できる限り限定されないが、通常、20〜450μmであることが好ましく、特に25〜300mであることが好ましく、さらには50〜200μmであることが好ましい。
本実施形態における基材2の破断伸度は、23℃、相対湿度50%のときに測定した値として100%以上であることが好ましく、特に200〜1000%であることが好ましい。ここで、破断伸度はJIS K7161:1994(ISO 527−1 1993)に準拠した引張り試験における、試験片破壊時の試験片の長さの元の長さに対する伸び率である。上記の破断伸度が100%以上である基材2は、エキスパンド工程の際に破断し難く、ワークを切断して形成したチップを離間し易いものとなる。
また、本実施形態における基材2の25%ひずみ時引張応力は5〜15N/10mmであることが好ましく、最大引張応力は15〜50MPaであることが好ましい。ここで25%ひずみ時引張応力および最大引張応力はJIS K7161:1994に準拠した試験により測定される。25%ひずみ時引張応力が5N/10mm以上、最大引張応力が15MPa以上であると、粘着シート1にワークを貼着した後、リングフレームなどの枠体に固定した際、基材2に弛みが発生することが抑制され、搬送エラーが生じることを防止することができる。一方、25%ひずみ時引張応力が15N/10mm以下、最大引張応力が50MPa以下であると、エキスパンド工程時にリングフレームから粘着シート1自体が剥がれたりすることが抑制される。なお、上記の破断伸度、25%ひずみ時引張応力、最大引張応力は基材2における原反の長尺方向について測定した値を指す。
2.粘着剤層
粘着剤層3は、エネルギー線硬化性の(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)と、エポキシ系架橋剤(B)とを含有する粘着剤組成物から形成される。
(1)(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)
エネルギー線硬化性の(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)は、(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)と、水酸基を有する水酸基含有モノマー(A2)と、エポキシ基と反応可能な官能基(水酸基を除く)を有する官能基含有モノマー(A3)とを共重合したアクリル系共重合体(AP)と、水酸基と反応可能な官能基およびエネルギー線硬化性の炭素−炭素二重結合を有する硬化性基含有化合物(A4)とを反応させて得られるものである。
(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)は、当該共重合体を構成するモノマー単位として、(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)を含有することで、好ましい粘着性を発現することができる。(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)としては、アルキル基の炭素数が6以上であるものが好ましく、特に8〜18であるものが好ましく、さらには10〜14であるものが好ましい。(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)のアルキル基の炭素数が6以上であることにより、得られる粘着剤層3は、耐溶剤性に優れたものとなる。例えば、粘着シート1がダイシングシートとして使用される場合、半導体ウエハからバックグラインドシートを剥がした後、半導体ウエハに残存した粘着剤を除去するときや、研削等の加工のために支持基板に接着剤で固定されている半導体ウエハを、接着剤を溶剤により溶かすことで剥離するときや、その剥離後に、半導体ウエハ上に残った接着剤を溶剤で洗浄することにより除去するときなどに、半導体ウエハに貼付されたダイシングシートも溶剤に接触することがある。このような場合においても粘着剤層3は膨潤、溶解等することなく、良好な層状態および被着体に対する接着状態を保持する。
また、(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)のアルキル基の炭素数が6以上になると、エネルギー線照射後に被着体に対する粘着力が低くなり易くなる。ここで、一般的に、(メタ)アクリル酸エステル共重合体において側鎖の長い(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの含有量が多くなると、基材表面の微量のカルボキシル基等に結合する架橋剤と、(メタ)アクリル酸エステル共重合体が有する官能基との反応効率が悪くなるため、粘着剤層と基材との密着性が低下する傾向がある。しかし、本実施形態によれば、このような場合でも、粘着剤層3と基材2との密着性が維持されるという優れた効果が得られる。
上記溶剤としては、好ましくは極性の比較的高い溶剤が対象となり、具体的には溶解パラメーター(SP値)が9〜12、特に10〜12(cal/cm1/2である溶剤が好ましい対象となる。かかる溶剤としては、例えば、N−メチルピロリドン(NMP)、酢酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられ、中でも特にN−メチルピロリドン(NMP)が好ましい。
(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸n−ペンチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸n−デシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ミリスチル、(メタ)アクリル酸パルミチル、(メタ)アクリル酸ステアリル等が挙げられる。
また、アルキル基の炭素数が6以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)としては、アルキル基の炭素数が6〜18のものが好ましく、例えば、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸n−デシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ミリスチル、(メタ)アクリル酸パルミチル、(メタ)アクリル酸ステアリル等が挙げられる。これらの中でも(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ミリスチル、(メタ)アクリル酸パルミチル、(メタ)アクリル酸ステアリル等が好ましい。なお、(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。
(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)全体の質量に占める(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)由来の構造部分の質量の割合は、50〜97質量%であることが好ましく、特に60〜95質量%であることが好ましく、さらには70〜90質量%であることが好ましい。(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)由来の構造部分の質量の割合が上記の範囲にあることにより、粘着剤層3の耐溶剤性がより向上する。
(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)の前駆体であるアクリル系共重合体(AP)は、当該共重合体を構成するモノマー単位として、水酸基含有モノマー(A2)および官能基含有モノマー(A3)の両者を有することにより、硬化性基含有化合物(A4)と反応する反応点(水酸基含有モノマー(A2)の水酸基)と、エポキシ系架橋剤(B)と反応する反応点(官能基含有モノマー(A3)の官能基)とを有することとなる。これにより、硬化性基含有化合物(A4)による硬化性基の導入量およびエポキシ系架橋剤(B)との反応量を所望の量に調整して、得られる粘着剤層3のエネルギー線硬化性および架橋の程度を好ましい範囲に制御することができる。したがって、アクリル系共重合体(AP)の水酸基に対する硬化性基含有化合物(A4)の付加率を高めようとした結果、残存水酸基が減少した場合でも、有効に架橋を行うことができる。
かかる粘着剤層3は、エネルギー線照射後にも基材2との密着性に優れる。したがって、エネルギー線照射後に被着体と粘着シート1とを分離させるときに、粘着シート1にて基材2と粘着剤層3とが剥離してしまうことを効果的に抑制することができる。また、上記粘着剤層3は、エネルギー線照射前後における粘着力が好ましいものとなる。すなわち、エネルギー線照射前には、被着体に対する粘着力が十分に高く、エネルギー線照射後には、被着体に対する粘着力が十分に低いものとなる。なお、上記の密着性の効果は、粘着剤層3と、樹脂フィルムからなる基材2、特にポリオレフィン系フィルムからなる基材2とが直接積層された場合に、特に効果的に発揮される。
水酸基含有モノマー(A2)としては、例えば、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチルなどの(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル等が挙げられる。これらの中でも、硬化性基含有化合物(A4)との反応性の点から(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチルおよび(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチルが好ましい。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
アクリル系共重合体(AP)全体の質量に占める水酸基含有モノマー(A2)由来の構造部分の質量の割合は、1〜25質量%であることが好ましく、特に5〜25質量%であることが好ましく、さらには7〜15質量%であることが好ましい。水酸基含有モノマー(A2)由来の構造部分の質量の割合が上記範囲にあることにより、硬化性基含有化合物(A4)による硬化性基の導入量および残存水酸基の量を好ましい範囲に制御することができる。これによって、エネルギー線照射後における粘着剤層3の粘着力を十分に小さくすることができる。
エポキシ基と反応可能な官能基(水酸基を除く)を有する官能基含有モノマー(A3)の官能基としては、例えば、カルボキシル基、アミノ基、アジリジニル基等が挙げられ、中でも水酸基よりもエポキシ基との反応性が高いカルボキシル基が好ましい。官能基含有モノマー(A3)の官能基をカルボキシル基とすることにより、エポキシ系架橋剤(B)のエポキシ基と選択的に反応が起こり、本実施形態の効果に優れた粘着剤を得ることができる。
カルボキシル基を含有するモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸が挙げられる。アミノ基を含有するモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸n−ブチルアミノエチル等が挙げられる。官能基含有モノマー(A3)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。
(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)全体の質量に占める官能基含有モノマー(A3)由来の構造部分の質量の割合は、0.1〜5質量%であることが好ましく、特に0.3〜3質量%であることが好ましく、さらには0.3〜2質量%であることが好ましい。官能基含有モノマー(A3)由来の構造部分の質量の割合が上記範囲にあることにより、エポキシ系架橋剤(B)との反応量を好ましい範囲に制御して、架橋の程度を良好にすることができる。これによって、エネルギー線照射後における粘着剤層3の基材2との密着性を向上させることができる。
(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)は、当該共重合体を構成するモノマー単位として、上記のモノマー以外に、所望により、他のモノマーを含有してもよい。他のモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メトキシメチル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシメチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチル等のアルコキシアルキル基含有(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸フェニル等の芳香族環を有する(メタ)アクリル酸エステル、アクリルアミド、メタクリルアミド等の非架橋性のアクリルアミド、(メタ)アクリル酸N,N−ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸、N,N−ジメチルアミノプロピル等の非架橋性の3級アミノ基を有する(メタ)アクリル酸エステル、酢酸ビニル、スチレンなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
アクリル系共重合体(AP)は、上記各モノマーを常法によって共重合することにより得られる。アクリル系共重合体(AP)の重合態様は、ランダム共重合体であってもよいし、ブロック共重合体であってもよい。
硬化性基含有化合物(A4)は、(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)にエネルギー線硬化性を付与するためのものである。硬化性基含有化合物(A4)が有する水酸基と反応可能な官能基としては、例えば、イソシアネート基、エポキシ基、カルボキシル基等が挙げられ、中でも水酸基との反応性の高いイソシアネート基が好ましい。
硬化性基含有化合物(A4)には、エネルギー線硬化性の炭素−炭素二重結合が含まれている。このエネルギー線硬化性の炭素−炭素二重結合は、硬化性基含有化合物(A4)の1分子毎に1〜5個含まれていることが好ましく、特に1〜2個含まれていることが好ましい。
このような硬化性基含有化合物(A4)としては、例えば、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタ−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート、メタクリロイルイソシアネート、アリルイソシアネート、1,1−(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート;ジイソシアネート化合物またはポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアネート化合物;ジイソシアネート化合物またはポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアネート化合物などが挙げられる。これらの中でも、特に2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートが好ましい。硬化性基含有化合物(A4)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。
(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)は、硬化性基含有化合物(A4)に由来する硬化性基を、当該(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)が有する水酸基に対して、50モル%以上含有することが好ましく、特に70〜400モル%含有することが好ましく、さらには90〜200モル%含有することが好ましい。なお、硬化性基含有化合物(A4)が一官能の場合は、上限は100モル%となるが、硬化性基含有化合物(A4)が多官能の場合は、100モル%を超えることがある。水酸基に対する硬化性基の比率が50モル%以上であることにより、硬化性基の導入量が十分になるとともに、(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)中における残存水酸基が少なくなる。これによって、エネルギー線照射後における粘着剤層3の粘着力を十分に小さくすることができる。また、水酸基に対する硬化性基の比率が70モル%以上であると、エネルギー線照射後の粘着力を115mN/25mm以下程度に低減できる可能性が高まり、ダイシングシートとして使用した場合に、面積の大きいチップであっても容易にピックアップが可能となる。なお、水酸基に対する硬化性基の比率が大き過ぎると、エネルギー線照射後における粘着剤層3の粘着力が過度に低下して、チップがピックアップ前にダイシングシートから脱落等する懸念がある。
アクリル系共重合体(AP)と硬化性基含有化合物(A4)との反応は、常法によって行えばよい。この反応工程により、アクリル系共重合体(AP)中の水酸基と、硬化性基含有化合物(A4)中の官能基(水酸基と反応可能な官能基、例えばイソシアネート基)とが反応して、硬化性基がアクリル系共重合体(AP)の側鎖に導入され、エネルギー線硬化性の(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)が得られる。
(メタ)アクリル酸エステル重合体(A)の重量平均分子量は、15万〜200万であることが好ましく、特に20万〜150万であることが好ましく、さらには25万〜120万であることが好ましい。なお、本明細書における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により測定した標準ポリスチレン換算の値である。
(メタ)アクリル酸エステル重合体(A)の重量平均分子量が15万以上であると、粘着剤層3の硬化前における凝集性の低下を抑制することができ、例えば、ダイシングシートとして使用した場合に、チップの端部の欠け(チッピング)が発生する可能性を低減することができる。また、(メタ)アクリル酸エステル重合体(A)の重量平均分子量が200万以下であると、粘着剤層3を塗工用組成物の塗工により形成するときに、塗工用組成物の粘度が過剰に高くなって塗工が困難となる事態を回避することができる。
なお、粘着性組成物Pにおいて、(メタ)アクリル酸エステル重合体(A)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、粘着性組成物Pは、上記(メタ)アクリル酸エステル重合体(A)とは別の(メタ)アクリル酸エステル重合体をさらに含有してもよい。
(メタ)アクリル酸エステル重合体(A)を硬化させるためのエネルギー線としては、電離放射線、すなわち、X線、紫外線、電子線などが挙げられる。これらのうちでも、比較的照射設備の導入の容易な紫外線が好ましい。
電離放射線として紫外線を用いる場合には、取り扱いの容易さから波長200〜380nm程度の紫外線を含む近紫外線を用いればよい。光量としては、(メタ)アクリル酸エステル重合体(A)の種類や粘着剤層3の厚さに応じて適宜選択すればよく、通常50〜500mJ/cm程度であり、100〜450mJ/cmが好ましく、200〜400mJ/cmがより好ましい。また、紫外線照度は、通常50〜500mW/cm程度であり、100〜450mW/cmが好ましく、200〜400mW/cmがより好ましい。紫外線源としては特に制限はなく、例えば高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、UV−LEDなどが用いられる。
電離放射線として電子線を用いる場合には、その加速電圧については、(メタ)アクリル酸エステル重合体(A)の種類や粘着剤層3の厚さに応じて適宜選定すればよく、通常加速電圧10〜1000kV程度であることが好ましい。また、照射線量は、(メタ)アクリル酸エステル重合体(A)が適切に硬化する範囲に設定すればよく、通常10〜1000kradの範囲で選定される。電子線源としては、特に制限はなく、例えばコックロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型などの各種電子線加速器を用いることができる。
(2)エポキシ系架橋剤(B)
エポキシ系架橋剤(B)は、(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)中のエポキシ基と反応可能な官能基と反応して、(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)を架橋する。(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)中のエポキシ基と反応可能な官能基は、官能基含有モノマー(A3)由来のものであり、(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)中に適量存在するため、架橋の程度を好ましい範囲に制御することができる。これにより、得られる粘着剤層3において、エネルギー線照射前には粘着剤層3の凝集性を良好に維持し、エネルギー線照射後には基材2との密着性を十分に高くすることができる。
エポキシ系架橋剤(B)としては、例えば、1,3−ビス(N,N’−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン等が挙げられる。エポキシ系架橋剤(B)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
粘着剤層3を形成する粘着剤組成物のエポキシ系架橋剤(B)の含有量は、(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)100質量部に対して0.01〜5質量部であることが好ましく、特に0.05〜3質量部であることが好ましく、さらには0.08〜2質量部であることが好ましい。エポキシ系架橋剤(B)の含有量が上記の範囲にあることにより、得られる粘着剤層3において、エネルギー線照射前には粘着剤層3の凝集性を良好に維持し、エネルギー線照射後には基材2との密着性を十分に高くすることができる。
(3)その他の成分
本実施形態における粘着剤層3を形成する粘着剤組成物は、上記の成分に加えて、光重合開始剤、帯電防止剤、染料や顔料などの着色材料、難燃剤、フィラー等の各種添加剤を含有してもよい。
光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、アセトフェノン化合物、アシルフォスフィンオキサイド化合物、チタノセン化合物、チオキサントン化合物、パーオキサイド化合物等の光開始剤、アミンやキノン等の光増感剤などが挙げられ、具体的には、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどが例示される。エネルギー線として紫外線を用いる場合には、光重合開始剤を配合することにより照射時間、照射量を少なくすることができる。
(4)厚さ
粘着剤層3の厚さは、粘着シート1が使用される工程において適切に機能できる限り、限定されない。例えば粘着シート1がダイシングシートやバックグラインドシートとして使用される場合、粘着剤層3の厚さは、1〜80μmであることが好ましく、特に3〜60μmであることが好ましく、さらには5〜35μmであることが好ましい。粘着剤層3の厚さが1μm以上であると、粘着シート1の粘着力のばらつきを小さく抑えることができる。また、粘着剤層3の厚さが80μm以下であると、粘着剤層3を塗工用組成物の塗工により形成するときに、乾燥に時間がかかり過ぎることを回避することができる。
3.剥離シート
本実施形態に係る粘着シート1は、被着体に粘着剤層3を貼付するまでの間、粘着剤層3を保護する目的で、粘着剤層3の基材2側の面と反対側の面に、剥離シートが積層されていてもよい。剥離シートの構成は任意であり、フィルム自体が保護膜形成フィルム1に対し剥離性を有するプラスチックフィルム、およびプラスチックフィルムを剥離剤等により剥離処理したものが例示される。プラスチックフィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、およびポリプロピレンやポリエチレン等のポリオレフィンフィルムが挙げられる。剥離剤としては、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系等を用いることができるが、これらの中で、安価で安定した性能が得られるシリコーン系が好ましい。剥離シートの厚さについては特に制限はないが、通常20〜250μm程度である。
4.物性(粘着力)
粘着シート1のエネルギー線照射前およびエネルギー線照射後の粘着力は、粘着シート1の用途によって異なるが、例えば粘着シート1がダイシングシートやバックグラインドシートとして使用される場合、粘着シート1のエネルギー線照射前の粘着力は、500〜30000mN/25mmであることが好ましく、特に750〜22000mN/25mmであることが好ましく、さらには1000〜18000mN/25mmであることが好ましい。エネルギー線照射前の粘着力が上記の範囲内にあることで、加工中のワークを強固に保持することができ、また、チップ飛散の発生を抑制することができる。
一方、粘着シート1のエネルギー線照射後の粘着力は、10〜400mN/25mmであることが好ましく、特に20〜115mN/25mmであることが好ましく、さらには30〜80mN/25mmであることが好ましい。エネルギー線照射後の粘着力が上記の範囲内にあることで、加工後のワークや、ワークを加工して得られたチップを、粘着シート1から分離し易い。
なお、エネルギー線照射前の粘着力は、シリコンミラーウエハを被着体とし、1kg重の荷重を加えて粘着シートを貼付し、23℃、50%RHの雰囲気下に20分間放置した後、JIS Z0237:2000に準じた180°引き剥がし法により測定した粘着力(mN/25mm)とする。また、エネルギー線照射後の粘着力は、粘着シートを上記被着体に上記と同じ条件で貼付してから、23℃、50%RHの雰囲気下に20分間放置し、窒素雰囲気下にて、粘着シートの基材側より紫外線照射(照度230mW/cm,光量190mJ/cm)した後、上記と同様にして測定した粘着力とする。
粘着シート1のエネルギー線照射前の粘着力に対するエネルギー線照射後の粘着力の比は、0.001〜0.3であることが好ましく、0.01〜0.2であることがより好ましい。上記粘着力の比が上記の範囲内にあると、エネルギー線照射前の粘着力とエネルギー線照射後の粘着力とのバランスが良好になり、エネルギー線照射前の高い粘着力とエネルギー線照射後の低い粘着力とを達成し易くなる。
本実施形態における粘着シート1は、粘着剤層3が前述した粘着剤組成物から形成されるため、エネルギー線照射前の粘着力、エネルギー線照射後の粘着力およびそれらの比を上記の範囲内に制御し易い。
5.粘着シートの製造方法
粘着シート1の製造方法は、前述の粘着剤組成物から形成される粘着剤層3を基材2の一の面に積層できれば、詳細な方法は特に限定されない。一例を挙げれば、前述の粘着剤組成物、および所望によりさらに溶媒または分散媒を含有する塗工用組成物を調製し、基材1の一の面上に、ダイコーター、カーテンコーター、スプレーコーター、スリットコーター、ナイフコーター等によりその塗工用組成物を塗布して塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥させることにより、粘着剤層3を形成することができる。塗工用組成物は、塗布を行うことが可能であればその性状は特に限定されず、粘着剤層3を形成するための成分を溶質として含有する場合もあれば、分散質として含有する場合もある。
上記の乾燥処理により、または加熱処理を別途行うことにより、塗膜内の(メタ)アクリル酸エステル重合体(A)とエポキシ系架橋剤(B)との架橋反応が進行し、塗膜内に架橋構造が形成され、粘着剤層3が形成される。この架橋反応を十分に進行させるために、通常は、上記の方法などによって基材2に粘着剤層3を形成した後、得られた半導体加工用シート1を、例えば23℃、相対湿度50%の環境に数日間静置するといった養生を行う。
粘着シート1の製造方法の別の一例として、前述の剥離シートの剥離面上に塗工用組成物を塗布して塗膜を形成し、これを乾燥させて粘着剤層3と剥離シートとからなる積層体を形成し、この積層体の粘着剤層3における剥離シート側の面と反対側の面を基材1に貼付して、粘着シート1と剥離シートとの積層体を得てもよい。この積層体における剥離シートは工程材料として剥離してもよいし、半導体パッケージ等の被着体に貼付するまでの間、粘着剤層3を保護してもよい。
6.粘着シートの使用方法
本実施形態に係る粘着シート1をダイシングシートとして使用する場合の使用方法を以下に説明する。
まず、本実施形態に係る粘着シート1を、粘着剤層3側の面(すなわち、粘着剤層3の基材2と反対側の面)が半導体ウエハに接触するように、半導体ウエハに貼付する。粘着シート1の粘着剤層3側の面に剥離シートが積層されている場合には、その剥離シートを剥離して粘着剤層3側の面を表出させて、半導体ウエハにその面を貼付すればよい。
ここで、粘着シート1付きの半導体ウエハは、溶剤に浸漬されることがある。このとき、粘着剤層3を構成する(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)が、構成モノマー単位としてアルキル基の炭素数が6以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)を含有する場合には、粘着剤層3は耐溶剤性に優れるため、粘着剤層3は膨潤、溶解等することなく、良好な層状態および半導体ウエハに対する接着状態を保持する。
次いで、ダイシング工程を実施し、半導体ウエハから複数のチップを得る。本実施形態における粘着剤層3は、エネルギー線照射前にはダイシング工程に十分な程度の粘着力を有するため、形成されるチップは粘着シート1に強固に固定され、ダイシング工程中にチッピングが生じ難い。
ダイシング工程終了後、粘着シート1の基材2側からエネルギー線照射を行う。これにより、粘着剤層3に含まれる(メタ)アクリル酸エステル重合体(A)が有する硬化性基の重合反応が進行して粘着性が低下し、チップのピックアップが可能となる。
一例としてエネルギー線照射の後、粘着シート1上に近接配置されている複数のチップをピックアップし易いように、粘着シート1を平面方向に伸長するエキスパンド工程を行う。なお、エキスパンド工程は、エネルギー線照射の前に行ってもよい。
エキスパンド工程の後、粘着剤層3上のチップのピックアップを行う。ピックアップは、吸引コレット等の汎用手段により行うことができる。本実施形態における粘着剤層3は、エネルギー線照射後には粘着力が十分に低くなるため、上記ピックアップは容易に行うことができる。また、本実施形態における粘着剤層3は、エネルギー線照射後にも基材2との密着性に優れるため、上記ピックアップ時に、基材2と粘着剤層3とが剥離して、粘着剤層3がチップ側に付いてしまうことを効果的に抑制することができる。なお、ピックアップされたチップは、搬送工程など次の工程へと供される。
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
例えば、上記粘着シート1における基材2の粘着剤層3側とは反対側の面には、他の層が積層されていてもよい。
以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。
〔実施例1〕
アクリル酸ラウリル89.5質量部と、アクリル酸2−ヒドロキシエチル10質量部と、アクリル酸0.5質量部とを共重合し、アクリル系共重合体を得た。このアクリル系共重合体と、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)とを、MOIの反応量がアクリル系共重合体100g当たり12.1g(アクリル系共重合体中のアクリル酸2−ヒドロキシエチル単位100モル当たり95モル(95モル%))となるように反応させて、エネルギー線硬化性の(メタ)アクリル酸エステル共重合体(重量平均分子量:60万)を得た。
得られたエネルギー線硬化性の(メタ)アクリル酸エステル共重合体100質量部(固形分換算;以下同じ)と、光重合開始剤としての1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製,イルガキュア184)3質量部と、エポキシ系架橋剤としてのポリグリシジルアミン系化合物(三菱ガス化学社製,TETRAD−C)0.1質量部とを溶媒中で混合し、粘着剤組成物(塗工用組成物)を得た。
ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面がシリコーン系剥離剤で剥離処理された剥離フィルム(リンテック社製,SP−PET3811)の剥離処理面に、上記塗工用組成物を乾燥後の厚さが10μmとなるように塗布し、乾燥(乾燥条件:100℃,1分間)して、粘着剤層を形成した。
次いで、基材として、片面がコロナ処理されたポリプロピレンフィルム(厚さ80μm)を用意し、このポリプロピレンフィルムのコロナ処理面が上記粘着剤層と接するように、当該基材と上記粘着剤層とを貼り合わせて、基材と粘着剤層と剥離フィルムとからなる粘着シートを得た。
ここで、上記粘着剤組成物の配合を表1に示す。なお、表1に記載の略号等の詳細は以下の通りである。
[(メタ)アクリル酸エステル共重合体]
LA:アクリル酸ラウリル
HEA:アクリル酸2−ヒドロキシエチル
AAc:アクリル酸
BA:アクリル酸n−ブチル
2−EHA:アクリル酸2−エチルヘキシル
iOA:アクリル酸イソオクチル
[架橋剤]
epoxy:ポリグリシジルアミン系化合物(三菱ガス化学社製,TETRAD−C)
TDI−TMP:トリレンジイソシアネートとトリメチロールプロパントリアクリレートとの付加物(トーヨーケム社製,BHS8515)
HDI−TMP:ヘキサメチレンジイソシアネートとトリメチロールプロパントリアクリレートとの付加物(トーヨーケム社製,Bxx4773)
〔実施例2〜12,比較例1〜3〕
(メタ)アクリル酸エステル共重合体を構成する各モノマーの割合、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)の反応量、ならびに架橋剤の種類および配合量を表1に示すように変更する以外、実施例1と同様にして粘着シートを製造した。なお、比較例1〜3で使用した架橋剤は、イソシアネート系架橋剤(TDI−TMPまたはHDI−TMP)であった。
〔試験例1〕<密着性試験>
実施例および比較例にて製造した粘着シートに対し、紫外線照射装置(リンテック社製:RAD−2000m/12)を用い、窒素雰囲気下にて粘着シートの基材側から紫外線(UV)照射(照度230mW/cm,光量190mJ/cm)を行った。その後、硬化した粘着剤層に対し、カッターナイフで縦横5mm角の碁盤目を400マス形成した。
次いで、23℃、50%RHの環境下で、スキージを用いて粘着テープ(ニチバン社製セロハンテープ)を上記碁盤目に貼付した。貼付後、金属板で1分ほど粘着テープを擦り、粘着テープを上記碁盤目に十分に密着させてから、20分間静置した。そして、粘着テープを剥離し、粘着シートの粘着剤層と基材との間で剥離が生じた碁盤目の個数(マスの数;NG数)をカウントした。結果を表2に示す。
〔試験例2〕<粘着力の測定>
実施例および比較例にて製造した粘着シートを幅25mm×長さ200mmに裁断し、これを試験片とした。シリコンミラーウエハ(直径8インチ,厚さ50μm)のミラー面に、1kg重の荷重を加えて粘着シートを貼付し、23℃、50%RHの雰囲気下に20分間放置した。その後、JIS Z0237;2000に準じ、万能型引張試験機(オリエンテック社製,TENSILON/UTM−4−100)を用いて、剥離速度300mm/分、剥離角度180°にて粘着シートの粘着力を測定し、エネルギー線照射前の粘着力(mN/25mm)とした。結果を表2に示す。
また、粘着シートをシリコンミラーウエハに貼付してから、23℃、50%RHの雰囲気下に20分間放置した後、紫外線照射装置(リンテック社製:RAD−2000m/12)を用い、窒素雰囲気下にて粘着シートの基材側から紫外線(UV)照射(照度230mW/cm,光量190mJ/cm)を行った。紫外線照射後の粘着シートにつき、上記と同様にして粘着力を測定し、エネルギー線照射後の粘着力(mN/25mm)とした。結果を表2に示す。
〔試験例3〕<耐溶剤性試験>
実施例および比較例にて製造した粘着シートを、23℃、50%RHの雰囲気下、シリコンミラーウエハ(直径8インチ,厚さ50μm)のミラー面に、貼付圧0.3MPa、貼付速度5mm/秒で粘着シートを貼付した。また、同じ貼付条件にて、上記粘着シートの周縁部にリングフレームを貼付した。そして、当該粘着シートを、リングフレームの外周に沿った形状に裁断し、これを評価サンプルとした。
上記の評価サンプルを、溶剤であるN−メチルピロリドン(SP値:11.2(cal/cm1/2)に、80℃、1分間の条件で浸漬した。その後、シリコンミラーウエハと粘着シートの粘着剤層との間に浸み込んだ溶剤の幅(浸み込み幅)を測定した。結果を表2に示す。
Figure 0006412873
Figure 0006412873
表2から明らかなように、実施例で製造した粘着シートは、エネルギー線照射後にも粘着剤層と基材との密着性に優れるものであった。また、特に実施例1〜3および7〜9で製造した粘着シートは、耐溶剤性にも優れるものであった。一方、比較例で製造した粘着シートは、いずれもエネルギー線照射後に粘着剤層と基材との密着性に劣るものであった。
本発明に係る粘着シートは、半導体ウエハ加工用のダイシングシートまたはバックグラインドシート等として好適に用いられる。
1…粘着シート
2…基材
3…粘着剤層

Claims (8)

  1. 基材と、前記基材の少なくとも一方の面に積層された粘着剤層とを備えており、
    前記粘着剤層は、エネルギー線硬化性の(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)と、エポキシ系架橋剤(B)とを含有する粘着剤組成物から形成されたものであり、
    前記(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)は、
    (メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)と、水酸基を有する水酸基含有モノマー(A2)と、エポキシ基と反応可能な官能基(水酸基を除く)を有する官能基含有モノマー(A3)とを共重合したアクリル系共重合体(AP)と、
    水酸基と反応可能な官能基およびエネルギー線硬化性の炭素−炭素二重結合を有する硬化性基含有化合物(A4)と
    を反応させて得られるものであり、
    前記粘着剤組成物が、アンモニア、アルカリ性を示すアンモニウム塩、1級アミン、2級アミン、3級アミン、1分子中に複数のNを有するアミノ化合物および環式アミノ化合物を含有しない
    ことを特徴とする粘着シート。
  2. 前記(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)は、前記硬化性基含有化合物(A4)に由来する硬化性基を、当該(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)が有する水酸基に対して、50モル%以上含有することを特徴とする請求項1に記載の粘着シート。
  3. 前記(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)全体の質量に占める前記(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)由来の構造部分の質量の割合は、50〜99質量%であることを特徴とする請求項1または2に記載の粘着シート。
  4. 前記(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー(A1)のアルキル基の炭素数は、6以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の粘着シート。
  5. 前記(メタ)アクリル酸エステル共重合体(A)全体の質量に占める前記官能基含有モノマー(A3)由来の構造部分の質量の割合は、0.1〜5質量%であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の粘着シート。
  6. 前記アクリル系共重合体(AP)全体の質量に占める前記水酸基含有モノマー(A2)由来の構造部分の質量の割合は、1〜25質量%であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の粘着シート。
  7. 前記基材は、オレフィン系炭化水素のみを重合単量体としたポリオレフィン系フィルムを主体とするものであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の粘着シート。
  8. 前記粘着シートは、半導体加工用の粘着シートであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の粘着シート。
JP2015539338A 2013-09-27 2014-09-25 粘着シート Active JP6412873B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013200912 2013-09-27
JP2013200912 2013-09-27
PCT/JP2014/075450 WO2015046341A1 (ja) 2013-09-27 2014-09-25 粘着シート

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2015046341A1 JPWO2015046341A1 (ja) 2017-03-09
JP6412873B2 true JP6412873B2 (ja) 2018-10-24

Family

ID=52743475

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015539338A Active JP6412873B2 (ja) 2013-09-27 2014-09-25 粘着シート

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6412873B2 (ja)
TW (1) TWI625376B (ja)
WO (1) WO2015046341A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017008255A (ja) * 2015-06-25 2017-01-12 リンテック株式会社 保護膜形成用複合シート、保護膜付きチップ、及び保護膜付きチップの製造方法
JP6992250B2 (ja) * 2016-11-25 2022-01-13 Dic株式会社 粘着テープ
JP6949551B2 (ja) * 2017-05-17 2021-10-13 グンゼ株式会社 バックグラインド用基体フィルム
CN110408334B (zh) * 2018-04-27 2023-04-07 东丽先端材料研究开发(中国)有限公司 粘合薄膜
CN112552839B (zh) * 2019-09-25 2024-03-15 麦克赛尔株式会社 粘着带
CN111693368A (zh) * 2020-06-15 2020-09-22 苏州高泰电子技术股份有限公司 用于晶圆切割胶带微观表征性能的测试方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4053656B2 (ja) * 1998-05-22 2008-02-27 リンテック株式会社 エネルギー線硬化型親水性粘着剤組成物およびその利用方法
JP4002236B2 (ja) * 2003-02-05 2007-10-31 古河電気工業株式会社 ウエハ貼着用粘着テープ
JP4493643B2 (ja) * 2006-12-06 2010-06-30 日東電工株式会社 再剥離型粘着剤組成物、及び粘着テープ又はシート
JP5702912B2 (ja) * 2008-11-21 2015-04-15 積水化学工業株式会社 粘着剤及び研磨布固定用両面粘着テープ

Also Published As

Publication number Publication date
TWI625376B (zh) 2018-06-01
TW201522563A (zh) 2015-06-16
JPWO2015046341A1 (ja) 2017-03-09
WO2015046341A1 (ja) 2015-04-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7207778B2 (ja) 半導体加工用粘着テープ、及び半導体装置の製造方法
JP6580219B2 (ja) 粘着シートおよび加工されたデバイス関連部材の製造方法
JP6412873B2 (ja) 粘着シート
WO2018066480A1 (ja) 半導体加工用粘着テープおよび半導体装置の製造方法
JP6333264B2 (ja) 半導体加工用シート
WO2020003919A1 (ja) 半導体加工用粘着テープおよび半導体装置の製造方法
WO2017150675A1 (ja) 半導体加工用粘着テープ、及び半導体装置の製造方法
JPWO2019181730A1 (ja) 粘着テープおよび半導体装置の製造方法
JP6656222B2 (ja) 半導体加工用シート
CN111742027B (zh) 粘着剂组合物、粘着片及加工物的制造方法
JP6803674B2 (ja) ガラスダイシング用粘着シートおよびその製造方法
KR20170113059A (ko) 유리 다이싱용 점착 시트 및 그 제조 방법
JP7382690B2 (ja) ワーク加工用シート
KR102638358B1 (ko) 유리 다이싱용 점착 시트 및 그 제조 방법
JP6703430B2 (ja) ガラスダイシング用粘着シートおよびその製造方法
WO2023188272A1 (ja) 半導体加工用粘着テープ
JP7296944B2 (ja) ワーク加工用シート
KR102638359B1 (ko) 유리 다이싱용 점착 시트 및 그 제조 방법
JP2022092836A (ja) 半導体加工用粘着シート及び半導体装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170626

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180626

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180822

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180904

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181001

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6412873

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250