JP6411634B2 - 新規な含窒素化合物またはその塩の製造方法およびそれらの製造中間体 - Google Patents
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Description
インテグリンのなかでもビトロネクチン受容体であるインテグリンαVβ3およびαVβ5は上皮細胞や成熟した内皮細胞上の発現は低く抑えられているが、様々な腫瘍細胞や新生血管にて発現が亢進することが知られている。インテグリンαVβ3およびαVβ5の発現亢進は、腫瘍血管新生を伴う癌の浸潤、転移など増悪に関与しており、悪性度との関連が高いと言われている(非特許文献1)。これらのインテグリンが発現亢進する癌として、例えば頭頚部癌、直腸結腸癌、乳癌、小細胞肺癌、非小細胞肺癌、膠芽腫、悪性黒色腫、膵癌、前立腺癌などが明らかになっている(非特許文献2)。
さらにインテグリンの関係する疾患としては、虚血性心疾患や末梢血管疾患などの虚血性疾患で虚血後の血管新生時に血管内皮細胞でインテグリンの発現が亢進することが明らかになっている(非特許文献3)。
一般式[11]で表される含窒素化合物としては、具体的には、2,2',2''−(10−(2−(((R)−1−((2−(4−(4−(N−((S)−1−カルボキシ−2−(5−(5,6,7,8−テトラヒドロ−1,8−ナフチリジン−2−イル)ペンタンアミド)エチル)スルファモイル)−3,5−ジメチルフェノキシ)ブタンアミド)エチル)アミノ)−1−オキソ−3−スルホプロパン−2−イル)アミノ)−2−オキソエチル)−1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−1,4,7−トリイル)三酢酸(以下、化合物Aともいう。)および2,2'−(7−((R)−1−カルボキシ−4−(((R)−1−((2−(4−(4−(N−((S)−1−カルボキシ−2−(5−(5,6,7,8−テトラヒドロ−1,8−ナフチリジン−2−イル)ペンタンアミド)エチル)スルファモイル)−3,5−ジメチルフェノキシ)ブタンアミド)エチル)アミノ)−1−オキソ−3−スルホプロパン−2−イル)アミノ)−4−オキソブチル)−1,4,7−トリアゾナン−1,4−ジイル)二酢酸(以下、化合物Bともいう。)などが挙げられる。
<1>(1)一般式[1]
(2)一般式[10]で表される化合物またはその塩を脱保護する工程;
を含む、一般式[11]
<2>R2が、置換されていてもよいC1-6アルキル基または置換されていてもよいベンジル基である、<1>に記載の製造方法。
<3>L3が、一般式[18c]
<4>L1が、一般式[18a]
<5>L2が、一般式[18b]
<6>R1が、水素原子、置換されていてもよいC1-6アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいアリールスルホニル基または置換されていてもよい複素環式スルホニル基である、<1>〜<5>のいずれか一に記載の製造方法。
<7>R7が、置換されていてもよいC1-6アルキル基または置換されていてもよいベンジル基である、<1>〜<6>のいずれか一に記載の製造方法。
<8>脱保護する工程が、酸で脱保護する工程である、<1>〜<7>のいずれか一に記載の製造方法。
<9><1>〜<7>のいずれか一に記載の製造方法で得られる一般式[11]で表される化合物またはその塩を金属イオンと反応させる工程を含む、金属錯体の製造方法。
<10>一般式[19]
<11>R8が、置換されていてもよいC2-6アルキル基である、<10>に記載の化合物またはその塩。
<12>L3が、一般式[18c]
<10>または<11>に記載の化合物またはその塩。
<13>L1が、一般式[18a]
<10>〜<12>のいずれか一に記載の化合物またはその塩。
<14>L2が、一般式[18b]
<10>〜<13>のいずれか一に記載の化合物またはその塩。
<15>R1が、水素原子、置換されていてもよいC1-6アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいアリールスルホニル基または置換されていてもよい複素環式スルホニル基である、<10>〜<14>のいずれか一に記載の化合物またはその塩。
<16>R7が、置換されていてもよいC1-6アルキル基または置換されていてもよいベンジル基である、<10>〜<15>のいずれか一に記載の化合物またはその塩。
<17>一般式[3]
<18>R7が、置換されていてもよいC1-6アルキル基または置換されていてもよいベンジル基である、<17>に記載の化合物またはその塩。
また、本発明の製造中間体は、新規な含窒素化合物またはその塩の中間体として有用である。
本発明において、特にことわらない限り、各用語は、次の意味を有する。
C2-6アルキル基とは、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、2−メチルブチル、2−ペンチル、3−ペンチルおよびヘキシル基などの直鎖状または分枝鎖状のC2-6アルキル基を意味する。
C3-8シクロアルキル基とは、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシル基などのC3-8シクロアルキル基を意味する。
アリール基とは、フェニル、ナフチルおよびフルオレニル基などのC6-13アリール基を意味する。
アルC1-6アルキル基とは、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル、フェネチル、2−フェニルプロピル、3−フェニルプロピルおよびナフチルメチル基などのC6-10アルC1-6アルキル基を意味する。
C1-6アルコキシC1-6アルキル基とは、メトキシメチルおよび1−エトキシエチル基などのC1-6アルキルオキシC1-6アルキル基を意味する。
ジ(C1-6アルキル)アミノ基とは、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジ(tert−ブチル)アミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ、(エチル)(メチル)アミノ、(メチル)(プロピル)アミノ、(シクロプロピル)(メチル)アミノ、(シクロブチル)(メチル)アミノおよび(シクロヘキシル)(メチル)アミノ基などの直鎖状、分枝鎖状または環状のジ(C1-6アルキル)アミノ基を意味する。
アロイル基とは、ベンゾイルおよびナフトイル基などのC6-10アロイル基を意味する。
複素環式カルボニル基とは、フロイル、テノイル、ピロリジニルカルボニル、ピペリジニルカルボニル、ピペラジニルカルボニル、モルホリニルカルボニルおよびピリジニルカルボニル基などの単環式または二環式の複素環式カルボニル基を意味する。
アシル基とは、ホルミル基、C2-6アルカノイル基、アロイル基または複素環式カルボニル基を意味する。
アルC1-6アルコキシカルボニル基とは、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニルおよびフルオレニルメチルオキシカルボニル基などのC6-13アルC1-6アルキルオキシカルボニル基を意味する。
アリールオキシカルボニル基とは、フェニルオキシカルボニルおよびナフチルオキシカルボニル基などのC6-10アリールオキシカルボニル基を意味する。
アリールスルホニル基とは、ベンゼンスルホニル、p−トルエンスルホニルおよびナフタレンスルホニル基などのC6-10アリールスルホニル基を意味する。
C1-6アルキルスルホニルオキシ基とは、メチルスルホニルオキシおよびエチルスルホニルオキシ基などのC1-6アルキルスルホニルオキシ基を意味する。
アリールスルホニルオキシ基とは、ベンゼンスルホニルオキシおよびp−トルエンスルホニルオキシ基などのC6-10アリールスルホニルオキシ基を意味する。
複素環式スルホニル基とは、ピペリジンスルホニル、ピリジンスルホニル、キノリンスルホニル、ジヒドロベンゾフランスルホニル、ベンゾフランスルホニル、クロマンスルホニルおよびクロメンスルホニルなどの単環式または二環式の複素環式スルホニル基を意味する。
単環の含酸素複素環式基とは、オキセタニル、テトラヒドロフラニル、フラニル、テトラヒドロピラニル、ピラニル、1,3−ジオキサニルおよび1,4−ジオキサニル基などの該環を形成する異項原子として酸素原子のみを含む単環の複素環式基を意味する。
単環の含硫黄複素環式基とは、チエニル基などの環を形成する異項原子として硫黄原子のみを含む単環の複素環式基を意味する。
単環の含窒素・酸素複素環式基とは、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、モルホリニルおよびオキサゼパニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および酸素原子のみを含む単環の複素環式基を意味する。
単環の含窒素・硫黄複素環式基とは、チアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、チオモルホリニル、1−オキシドチオモルホリニルおよび1,1−ジオキシドチオモルホリニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子のみを含む単環の複素環式基を意味する。
単環の複素環式基とは、単環の含窒素複素環式基、単環の含酸素複素環式基、単環の含硫黄複素環式基、単環の含窒素・酸素複素環式基または単環の含窒素・硫黄複素環式基を意味する。
二環式の含酸素複素環式基とは、ジヒドロベンゾフラニル、ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ジヒドロベンゾフラニル、クロマニル、クロメニル、イソクロマニル、クロマニル、1,3−ベンゾジオキソリル、1,3−ベンゾジオキサニルおよび1,4−ベンゾジオキサニル基などの該環を形成する異項原子として酸素原子のみを含む二環式の複素環式基を意味する。
二環式の含硫黄複素環式基とは、2,3−ジヒドロベンゾチエニルおよびベンゾチエニル基などの該環を形成する異項原子として硫黄原子のみを含む二環式の複素環式基を意味する。
二環式の含窒素・酸素複素環式基とは、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾモルホリニル、ジヒドロピラノピリジル、ジオキソロピリジル、フロピリジニル、ジヒドロジオキシノピリジルおよびジヒドロピリドオキサジニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および酸素原子のみを含む二環式の複素環式基を意味する。
二環式の含窒素・硫黄複素環式基とは、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリルおよびベンゾチアジアゾリル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子を含む二環式の複素環式基を意味する。
二環式の複素環式基とは、二環式の含窒素複素環式基、二環式の含酸素複素環式基、二環式の含硫黄複素環式基、二環式の含窒素・酸素複素環式基または二環式の含窒素・硫黄複素環式基を意味する。
ヒドロキシル保護基とは、通常のヒドロキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、例えば、例えば、W.グリーン(W.Greene)ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス(Protective Groups in Organic Synthesis)第4版、第16〜299頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社(John Wiley & Sons,INC.)に記載されている基が挙げられる。具体的には、C1-6アルキル基、アルC1-6アルキル基、C1-6アルコキシC1-6アルキル基、アシル基、C1-6アルコキシカルボニル基、アルC1-6アルコキシカルボニル基、C1-6アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シリル基、テトラヒドロフラニル基およびテトラヒドロピラニル基などが挙げられる。これらの基は、置換基群Aから選ばれる一つ以上の置換基で置換されてもよい。
エーテル類としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルまたはジエチレングリコールジエチルエーテルなどが挙げられる。
アルコール類としては、メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、ブタノールまたは2−メチル−2−プロパノールなどが挙げられる。
エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルまたは酢酸ブチルなどが挙げられる。
アミド類としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドまたはN−メチルピロリドンなどが挙げられる。
ニトリル類としては、アセトニトリルまたはプロピオニトリルなどが挙げられる。
有機塩基としては、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデカ−7−エン(DBU)、4−ジメチルアミノピリジン、ピリジン、イミダゾール、N−メチルイミダゾールまたはN−メチルモルホリンなどが挙げられる。
塩基性基における塩としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硝酸および硫酸などの鉱酸との塩;ギ酸、酢酸、クエン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、アスパラギン酸、トリクロロ酢酸およびトリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸との塩;ならびにメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸およびナフタレンスルホン酸などのスルホン酸との塩が挙げられる。
酸性基における塩としては、例えば、リチウム、ナトリウムおよびカリウムなどのアルカリ金属との塩;カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩;ならびにトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、プロカイン、ジベンジルアミン、N−ベンジル−β−フェネチルアミン、1−エフェナミンおよびN,N'−ジベンジルエチレンジアミンなどの含窒素有機塩基との塩などが挙げられる。
上記した塩の中で、好ましい塩としては、薬理学的に許容される塩が挙げられる。
細胞非傷害性放射性金属としては、例えば、ガンマ線放出核種およびポジトロン放出核種が挙げられる。具体的には、18Fアルミニウム錯体、18Fガリウム錯体、18Fインジウム錯体、18Fルテチウム錯体、18Fタリウム錯体、99mTc、111In、113mIn、114mIn、67Ga、68Ga、82Rb、86Y、87Y、152Tb、155Tb、201Tl、51Cr、52Fe、57Co、58Co、60Co、82Sr、85Sr、197Hg、44Sc、62Cu、64Cuおよび89Zrなどが挙げられる。
細胞傷害性放射性金属としては、例えば、アルファ線放出核種およびベータ線放出核種が挙げられる。具体的には、90Y、114mIn、117mSn、186Re、188Re、64Cu、67Cu、59Fe、89Sr、198Au、203Hg、212Pb、165Dy、103Ru、149Tb、161Tb、212Bi、166Ho、165Er、153Sm、177Lu、213Bi、223Ra、225Acおよび227Thなどが挙げられる。
診断とは、対象となる疾患であることまたは対象となる疾患の状態の判断などを意味する。
治療とは、対象となる疾患または状態の改善または進行の抑制などを意味する。
処置剤とは、処置の目的で供せられる物質を意味する。
R3bとしては、水素原子が好ましい。
R3cとしては、水素原子が好ましい。
R4bとしては、水素原子が好ましい。
R4cとしては、水素原子が好ましい。
R5bとしては、水素原子が好ましい。
R5cとしては、水素原子が好ましい。
R6bとしては、水素原子が好ましい。
R6cとしては、水素原子が好ましい。
R9がアミノ保護基である場合、アミノ保護基としては、置換基群Aから選ばれる一つ以上の置換基で置換されていてもよいアルC1-6アルキル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の置換基で置換されていてもよいC1-6アルコキシカルボニル基または置換基群Aから選ばれる一つ以上の置換基で置換されていてもよいアルC1-6アルコキシカルボニル基が好ましく、ベンジル基、tert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基または9−フルオレニルメチルオキシカルボニル基がより好ましい。
で表される基が好ましい。
p2としては、1または2が好ましい。
p3としては、1または2が好ましい。
q2としては、0または1が好ましく、0がより好ましい。
q3としては、0または1が好ましく、0がより好ましい。
r2としては、2〜4の整数が好ましく、3または4がより好ましく、3がさらに好ましい。
r3としては、2〜4の整数が好ましく、2または3がより好ましく、2がさらに好ましい。
一般式[1]で表される化合物を縮合剤の存在下、かつ、塩基の存在下または不存在下、一般式[3]で表される化合物と反応させることにより、一般式[10]で表される化合物を製造することができる。
この反応は、例えば、バイオコンジュゲート・ケミストリー(Bioconjugate Chem.)、第3巻、第2項、1992年またはケミカル・レビューズ(Chemical Reviews)、第97巻、第2243頁、1997年などに記載の方法により行うことができる。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式[1]で表される化合物に対して、1〜1000倍量(v/w)であればよい。
塩基の使用量は、一般式[1]で表される化合物に対して、1〜50倍モルであればよく、1〜10倍モルが好ましい。
縮合方法は一般式[1]で表される化合物および一般式[3]で表される化合物を混合した後、縮合剤を加えればよい。別の方法として、一般式[1]で表される化合物をあらかじめ縮合剤で活性化した後に、一般式[3]で表される化合物と反応させてもよい。さらに、N−ヒドロキシスクシンイミドまたはペンタフルオロフェノールなどの活性エステルを用いることもできる。
反応時間は、1分間〜72時間であればよい。
一般式[10]で表される化合物を脱保護することにより、一般式[11]で表される化合物を製造することができる。
この反応は、例えば、T.W.グリーン(T.W.Greene)ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス(Protective Groups in Organic Synthesis)第4版、第696〜926頁、2007年、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ社(John Wiley & Sons,INC.)に記載の方法により行うことができる。
酸としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、メタンスルホン酸、酢酸、ギ酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸およびトリフルオロ酢酸などが挙げられ、塩酸、ギ酸およびトリフルオロ酢酸が好ましい。
酸の使用量は、一般式[10]で表される化合物に対して、1倍量(w/w)以上であればよく、1〜100倍量(w/w)が好ましい。酸の使用は溶媒として単独で用いてもよく、反応に影響を及ぼさない溶媒で希釈して用いてもよい。
一般式[11]で表される化合物またはその塩と金属との錯体は、例えば、次のようにして製造することができる。
一般式[11]で表される化合物またはその塩および金属イオンを、緩衝液の存在下、混合することにより、錯体を製造することができる。
緩衝液のpH範囲は、3〜6が好ましい。
金属が放射性金属である場合にも、上記製造法に準じて錯体を製造することができるが、放射性金属が放射線を放出することおよび放射性金属が微量であることを考慮して以下の点に留意する必要がある。
不必要な反応時間の延長は、放射線による化合物の分解を引き起こす可能性があり、好ましくない。通常、80%を超える放射化学収率で標識化合物を得ることができるが、より高い純度が必要である場合には、分取液体クロマトグラフィー、分取TLC、透析、固相抽出および/または限外ろ過などの方法によって精製することができる。
また、フッ化物と金属との結合体であるフッ化金属錯体を金属とみなし、一般式[11]で表わされる化合物またはその塩と反応させて錯体を製造することもできる。この反応は、例えば、特許第5388355号公報に記載の方法により行うことができる。
放射線による分解を抑制するために、ゲンチジン酸、アスコルビン酸、ベンジルアルコール、トコフェロール、没食子酸、没食子酸エステルまたはα−チオグリセロールなどの添加物を添加することが好ましい。
一般式[22]で表される化合物の保護基Raを脱保護することにより、一般式[23]で表される化合物を製造することができる。
この反応は、製造方法1(2)に準じて行えばよいが、R1のアミノ保護基およびR2のカルボキシル保護基を同時に脱保護しない条件で行う。例えば、R1のアミノ保護基およびR2のカルボキシル保護基が酸性条件下で脱保護することができる保護基である場合、Raとしてベンジルオキシカルボニル基などの中性条件下の水素化還元で脱保護が可能な保護基、または、9−フルオレニルオキシカルボニル基などの塩基性条件下で脱保護が可能な保護基を選択し、中性条件下もしくは塩基性条件下で処理する。
一般式[23]で表される化合物を塩基の存在下、一般式[24]で表される化合物と反応させることにより、一般式[1]で表される化合物を製造することができる。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式[23]で表される化合物に対して、1〜1000倍量(v/w)であればよい。
塩基の使用量は、一般式[23]で表される化合物に対して、1〜50倍モルであればよく、1〜10倍モルが好ましい。
反応時間は、1分間〜72時間であればよい。
R1が水素原子である場合、一般式[22]で表される化合物は、一般式[27]で表される化合物である。
一般式[26]で表される化合物としては、例えば、(S)−tert−ブチル 3−アミノ−2−(((ベンジルオキシ)カルボニル)アミノ)プロパノアートなどが知られている。
この反応は、製造方法1(1)に準じて行えばよい。
R1がアミノ保護基である場合、一般式[22]で表される化合物は、一般式[31]で表される化合物である。
(1)
一般式[28]で表される化合物の1,2,3,4−テトラヒドロ−1,8−ナフチリジニル基のアミノ基を保護することにより、一般式[29]で表される化合物を製造することができる。
Rcとしては、置換されていてもよいC1-6アルコキシカルボニル基、置換されていてもよい複素環式スルホニル基または置換されていてもよいアリールスルホニル基が好ましく、置換基群Aから選ばれる一つ以上の置換基で置換されていてもよいC1-6アルコキシカルボニル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の置換基で置換されていてもよい複素環式スルホニル基または置換基群Aから選ばれる一つ以上の置換基で置換されていてもよいアリールスルホニル基がより好ましく、C1-6アルコキシカルボニル基、2,2,4,6,7−ペンタメチルジヒドロベンゾフラン−5−スルホニル基または2,2,5,7,8−ペンタメチルクロマン−6−スルホニル基がさらに好ましい。
Rcが2,2,4,6,7−ペンタメチルジヒドロベンゾフラン−5−スルホニル基または2,2,5,7,8−ペンタメチルクロマン−6−スルホニル基である場合には、Rcを選択的に脱保護することができる。
一般式[29]で表される化合物の保護基Rbを脱保護することにより、一般式[30]で表される化合物を製造することができる。
この反応は、製造方法1(2)に準じて行えばよいが、保護基Rcを同時に脱保護しない条件で製造することができる。例えば、保護基RcがC1-6アルコキシカルボニル基、C1-6アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基または複素環式スルホニル基の場合、アルカリ加水分解で製造することができる。
一般式[30]で表される化合物を縮合剤の存在下、かつ、塩基の存在下または不存在下、一般式[26]で表される化合物と反応させることにより、一般式[31]で表される化合物を製造することができる。
この反応は、製造方法1(1)に準じて行えばよい。
この反応は、製造方法Ab(1)に準じて行えばよい。
一般式[33]で表される化合物としては、例えば、(R)−2−((((9H−フルオレン−9−イル)メトキシ)カルボニル)アミノ)−3−スルホプロパン酸などが知られている。
一般式[32]で表される化合物を塩基の存在下、一般式[33]で表される化合物と反応させることにより、一般式[34]で表される化合物を製造することができる。
この反応は、製造方法1(1)に準じて行えばよい。
一般式[35]で表される化合物は、一般式[34]で表される化合物の保護基Reを脱保護することにより製造することができる。
この反応は、製造方法1(2)に準じて行えばよい。
mが、2または3である場合、一般式[33]で表される化合物と反応させた後に保護基Reを脱保護する操作を繰り返すことにより、一般式[35]で表される化合物を製造することができる。
一般式[36]で表される化合物は、2官能性キレートとして知られている化合物である。
一般式[36]で表される化合物としては、例えば、カルボキシル基が保護されたDOTA(1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−1,4,7,10−四酢酸トリ−tert−ブチルエステル)およびカルボキシル基が保護されたNODAGA((R)−4−(4,7−ビス(2−(tert−ブトキシ)−2−オキソエチル)−1,4,7−トリアゾナン−1−イル)−5−(tert−ブトキシ)−5−オキソペンタン酸)などが知られている。
一般式[36]のRdがヒドロキシル基である場合、一般式[35]で表される化合物を縮合剤の存在下、かつ、塩基の存在下または不存在下、一般式[36]で表される化合物と反応させることにより、一般式[37]で表される化合物を製造することができる。
一般式[36]のRdがスクシンイミドオキシ基などの活性エステルである場合、一般式[35]で表される化合物を塩基の存在下または不存在下、一般式[36]で表される化合物と反応させることにより、一般式[37]で表される化合物を製造することができる。
この反応は、製造方法1(1)に準じて行えばよい。
(4)
一般式[37]で表される化合物の保護基Rfを脱保護することにより、一般式[3]で表される化合物を製造することができる。
この反応は、製造方法1(2)に準じて行えばよい。
溶離液における混合比は、容量比である。
例えば、「ヘキサン/酢酸エチル=90/10〜50/50」は、「ヘキサン:酢酸エチル=90:10」の溶離液を「ヘキサン:酢酸エチル=50:50」の溶離液へ変化させたことを意味する。
Boc:tert-ブトキシカルボニル
(BOC)2O:二炭酸ジ-tert-ブチル
tBu:tert-ブチル
DIEA:N,N-ジイソプロピルエチルアミン
DMAc:N,N-ジメチルアセトアミド
DMF:N,N-ジメチルホルムアミド
Et:エチル
Fmoc:9-フルオレニルメチルオキシカルボニル
HBTU:O-ベンゾトリアゾール-1-イル1,1,3,3-テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート
IPA:2-プロパノール
Me:メチル
NMP:N-メチルピロリドン
TBME:tert-ブチルメチルエーテル
TFA:トリフルオロ酢酸
THF:テトラヒドロフラン
Z:ベンジルオキシカルボニル
(1)
MS(ESI,m/z):511[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:7.38-7.27(5H,m),7.05(1H,d,J=7.3Hz),6.33(1H,d,J=7.3Hz),6.15-6.03(2H,m),6.01(2H,brd,J=5.9Hz),5.10(2H,s),4.95-4.82(1H,m),4.31(1H,dt,J=5.9Hz,5.9Hz),3.64(2H,t,J=5.9Hz),3.42-3.31(2H,m),2.67(2H,t,J=6.3Hz),2.58-2.46(2H,m),2.23-2.11(2H,m),1.99-1.81(2H,m),1.73-1.59(4H,m),1.45(9H,s).
HPLC(TSKgel ODS-100Z、ギ酸系) rt(min):15.69
MS(ESI,,m/z):377[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:7.04(d,J=7.3Hz,1H),6.33(d,J=7.3Hz,1H),6.26-6.13(m,1H),5.01-4.88(m,1H),3.70-3.57(m,1H),3.51-3.44(m,1H),3.43-3.35(m,2H),3.32-3.20(m,1H),2.73-2.63(m,2H),2.60-2.50(m,2H),2.26-2.15(m,2H),1.96-1.84(m,2H),1.80-1.61(m,6H),1.46(s,9H).
HPLC(TSKgel ODS-100Z、酢酸アンモニウム系) rt(min):21.41
MS(ESI,,m/z):647[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:7.24(1H,d,J=7.3Hz),6.67(2H,s),6.27(1H,d,J=7.3Hz),6.08-5.86(1H,m),5.85-5.62(1H,m),4.17-3.99(2H,m),3.93-3.83(1H,m),3.58-3.25(4H,m),2.80-2.56(11H,m),2.54-2.42(2H,m),2.19-2.05(2H,m),2.01-1.76(4H,m),1.73-1.45(4H,m),1.40(9H,s).
HPLC(TSKgel ODS-100Z、ギ酸系) rt(min):15.90
(1)
LC/MS rt(min):1.37
MS(ESI,m/z):611.4[M+H]+
LC/MS rt(min):0.79
MS(ESI,m/z):477.3[M+H]+
LC/MS rt(min):1.23
MS(ESI,m/z):747.4[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:7.33(1H,d,J=7.9Hz),6.84(1H,d,J=7.9Hz),6.63(2H,s),5.75(1H,t,J=5.6Hz),5.64(1H,d,J=7.3Hz),4.17-3.97(3H,m),3.86-3.65(3H,m),3.54-3.28(2H,m),2.77-2.68(4H,m),2.62(6H,s),2.51(2H,t,J=6.6Hz),2.15-1.86(6H,m),1.74-1.47(6H,m),1.50(9H,s),1.37(9H,s)
(1−A−1)
LC/MS rt(min):2.06
MS(ESI,m/z):515.5[M+H]+
LC/MS rt(min):1.78
MS(ESI,m/z):501.4[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:7.18(1H,d,J=7.2Hz),6.55(1H,d,J=7.1Hz),4.06-4.09(2H,m),2.75(2H,t,J=6.6Hz),2.64(2H,t,J=6.6Hz),2.59(s,3H),2.53(s,3H),2.35(2H,t,J=7.2Hz),2.16(2H,t,J=7.2Hz),2.12(3H,s),2.02-2.08(2H,m),1.81(2H,t,J=7.2Hz),1.33-1.47(2H,m),1.14-1.26(2H,m).
LC/MS rt(min):2.08
MS(ESI,m/z):777.7[M+H]+
LC/MS rt(min):2.08
MS(ESI,m/z):777.7[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:7.37-7.29(m,4H),7.15(d,1H,J=7.9Hz),6.53(d,1H,J=7.9Hz),5.99-5.90(m,1H),5.79-5.71(m,1H),5.09(s,2H),4.34-4.22(m,1H),4.11-4.02(m,2H),3.72-3.50(m,2H),2.73(t,2H,J=6.3Hz),2.63(t,2H,J=6.6Hz),2.56(s,3H),2.53(s,3H),2.31(t,2H,J=7.3Hz),2.13-1.90(m,5H),1.79(t,2H,J=6.9Hz),1.58-1.50(m,8H),1.48-1.35(m,8H),1.33-1.15(m,6H).
LC/MS rt(min):1.45
MS(ESI,m/z):643.6[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:7.16(d,1H,J=7.9Hz),6.54(d,1H,J=7.9Hz),6.09-5.98(m,1H),4.12-4.02(m,2H),3.67-3.56(m,1H),3.49-3.42(m,1H),3.30-3.18(m,1H),2.74(t,2H,J=6.3Hz),2.64(t,2H,J=6.9Hz),2.57(s,3H),2.54(s,3H),2.33(t,2H,J=7.3Hz),2.14-1.97(m,6H),1.90-1.68(m,4H),1.51-1.37(m,11H),1.34-1.16(m,9H).
(1−A−1)
LC/MS rt(min):1.96
MS(ESI,m/z):501.4[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:7.19(1H,d,J=8.1Hz),6.56(1H,d,J=8.1Hz),4.06-4.13(2H,m),3.64(3H,s),2.98(2H,s),2.75(2H,t,J=7.2Hz),2.56(3H,s),2.50(3H,s),2.37(2H,t,J=7.2Hz),2.16(2H,t,J=7.5Hz),2.08(3H,s),2.01-2.05(2H,m),1.22-1.32(2H,m).
LC/MS rt(min):1.49
MS(ESI,m/z):487.4[M+H]+
LC/MS rt(min):2.01
MS(ESI,m/z):763.6[M+H]+
LC/MS rt(min):2.01
MS(ESI,m/z):763.7[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:7.37-7.29(m,4H),7.16(d,1H,J=7.3Hz),6.54(d,1H,J=7.3Hz),5.98-5.89(m,1H),5.78-5.69(m,1H),5.10(s,2H),4.34-4.24(m,1H),4.10-4.04(m,2H),3.71-3.52(m,2H),2.97(s,2H),2.73(t,2H,J=6.3Hz),2.55(s,3H),2.49(s,3H),2.35(t,2H,J=7.6Hz),2.10-1.92(m,5H),1.58-1.50(m,5H),1.49-1.35(m,15H),1.33-1.21(m,2H).
LC/MS rt(min):1.51
MS(ESI,m/z):629[M+H]+
1H-NMR(CDCl3,300MHz)δ:7.17(1H,d,J=7.3Hz),6.55(1H,d,J=7.3Hz),6.01-5.94(1H,m),4.11-4.04(2H,m),3.66-3.56(1H,m),3.51-3.39(1H,m),3.28-3.18(1H,m),2.98(2H,s),2.74(2H,t,J=6.3Hz),2.56(3H,s),2.50(3H,s),2.36(2H,t,J=7.3Hz),2.10-1.97(7H,m),1.60-1.52(4H,m),1.46(15H,s),1.34-1.22(2H,m).
LC/MS rt(min):1.86
MS(ESI,m/z):899.4[M+H]+
(1)
LC/MS rt(min):1.01
MS(ESI,m/z):390.1[free form M-H]-
1H-NMR(300MHz,D2O)δ:7.82(d,2H,J=7.2Hz),7.66(d,2H,J=7.8Hz),7.41(t,2H,J=7.8Hz),7.33(t,2H,J=7.2Hz).
HPLC(TSKgel ODS-100Z、酢酸アンモニウム系) rt(min):13.5
LC/MS rt(min):1.22
MS(ESI,m/z):566.2[free form M-H]-
HPLC(TSKgel ODS-100Z、酢酸アンモニウム系) rt(min):24.2
LC/MS rt(min):0.70
MS(ESI,m/z):346.1[M+H]+
HPLC(TSKgel ODS-100Z、ギ酸系) rt(min):10.0
LC/MS rt(min):1.21
MS(ESI,m/z):900.6[M+H]+
HPLC(TSKgel ODS-100Z、ギ酸系) rt(min):18.5
1H-NMR(CDCl3)δ:8.58-8.35(1H,m),7.90-7.68(1H,m),4.73-4.59(1H,m),3.69-1.87(33H,m),1.49-1.34(27H,m).
HPLC(TSKgel ODS-100Z) rt(min):10.1
(1−A)
LC/MS rt(min):1.15
MS(ESI,m/z):717.1[free form M-H]-
LC/MS rt(min):1.15
MS(ESI,m/z):717.2[free form M-H]-
1H-NMR(300MHz,DMSO)δ:8.42(d,1H,J=6.6Hz),7.95(1H,br),7.89(2H,d,J=7.2Hz),7.70(2H,t,J=6.6Hz),7.52(1H,d,J=5.7Hz),7.41(2H,d,J=7.2Hz),7.25-7.35(7H,m),7.10(1H,br),4.90-5.01(2H,m),4.25(3H,s),4.16-4.30(1H,m),2.79-3.13(8H,m)
LC/MS rt(min):0.65
MS(ESI,m/z):495.1[free form M-H]-
1H-NMR(DMSO-d6/TFA-d)δ:8.75(1H,d,J=7.2Hz),8.10(2H,brs),7.28-7.26(2H,m),7.17(1H,brs),5.01(2H,brs),4.43(1H,q,J=7.2Hz),3.98-4.01(1H,m),2.78-3.18(8H,m).
MS(ESI,m/z):1151[M+H]+
1H-NMR(D2O)δ:7.49-7.35(5H,m),5.10(2H,s),4.35-2.82(34H,m),1.57-1.38(27H,m).
MS(ESI,m/z):917[M+H]+
1H-NMR(D2O)δ:3.83-3.25(16H,m),3.18-2.78(18H,m),1.51-1.45(27H,m).
(1−A−1)
MS(ESI,m/z):299[M-H]-
1HNMR(CDCl3,300MHz)δ:7.38-7.33(4H,m),5.15(2H,s),4.42(1H,dd,J=8.6,5.9Hz),2.67-2.59(2H,m),2.53-2.25(2H,m).
光学純度:97%ee
1HNMR(CDCl3,300MHz)δ:7.37(5H,s),5.14(2H,s),4.24(1H,dd,J=8.6,5.9Hz),2.60-2.52(2H,m),2.44-2.18(2H,m),1.52(9H,s).
光学純度:94%ee
MS(ESI,m/z):406[M+H]+
1HNMR(CDCl3,300MHz)δ:7.34(5H,s),5.13(2H,s),3.22(1H,dd,J=8.6,6.6Hz),2.87-2.62(12H,m),2.61-2.51(2H,m),2.11-1.85(4H,m),1.46(9H,s).
MS(ESI,m/z):634[M+H]+
1HNMR(CDCl3,300MHz)δ:7.35(5H,s),5.13(2H,s),3.28(4H,s),3.18(1H,dd,J=8.9,6.3Hz),2.98-2.65(12H,m),2.65-2.44 2H,m),2.08-1.81(2H,m),1.44(27H,s).
光学純度:96%ee
LC/MS rt(min):1.34
MS(ESI,m/z):544.5[M+H]+
1HNMR(CDCl3,300MHz)δ:3.38(4H,s),3.32(1H,dd,J=9.8,4.0Hz),3.19-2.93(8H,m),2.82(4H,s),2.74-2.64(1H,m),2.57-2.47(1H,m),2.07-1.89(2H,m),1.48(9H,s),1.45(18H,s).
光学純度:98%ee
LC/MS rt(min):1.78
MS(ESI,m/z):371.3[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:7.62-7.56(4H,m),7.48-7.41(4H,m),7.39-7.32(1H,m),5.17(2H,s),4.13-4.07(1H,m),2.87(1H,d,J=5.3Hz),2.63-2.43(2H,m),2.23-2.12(1H,m),1.98-1.86(1H,m),1.49(9H,s).
光学純度:100%ee
LC/MS rt(min):1.96
MS(ESI,m/z):484.2[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:7.60-7.59(4H,m),7.48-7.41(4H,m),7.38-7.34(1H,m),5.19(2H,s),5.09(1H,dd,J=8.3,4.3Hz),4.73(2H,dd,J=17.5,12.2Hz),2.68-2.50(2H,m),2.43-2.15(2H,m).
LC/MS rt(min):1.96
MS(ESI,m/z):710.5[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:7.62-7.56(4H,m),7.48-7.41(4H,m),7.39-7.32(1H,m),5.17(2H,s),3.28(4H,s),3.19(1H,dd,J=8.9,6.3Hz),2.98-2.67(12H,m),2.65-2.46(2H,m),2.08-1.84(2H,m),1.44(27H,s).
光学純度:98.9%ee
LC/MS rt(min):1.34
MS(ESI,m/z):544.5[M+H]+
LC/MS rt(min):1.45
MS(ESI,m/z):871[M+H]+
1H-NMR(CDCl3,300MHz)δ:7.52(1H,brs),7.30(5H,m),6.10(1H,brs),5.06(2H,brs),4.84(1H,brs),3.80-1.67(29H,m),1.47-1.41(27H,m).
HPLC(Waters BEH C18、ギ酸系、グラジエントサイクル:0min(A液/B液=50/50)、15min(A液/B液=0/100)、18min(A液/B液=0/100)、流速:0.4mL/min)) rt(min):8.95
LC/MS rt(min):1.13
MS(ESI,m/z):737[M+H]+
1H-NMR(CDCl3,300MHz)δ:7.72(1H,brs),4.83(1H,brs),3.75-1.82(31H,m),1.46(27H,s).
HPLC(Waters BEH、ギ酸系、グラジエントサイクル:0min(A液/B液=50/50)、7min(A液/B液=40/60)、15min(A液/B液=0/100)、流速:0.4mL/min)) rt(min):6.70
6−オキソヘプタン酸(99.2g)のメタノール(1L)溶液に、濃硫酸(20mL)を加え、4時間加熱還流した。反応混合物を室温に冷却後、溶媒を減圧下で留去し、水(1L)および酢酸エチル(600mL)を加えた。有機層を分取し、5%炭酸水素ナトリウム水溶液(600mL)および飽和塩化ナトリウム水溶液(600mL)で洗浄し、減圧下で溶媒を留去し、(O1)(95.2g)を得た。
TLC Rf:0.45(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)
2−アミノニコチンアルデヒド(133g)およびメタノール(500mL)の混合物に、(O1)(189g)およびメタノール(600mL)を加えた後、ピロリジン(100mL)を加え、8時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却し、溶媒を減圧下で留去した後、トルエン(100mL)を加え、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣にトルエン(150mL)を加え、50℃で2時間攪拌後、室温で3時間攪拌し、固体をろ取し、(O2)(149g)を得た。
TLC Rf:0.56(酢酸エチル/メタノール=5/1)
LC/MS rt(min):0.73
MS(ESI,m/z):245.2[M+H]+
オートクレーブに10%パラジウム炭素(10.0g)、(O2)(97.5g)およびメタノール(250mL)を入れ、5MPa水素雰囲気下で8時間攪拌した。不溶物をろ去し、溶媒を減圧下で留去した。得られた残渣にアセトニトリル(100mL)を加え、固体をろ取し、(O3)(71.5g)を得た。
1H-NMR(300MHz,CDCl3)δ:7.05(1H,d,J=7.5Hz),6.34(1H,d,7.5Hz),4.74(1H,brs),3.66(3H,s),3.37-3.42(2H,m),2.68(2H,t,J=6.0Hz),2.52-2.57(2H,m),2.30-2.37(2H,m),1.90(2H,tt,J=5.7,6.0Hz),1.63-1.70(4H,m).
HPLC(Waters 600Eシステム(Waters社)(カラム:CAPCELL PAK C18MG 4.6x150mm(資生堂社)、溶媒:A液=ギ酸:水(1:1000)、B液=ギ酸:メタノール:アセトニトリル(1:800:200)、グラジエントサイクル:0min(A液/B液=80/20)、10min(A液/B液=0/100)、15min(A液/B液=0/100)、流速:1.0mL/min) rt(min):8.06
(O3)(70,0g)にメタノール(210mL)を加え、40℃で加熱溶解した後、水酸化ナトリウム(16.9g)および水(105mL)の混合物を15分かけて滴下し、40℃で1時間攪拌した。溶媒を減圧下で留去し、水(210mL)を加え、40℃に加温し、濃塩酸をpH5になるまで50℃以下を保つように滴下した。水(50mL)を加え、室温まで冷却し、一昼夜放置した。固形物をろ取し、 (O4)(62.2g)を得た。
LC/MS rt(min):0.62
MS(ESI,m/z):235.2[M+H]+
HPLC(Waters 600Eシステム(Waters社)(カラム:CAPCELL PAK C18MG 4.6x150mm(資生堂社)、溶媒:A液=ギ酸:水(1:1000)、B液=ギ酸:メタノール:アセトニトリル(1:800:200)、グラジエントサイクル:0min(A液/B液=80/20)、10min(A液/B液=0/100)、15min(A液/B液=0/100)、流速:1.0mL/min) rt(min):7.03
メチル (2S)−3−アミノ−2−((4−(4−((2−(ベンジルオキシカルボニルアミノ)エチル)アミノ)−4−オキソブトキシ)−2,6−ジメチルフェニル)スルホニルアミノ)プロパノアート(7.40g) 、(O4)(3.37g)、DMF(50mL)およびDIEA(3.86mL)の混合物にHBTU(4.98g)を少しずつ添加し、室温で2時間撹拌した。反応混合物に5%炭酸水素ナトリウム水溶液(200mL)および酢酸エチル(200mL)を加え、室温で10分間撹拌した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で3回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に酢酸エチル(50mL)を添加し、固形物をろ取し、(O5)(9.20g)を得た。
LC/MS rt(min):1.12
MS(ESI,m/z):781.5[M+H]+,779.6[M-H]-
(O5)(7.20g)および10%Pd/C(300mg)にメタノール(40mL)を加え、水素雰囲気下、室温で3時間撹拌した。不溶物をろ去し、減圧で溶媒を留去した。得られた残留物にトルエン(50mL)を添加し、減圧下で溶媒を留去し、(O6)(5.45g)を得た。
LC/MS rt(min):0.73
MS(ESI,m/z):647.4[M+H]+
(O6)(120mg)、Fmoc-システイン酸(145mg)、DMF(2mL)およびDIEA(140μL)溶液に、HBTU(141mg)のDMF(1.5mL)溶液を加え、室温で20分間攪拌した。水(2mL)を加え、分取HPLCで精製し、(O7)(87.7mg)を得た。
LC/MS(LCMS-2010EV(島津製作所社)(カラム:SunFire C18 4.6x150mm(Waters社)、溶媒:A液=0.1%ギ酸/水、B液=0.1%ギ酸/メタノール:アセトニトリル(4:1)、グラジエントサイクル:0min(A液/B液=80/20)、10min(A液/B液=0/100)、15min(A液/B液=0/100)、流速1mL/min) rt(min):11.83
MS(ESI,m/z):1020.25[M+H]+,1018.50[M-H]-
(O7)(28.1mg)のDMF(0.5mL)溶液に、ジエチルアミン(0.5mL)を加え、室温で1.5時間攪拌した。減圧下溶媒を留去し、DMF(400μL)およびDIEA(20μL)を加えた後、1,4,7,10-テトラアザシクロドデカン-1,4,7,10-四酢酸トリ−tert−ブチル(31.6mg)、DMF(150μL)、DIEA(20μL)およびHBTU(20.9mg)のDMF(150μL)溶液を加え、室温で45分間攪拌した。水(500μL)を加え、ヘキサン/酢酸エチル(1/1)(0.5mL)で3回抽出した後、分取HPLCで精製し、(P1)(19.6mg)を得た。
LC/MS rt(min):1.12
MS(ESI,m/z):1352.5[M+H]+,1350.6[M-H]-
HPLC(Waters 600Eシステム(Waters社)(カラム:SunFire C18OBD 4.6x150mm(Waters社)、溶媒:A液=ギ酸:水(1:1000)、B液=ギ酸:メタノール:アセトニトリル(1:800:200)、グラジエントサイクル:0min(A液/B液=80/20)、10min(A液/B液=0/100)、15min(A液/B液=0/100)、流速:1.0mL/min) rt(min):9.71
(P1)(11.8mg)にTHF(1.4mL)、水(200μL)および3mol/L水酸化リチウム水溶液(200μL)を加え、室温で1.5時間攪拌した。TFAを加え、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣にTFA/トリエチルシラン(95/5)(1mL)を加え、室温で100分間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、水/アセトニトリル(2/1)(1.8mL)およびギ酸(1.8μL)を加え、分取HPLCで精製し、(P2)(化合物A)(8.9mg)を得た。
LC/MS rt(min):0.75
MS(ESI,m/z):1170.4[M+H]+,585.9[M+2H]2+,1168.4[M-H]-
HPLC(Waters 600Eシステム(Waters社)(カラム:SunFire C18OBD 4.6x150mm(Waters社)、溶媒:A液=ギ酸:水(1:1000)、B液=ギ酸:メタノール:アセトニトリル(1:800:200)、グラジエントサイクル:0min(A液/B液=80/20)、10min(A液/B液=0/100)、15min(A液/B液=0/100)、流速:1.0mL/min) rt(min):8.75
L−グルタミン酸γベンジルエステル(5.0g)、水(10mL)、臭化ナトリウム(7.6g)および臭化水素酸(6mL)の混合物に、亜硝酸ナトリウム(2.6g)を10分間かけて5℃以下で添加し、5℃で2時間攪拌した。反応混合物にジイソプロピルエーテルおよび濃硫酸(2mL)を加え、有機層を分取し、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、(Aa1)(3.1g)を得た。
LC/MS rt(min):1.32
MS(ESI,m/z):301.1[M+H]+
1H-NMR(300MHz,CDCl3)δ:7.31-7.38(5H,m),5.1(2H,s),4.41(1H,dd,J=6.0,7.8Hz),2.58-2.63(2H,m),2.25-2.50(2H,m).
(Aa1)(3.1g)のクロロホルム(15mL)溶液に、tert−ブチル2,2,2−トリクロロアセトイミダート(4.3mL)およびヘキサン(12mL)の混合物を室温で20分間かけて添加した。DMAc(1.5mL)およびBF3・OEt2(220μL)を加え、室温で40時間攪拌した後、溶媒を減圧下で留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=95/5〜85/15)で精製し、(Aa2)(2.84g)を得た。
1H-NMR(300MHz,CDCl3)δ:7.31-7.38(5H,m),5.14(2H,s),4.24(1H,dd,J=6.0,8.7Hz),2.53-2.59(2H,m),2.19-2.43(2H,m),1.47(9H,s).
1,4,7−トリアザシクロノナン(1.84g)のクロロホルム(60mL)溶液に、(Aa2)(1.70g)のクロロホルム(50mL)溶液を90分間かけて添加し、室温で3日間攪拌した。溶媒を減圧下で留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=50/50〜0/100の後、酢酸エチル/メタノール=80/20)で精製し、(Aa3)(0.76g)を得た。
LC/MS rt(min):0.91
MS(ESI,m/z):406.5[M+H]+
(Aa3)(0.76g)、DMAc(7mL)および炭酸カリウム(607mg)の混合物に、ブロモ酢酸tert−ブチル(580μL)を加え、室温で2時間攪拌した。酢酸エチル(30mL)および水(30mL)を加え、有機層を分取し、水(30mL)で2回、飽和塩化ナトリウム水溶液(30mL)で1回、順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧下で溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=95/5〜60/40)で精製し、(Aa4)(1.04g)を得た。
LC/MS rt(min):1.63
MS(ESI,m/z):634.7[M+H]+
シールドチューブに(Aa4)(0.28g)、イソプロピルアルコール(20mL)、水(0.5mL)および10%パラジウム炭素(0.10g)を入れ、0.5MPa水素雰囲気下で7時間攪拌した。不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去し、(Aa5)(0.24g)を得た。
LC/MS rt(min):1.34
MS(ESI,m/z):544.7[M+H]+
(Aa5)(94.9mg)、(R)−2−アミノ−3−((2−(4−(4−(N−((S)−1−メトキシ−1−オキソ−3−(5−(5,6,7,8−テトラヒドロ−1,8−ナフチリジン−2−イル)ペンタンアミド)プロパン−2−イル)スルファモイル)−3,5−ジメチルフェノキシ)ブタンアミド)エチル)アミノ)−3−オキソプロパン−1−スルホン酸(104mg)、DMF(0.8mL)、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(61μL)の混合物にHBTU(64.5mg)を加え、室温で35分間攪拌した。水(1.1mL)およびアセトニトリル(0.8mL)を加えて攪拌した後、分取HPLCで精製し、(Aa6)(151mg)を得た。
LC/MS rt(min):1.28
MS(ESI,m/z):1324.2[M+H]+,1322.2[M-H]-
HPLC(Waters 600Eシステム(Waters社)(カラム:CAPCELL PAK C18MG 4.6x150mm(資生堂社)、溶媒:A液=ギ酸:水(1:1000)、B液=ギ酸:メタノール:アセトニトリル(1:800:200)、グラジエントサイクル:0min(A液/B液=80/20)、10min(A液/B液=0/100)、15min(A液/B液=0/100)、流速:1.0mL/min) rt(min):11.82
(Aa6)(73mg)に濃塩酸(2.5mL)を加え、室温で2日間攪拌した後、減圧濃縮した。50%含水アセトニトリル(2mL)で希釈した後、分取HPLCで精製し、(Aa7)(化合物B)(33.3mg)を得た。
LC/MS rt(min):0.77
MS(ESI,m/z):1141.8[M+H]+,1139.8[M-H]-
HPLC(Waters 600Eシステム(Waters社)(カラム:CAPCELL PAK C18MG 4.6x150mm(資生堂社)、溶媒:A液=ギ酸:水(1:1000)、B液=ギ酸:メタノール:アセトニトリル(1:800:200)、グラジエントサイクル:0min(A液/B液=80/20)、10min(A液/B液=0/100)、15min(A液/B液=0/100)、流速:1.0mL/min) rt(min):9.37
本参考例では、参考例8で得られた化合物Aおよび参考例9で得られた化合物Bを用いた。
(A)
化合物A(8.5μg)および0.2mol/L酢酸ナトリウム緩衝溶液(pH4.0)(1.5mL)の混合液に[111In]塩化インジウム溶液(80MBq、100μL)を添加した。100℃で15分間加熱した後、室温で5分間放置し、[111In]-(化合物A)を得た。逆相TLC(Whatman、KC18F、展開溶媒:メタノール/0.5mol/L酢酸アンモニウム水溶液(50/50))で分析した結果、放射標識化合物のRf値は0.4であった。調製直後および室温24時間後の放射化学的純度は、いずれも95%以上であった。
化合物A(79μg)、ゲンチジン酸(1.8mg)、0.6mol/L酢酸ナトリウム緩衝溶液(pH4.0、120μL)および0.4mol/L水酸化ナトリウム水溶液(24μL)の混合液に、[90Y]塩化イットリウム溶液(700MBq、240μL)を添加した。100℃で20分間加熱した後、室温で5分間放置し、[90Y]-(化合物A)を得た。逆相TLC(Whatman、KC18F、展開溶媒:メタノール/0.5mol/L酢酸アンモニウム水溶液(50/50))で分析した結果、放射標識化合物のRf値は0.4であった。調製直後および室温24時間後の放射化学的純度は、いずれも95%以上であった。
化合物A(5.8μg)および0.2mol/L酢酸ナトリウム緩衝溶液(pH4.0、219μL)の混合液に[64Cu]塩化銅溶液(pH5、35MBq、55μL)を添加した。100℃で15分間加熱した後、室温で5分間放置し、[64Cu]-(化合物A)を得た。逆相TLC(Whatman、KC18F、展開溶媒:メタノール/0.5mol/L酢酸アンモニウム水溶液(50/50))で分析した結果、放射標識化合物のRf値は0.4であった。調製直後および室温22時間後の放射化学的純度は、いずれも90%以上であった。
化合物B(4.2μg)、ゲンチジン酸(1mg)および0.2mol/L酢酸ナトリウム緩衝溶液(pH4.0)(5.0μL)の混合液に[64Cu]塩化銅0.2mol/L酢酸ナトリウム緩衝溶液(pH4.0)(40MBq、155μL)を添加した。100℃で15分間加熱した後、室温で5分間放置し、[64Cu]-(化合物B)を得た。逆相TLC(Merck、RP-8 F254S、展開溶媒:メタノール/0.5mol/L酢酸アンモニウム水溶液(50/50))で分析した結果、放射標識化合物のRf値は0.4であった。調製直後および室温24時間後の放射化学的純度は、いずれも90%以上であった。
(1)
MS(ESI,,m/z):1394[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:8.57-8.29(1H,m),8.14-8.00(1H,m),7.10-6.97(2H,m),6.66(2H,s),6.33(1H,d,J=7.3Hz),6.30-6.22(1H,m),4.98-4.84(1H,m),4.74-4.61(1H,m),4.08-3.94(2H,m),3.78-1.55(59H,m),1.51-1.38(27H,m),1.30(9H,s).
HPLC(TSKgel ODS-100Z) rt(min):15.84
MS(ESI,m/z):1170[free form M+H]+
(2−2)
MS(ESI,m/z):1170[free form M+H]+
(2−3)
LC/MS rt(min):0.75
MS(ESI,m/z):1170.4[M+H]+,1168.4[M-H]-
1H-NMR(D2O)δ:7.49(1H,d,J=7.3Hz),6.71(2H,s),6.50(1H,d,J=7.3Hz),4.67(1H,dd,J=7.9,5.0Hz),4.00(2H,t,J=5.9Hz),3.93-3.02(34H,m),2.72(2H,t,J=6.1Hz),2.59(2H,t,J=7.3Hz),2.34(2H,t,J=7.3Hz),2.12-1.80(6H,m),1.62-1.38(4H,m).
HPLC(TSKgel ODS-100Z、ギ酸系) rt(min):11.17
(1)
LC/MS rt(min):1.27
MS(ESI,m/z):1495[M+H]+
LC/MS rt(min):0.75
MS(ESI,m/z):1170.4[M+H]+
1H-NMR(D2O)δ:7.49(1H,d,J=7.3Hz),6.71(2H,s),6.50(1H,d,J=7.3Hz),4.67(1H,dd,J=7.9,5.0Hz),4.00(2H,t,J=5.9Hz),3.93-3.02(34H,m),2.72(2H,t,J=6.1Hz),2.59(2H,t,J=7.3Hz),2.34(2H,t,J=7.3Hz),2.12-1.80(6H,m),1.62-1.38(4H,m).
(1)
MS(ESI,m/z):1545[M+H]+
1H-NMR(D2O)δ:7.35(1H,d,J=7.3Hz),6.80(2H,s),6.52(1H,d,J=7.3Hz),4.63-4.58(1H,m),4.10-4.02(2H,m),3.92-3.83(1H,m),3.75-2.95(33H,m),2.70(2H,t,J=6.1Hz),2.55(6H,s),2.36(2H,t,J=7.3Hz),2.17-2.08(2H,m),2.07-1.98(2H,m),1.90(9H,s),1.88-1.81(2H,m),1.58-1.12(37H,m).
MS(ESI,m/z):1321[M+H]+
1H-NMR(D2O)δ:7.52(1H,d,J=7.3Hz),6.76(2H,s),6.53(1H,d,J=7.3Hz),4.68-4.61(1H,m),4.04(2H,t,J=6.1Hz),3.99-3.10(38H,m),2.74(2H,t,J=6.1Hz),2.61(2H,t,J=7.4Hz),2.54(6H,s),2.33(2H,t,J=7.3Hz),1.95(6H,ddt,J=42.9,19.8,6.6Hz),1.60-1.35(4H,m).
(1)
LC/MS rt(min):1.75
MS(ESI,m/z):1662.1[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:8.60-8.48(m,1H),7.72-7.54(m,1H),7.18(d,1H,J=7.6Hz),6.66(s,2H),6.56(d,1H,J=7.6Hz),6.18-6.07(m,1H),5.79-5.69(m,1H),4.81-4.69(m,1H),4.12-2.47(m,45H),2.42-2.28(m,4H),2.14-1.12(m,67H).
LC/MS rt(min):0.70
MS(ESI,m/z):1170.9[M+H]+,1168.9[M-H]-
(1)
LC/MS rt(min):1.68
MS(ESI,m/z):1648.1[M+H]+
1H-NMR(CDCl3)δ:8.59-8.46(m,1H),7.74-7.64(m,1H),7.59-7.46(m,1H),7.19(d,1H,J=7.6Hz),6.66(s,2H),6.58(d,1H,J=7.6Hz),6.17-6.06(m,1H),5.77-5.67(m,1H),4.81-4.70(m,1H),4.12-2.79(m,30H),2.74(t,2H,J=6.3Hz),2.61(s,6H),2.56(s,3H),2.50(s,3H),2.44-2.30(m,4H),2.14-1.19(m,65H).
(2)
LC/MS rt(min):0.70
MS(ESI,m/z):1170.9[M+H]+,1168.9[M-H]-
(1)
LC/MS rt(min):1.40
MS(ESI,m/z):1365[M+H]+
1H-NMR(CDCl3,300MHz)δ:7.61(1H,brs),7.33(1H,brs),7.23(1H,brs),6.65(2H,s),6.52(1H,brs),6.36(1H,d,J=7.3Hz),4.71(1H,m),3.98(2H,t,J=6.3Hz),3.87(1H,brs),3.60-1.53(57H,m),1.49-1.42(27H,m),1.34(9H,s).
HPLC(Waters BEH C18、ギ酸系、グラジエントサイクル:0min(A液/B液= 30/70)、10min(A液/B液=0/100)、12min(A液/B液=0/100)、流速:0.4mL/min)) rt(min):4.81
LC/MS rt(min):0.76
MS(ESI,m/z):1141[M+H]+
1H-NMR(D2O,300MHz)δ:7.51(1H,d,J=7.5Hz),6.75(2H,s),6.53(1H,d,J=7.5Hz),4.65(1H,dd,J=7.9,5.0Hz),4.03(2H,t,J=5.9Hz),3.91(1H,dd,J=9.2,4.3Hz),3.74(4H,s),3.60-2.88(24H,m),2.73(2H,t,J=5.9Hz),2.61(2H,t,J=7.3Hz),2.53(6H,s),2.50-2.41(1H,m),2.32(2H,t,J=7.4Hz),2.13-1.80(8H,m),1.62-1.37(4H,m).
HPLC(GL Inertsustain C18、TFA系、グラジエントサイクル:0min(A液/B液=90/10)、20min(A液/B液=75/25)、30min(A液/B液=75/25)、流速:1.0mL/min) rt(min):9.80
(1)
LC/MS rt(min):1.90
MS(ESI,m/z):1618[M+H]+
1H-NMR(CDCl3,300MHz)δ:7.95-7.31(2H,m),7.18(1H,d,J=7.3Hz),6.65(2H,s),6.58(1H,d,J=7.3Hz),6.11(1H,s),5.72(1H,brs),4.80(1H,brs),4.13-3.95(4H,m),3.75-2.24(49H,m),2.19-1.75(12H,m),1.54-1.16(46H,m).
LC/MS rt(min):0.75
MS(ESI,m/z):1141[M+H]+
本実施例では、実施例1で得られた化合物Aおよび実施例6で得られた化合物Bを用いた。
化合物A(21μg)、ゲンチジン酸(1.0mg)、0.2mol/L酢酸ナトリウム緩衝溶液(pH4.0、730.7μL)および4.5mol/L水酸化ナトリウム水溶液(6.3μL)の混合液に、[67Ga]塩化ガリウム溶液(200MBq、63μL)を添加した。100℃で15分間加熱した後、室温で5分間放置し、[67Ga]-(化合物A)を得た。逆相TLC(Merck、RP-8F254s、展開溶媒:メタノール/0.5mol/L酢酸アンモニウム水溶液/アンモニア水28%(50/50/1)で分析した結果、放射標識化合物のRf値は0.4であった。調製直後および室温3.5時間後の放射化学的純度は、いずれも95%以上であった。
化合物A(70.0μg)、ゲンチジン酸(1.8mg)および0.2mol/L酢酸ナトリウム緩衝溶液(pH4.0、83.3μL)の混合液に、0.2mol/L酢酸ナトリウム緩衝溶液(pH4.0)に溶解させた[177Lu]塩化ルテチウム溶液(666MBq、333μL)を添加した。100℃で15分間加熱した後、室温で5分間放置し、[177Lu]-(化合物A)を得た。逆相TLC(Merck、RP-8F254s、展開溶媒:メタノール/0.5mol/L酢酸アンモニウム水溶液/アンモニア水28%(50/50/1)で分析した結果、放射標識化合物のRf値は0.4であった。調製直後および室温3時間後の放射化学的純度は、いずれも95%以上であった。
化合物B(4.1μg)、ゲンチジン酸(1.0mg)、0.2mol/L酢酸ナトリウム緩衝溶液(pH4.5、147.13μL)および4.5mol/L水酸化ナトリウム水溶液(1.17μL)の混合液に、[67Ga]塩化ガリウム溶液(40MBq、11.7μL)を添加した。100℃で15分間加熱した後、室温で5分間放置し、[67Ga]-(化合物B)を得た。逆相TLC(Merck、RP-8F254s、展開溶媒:メタノール/0.5mol/L酢酸アンモニウム水溶液/アンモニア水28%(50/50/1)で分析した結果、放射標識化合物のRf値は0.5であった。調製直後および室温5.5時間後の放射化学的純度は、いずれも95%以上であった。
試験例1 integrinαVβ3結合親和性試験
96ウェルプレート(Corning社)に0.2μg/mLのαVβ3(Chemicon社)を固定化し、1%Block Ace(DSファーマバイオメディカル社)溶液でブロッキングした後、T-PBS(0.05%Tween20を含むPBS)で洗浄した。2倍濃度の評価化合物溶液(0.3μmol/Lから3.16倍希釈の10濃度、バッファー(20mM Tris-HCl pH7.5,150mM NaCl,1mM CaCl2,1mM MgCl2,1mM MnCl2))および4μg/mLのビオチン化ビトロネクチン溶液(ビトロネクチン(Upstate Biotechnology社)をEZ-Link Sulfo-NHS-Biotinylation Kit(Pierce社)で標識後、濃度を調整)を各50μL添加し、室温で2時間振とうした。T-PBSで洗浄し、0.2μg/mLのアビジン・ペルオキシダーゼ(Pierce社)溶液を添加し、室温で1時間振とうした。T-PBSで洗浄後、o-フェニレンジアミン(Sigma社)溶液で発色させ(4mol/L硫酸で停止)、吸光度(490nm,Reference:595nm)を測定した。IC50値は、XLfit3.0(ID Business Solutions Ltd.)を用いて算出した。プレートごとにQCサンプルとしてRGDfV(Bachem AG社)をduplicateで測定した。
96ウェルプレート(Corning社)に0.2μg/mLのαVβ5(Chemicon社)を固定化し、1%Block Ace(DSファーマバイオメディカル社)溶液でブロッキングした後、PBST(10mM Na2HPO4pH7.5,150mM NaCl,0.01%Tween20)で洗浄した。2倍濃度の評価化合物溶液(0.3μmol/Lから3.16倍希釈の10濃度、バッファー(20mM Tris-HCl pH7.5,150mM NaCl,1mM CaCl2,1mM MgCl2,1mM MnCl2))および4μg/mLのビオチン化ビトロネクチン溶液(ビトロネクチン(Upstate Biotechnology社)をEZ-Link Sulfo-NHS-Biotinylation Kit(Pierce社)で標識後、濃度を調整)を各50μL添加し、室温で2時間振とうした。PBSTで洗浄し、0.2μg/mLのアビジン・ペルオキシダーゼ(Pierce社)溶液を添加し、室温で1時間振とうした。PBSTで洗浄後、o-フェニレンジアミン(Sigma社)溶液で発色させ(4mol/L硫酸で停止)、吸光度(490nm,Reference:595nm)を測定した。IC50値は、XLfit 3.0(ID Business Solutions Ltd.)を用いて算出した。プレートごとにQCサンプルとしてRGDfV(Bachem AG社)をduplicateで測定した。
U87MG細胞1x107個をBalb/c AJcl-nu/nu(6〜9週齢、日本クレア社または日本エスエルシー社)の右脇腹皮下に移殖し、2〜3週間後、腫瘍が200〜500mm3になった時点で、1時点につき3匹の群に分けた。111In標識化合物(740kBq)を尾静脈内に投与し、一定時間後に動物を屠殺し、腫瘍を摘出した。腫瘍の重量を測定し、放射能をガンマカウンターにより測定し、腫瘍放射能濃度(%ID/g)を算出した。同様の方法で64Cu標識化合物(500kBq)および90Y標識化合物(500kBq)についても腫瘍放射能濃度(%ID/g)を算出した。
結果を以下に示す。
U87MG細胞1x107個をBalb/c AJcl-nu/nu(オス、6〜9週齢、日本クレア社または日本エスエルシー社)の右脇腹皮下に移殖し、2週間後、腫瘍が250〜650mm3になったマウスに[64Cu]-(化合物A)を1匹当たり4.8MBq尾静脈内に投与し、1、4、24、48時間後にイソフルラン麻酔下でmicroPET/CT(Inveon、Siemens社)にて撮像を行った。48時間の撮像後にイソフルランによる深麻酔下で後大静脈から全採血を行い、安楽死させた後、腫瘍を摘出した。腫瘍の重量を測定し、ガンマカウンターで放射能を測定し、腫瘍放射能濃度(%ID/g)を算出した。同様の方法で[64Cu]-(化合物B)の撮像を行った。
図1および図2に各化合物の各時点でのPET画像を示す。
投与1時間後からいずれの化合物についても腫瘍への集積が確認され、48時間後まで腫瘍は描出された。また、[64Cu]-(化合物A)については画像上で、腫瘍中心部に集積の低い部分が見られたため、48時間の撮像終了後に摘出した腫瘍を観察したところ、画像と一致する中心部に血腫が確認された。解剖時点(投与48時間後)の腫瘍放射能濃度は、5.6%ID/gであった。
U87MG細胞1x107個をBalb/c AJcl-nu/nu(オス、6週齢、日本クレア社)の右脇腹皮下に移殖し、2週間後、腫瘍が300〜600mm3になったマウスに[111In]-(化合物A)投与液を1匹当たり1MBqを尾静脈内に投与し、投与24、48、72時間後にイソフルラン麻酔下でガンマカメラ(Symbia、Siemens社)によるプラナー撮像を行った。画像解析により腫瘍の放射能(%ID)を算出した。
図3に各時点での画像と腫瘍放射能を示す。投与後24時間から72時間まで腫瘍の放射能は他の臓器よりも高く、腫瘍が明瞭に確認できた。
U87MG細胞1x107個をBalb/c AJcl-nu/nu(オス、6週齢、日本クレア社)の頭蓋内に2段針で移殖し、2〜4週間後、マウスに[111In]-(化合物A)投与液を1匹当たり1MBq尾静脈内に投与した。投与24、48、72時間後にイソフルラン麻酔下でガンマカメラ(Symbia、Siemens社)によるプラナー撮像を行った(図4)。終時点撮像後、脳を摘出し凍結切片を作製した。腫瘍の切片のうち数枚をIPプレートにコンタクトしてオートラジオグラフィ(ARG)により集積像を得た。連続する切片にてヘマトキシリン・エオジン染色を行い、腫瘍を確認した。プラナーイメージングおよびARGにより頭蓋内腫瘍モデルで腫瘍に一致する[111In]-(化合物A)の集積を確認した。
U87MG細胞1x107個をBalb/c Slc-nu/nu(オス、6週齢、日本エスエルシー社)の右脇腹皮下に移殖し、2週間後、腫瘍が100〜500mm3になったマウスで群分けを行った。リン酸緩衝生理食塩水(PBS)または[90Y]-(化合物A)を尾静脈内に投与し、腫瘍体積を測定した。PBS群のマウスの腫瘍体積が人道的エンドポイントである2000mm3を越えた時点で、抗腫瘍作用を評価した。評価値は、腫瘍増殖の阻害率((1-(化合物投与群の平均腫瘍体積-化合物投与群の投与前の平均腫瘍体積)/(PBS群の平均腫瘍体積-PBS群の投与前の平均腫瘍体積))x100(ただし100%を超えた場合は100%とした))および開始時の腫瘍体積以下の個体数(退縮数)とした。
結果を以下に示す。
T98G細胞懸濁液(ヒト神経膠芽腫、1x107cells)およびマトリゲル(日本BD社)の等量混合物をBalb/cSlc-nu/nu(オス、6週齢、日本エスエルシー社)の右脇腹皮下に移殖し、77日後、腫瘍が300〜1200mm3になった時点で、群分けを行った。リン酸緩衝生理食塩水(PBS)または[90Y]-(P2)を尾静脈内に投与し、腫瘍体積を測定した。試験例7と同様の方法で評価値を算出し、抗腫瘍作用を評価した。
結果を以下に示す。
[111In]-(化合物A)を用いて、カニクイザルにおける経時的な採血による放射能の血液中濃度から血中動態パラメーターをOLINDA/EXM1.0により算出した。また、[111In]-(化合物A)を用いて、イメージングによる臓器分布からヒトに投与した場合の各臓器の吸収線量をOLINDA/EXM1.0により算出した。
カニクイザル(ハムリー、オス、3歳、3.4kg)に麻酔下で[111In]-(化合物A)(98MBq/9.3μg)を投与し、投与後から経時的に採血及びガンマカメラによるイメージングを行った。採血は、投与10、30、60分、2、4、5、6、24、48、72および144時間後に行った。イメージングは、1、2、4、6、24、48、72および144時間後にガンマカメラ(Symbia、Siemens社)によるプラナー撮像を行った。麻酔は、[111In]-(化合物A)投与前にケタミン20mg/kgで麻酔を行い、吸入麻酔(イソフルラン2〜3%、5〜8L/min)で投与6時間後の撮像終了まで維持した。24時間以降は、ケタミン20mg/kgおよびキシラジン2mg/kgで導入し、採血および撮像を行った。
図5に[111In]-(化合物A)を用いたサルにおける放射能の血中濃度推移を示す。また、血中動態パラメーターを以下に示す。
Claims (21)
- (1)一般式[1]
(2)一般式[10]で表される化合物またはその塩を脱保護する工程;
を含む、一般式[11]
- R2が、置換されていてもよいC1−6アルキル基または置換されていてもよいベンジル基である、請求項1に記載の製造方法。
- L3が、一般式[18c]
- L1が、一般式[18a]
- L2が、一般式[18b]
- R1が、水素原子、置換されていてもよいC1−6アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいアリールスルホニル基または置換されていてもよい複素環式スルホニル基である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の製造方法。
- R7が、置換されていてもよいC1−6アルキル基または置換されていてもよいベンジル基である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の製造方法。
- 脱保護する工程が、酸で脱保護する工程である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の製造方法。
- 請求項1〜7のいずれか一項に記載の製造方法で得られる一般式[11]で表される化合物またはその塩を金属イオンと反応させる工程を含む、金属錯体の製造方法。
- 一般式[19]
但し、R 9 が示すアミノ保護基は、アリールC 1−6 アルキル基、C 1−6 アルコキシC 1−6 アルキル基、アシル基、C 1−6 アルコキシカルボニル基、アリールC 1−6 アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、C 1−6 アルキルスルホニル基、複素環式スルホニル基、またはシリル基であり、これらの基は、置換基群Aから選ばれる一つ以上の置換基で置換されてもよい。
置換基群A:ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいヒドロキシル基、C 1−6 アルキル基、C 3−8 シクロアルキル基、アリール基、C 1−6 アルコキシ基、C 1−6 アルキルアミノ基、ジ(C 1−6 アルキル)アミノ基、複素環式基、オキソ基)
で表される化合物またはその塩。 - R 9 が示すアミノ保護基が、置換基群Aから選ばれる一つ以上の置換基で置換されていてもよいアリールC 1−6 アルキル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の置換基で置換されていてもよいC 1−6 アルコキシカルボニル基または置換基群Aから選ばれる一つ以上の置換基で置換されていてもよいアリールC 1−6 アルコキシカルボニル基である、請求項10に記載の化合物またはその塩。
- R 9 が示すアミノ保護基が、水素原子、ベンジル基、アリールオキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基または9−フルオレニルメチルオキシカルボニル基である、請求項10又は11に記載の化合物またはその塩。
- R 9 が示すアミノ保護基が、ベンジルオキシカルボニル基である、請求項10〜12のいずれか一項に記載の化合物またはその塩。
- R8が、置換されていてもよいC2−6アルキル基である、請求項10〜13のいずれか一項に記載の化合物またはその塩。
- L3が、一般式[18c]
- L1が、一般式[18a]
- L2が、一般式[18b]
- R1が、水素原子、置換されていてもよいC1−6アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいアリールスルホニル基または置換されていてもよい複素環式スルホニル基である、請求項10〜17のいずれか一項に記載の化合物またはその塩。
- R7が、置換されていてもよいC1−6アルキル基または置換されていてもよいベンジル基である、請求項10〜18のいずれか一項に記載の化合物またはその塩。
- 一般式[3]
- R7が、置換されていてもよいC1−6アルキル基または置換されていてもよいベンジル基である、請求項20に記載の化合物またはその塩。
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