JP6407711B2 - 連続式流動層乾燥装置 - Google Patents

Description

本発明は、医薬品製造、食品製造、農薬製造等の各種分野において、造粒された粉粒体を連続的に乾燥する連続式流動乾燥装置に関する。

顆粒剤や散剤等を造粒する場合には、原材料から造粒処理によって造粒された後、乾燥処理が行われている。造粒処理と乾燥処理とは、同じ装置内で処理される場合や、異なる装置内で処理される場合がある。乾燥処理は、例えば、流動化気体による流動層を形成して乾燥処理を行う流動層乾燥処理が行われ、従来、略矩形の水平断面を有する流動層乾燥装置によって行われていた。この種の流動層乾燥装置は、流動層乾燥室は、仕切板によって複数の処理室に仕切られて、流動層乾燥室の対向する側壁において、一方の側壁には被乾燥物供給口が設けられ、他方の側壁には被乾燥物排出口が設けられる。被乾燥物供給口から供給された被乾燥物は、仕切板の上部を乗り越え、又は下部を潜って隣の処理室に移動し、このような移動の途中で乾燥されて、被乾燥物排出口から排出される。

しかし、このとき、被乾燥物は、一定の割合で、短時間に各処理室を通過して十分に乾燥されない状態で、排出されるものが存在する。また、同様に一定の割合で長時間各処理室の滞在することで、高温に加熱されるものも存在する。そのため、一定時間で被処理物の乾燥が行われないため、被処理物の流動不足や乾燥ムラが発生するという問題がある。そこで、流動層乾燥室を円筒形にして、仕切板によって区画して処理室を形成し、各処理室を回転移動することで、乾燥処理を行う乾燥装置が提案されている（特許文献１）。

特開平０８−０２９０５７号公報

しかしながら、特許文献１において提案される乾燥装置においては、仕切板によって区画される各処理室は、各処理室の上方は仕切板で区画されることがなく、共通した空間であるため、流動層を形成する流動化気体の流速を大きくすると、処理室内の被処理物が舞い上がって、共通空間を通じて他の処理室に混入するおそれがある。そのため、処理室に供給する気体の流速をあまり大きくすることができなくなり、十分な流動層を形成できないという問題がある。また、仕切板を回転させて各処理室を移動させることで、連続的に乾燥処理を行っている。このとき、回転体である仕切板は、処理室の底面や側壁に対して摺動するため、底面や側壁と仕切板との間の隙間を小さくする必要があるが、底面や側壁と仕切板の間の隙間には、回転の際に粉粒体が噛み込まれる可能性がある。このように粉粒体が噛み込まれると、噛み込まれた粉粒体が粉砕されて、微粉となって周囲の処理室に混入したり、微粉が隙間を閉塞したりするおそれがある。

そこで、本発明は、上記事情に鑑みて、粉粒体が他の処理室に混入することがなく、かつ十分な流速の気体を用いて流動層乾燥処理を行うことができると共に、処理室を移動させることなく連続的に乾燥処理を行うことができる連続式流動層乾燥装置を提供すること技術的課題とする。

上記課題を解決するために、本発明に係る連続式流動層乾燥装置は、隔壁によって区画される独立した処理室を複数有し、各処理室に投入された粉粒体をそれぞれ流動化気体によって浮遊流動させながら乾燥処理を行う流動層乾燥部と、各処理室に対してそれぞれ個別に粉粒体を投入可能な投入機構と、各処理室からそれぞれ個別に粉粒体を排出可能な排出機構と、投入機構の開閉と排出機構の開閉を制御する制御手段とを備え、投入機構による各処理室への粉粒体の投入が、複数の各処理室に対して逐次的に順次に行われると共に、逐次投入の順番に応じて、排出機構による各処理室からの粉粒体の排出が、複数の各処理室に対して逐次的に順次に行われるように、制御手段により投入機構と排出機構とが制御されることを特徴とする。

このように構成することによって、隔壁によって区画される各処理室が独室しているため、処理室内で乾燥処理される粉粒体は、他の処理室に混入することがない。そのため、流速の大きい流動化気体で流動層を形成して乾燥を行うことができる。また、各処理室に対して、それぞれ個別に粉粒体を投入して、乾燥処理を行い、排出することができ、各処理室への粉粒体の投入が、複数の各処理室に対して、逐次的に順次に行われると共に、逐次投入の順番に応じて、各処理室からの粉粒体の排出が、各処理室に対して逐次的に順次に行われるように、投入機構と排出機構とが制御されるため、処理室を移動しなくても、各処理室において、連続的に乾燥処理を行うことができる。

また、各処理室は、それぞれ、粉粒体を流動化気体によって浮遊流動させる流動室と、流動室の上方に設けられ、流動室内で浮遊流動する粉粒体に対して固気分離を行うフィルター室とを備えていると共に、フィルター室で固気分離された気体は、各処理室からそれぞれ個別に排気されるようにしてもよい。これによって、各処理室の流動室で処理された気体が、各フィルター室で固気分離されてそれぞれ個別に排出されるため、フィルター室で固気分離された気体を区画された処理室毎に排気することができる。また、各フィルター室は、他のフィルター室から独立しているため、一のフィルター室で捕集された粉粒体と、他のフィルター室で捕集された粉粒体との混入を防止することができる。

さらに、制御手段は、一の各処理室への粉粒体の投入が完了した後、一の各処理室に隣接する各処理室に粉粒体を投入するように、投入機構の開閉を順次に切り換えることが好ましい。これによって、各処理室への粉粒体の投入を、逐次的に順次に行うことができ、各処理室での乾燥処理を連続して行うことができる

また、排出機構は、各処理室に対してそれぞれ開閉可能な複数の排出口と、複数の排出口を個別に開閉可能な開閉手段とを備えていることが好ましい。これによって、開閉手段を駆動させることによって、各処理室に対して備えられる排出口を、個別に開閉することができる。

ここで、複数の排出口が共通の固定側部材に設けられており、前記開閉手段は、該固定側部材に対して可動で、前記固定側部材に対して移動することにより、前記複数の排出口のうち所定の一の前記排出口を択一的に開口させる可動部材で構成されていてもよい。これによって、排出口は、共通の固定側部材に設けられた複数の排出口に対して、開閉手段を、固定側部材に対して移動させることによって、複数の排出口のうち所定の一の排出口を択一的に開口させることができる。そのため、逐次的に順次に粉粒体が投入されて乾燥が終了した処理室の排出口を、逐次的に順次に開口させることで、各処理室からそれぞれ個別に粉粒体を排出することができる。

以上のように、本発明によれば、粉粒体が他の処理室に混入することがなく、かつ十分な流速の気体を用いて流動層乾燥処理を行うことができると共に、処理室を移動させることなく連続的に乾燥処理を行うことができる連続式流動層乾燥装置を提供することが可能となる。

本発明の一実施形態に係る連続式流動層乾燥装置を模式的に示す概略図である。 図１の連続式流動層乾燥装置の動作のタイミングを示す概略図である。 図１に示す連続式流動層乾燥装置の流動層乾燥室の概略を示す斜視図である。 図３のＡ−Ａ断面を正面から見た要部断面図である。（ａ）は全ての排出口が閉状態となっており、（ｂ）は一の排出口が開状態となっている状態を示す。 図３に示す排出機構の他の態様を示す要部断面図である。（ａ）は全ての排出口が閉状態となっており、（ｂ）は一の排出口が開状態となっている状態を示す。 図３に示す排出機構の他の例の概略を示す斜視図である。 図６に示す排出機構の詳細を示す図である。（ａ）は固定側部材を示す平面図であり、（ｂ）は可動部材を示す平面図である。 （ａ）は、排出口の開閉状態を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ断面を正面から見た要部断面図である。 図６に示す排出機構の更に他の例の概略を示す図である。（ａ）は固定側部材を示す平面図であり、（ｂ）は可動部材を示す平面図である。（ｃ）は排出口の開閉状態を示す平面図である。 図３に示す流動層乾燥室の他の実施形態の概略を示す斜視図である。 図１０に示す排出機構の要部の断面を示す平面図である。（ａ）は全ての排出口が閉状態となっており、（ｂ）は一の排出口が開状態となっている状態を示す。 図１０に示す排出機構の他の例の概略を示す斜視図である。 図１２に示す排出機構の詳細を示す図である。（ａ）は固定側部材を示す側面図であり、（ｂ）は可動部材を示す側面図である。 （ａ）は図１２に示す排出機構の全ての排出口が閉状態となった状態を示す図である。（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ断面を上面から見た平面図である。 （ａ）は図１２に示す排出機構の一の排出口が開状態となった状態を示す図である。（ｂ）は（ａ）のＤ−Ｄ断面を上面から見た平面図である。 （ａ）は流動層乾燥室の底部に、指向性を有する通気孔を形成した気体分散板を備えた例を示す概略平面図である。（ｂ）は（ａ）のＥ−Ｅ断面を正面から見た要部拡大図である。 図１に示す気体分散板の他の例の概略を示す斜視図である。 図１８を上方から見た平面図である。

以下、本発明に係る連続式流動層乾燥装置の一実施形態について、各図面に基づいて説明する。

図１には、粉粒体の流動層乾燥処理を行う連続式流動層乾燥装置１を示す。連続式流動層乾燥装置１は、筒状の流動層容器１０と、流動層容器１０内に気体を供給する給気部１１と、流動層容器１０内の気体を排気する排気部１２とを備えている。

流動層容器１０は、下から順に、給気室１３と、粉粒体の流動層乾燥処理を行う流動層乾燥部としての流動層乾燥室１４と、排気室１５とに区分される。給気室１３と流動層乾燥室１４との間は、パンチングメタル等の多孔板（または金網）で構成された気体分散板１３Ａで仕切られている。給気室１３は、給気部１１から加熱された気体が供給され、この気体が気体分散板１３Ａを通して流動層乾燥室１４に導入される。

流動層乾燥室１４には、流動層乾燥室１４内を区画する隔壁１６が設けられる。隔壁１６は、排出機構２０の上端から、排気室１５を通り、流動層容器１０の上端まで達している。また、隔壁１６は、流動層乾燥室１４の直径方向に延び、流動層乾燥室１４内を２個の処理室１７（第１処理室１７ａ、第２処理室１７ｂ）に区画している（図３参照）。

各処理室１７には、各処理室１７に対してそれぞれ個別に粉粒体を投入可能な投入機構１８と、各処理室１７からそれぞれ個別に粉粒体を排出可能な排出機構２０とが設けられる。投入機構１８と排出機構２０とは、それぞれの開閉を制御する制御手段Ｃに接続される（図３参照）。

投入機構１８は、各処理室１７の側壁に形成されて、粉粒体が投入される投入口１８１（第１投入口１８１ａ、第２投入口１８１ｂ）と、各投入口１８１の近傍に設けられて、各投入口１８１を開閉する投入バルブＶ（第１投入バルブＶａ、第２投入バルブＶｂ）とが設けられる。一方、詳細は後述するが、排出機構２０は、隔壁１６の下端部に設けられており、各処理室１７に向けて開口する排出口２３が形成されている。

流動層乾燥室１４の各処理室１７は、粉粒体を流動化気体によって浮遊流動させる流動室１７１（第１流動室１７１ａ、第２流動室１７１ｂ）と、流動室１７１の上方に設けられ、流動室１７１内で浮遊流動する粉粒体に対して固気分離を行うフィルター室１７２（第１フィルター室１７２ａ、第２フィルター室１７２ｂ）とを備える。フィルター室１７２には、固気分離用のフィルター１７４が配置される。フィルター１７４は、図示省略のフィルター支持部材によって吊下げ支持されている。また、フィルター室１７２と排気室１５とは、仕切壁１７３によって仕切られており、フィルター室１７２は、フィルター１７４を介して排気室１５と連通している。フィルター室１７２は、フィルター１７４によって、流動室１７１の粉粒体を含む固気混合気体から気体を分離した後、その分離した気体を排気室１５に導入するようになっている。

ここで、給気部１１は、吸引される気体（空気）を所定温度に加熱するヒーターを内蔵する加熱ユニット１１Ａと、加熱ユニット１１Ａで加熱された気体を流動層容器１０の給気室１３に流通させる気体供給路１１Ｂとを備える。

一方、排気部１２は、流動層容器１０の排気室１５に接続されて、流動層容器１０内の気体を排気する排気路１２１（第１排気路１２１ａ、第２排気路１２１ｂ）を有する。本実施形態においては、隔壁１６によって流動層乾燥室１４及び排気室１５が区画されるため、排気路１２１は、区画されたそれぞれの排気室１５に接続されることで、各処理室１７から固気分離された気体を、それぞれ個別に排気する。なお、各排気路１２１には、図示省略の集塵機や排気ブロアー等が接続される。

次に、上記のように構成された連続式流動層乾燥装置１の動作を説明する。

連続式流動層乾燥装置１は、図示省略の造粒装置において造粒処理された造粒製品や、コーティング処理されたコーティング製品に対して、流動層乾燥処理（以下、乾燥処理と呼ぶ）を行う。造粒処理及びコーティング処理された粉粒体は、流動層容器１０の各処理室１７に形成された投入口１８１から投入される。このとき、粉粒体は、投入口１８１の近傍に設けられた投入バルブＶの開閉の制御によって、各投入口１８１から各処理室１７に逐次的に順次に投入される。このようにして、各処理室１７内に乾燥対象の粉粒体を収容する。

流動層容器１０内で粉粒体の乾燥処理を行う際には、上記のように各処理室１７内に収容された粉粒体が、気体分散板１３Ａを介して流動層乾燥室１４内に導入される流動化気体によって浮遊流動されながら流動層を形成して乾燥処理される。なお、乾燥時間は、粉粒体の種類、処理量、及び乾燥温度等に応じて予め設定され、設定された所定時間に応じて流動層乾燥処理が行われる。

粉粒体の乾燥処理を行っている間、流動層乾燥室１４内で上昇する粉粒体を含む固気混合気体は、フィルター１７４によって固気分離され、分離された気体が排気室１５に導入されると共に、排気路１２１を通じて流動層容器１０の外部に排出される。さらに、上述のような一連の乾燥処理を行った後に、フィルター１７４に付着した微粉を払い落とす払い落とし操作や洗浄処理が行われる。

ここで、図２（ａ）に基づいて、各処理室１７（第１処理室１７ａ、第２処理室１７ｂ）において、乾燥処理を連続的に行うための、粉粒体の投入、乾燥、及び排出の各動作のタイミングについて説明する。なお、これらのタイミングは、制御手段Ｃ（図３参照）によって制御される。処理室１７が２室設けられる場合には、まず、第１処理室１７ａに粉粒体を投入する。第１処理室１７ａへの粉粒体の投入が完了すると、第１処理室１７ａにおいて乾燥処理を開始すると共に、第２処理室１７ｂへの粉粒体の投入を開始する。第２処理室１７ｂへの粉粒体の投入が完了すると、第２処理室１７ｂにおいても乾燥処理が開始される。このとき、しばらくの間は、両方の処理室１７において乾燥処理が行われる。第１処理室１７ａの乾燥処理が終了すると、第１処理室１７ａ内の粉粒体を排出する。その後、次の粉粒体を第１処理室１７ａに投入する。以下、上記と同様に各処理が行われる。このようにして、各処理室１７において、逐次的に順次に粉粒体が投入されて、乾燥処理が行われ、各処理室１７からの粉粒体の排出が、逐次的に順次に行われる。その結果、流動層乾燥室１４内において、連続的に乾燥処理を行うことができる。

次に、図３及び図４に基づいて、流動層乾燥室１４内に設けられた排出機構２０の詳細について説明する。なお、図３は、流動層乾燥室１４の形状を簡略化して示している。排出機構２０は、図３に示すように、流動層乾燥室１４の直径方向に延びる円筒形状をなしており、隔壁１６の下端部に設けられる。図示は省略するが、排出機構２０の一端側は、排出した粉粒体を搬送する搬送経路として延びており、粉粒体を吸引する吸引手段が接続されている。また、図４に示すように、排出機構２０は、処理室１７に対して固定され、各処理室１７に対して開閉可能な複数の排出口２３が形成される固定側部材２１と、排出口２３を個別に開閉可能な開閉手段としての可動部材２２とを有する。

固定側部材２１は、図４に示すように、本実施形態においては、流動層乾燥室１４の底部１４ａ及び隔壁１６の一部を形成している。詳しくは、固定側部材２１の上半分が流動層乾燥室１４に露出しており、固定側部材２１の上端に、隔壁１６が接続されている。また、固定側部材２１の軸方向に延びる排出口２３が、各処理室１７内に向けて開口するように、２箇所に形成される（第１排出口２３ａ、第２排出口２３ｂで示す）。ここで、図３に示すように、排出口２３は、流動層乾燥室１４の底部１４ａよりも上方で、かつ底部１４ａの外周よりも内側に設けられる。

可動部材２２は、固定側部材２１の内径寸法よりも若干小さい外径寸法を有する円筒形状の部材であり、固定側部材２１に軸心周りに回動可能に包套される。なお、可動部材２２は一端側が延びており、例えばモーター等の回動駆動手段Ｍに接続されている。また、可動部材２２には、固定側部材２１の排出口２３と略同形の開口部２４が１箇所に形成される。

ここで、図３に示すように、各処理室１７（第１処理室１７ａ、第２処理室１７ｂ）に形成された粉粒体の投入機構１８の各投入口１８１の近傍に設けられる投入バルブＶ（第１投入バルブＶａ、第２投入バルブＶｂ）と、粉粒体の排出機構２０の可動部材２２に接続される回動駆動手段Ｍとは、それぞれ、制御手段Ｃに接続されて、制御手段Ｃによって、各処理室１７への粉粒体の投入及び排出のタイミングが制御される。

続いて、排出機構２０の動作について説明する。排出機構２０は、回動駆動手段Ｍによって、可動部材２２が水平な軸心回りに回動することによって、排出口２３の開閉動作を行う。詳しくは、図４（ａ）に示すように、可動部材２２が、開口部２４が下方を向いた姿勢では、可動部材２２の外周部によって各排出口２３を閉鎖し、両方の排出口２３が閉状態となる。また、可動部材２２を回動して、図４（ｂ）に示すように開口部２４と第１排出口２３ａとが一致する姿勢となると、第１排出口２３ａが開状態となり、粉粒体を排出可能となる。このとき、第２排出口２３ｂは、可動部材２２の外周部によって閉鎖された状態が維持される。図示は省略するが、可動部材２２の回動によって、可動部材２２の開口部２４と第２排出口２３ｂとが一致する姿勢となると、第２排出口２３ｂが開状態となる。このとき、第１排出口２３ａは、可動部材２２の外周部によって閉鎖された状態となる。

連続式流動層乾燥装置１の動作開始時には、可動部材２２は、図４（ａ）に示す姿勢となっている。各処理室１７での処理のタイミングは、上記及び図２に示す通りであり、まずは、第１処理室１７ａに粉粒体を投入して、乾燥処理が開始される。続いて、第２処理室１７ｂに粉粒体が投入されて、同様に乾燥処理が行われる。ここで、第１処理室１７ａの流動層乾燥処理が終了すると、回動駆動手段Ｍの作動によって、可動部材２２が図の反時計回りに回動し、図４（ｂ）に示す姿勢となる。この状態で、吸引手段（図示省略）が作動されて、第１処理室１７ａ内の粉粒体が、第１排出口２３ａから吸引されて排出される。

第１処理室１７ａの排出が終了すると、回動駆動手段Ｍの作動によって、可動部材２２が図の時計回りに回動し、図４（ａ）の状態となる。続いて、第２処理室１７ｂの乾燥処理が終了すると、可動部材２２が図の時計回りに回動して、第２排出口２３ｂと開口部２４とが一致した姿勢となる。この状態で、同様に、第２処理室１７ｂ内の粉粒体が、第２排出口２３ｂから吸引されて排出される。その後、可動部材２２は、図４（ａ）に示す姿勢となり、同様に各排出口２３の開閉動作を繰り返す。このようにして、排出機構２０は、各処理室１７内の粉粒体を逐次的に順次に排出することができる。

なお、排出機構２０の固定側部材２１を、流動層乾燥室１４の底部１４ａに形成することなく、図５に示すように、隔壁１６の一部として形成してもよい。図５（ａ）に示すように、固定側部材２１は、隔壁１６の下端付近に設けられ、下端部が底部１４ａに接続される。このように構成することで、流動層容器１０を形成した後に、隔壁１６と共に排出機構２０を配設することができるため、流動層容器１０の加工が容易となる。また、排出機構２０の固定側部材２１の下端部を、そのまま底部１４ａに接続してもよい。

排出機構２０の固定側部材２１と可動部材２２とは、上記の態様と同じ部材を用いており、本態様においては、排出口２３が下方を向くように配置している。そのため、図５（ａ）に示すように、可動部材２２の開口部２４が、上方を向いた姿勢とすることで、両方の排出口２３を閉状態とすることができ、可動部材２２を図の時計回りに回動させることによって、第１排出口２３ａを開状態とすることができる。なお、乾燥処理における排出機構２０の動作については、上記の態様と同様であるため、詳細な説明は省略する。

次に、図６〜図８に基づいて、排出機構２０の他の例について説明する。図６に示すように、排出機構３０は、流動層乾燥室１４の直径方向に延びる円筒形状をなしており、図３と同様に、隔壁１６の下端部に設けられる。図示は省略するが、排出機構３０の一端側は、排出した粉粒体を搬送する搬送経路として延びており、粉粒体を吸引する吸引手段が接続されている。また、排出機構３０は、排出口３３が形成される固定側部材３１と、排出口３３を開閉可能な開閉手段としての可動部材３２とを有する。

固定側部材３１は、上記と同様に、流動層乾燥室１４の底部１４ａ及び隔壁１６の一部を形成している。固定側部材３１が配置される位置及び排出口３３の位置は、上記と同様であるため、詳細な説明は省略する。本実施形態においては、図７（ａ）に示すように、固定側部材３１には、内部を仕切る仕切部材３４が設けられる。仕切部材３４によって、固定側部材３１の内部には、粉粒体が通過する、断面が半円形状の第１通路３５ａ及び第２通路３５ｂが形成される。

可動部材３２は、図６及び図７（ｂ）に示すように、断面が半円形状の、一対の長尺部材で構成される（第１可動部材３２ａ、第２可動部材３２ｂで示す）。第１可動部材３２ａ及び第２可動部材３２ｂは、固定側部材３１の内径寸法よりも若干小さい半円の直径寸法を有し、固定側部材３１に対して、軸方向に移動可能となるように包套される。なお、図示においては、固定側部材３１と、第１可動部材３２ａ及び第２可動部材３２ｂとの寸法の差を誇張して示している。また、図示は省略するが、可動部材３２は、一端部が延びており、可動部材３２を軸方向に移動させる、例えばシリンダやボールねじ等の直線駆動アクチュエーターに接続されている。

なお、各処理室１７（第１処理室１７ａ、第２処理室１７ｂ）に形成された粉粒体の投入機構１８の投入口１８１の近傍に設けられる投入バルブＶ（第１投入バルブＶａ、第２投入バルブＶｂ）と、粉粒体の排出機構３０の可動部材３２に接続される直線駆動アクチュエーター（図示省略）とは、それぞれ、図示省略の制御手段に接続されて、制御手段によって、各処理室１７への粉粒体の投入及び排出のタイミングが制御される。

続いて、排出機構３０の動作について説明する。排出機構３０は、直線駆動アクチュエーター（図示省略）によって、可動部材３２の第１可動部材３２ａ及び第２可動部材３２ｂを、それぞれ軸方向に移動させて、固定側部材３１の第１通路３５ａ及び第２通路３５ｂに挿抜することで、排出口３３の開閉を行う。図８（ａ）には、第２排出口３３ｂが閉状態であり、第１排出口３３ａが開閉途中の状態を示す。また、この状態の断面図を図８（ｂ）に示す。

両方の排出口３３を閉状態とする際には、両方の可動部材３２を固定側部材３１に挿入した状態とする。この状態で、例えば、第１処理室１７ａの第１排出口３３ａを開状態とするには、直線駆動アクチュエーターを作動させて、第１可動部材３２ａを図の右方向（軸方向）に移動させて、第１排出口３３ａを開状態とする。開状態とした第１排出口３３ａを再び閉状態とするには、第１可動部材３２ａを図の左方向に移動させる。また、第２排出口３３ｂの開閉を行う場合も同様に行う。なお、乾燥処理における、各処理室１７の排出口３３を開閉するタイミングは、上記と同じであるため詳細な説明を省略する。

なお、排出機構３０の固定側部材３１を、流動層乾燥室１４の底部１４ａに形成することなく、図５と同様に、隔壁１６の一部として形成してもよい。

ここで、本実施形態においては、可動部材３２を一対の長尺部材で構成して、固定側部材３１に対して挿抜することで排出口３３の開閉を行ったが、可動部材３２として、膨張及び収縮可能な膨張シールで構成してもよい。膨張シールは、内部に空気や水を供給することで、膨張させることが可能であり、供給した空気や水を排出することで収縮できる。このような膨張シールを、固定側部材３１の内部に配置しておくことで、膨張シールを膨張させることで、排出口３３を閉状態とすることができると共に、膨張シールを収縮させることで、排出口を開状態とすることができる。なお、膨張シールは、固定側部材３１の第１通路３５ａ及び第２通路３５ｂ内にそれぞれ配置して、各膨張シールを個別に膨張又は収縮させることによって、各処理室１７の排出口３３を選択的に開閉することができる。

また、図９に示すように、排出機構４０の固定側部材４１の排出口４３を軸方向に複数形成すると共に、可動部材４２（第１可動部材４２ａ、第２可動部材４２ｂ）を中空として、排出口４３と同じ形状の開口部４４を、排出口４３と同じ位置に形成すように構成してもよい。

このとき、固定側部材４１に形成される排出口４３の軸方向の長さ寸法は、隣り合う排出口４３の端部同士の間の距離よりも若干小さくなるように形成される。つまり、隣り合う排出口４３は、近接する端部同士の間の距離が、排出口４３の長さ寸法よりも長くなるように離れて配置される。なお、図９（ａ）には、固定側部材４１の平面図を示し、図９（ｂ）には、可動部材４２の平面図を示す。また、図９（ｃ）には、第２排出口４３ｂが閉状態であり、第１排出口４３ａが開状態である状態を示す。

上記のような長さ寸法と位置関係で、固定側部材４１及び可動部材４２に、排出口４３及び開口部４４を形成することで、排出口４３と開口部４４との相対的な位置を変化させることによって、排出口４３の開閉を行う。つまり、図９（ｃ）に示すように、排出口４３を閉状態とする際には、開口部４４の位置と、排出口４３の位置とが一致しないように可動部材４２を配置する。これによって、可動部材４２の外周部によって、排出口４３が閉状態となる。また、排出口４３を開状態とする際には、各可動部材４２を軸方向に移動して、開口部４４の位置と排出口４３の位置とを一致させる。

なお、乾燥処理における、各処理室１７の排出口４３を開閉する動作及び動作のタイミングは、上記と同じであるため詳細な説明を省略する。本態様においては、固定側部材４１及び可動部材４２の軸方向に、排出口４３及び開口部４４を複数形成し、これらの相対的な位置関係によって、排出口４３を開閉することができるため、可動部材４２の軸方向の移動距離を少なくすることができる。

また、排出機構４０の固定側部材４１を、流動層乾燥室１４の底部１４ａに形成することなく、図５と同様に、隔壁１６の一部として形成してもよいことは上記と同様である。

なお、固定側部材に対して、可動部材を軸方向に移動することで排出口の開閉を行う場合には、固定側部材及び可動部材（又は仕切られた通路の形状）が同形状であればよく、断面形状は、円形（または半円形）に限ることはなく、楕円形や多角形（又はこれを半分とした形状）等であってもよい。

以下、図１０及び図１１に基づいて、流動層乾燥室５０の他の実施形態について説明する。本実施形態においても、流動層乾燥室５０内を区画する隔壁５１によって、独立した処理室５２が形成され、各処理室５２には、各処理室５２に対してそれぞれ個別に粉粒体を投入可能な投入機構５３と、各処理室５２からそれぞれ個別に粉粒体を排出可能な排出機構６０とが設けられる。投入機構５３と排出機構６０とは、それぞれの開閉を制御する制御手段（図示省略）に接続される。

隔壁５１は、流動層乾燥室５０の中央から半径方向に延び、所定角度を隔てて複数の隔壁５１が設けられる。本実施形態においては、１２０度毎に３つの隔壁５１が設けられ、流動層乾燥室５０を３個の処理室５２（第１処理室５２ａ、第２処理室５２ｂ、第３処理室５２ｃ）に区画している。

投入機構５３は、各処理室５２の側壁に形成されて、粉粒体が投入される投入口５３１（第１投入口５３１ａ、第２投入口５３１ｂ、第３投入口５３１ｃ）と、各投入口５３１の近傍に設けられて、各投入口５３１を開閉する投入バルブＶ（第１投入バルブＶａ、第２投入バルブＶｂ、第３投入バルブＶｃ）とが設けられる。一方、詳細は後述するが、排出機構６０は、流動層乾燥室５０の中央の隔壁５１の下端部に設けられており、各処理室５２に向けて開口する排出口６３が形成されている。その他の構成は、上記の実施形態と同様であるため、詳細な説明は省略する。

本実施形態のように、処理室５２が３室設けられる場合において、連続的に乾燥処理を行う際の、粉粒体の投入、乾燥、及び排出のタイミングについて、図２（ｂ）に基づいて説明する。なお、これらのタイミングは、制御手段（図示省略）によって制御される。まず、第１処理室５２ａに粉粒体を投入する。第１処理室５２ａへの粉粒体の投入が完了すると、第１処理室５２ａにおいて乾燥処理を開始すると共に、第２処理室５２ｂへの粉粒体の投入を開始する。第２処理室５２ｂへの粉粒体の投入が完了すると、第２処理室５２ｂにおいても乾燥処理を開始すると共に、第３処理室５２ｃへの粉粒体の投入を開始する。ここで、第３処理室５２ｃに粉粒体を投入している間に、第１処理室５２ａでの乾燥処理が終了するため、第１処理室５２ａ内の粉粒体を排出する。さらに、第３処理室５２ｃへの粉粒体の投入が完了すると、第３処理室５２ｃにおいて乾燥処理を開始すると共に、第１処理室５２ａへの粉粒体の投入を開始する。このように、他の処理室５２に粉粒体の投入を行っている間に、最初に粉粒体を投入した処理室５２の乾燥処理が終了するため、各処理室５２対して、連続的に粉粒体を投入することができる。このようにして、各処理室５２において、逐次的に順次に粉粒体が投入されて、乾燥処理が行われ、各処理室５２からの粉粒体の排出が、逐次的に順次に行われる。その結果、流動層乾燥室５０内において、連続的に乾燥処理を行うことができる。

ここで、図１０及び図１１に基づいて、流動層乾燥室５０に設けられた排出機構６０の詳細について説明する。排出機構６０は、図１０に示すように、上端に半球状部を有する円筒形状をなしており、流動層乾燥室５０の底部５０ａの中央に設けられる。図示は省略するが、排出機構６０の下端は、排出した粉粒体を搬送する搬送経路として延びており、粉粒体を吸引する吸引手段が接続されている。また、図１１に示すように、排出機構６０は、排出口６３が形成される固定側部材６１と、排出口６３を開閉可能な可動部材６２とを有する。

固定側部材６１は、図１０示すように、流動層乾燥室５０の底部５０ａ及び隔壁５１の一部を形成している。詳しくは、固定側部材６１の上端の半球状部が流動層乾燥室５０に露出しており、半球状部の上方に隔壁５１が接続されている。また、隔壁５１によって区画される各処理室５２に向けて開口するように、排出口６３が３箇所に形成される（第１排出口６３ａ、第２排出口６３ｂ、第３排出口６３ｃで示す）。ここで、図１０に示すように、排出口６３は、流動層乾燥室５０の底部５０ａよりも上方で、かつ底部５０ａの外周よりも内側に設けられる。また、排出口６３は、周方向の長さ寸法が、隣り合う排出口６３の近接する端部同士の距離よりも若干小さくなるように形成される（図１１参照）。

可動部材６２は、固定側部材６１と略同じ形状であり、かつ固定側部材６１よりも若干小さいサイズであり、固定側部材６１に回転可能に包套される。なお、図示は省略するが、可動部材６２は、下端が延びており、例えばモーター等の回動駆動手段に接続されている。また、可動部材６２には、固定側部材６１の排出口６３と略同形の開口部６４が１箇所に形成される。

ここで、図１０に示すように、各処理室５２（第１処理室５２ａ、第２処理室５２ｂ、第３処理室５２ｃ）に形成された粉粒体の投入機構５３の各投入口５３１の近傍に設けられる投入バルブＶ（第１投入バルブＶａ、第２投入バルブＶｂ、第３投入バルブＶｃ）と、粉粒体の排出機構６０の可動部材６２に接続される回動駆動手段（図示省略）とは、それぞれ、図示省略の制御手段に接続され、制御手段によって、各処理室５２への粉粒体の投入及び排出のタイミングが制御される。

続いて、図１１に基づいて、排出機構６０の動作について説明する。排出機構６０は、回動駆動手段（図示省略）によって、可動部材６２が垂直な軸心周りに回動することによって、排出口６３の開閉動作を行う。詳しくは、図１１（ａ）に示すように、可動部材６２が、開口部６４が、隣り合う排出口６３（図示では、第３排出口６３ｃと第１排出口６３ａ）の間に位置する姿勢では、可動部材６２の外周部によって、排出口６３を閉鎖し、全ての排出口６３が閉状態となる。また、可動部材６２を回動して、図１１（ｂ）に示すように開口部６４と第１排出口６３ａとが一致する姿勢となると、第１排出口６３ａが開状態となり、粉粒体が排出可能となる。このとき、他の排出口６３（第２排出口６３ｂ及び第３排出口６３ｃ）は、可動部材６２の外周部によって閉鎖された状態が維持される。さらに、可動部材６２を回動することによって、全ての排出口６３を閉状態とした状態と、一つの排出口６３を選択的に開状態とした状態とすることができる。

連続式流動層乾燥装置１（図１参照）の動作時には、可動部材６２は、図１１（ａ）に示す姿勢となっており、上記のように、第１処理室５２ａに粉粒体を投入して、乾燥処理が開始される。続いて、第２処理室５２ｂに粉粒体が投入されて、同様に乾燥処理が行われる。さらに、第３処理室５２ｃに粉粒体が投入されて乾燥処理が行われるが、この間に、第１処理室５２ａの乾燥処理が終了する。第１処理室５２ａの乾燥処理が終了すると、回動駆動手段（図示省略）の作動によって、可動部材６２が図の時計回りに回動し、図１１（ｂ）に示す姿勢となる。この状態で、吸引手段（図示省略）が作動されて、第１処理室５２ａ内の粉粒体が、第１排出口６３ａから吸引されて排出される。

第１処理室５２ａの排出が終了すると、回動駆動手段の作動によって、可動部材６２が図の時計回りに回動し、開口部６４が第１排出口６３ａと第２排出口６３ｂとの間に位置する姿勢で停止し、全ての排出口６３を閉状態とする。続いて、第２処理室５２ｂの乾燥処理が終了すると、可動部材６２が図の時計回りに回動して、開口部６４が、第２排出口６３ｂと一致した状態で停止する。この状態で、同様に第２処理室５２ｂ内の粉粒体が、第２排出口６３ｂから吸引されて排出される。その後、同様に可動部材６２は、一方向に間欠的に回動することによって、各排出口６３の開閉動作を繰り返す。このようにして、排出機構６０は、各処理室５２内の粉粒体を選択的に排出することができる。

なお、本実施形態においては、処理室５２が３室設けられる例を示したが、これに限ることはない。例えば、隔壁を９０度ずつ４つの隔壁を設けることによって、流動層乾燥室５０を４個の処理室に区画してもよい。この場合には、投入機構５３の投入口５３１、及び排出機構６０の排出口６３は、各処理室に対応する４箇所に設けられる。

また、固定側部材６１の内側に仕切部材を設けることで、粉粒体が通過する複数の通路を形成し、各通路内に、各通路を閉鎖可能な形状の可動部材を配置して、可動部材を軸方向（上下方向）に移動させることで、各排出口６３を開閉してもよい。さらに、各可動部材を膨張シールで構成してもよい。

次に、図１２〜図１５に基づいて、流動層乾燥室７０の更に他の実施形態について説明する。本実施形態においては、上記の実施形態と同様に、流動層乾燥室７０内を区画する隔壁７１によって、独立した処理室７２が形成され、各処理室７２には、各処理室７２に対してそれぞれ個別に粉粒体を投入可能な投入機構７３と、各処理室７２からそれぞれ個別に粉粒体を排出可能な排出機構８０とが設けられる。投入機構５３と排出機構８０とは、それぞれの開閉を制御する制御手段（図示省略）に接続される。

投入機構７３は、各処理室７２の側壁に形成されて、粉粒体が投入される投入口７３１（第１投入口７３１ａ、第２投入口７３１ｂ、第３投入口７３１ｃ）と、各投入口７３１の近傍に設けられて、各投入口７３１を開閉する投入バルブＶ（第１投入バルブＶａ、第２投入バルブＶｂ、第３投入バルブＶｃ）とが設けられる。

排出機構８０は、流動層乾燥室７０の中央に軸方向（図の上下方向）に延びる方向に形成され、隔壁７１は、流動層乾燥室７０の中央の排出機構８０から半径方向に延び、所定角度を隔てて複数の隔壁７１が設けられる。なお、本実施形態においては、流動層乾燥室７０は、１２０度毎に３つの隔壁７１が設けられ、流動層乾燥室７０を３個の処理室７２（第１処理室７２ａ、第２処理室７２ｂ、第３処理室７２ｃ）に区画している。排出機構８０の下端部には、各処理室７２に向けて開口する排出口６３が形成されている。その他の構成は、上記の実施形態と同様であるため、詳細な説明は省略する。

ここで、図１２〜図１５に基づいて、流動層乾燥室７０に設けられた、排出機構８０の詳細について説明する。排出機構８０は、図１２に示すように、流動層乾燥室７０の軸方向に延びる円筒形状をなしており、隔壁７１が集中する流動層乾燥室７０の中央に設けられる。図示は省略するが、排出機構８０の上端側は、排出した粉粒体を搬送する搬送経路として延びており、粉粒体を吸引する吸引手段が接続されている。また、図１３に示すように、排出機構８０は、排出口８３が形成される固定側部材８１と、排出口８３を開閉可能な可動部材８２とを有する。

固定側部材８１は、図１２及び図１３（ａ）に示すように、流動層乾燥室７０の隔壁７１の一部を形成している。詳しくは、固定側部材８１の外周部に隔壁７１が接続されている。また、固定側部材８１の下端付近には、隔壁７１によって区画される各処理室７２に向けて開口するように、排出口８３が３箇所に形成される（第１排出口８３ａ、第２排出口８３ｂ、第３排出口８３ｃで示す）。ここで、排出口８３は、流動層乾燥室７０の底部７０ａよりも上方で、かつ底部７０ａの外周よりも内側に設けられる。

可動部材８２は、固定側部材８１の内径寸法よりも若干小さい外径寸法を有する円筒形状の部材であり、固定側部材８１に回動及び軸方向に移動可能に包套される。なお、図示は省略するが、可動部材８２は、一端側が延びており、回動駆動手段及び直線駆動アクチュエーターに接続されている。また、可動部材８２には、固定側部材８１の排出口８３と略同形の開口部８４が、可動部材８２の下端から、排出口８３の高さ寸法よりも若干上部の位置において、１箇所に形成される。

続いて、排出機構８０の動作について説明する。排出機構８０は、可動部材８２が、垂直な軸心周りに回動すること、及び軸方向に移動することによって、排出口８３の開閉動作を行う。図１４には、全ての排出口８３を閉状態とする状態を示しており、図１５には、第１排出口８３ａを開状態とした状態を示す図を、それぞれの排出口８３の断面を上方から見た図と共に示す。

ここで、図１２に示すように、各処理室７２（第１処理室７２ａ、第２処理室７２ｂ、第３処理室７２ｃ）に形成された粉粒体の投入機構７３の各投入口７３１の近傍に設けられる投入バルブＶ（第１投入バルブＶａ、第２投入バルブＶｂ、第３投入バルブＶｃ）と、粉粒体の排出機構８０の可動部材８２に接続される回動駆動手段及び直線駆動アクチュエーター（共に図示省略）とは、それぞれ、図示省略の制御手段に接続され、制御手段によって、各処理室７２への粉粒体の投入及び排出のタイミングが制御される。

全ての排出口８３を閉状態とする際には、図１４（ａ）に示すように、可動部材８２を、固定側部材８１に下端の位置が一致するまで挿入した状態とする。可動部材８２をこのように挿入することによって、可動部材８２に形成される開口部８４は、固定側部材８１に形成される排出口８３までは達しないため、各排出口８３は、可動部材８２の外周部によって閉鎖される（図１４（ｂ）参照）。この状態で、例えば、第１処理室７２ａの第１排出口８３ａを開状態とするには、開口部８４と第１排出口８３ａとは、周方向には一致しているため、図示省略の直線駆動アクチュエーターを作動させて、可動部材８２を軸方向（図の下方）に移動して、図１５（ａ）に示すように開口部８４と第１排出口８３ａとが一致する状態にする。このとき図１５（ｂ）に示すように、他の排出口８３（第２排出口８３ｂ及び第３排出口８３ｃ）は、可動部材８２の外周部によって、閉鎖された状態が維持される。

再び、全ての排出口８３を閉状態とする際には、可動部材８２を軸方向（図の上方）に移動することで、図１４（ａ）に示す状態とすることができる。さらに、第２排出口８３ｂを開状態とする際には、可動部材８２を、図の時計回りに回動させると共に軸方向（図の下方）に移動させることで、開口部８４と第２排出口８３ｂとが一致する状態とすることができる。このように、可動部材８２を回動及び軸方向に移動させることによって、各排出口８３を選択的に開状態とすることができる。なお、乾燥処理における、各処理室７２の排出口８３を開閉するタイミングは、上記と同じであるため、詳細な説明を省略する。

本実施形態においては、全ての排出口８３を閉状態とする際に、可動部材８２の開口部８４を軸方向に移動させるため、各排出口８３の周方向の開口寸法を大きくすることができる。そのため、各処理室７２内からの粉粒体の排出を効率的に行うことができる。

なお、本実施形態においては、処理室７２が３室設けられる例を示したが、これに限ることはない。例えば、隔壁を９０度ずつ４つの隔壁を設けることによって、流動層乾燥室７０を４個の処理室に区画してもよい。この場合には、投入機構７３の投入口７３１、及び排出機構８０の排出口８３は、各処理室に対応する４箇所に設けられる。

また、上記の実施形態において、図１６（ａ）に示すように、各流動層容器１０等の流動層乾燥室１４の底部１４ａには、指向性を有する複数の通気孔９１が形成される気体分散板９０を備えるように構成してもよい。通気孔９１は、指向性を有する開口９２（図１６（ｂ）参照）を有しており、開口９２は、流動層乾燥室１４内に配置された排出機構２０の排出口２３に向けて開口している。なお、図１６（ａ）において、通気孔９１が記載されていない領域には、図示省略の貫通孔が多数形成されている。

気体分散板９０をこのように構成することで、粉粒体の排出の際には、排出機構２０の吸引によって、通気孔９１の開口９２から排出口２３に向かう気流が発生するため、粉粒体の排出効率を向上させることができる。また、乾燥処理の際には、給気室１３から気体分散板９０の開口９２を通って供給される気体によって、隔壁１６に向かう一定の気流が発生する。そのため、各処理室１７内の粉粒体は、隔壁１６に向けて吹き付けられることで、効率よく流動層を形成することができる。

加えて、図１７及び図１８に示すように、流動層乾燥室１４の底部１４ａに備えられる気体分散板１００を、各処理室１７の底部にそれぞれ配置して、各気体分散板１００を独立して交換可能としてもよい。ここで、図示は省略するが、流動層容器は、給気室（気体導入部１１０）と流動層乾燥室とを有し、流動層乾燥室は、隔壁によって独立した複数の処理室に区画される。なお、図１７には、気体導入部１１０の一方に、気体分散板１００を装着した状態を示す。

各気体分散板１００は、多数の通気孔を有する略半円形状の薄板の部材であり、パンチングプレートのような多孔板で形成される。また、気体分散板１００の上面側には、気体分散板１００の通気孔よりも細かい孔部を有するメッシュ板１０１を重ねて使用される。なお、メッシュ板１０１は、乾燥する粉粒体の落下を防止するため、孔部の径寸法は、流動層乾燥室内で乾燥処理される粉粒体の粒径よりも小さい径寸法を有する。

気体分散板１００及びメッシュ板１０１には、着脱の際の摘み部としてのタブ１００ａ、１０１ａがそれぞれ同じ位置に形成される。なお、タブ１００ａ、１０１ａには、火傷防止のための保護カバーを装着することが好ましい。

気体分散板１００は、気体導入部１１０の上面に載置される。気体導入部１１０には、気体分散板１００を押し上げる押上パッキンとしての膨張シール１１１が配置される溝部１１２と、気体分散板１００及びメッシュ板１０１の側部を支持し、装着の際にはガイドとして働くガイド部１１３とを有する。ここで、膨張シール１１１は、内部に水や空気を供給することで膨張可能な部材であり、気体導入部１１０に形成される溝部１１２に沿って配置され、膨張することで気体分散板１００を下方から押し上げる。なお、図示のように、膨張シール１１１は、各処理室毎（２箇所）に配置されるため、各気体分散板１００を個別に固定させることができる。

以下、図１８に基づいて、気体分散板１００及びメッシュ板１０１の着脱について説明する。なお、図１８の下方を前方側（又は手前側）と呼び、上方を奥側と呼ぶ。気体分散板１００及びメッシュ板１０１は、予めか重ねた状態で着脱する。気体分散板１００及びメッシュ板１０１を装着する際は、これらを重ねた状態で、斜め前方側より挿入する（図に矢印Ｆで示す）。気体分散板１００及びメッシュ板１０１の奥側の端部がガイド部１１３に当接すると、横方向に移動させる（図に矢印Ｇで示す）。このとき、気体分散板１００及びメッシュ板１０１の奥側の端部は、ガイド部１１３で支持された状態であり、気体分散板１００及びメッシュ板１０１は、ガイド部１１３に沿って回転する。気体分散板１００及びメッシュ板１０１を横方向に移動させて、手前側が、手前側のガイド部１１３に当接すると、装着が完了する。また、他方側の気体分散板１００及びメッシュ板１０１についても、同様に装着する。

気体分散板１００及びメッシュ板１０１が気体導入部１１０上に載置されると、膨張シール１１１内に、例えば空気を供給することで膨張させて、気体分散板１００を押し上げる。なお、膨張シール１１１は、膨張することによって、気体分散板１００及びメッシュ板１０１を押し上げると共に、気体導入部１１０の周方向にも膨張し、気体導入部１１０と各処理室の内壁との間を閉鎖する。これによって、気体導入部１１０から導入される流動化気体を、気体分散板１００の周囲側から流出することを防止し、確実に気体分散板１００を通過して、各処理室に導入することができる。

一方、気体分散板１００及びメッシュ板１０１を清掃や交換のために取り外す際には、取り外す側の膨張シール１１１内の空気（または水）を吸引して、押し上げを解除する。次いで、気体分散板１００及びメッシュ板１０１のタブ１００ａ、１０１ａを持って、横方向（図に矢印Ｈで示す）に移動させる。このとき、装着時と同様に、気体分散板１００及びメッシュ板１０１の奥側が、ガイド部１１３に沿って回転する。ある程度回転させると、斜め前方に引き抜く（図に矢印Ｉで示す）ことで、気体分散板１００及びメッシュ板１０１を取り外すことができる。

なお、流動層処理室が、３室以上の処理室に区画される場合には、気体分散板及びメッシュ板を３個以上として、それぞれを個別に着脱可能としてもよい。このように、気体分散板及びメッシュ板を複数個所に配置して、それぞれを膨張シールによって固定することによって、各気体分散板及びメッシュ板を個別に取り外したり交換したりすることができる。そのため、例えば、一方の処理室において、乾燥処理を行っている間であっても、他方の処理室の気体分散板を取り外して清掃したり、新たな気体分散板に交換したりすることができる。

上記の構成は、下記の発明に基づくものである。

すなわち、隔壁によって区画される独立した処理室を複数有し、前記各処理室に投入された粉粒体をそれぞれ流動化気体によって浮遊流動させながら乾燥処理を行う流動層乾燥室を備え、前記各処理室の底部には、前記各処理室に流動化気体を導入するための気体導入部を有し、前記気体導入部は、多数の通気孔を有する気体分散板と、該気体分散板の通気孔よりも細かい孔部を有し、前記気体分散板の上面側に載置されるメッシュ板と、前記気体分散板の下方に配置された膨張シールとを有し、前記膨張シールを膨張させることで、前記気体分散板及びメッシュ板を前記底部に固定すると共に、前記膨張シールを収縮することで、前記導入部から前記気体分散板及び前記メッシュ板を取り外し可能にすることを特徴とする連続式流動層乾燥装置として示される。

以上述べてきたように、本発明に係る連続式流動層乾燥装置１は、隔壁１６によって区画される独立した処理室１７を複数有し、各処理室１７に投入された粉粒体をそれぞれ流動化気体によって浮遊流動させながら乾燥処理を行う流動層乾燥室１４と、各処理室１７に対してそれぞれ個別に粉粒体を投入可能な投入機構１８と、各処理室１７からそれぞれ個別に粉粒体を排出可能な排出機構２０と、投入機構１８の開閉と排出機構２０の開閉を制御する制御手段Ｃとを備え、投入機構１８による各処理室１７への粉粒体の投入が、複数の各処理室１７に対して逐次的に順次に行われると共に、逐次投入の順番に応じて、排出機構２０による各処理室１７からの粉粒体の排出が、複数の各処理室１７に対して逐次的に順次に行われるように、制御手段Ｃにより投入機構１８と排出機構２０とが制御されることを特徴とする。これによって、粉粒体が他の処理室１７に混入することなく、加る十分な流速の気体を用いて流動層乾燥処理を行うことができる。また、各処理室１７に、逐次的に順次に粉粒体を投入することによって、処理室１７を移動させることなく連続的に乾燥処理を行うことができる。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加え得ることは勿論である。

１ 連続式流動層乾燥装置
１４ 流動層乾燥室
１６ 隔壁
１７ 処理室
１８ 投入機構
２０ 排出機構
Ｃ 制御手段

Claims (4)

1. 隔壁によって区画される独立した処理室を複数有し、前記各処理室に投入された粉粒体をそれぞれ流動化気体によって浮遊流動させながら乾燥処理を行う流動層乾燥部と、
   前記各処理室に対してそれぞれ個別に前記粉粒体を投入可能な投入機構と、
   前記流動層乾燥部の内部に設けられ、前記各処理室からそれぞれ個別に前記粉粒体を排出可能な一つの排出機構と、
   前記投入機構の開閉と前記排出機構の開閉を制御する制御手段とを備え、
   前記投入機構による前記各処理室への前記粉粒体の投入が、複数の前記各処理室に対して逐次的に順次に行われると共に、該逐次投入の順番に応じて、前記排出機構による前記各処理室からの前記粉粒体の排出が、複数の前記各処理室に対して逐次的に順次に行われるように、前記制御手段により前記投入機構と前記排出機構とが制御され、
   前記排出機構は、前記各処理室に対してそれぞれ開閉可能な複数の排出口と、該複数の排出口を個別に開閉可能な開閉手段とを備え、前記複数の排出口は、前記流動層乾燥部の底部の外周よりも内側に位置することを特徴とする連続式流動層乾燥装置。
2. 前記各処理室は、それぞれ、前記粉粒体を流動化気体によって浮遊流動させる流動室と、前記流動室の上方に設けられ、前記流動室内で浮遊流動する前記粉粒体に対して固気分離を行うフィルター室とを備えていると共に、前記フィルター室で固気分離された気体は、前記各処理室からそれぞれ個別に排気されることを特徴とする請求項１に記載の連続式流動乾燥装置。
3. 前記制御手段は、一の前記各処理室への前記粉粒体の投入が完了した後、該一の前記各処理室に隣接する前記各処理室に前記粉粒体を投入するように、前記投入機構の開閉を順次に切り換えることを特徴とする請求項１又は２に記載の連続式流動乾燥装置。
4. 前記複数の排出口が共通の固定側部材に設けられており、前記開閉手段は、該固定側部材に対して可動で、前記固定側部材に対して移動することにより、前記複数の排出口のうち所定の一の前記排出口を択一的に開口させる可動部材で構成されていることを特徴とする請求項１に記載の連続式流動乾燥装置。

Images