JP6401988B2 - 加工装置及びウエーハの加工方法 - Google Patents

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本発明は、ウエーハを加工する加工装置及び加工装置を用いてウエーハを加工するウエーハの加工方法に関する。
被加工物であるウエーハを研削して薄化する加工装置は、ウエーハを保持する保持テーブルと、研削砥石を備える研削手段とを少なくとも備えている。かかる加工装置を用いてウエーハを研削する際には、例えばデバイスが形成されたウエーハの表面に保護テープを貼着し保護テープ側を保持テーブルで保持するとともに、研削砥石でウエーハの裏面を押圧しながら所定の厚みに至るまで研削している(例えば、下記の特許文献1を参照)。
特許第4532358号公報
しかし、上記したようなウエーハの表面には凹凸が形成されていることがあり、この状態のウエーハの表面に保護テープを貼着すると、保護テープでは凹凸を吸収しきれず、ウエーハの研削時にウエーハの表面を良好に保護できないという問題がある。また、加工工程の前にウエーハの表面に保護テープを貼着するための工程が必要であるとともに、加工装置とは別にテープ貼着装置も必要となり、生産性及びコスト面において問題がある。
保護テープに替えて樹脂を用いることで、ウエーハの凹凸に対応できるようにする技術もあるが、この場合も、加工工程の前に樹脂を被覆する工程が必要であるとともに、ウエーハの表面に樹脂を被覆するための専用の装置が必要となり、生産性及びコスト面で問題がある。
本発明は、上記の事情にかんがみてなされたものであり、生産性を低下させたり、加工装置とは別に専用の装置を用いたりすることなく、ウエーハの表面を保護してウエーハを加工できるようにすることを目的としている。
第一の発明は、ウエーハを保持する保持面を有する加工テーブルと、該加工テーブルに保持されるウエーハを加工する加工手段と、を備える加工装置において、該保持面に熱硬化性の液状樹脂を供給する液状樹脂供給手段と、該保持面に供給された該液状樹脂の上にウエーハを搬入する搬入手段と、該保持面に供給された該液状樹脂を硬化させ該保持面にウェーハを保持させる樹脂硬化手段と、該樹脂硬化手段によって硬化した該液状樹脂を該保持面から剥がして該液状樹脂とともにウエーハを搬出する搬出手段と、を備え、該搬入手段に該樹脂硬化手段を含め、該樹脂硬化手段は、該保持面に供給された熱硬化性の液状樹脂の上に搬入されたウエーハを介して該液状樹脂を硬化させる
第二の発明は、上記加工装置を用いてウエーハを加工するウエーハの加工方法であって、前記液状樹脂供給手段を用いて前記加工テーブルの前記保持面に前記液状樹脂を供給する樹脂供給工程と、該保持面に供給された該液状樹脂を、前記搬入手段に備えた前記樹脂硬化手段によって硬化させ該保持面において硬化した該液状樹脂でウエーハを保持する保持工程と、該保持面で保持されたウエーハを前記加工手段によって加工する加工工程と、該加工工程の後、硬化した該液状樹脂を該保持面から剥離し前記搬送手段によって該液状樹脂とともにウエーハを該加工テーブルから搬出する搬出工程と、を備える。
第一の発明の加工装置は、加工テーブルの保持面においてウエーハの表面を保護する液状樹脂を供給する液状樹脂供給手段と、保持面に供給された液状樹脂にウエーハを搬入する搬入手段と、保持面に供給された液状樹脂を硬化させ保持面にウエーハを保持させる樹脂硬化手段と、樹脂硬化手段によって硬化した液状樹脂を保持面から剥がして液状樹脂とともにウエーハを搬出する搬出手段とを備えており、ウエーハの表面に凹凸が形成されていても液状樹脂で凹凸を吸収するため、ウエーハを研削する際にウエーハの表面を良好に保護することができる。また、加工テーブルの保持面上に液状樹脂を直接供給してウエーハの表面を液状樹脂で保持できるため、加工装置とは別に必要であったテープ貼着装置や樹脂塗布装置などの装置が不要となる。
第二の発明の加工方法は、液状樹脂供給手段を用いて加工テーブルの保持面に液状樹脂を供給する樹脂供給工程と、該保持面に供給された該液状樹脂を樹脂硬化手段によって硬化させることにより該保持面において硬化した液状樹脂でウエーハを保持する保持工程と、加工手段によってウエーハを加工する加工工程とを備えるため、ウエーハの表面に凹凸が形成されている場合であっても、液状樹脂で凹凸を吸収してウエーハの表面を容易に保持することができ、ウエーハの研削時に表面を良好に保護することが可能となる。また、テープの貼着や樹脂の塗布などのみを行う工程が不要となる。
加工装置の一例の構成を示す斜視図である。 加工テーブルの第1例を示す断面図である。 樹脂供給工程を示す断面図である。 保持工程の第1例を示す断面図である。 保持工程の第2例を示す断面図である。 加工工程を示す断面図である。 搬出工程を示す断面図である。 搬出工程によって液状樹脂とともにウエーハを搬出する状態を示す断面図である。 (a)は加工テーブルの第2例を示す断面図であり、(b)は加工テーブルの第3例を示す断面図である。
1 装置構成
図1に示す加工装置1は、Y軸方向にのびる装置ベース2を備えている。装置ベース2のY軸方向前部には、ステージ4a,4bが隣接して配設されている。ステージ4aに研削前のウエーハを収容するカセット5aが配設され、ステージ4bに研削後のウエーハを収容するカセット5bが配設されている。
カセット5a及びカセット5bの近傍には、カセット5aから研削前のウエーハを搬出するとともにカセット5bに研削後のウエーハを搬入する搬出入手段6が配設されている。搬出入手段6の可動範囲には、研削前のウエーハを仮置きするための仮置き領域7と、研削後のウエーハを洗浄する洗浄手段8とが配設されている。
装置ベース2の上面中央には、ウエーハを保持する保持面12を有しY軸方向に移動可能な加工テーブル10が配設されている。
加工テーブル10は、図2に示すように、ウエーハを下方から支持する保持部11と、保持部11の内部に形成された複数の樹脂供給孔13と、各樹脂供給孔13に連通する供給路14とを少なくとも備えている。保持部11の上面が、ウエーハの一方の面を保持する保持面12となっており、この保持面12には各樹脂供給孔13の一端が開口している。
加工テーブル10の下方には、加工テーブル10の保持面12に液状樹脂を供給する液状樹脂供給手段20を備えている。液状樹脂供給手段20は、液状樹脂の供給量を調節するバルブ21と、このバルブ21を介して供給路14に連通される樹脂供給源22とにより構成されている。液状樹脂供給手段20は、バルブ21を開くことにより液状樹脂を各樹脂供給孔13に流入させ、保持面12上に所望量の液状樹脂を供給することができる。
図1に示す仮置き領域7の近傍には、加工テーブル10の保持面12に供給された液状樹脂上に研削前のウエーハを搬入する搬入手段30を備えている。また、洗浄手段8の近傍には、加工テーブル10の保持面12から硬化した液状樹脂を剥がして該液状樹脂とともにウエーハを搬出する搬出手段40を備えている。
搬入手段30は、図3に示すように、ウエーハを吸引保持する吸引パッド31と、吸引パッド31の下部に形成され多孔質部材からなる吸引部32と、吸引パッド31を支持するアーム部33と、アーム部33の一端に接続され吸引パッド31を昇降させるとともにアーム部33を旋回させる軸部34とを少なくとも備えている。搬入手段30の可動範囲は、図1に示した仮置き領域7と搬入手段30に接近した位置に位置づけられた加工テーブル10との間となっており、例えば、仮置き領域7に仮置きされたウエーハを、加工テーブル10の保持面12に供給された液状樹脂上に搬入することができる。
図3に示すように、搬入手段30には、熱硬化性の液状樹脂を硬化させる樹脂硬化手段24を備えている。この樹脂硬化手段24は、複数のヒータから構成されており、吸引パッド31の内部において吸引部32の面方向に沿って配置されている。このように搬入手段30と樹脂硬化手段24とが一体となって構成されているため、研削前のウエーハを保持面12に供給された液状樹脂上に搬入するとともに、樹脂硬化手段24で液状樹脂を加熱して効率よく硬化することができる。
図1に示す搬出手段40は、ウエーハ吸引保持する吸引パッド41と、吸引パッド41の内部に形成された多孔質からなる吸引部42(図7において図示する)と、吸引パッド41を支持するアーム部43と、アーム部43の一端に接続され吸引パッド41を昇降させるとともに旋回可能な軸部44とを少なくとも備えている。搬出手段40の可動範囲は、搬入手段30に接近した位置に位置づけられた加工テーブル10と洗浄手段8との間となっており、例えば、加工テーブル10の保持面12から硬化した液状樹脂とともに研削後のウエーハを搬出して洗浄手段8に搬送することができる。
装置ベース2のY軸方向後部側には、Z軸方向にのびるコラム3を備えている。コラム3の側方には、加工送り手段60を介してウエーハに対して研削加工を施す加工手段50を備えている。加工手段50は、Z軸方向の軸心を有するスピンドルと、スピンドルを回転可能に支持するスピンドルハウジング51と、スピンドルの一端に接続されたモータ53と、スピンドルの下端にマウント54を介して着脱可能に装着された研削ホイール55と、研削ホイール55の下部において円環状に固着された研削砥石56とを少なくとも備えている。
加工送り手段60は、Z軸方向に伸びるボールネジ61と、ボールネジ61の一端に接続されたモータ62と、ボールネジ61と平行にのびるガイドレール63と、一方の面が加工手段50を保持するホルダ52に連結された昇降板64とを備えている。昇降板64の他方の面には一対のガイドレール63が摺接し、中央部に形成されたナットにボールネジ61が螺合している。そして、モータ62によって駆動されてボールネジ61が回動することにより、一対のガイドレール63に沿って昇降板64をZ軸方向に昇降させて加工手段50をZ軸方向に昇降させることができる。
2 ウエーハの加工方法
加工装置1を用いてウエーハを加工する加工方法について説明する。図3に示すウエーハWは、被加工物の一例であって、その表面Waには、格子状のストリートによって区画された各領域にデバイスが形成されている。一方、表面Waと反対側にある裏面Wbは、図1に示した加工手段50の研削砥石56によって研削される被研削面となっている。このウエーハWは、カセット5aに複数収容されている。ウエーハWを研削する際には、まず、搬出入手段6によりカセット5aから研削前のウエーハWを1枚取り出して仮置き領域7に仮置きする。続いて搬入手段30の可動範囲に加工テーブル10が移動する。
(1)樹脂供給工程
樹脂供給工程では、液状樹脂供給手段20によって加工テーブル10の保持面12に液状樹脂を供給する。具体的には、液状樹脂供給手段20は、図3に示すように、バルブ21を開いて樹脂供給源22から所望の供給量の液状樹脂23を供給路14に流入させる。供給路14に流れ込んだ液状樹脂23は、各樹脂供給孔13に沿って流れていき、保持面12から噴出する。このようにして加工テーブル10の保持面12の全面に液状樹脂23をいきわたらせる。
液状樹脂23として、加熱後や紫外線照射後に硬化が進行しないタイプのもの、例えばラジカル重合性の熱硬化樹脂や紫外線硬化樹脂を使用すれば、加熱中又は紫外線照射中のみ液状樹脂23が硬化し、その後は硬化が進行しないため、樹脂供給孔13内に残る液状樹脂が硬化するのを抑制することができる。一方、液状樹脂23として、カチオン重合性を有するものを使用した場合は、硬化時の収縮性が小さいため、ウエーハWに対して密着しやすい。また、紫外線硬化・熱硬化併用樹脂で構成された液状樹脂を用いてもよい。
(2)搬入工程
次に、搬入手段30は、図3に示すように、研削前のウエーハWを加工テーブル10の保持面12上に供給された液状樹脂23上に搬入する。具体的には、搬入手段30は、図1に示した仮置き領域7に仮置きされたウエーハWを吸引パッド31で吸引保持するとともに、アーム部33が上昇し旋回することにより、加工テーブル10の上方に吸引パッド31を移動させる。続いて軸部34が吸引パッド31を保持面12に接近する方向に下降させ、ウエーハWを表面Wa側から液状樹脂23上にウエーハWを載置する。
(3)保持工程
次いで、液状樹脂23を硬化させてウエーハWを保持する。ここで、液状樹脂23が熱硬化樹脂で構成されている場合には、ヒータにより構成される樹脂硬化手段24によって液状樹脂23を加熱して硬化させる。具体的には、搬入手段30によってウエーハWを液状樹脂23上に搬入した後、吸引パッド31の内部にある樹脂硬化手段24を発熱させることにより、ウエーハWを通じて熱を液状樹脂23に伝導させて加熱を行う。このようにして液状樹脂23の全体を加熱することにより、図4に示す硬化した硬化樹脂23aを形成し、保持面12において硬化樹脂23aでウエーハWを保持する。
なお、液状樹脂23が紫外線硬化樹脂で構成されている場合には、図5に示すように、ウエーハWの外周側の上方に配設されたUVランプで構成される樹脂硬化手段25を用いて液状樹脂23を硬化させてもよい。この場合は、樹脂硬化手段25が液状樹脂の露出した外周側に向けて紫外線を照射することにより、液状樹脂の側面から硬化させていき硬化樹脂23aを形成する。また、液状樹脂23として、紫外線硬化型及び熱硬化型の機能を併有する樹脂で構成されたものを使用すれば、液状樹脂23の露出した外周部分に紫外線を照射し、液状樹脂の中央部は加熱することにより、液状樹脂の全体を硬化させることもできる。
(4)加工工程
保持工程を実施した後、図6に示すように、加工テーブル10を加工手段50の下方に移動させ、加工手段50によってウエーハWの裏面Wbに対して研削加工を行う。具体的には、図示しない回転手段によって加工テーブル10を回転させつつ、加工手段50は、研削ホイール55を例えば矢印A方向に回転させながら、研削ホイール55を保持面12に保持されているウエーハWに接近する方向に下降させる。続いて研削砥石56によってウエーハWの裏面Wbを押圧しながら所望の厚みに薄化されるまで研削する。なお、ウエーハWの研削中は、保持面12と硬化樹脂23aとが接着され、硬化樹脂23aによってウエーハWが保持されているため、加工テーブル10に吸引力を作用させなくてもよい。
(5)搬出工程
加工工程を実施した後、図7に示すように、研削後のウエーハWを保持した加工テーブル10を搬出手段40の可動範囲に移動させ、搬出手段40によって、硬化樹脂23aとともに、ウエーハWを、加工テーブル10から搬出する。具体的には、搬出手段40は、軸部44によって吸引パッド41を保持面12に接近する方向に下降させ、吸引部42がウエーハWの裏面Wbに接触したら、図示しない吸引源が作動することにより、吸引部42でウエーハWの裏面Wbを吸引する。
このとき、例えばエアー供給手段70を用いて高圧エアーを保持面12から噴出させることにより、硬化樹脂23aを保持面12から剥がしやすくしてもよい。また、加工テーブル10の樹脂供給孔13内に液状樹脂が残存していることがあるため、エアー供給手段70を用いて高圧エアーを保持面12から噴出させることにより、樹脂供給孔13内の硬化した液状樹脂を排出することもできる。エアー供給手段70は、加工テーブル10の下方に接続されており、エアーの流量を調節するバルブ71と、エアーの供給源となる高圧エアー供給源72とにより構成されている。
また、吸引部42がウエーハWの裏面Wbを吸引した状態で、エアー供給手段70からのエアーの噴出を行うことなく加工テーブル10を回転させることにより、硬化樹脂23aを保持面12から剥がしてもよいし、加工テーブル10を回転させながらエアー供給手段70によって高圧エアーを保持面12から噴出させることにより、硬化した液状樹脂23aを保持面12から剥がしてもよい。さらには、超音波振動を用いたり、スクレパーを用いたりして硬化樹脂23aを保持面12から剥がしやすくしてもよい。
搬出手段40は、図8に示すように、軸部44を上昇させることにより吸引パッド41を上昇させ、硬化樹脂23aを保持面12から剥がして、硬化樹脂23aとともにウエーハWを搬出する。その後、搬出手段40は、図1に示した洗浄手段8にウエーハWを搬送する。洗浄手段8においてウエーハWを洗浄したら、搬出入手段6によって洗浄後のウエーハWをカセット5bに収容する。
このように、本発明にかかる加工装置1では、ウエーハWの表面Waを保護する液状樹脂を加工テーブル10の保持面12に対して直接供給する液状樹脂供給手段20と、保持面12に供給された液状樹脂23にウエーハWを搬入する搬入手段30と、保持面12に供給された液状樹脂23を硬化させる樹脂硬化手段24,25と、硬化した硬化樹脂23aとともにウエーハWを保持面12から搬出する搬出手段40とを備えたため、ウエーハWの表面Waが凹凸面になっている場合であっても、凹凸面にならって液状樹脂23が入り込んでウエーハWの表面Waに密着し、保持面12において硬化した硬化樹脂23aでウエーハWを保持することができる。よって、加工工程とは別に加工前に樹脂を被覆する工程が不要であり、生産性が向上するとともに、樹脂を被覆するための専用の装置も不要となる。
加工装置1に適用される加工テーブルは、加工テーブル10に限定されるものではない。図9(a)に示す加工テーブル10aは、ウエーハWを保持する加工テーブルの第2例であり、多孔質部材で形成された保持部15を有し、この保持部15の上面がウエーハWの一方の面を保持する保持面16となっている。加工テーブル10aでは、多孔質の保持部15を通じて保持面16に液状樹脂を供給可能となっている。
また、図9(b)に示す加工テーブル10bは、ウエーハWを保持する加工テーブルの第3例であり、少なくとも1つの樹脂供給孔19が内部に形成された保持部17を有し、この保持部17の上面がウエーハWの一方の面を保持する保持面18となっている。加工テーブル10bでは、樹脂供給孔19を通じて保持面18に液状樹脂を供給可能となっている。
なお、上記実施形態で説明した加工装置1は、ウエーハを研削する研削装置であるが、加工装置はこれに限定されるものではなく、例えば、研磨装置、ダイシングブレードを備えるダイシング装置、バイト工具を備えるバイト切削装置などであってもよい。
また、加工装置1において加工されるウエーハは、デバイスが形成されたデバイスウエーハに限定されるものではなく、インゴットからスライスされた直後のウエーハ(アズスライスウエーハ)であってもよい。
樹脂硬化手段24を加工テーブル10の内部に配設することも可能であるが、その場合は、加工テーブル10が加熱されることで、樹脂供給孔13の内部に残留した液状樹脂が硬化するおそれがあるため、図3及び図4に示したように、搬入手段30に樹脂硬化手段24を配設することが好ましい。
1:加工装置 2:装置ベース 3:コラム
4a,4b:ステージ 5a,5b:カセット 6:搬出入手段
7:仮置き領域 8:洗浄手段
10:加工テーブル 11:保持部 12:保持面 13:樹脂供給孔 14:供給路
20:液状樹脂供給手段 21:バルブ 22:樹脂供給源
23:液状樹脂 23a:硬化樹脂 24:樹脂硬化手段 25:樹脂硬化手段
30:搬入手段 31:吸引パッド 32:吸引部 33:アーム部 34:軸部
40:搬出手段 41:吸引パッド 42:吸引部 43:アーム部 44:軸部
50:加工手段 51:スピンドルハウジング 52:ホルダ
53:モータ 54:マウンタ 55:研削ホイール 56:研削砥石
60:加工送り手段 61:ボールネジ 62:モータ 63:ガイドレール
64:昇降板
70:エアー供給手段 71:バルブ 72:高圧エアー
10a:加工テーブル 15:保持部 16:保持面
10b:加工テーブル 17:保持部 18:保持面 19:樹脂供給孔

Claims (2)

  1. ウエーハを保持する保持面を有する加工テーブルと、該加工テーブルに保持されるウエーハを加工する加工手段と、を備える加工装置において、
    該保持面に熱硬化性の液状樹脂を供給する液状樹脂供給手段と、
    該保持面に供給された該液状樹脂の上にウエーハを搬入する搬入手段と、
    該保持面に供給された該液状樹脂を硬化させ該保持面にウエーハを保持させる樹脂硬化手段と、
    該樹脂硬化手段によって硬化した該液状樹脂を該保持面から剥がして該液状樹脂とともにウエーハを搬出する搬出手段と、を備え
    該搬入手段に該樹脂硬化手段を含め、該樹脂硬化手段は、該保持面に供給された熱硬化性の液状樹脂の上に搬入されたウエーハを介して該液状樹脂を硬化させる
    加工装置。
  2. 請求項1記載の加工装置を用いてウエーハを加工するウエーハの加工方法であって、
    前記液状樹脂供給手段を用いて前記加工テーブルの前記保持面に前記液状樹脂を供給する樹脂供給工程と、
    該保持面に供給された該液状樹脂を、前記搬入手段に備えた前記樹脂硬化手段によって硬化させ該保持面において硬化した該液状樹脂でウエーハを保持する保持工程と、
    該保持面で保持されたウエーハを前記加工手段によって加工する加工工程と、
    該加工工程の後、硬化した該液状樹脂を該保持面から剥離し前記搬出手段によって該液状樹脂とともにウエーハを該加工テーブルから搬出する搬出工程と、を備えるウエーハの加工方法。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3504457A (en) * 1966-07-05 1970-04-07 Geoscience Instr Corp Polishing apparatus
JPS62252945A (ja) * 1986-04-25 1987-11-04 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 被加工材の仮止め着脱方法
JPH0864662A (ja) * 1994-08-24 1996-03-08 Nomura Micro Sci Co Ltd ウエハの固定方法
JP2013110202A (ja) * 2011-11-18 2013-06-06 Disco Abrasive Syst Ltd ワーク貼り合わせ方法

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