JP6393514B2 - 変位抑制装置 - Google Patents
変位抑制装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6393514B2 JP6393514B2 JP2014093813A JP2014093813A JP6393514B2 JP 6393514 B2 JP6393514 B2 JP 6393514B2 JP 2014093813 A JP2014093813 A JP 2014093813A JP 2014093813 A JP2014093813 A JP 2014093813A JP 6393514 B2 JP6393514 B2 JP 6393514B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- type piezoelectric
- displacement
- piezoelectric ceramic
- film type
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Vibration Prevention Devices (AREA)
Description
制振対象物の振動を抑制する技術には、例えば特許文献1がある。
しかし、特許文献1の技術では、圧電素子が貼り付けられた制振対象物の変形を抑制出来ても、制振対象物自体の変位を抑制することはできない。
この結果、振動吸収手段に支持された載置台に、直動外乱が加えられても、上下方向の変位を抑制することができる。このとき、載置台の変位が大きくなる前に、変位しようとする動きを抑制できる。更に、押圧手段は、受け部材と当接されており、当接されたまま伸張するので、押圧手段が受け部材を位置決めする際に、受け部材との接触や、接触後の分離動作を必要とせず、押圧手段の位置決め動作に伴う新たな変位の発生を抑制できる。
一方、電圧が印加されたときには、膜型圧電セラミックスは、アーチ形状のまま伸張して受け部材を固定部材の方向へ押圧することができる。
また、膜型圧電セラミックスを、アーチ形状に曲げることで、板厚が薄いにも関わらず、芯材を必要とせず自立して伸縮機能を発揮させることができる。この結果、別途芯材が不要となり、芯材を伸縮させる必要がない分、効率よく載置台を制御することができる。
図1〜図7を用いて、第1実施形態に係る変位抑制装置10について説明する。
図1の正面図に示すように、変位抑制装置10は、アクティブ除振台50の架台16に設けられ、架台16は、精密機器類が載せられるステージ(載置台)12を支持している。
なお、空気ばね32の周囲には、補助支柱42が鉛直方向へ設けられ、アクティブ除振台50が稼働していないときには、ステージ12を、脚部44に固く固定している。
なお、変位抑制装置10の数量は、アクティブ除振台50の構成により最適数量が決定されるものであり、本実施の形態の数量(8個)に限定されるものではない。
変位制御部28は、ステージ12の下面に固定された固定板14と、固定板14の中央部14Cの上面に固定された上側凹状台座54U、及び、固定板14の下面に固定された下側凹状台座54Dを備えている。
また、下側凹状台座54Dの受け面55Dには、下側膜型圧電セラミックス(押圧手段)20Uが、受け面55Dの全長に渡り当接されている。下側膜型圧電セラミックス20Uは、電圧を印加されて伸張し、受け面55Dを上方へ押圧する。
固定台18は、変位制御部28を形成し、固定台18の中央部18Cは、鋼製の平板で形成され水平に配置されている。中央部18Cの両端部には脚部18Eが設けられ、脚部18Eの下端は、横部材46の上面に設けられた、取付台19の上面に固定されている。
また、取付台19の上面には、取付台17が固定され、取付台17には、下側膜型圧電セラミックス20Uを固定する、一対の三角台24Dが取付けられている。
コントローラ36は、センサ26からの信号に基づいて、上側膜型圧電セラミックス20Uと、下側膜型圧電セラミックス20Dに所定の電圧を印加し、予め定めた制御手順に従って、凹状台座54U、54Dを押圧し、位置決めする構成とされている。
下側膜型圧電セラミックス20Dは、アーチ形状に曲げられたアーチ部を上に向けて取付けられ、受け部材である凹状台座54Dの受け面55Dと当接されている。また、下側膜型圧電セラミックス20Dの両端部は、一対の三角台座24Dの斜辺にそれぞれ固定されている。
センサ26は、ステージ12の降下が所定量に達したとき、変位の検出結果をコントローラ36へ出力する。
図6は、ステージ12の上面を作業機器が、例えば距離0.8m離れた場所まで移動して、移動先で定められた作業を行い、作業後、元の位置まで戻る場合における、移動時間とステージ位置の関係を示している。
このため、図7に示す各工程を実行して、空気ばね32で柔らかくステージ12を支持する状態と、下側膜型圧電セラミックス20Dと上側膜型圧電セラミックス20Uでステージ12の変位を抑制する状態をスムーズに切り替えている。
一方、ステージ12が上方へ変位したときは、上側膜型圧電セラミックス20Uは、印加電圧に従って伸張され、凹状台座54Uの受け面55Uを、下方へ押し下げる。これにより、ステージ12を下方へ移動させることができる。
例えば、上方向への変位が検出されたとき、上側膜型圧電セラミックス20Uを制御して、凹状台座54Uの受け面55Uを、下方へ押し下げる。続いて、下側膜型圧電セラミックス20Dにも電圧を印加して、両者で固定板14Cを、変位の生じない所定位置で挟む方法でもよい。
これにより、片側から押圧することによるオーバーシュートを生じさせることなく、短時間で変位を抑制することができる。
これにより、凹状台座54U、54Dの配置の自由度が高くなる。
図7(A)を用いて、本発明の第2実施形態に係る変位抑制装置62について説明する。変位抑制装置62の変位制御部64には、下側受け面57Dの曲率が、下側膜型圧電セラミックス20Dの曲率より小さくされた、下側凹状台座56Dが設けられている点において、第1実施形態と相違する。相違点を中心に説明する。
これにより、下側膜型圧電セラミックス20Dのアーチ形状に沿った曲率の曲線部を有し、曲線部の全長に渡り、下側膜型圧電セラミックス20Dと当接させた、第1実施形態の受け面55Dの場合より、ステージ12を柔らかく支持することができる。
他の構成は、第1実施形態と同じであり説明は省略する。
図7(B)を用いて、本発明の第3実施形態に係る変位抑制装置74について説明する。変位抑制装置74の変位制御部76には、アーチ形状の曲率が異なる下側膜型圧電セラミックス60Dが設けられている点において、第1実施形態と相違する。相違点を中心に説明する。
これにより、下側膜型圧電セラミックス20Dのアーチ形状に沿った曲率の曲線部を有し、曲線部の全長に渡り、下側受け面55Dと当接させた下側膜型圧電セラミックス20Dの場合より、ステージ12を柔らかく支持することができる。
なお、この場合には、一対の三角台座24Dの内側間の距離L2は、図7(A)に示した三角台座24Dの内側間の距離L1より、小さく(距離L2<距離L1)する必要がある。
また、本実施形態において、下側凹状台座54Dに替えて、第3実施形態で説明した、下側凹状台座56Dを採用してもよい。
他の構成は、第1実施形態と同じであり説明は省略する。
12 ステージ(載置台)
14 固定板(受け部材)
16 架台
20 膜型圧電セラミックス(押圧手段)
20U 上側膜型圧電セラミックス(押圧手段)
20D、60D 下側膜型圧電セラミックス(押圧手段)
26 センサ(センシング手段)
28 変位制御部
32 空気ばね(振動吸収手段)
36 コントローラ(制御手段)
54U 上側凹状台座(受け部材)
54D、56D 下側凹状台座(受け部材)
55 受け面
55U 上側受け面
55D、57D 下側受け面
Claims (2)
- 振動吸収手段に支持された載置台の下面に取付けられ、上下に受け面が形成された受け部材と、
前記受け面と当接しており、電圧を印加されて伸張し前記受け部材を押圧する押圧手段と、
前記載置台の変位を検出し、信号を出力するセンシング手段と、
前記信号に基づいて、前記押圧手段に前記電圧を印加して前記受け部材を位置決めする制御手段と、
を有し、
前記押圧手段は、アーチ形状に曲げられて両端部が固定された膜型圧電セラミックスであり、
前記受け面は、前記アーチ形状に沿った曲面、又は前記アーチ形状より曲率が小さい曲面に形成されている変位抑制装置。 - 前記制御手段は、前記載置台の変位方向と反対方向へ、前記押圧手段を伸張させる請求項1に記載の変位抑制装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014093813A JP6393514B2 (ja) | 2014-04-30 | 2014-04-30 | 変位抑制装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014093813A JP6393514B2 (ja) | 2014-04-30 | 2014-04-30 | 変位抑制装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015209959A JP2015209959A (ja) | 2015-11-24 |
JP6393514B2 true JP6393514B2 (ja) | 2018-09-19 |
Family
ID=54612301
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014093813A Expired - Fee Related JP6393514B2 (ja) | 2014-04-30 | 2014-04-30 | 変位抑制装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6393514B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5199133B2 (ja) * | 2009-01-14 | 2013-05-15 | 株式会社竹中工務店 | 載置台の支持装置 |
JP5820621B2 (ja) * | 2010-06-09 | 2015-11-24 | 株式会社竹中工務店 | 載置台の振動抑制装置及び載置台の振動抑制方法 |
JP5859242B2 (ja) * | 2011-08-05 | 2016-02-10 | 株式会社竹中工務店 | 除振システム |
JP5995575B2 (ja) * | 2012-07-20 | 2016-09-21 | 株式会社竹中工務店 | 振動抑制装置 |
-
2014
- 2014-04-30 JP JP2014093813A patent/JP6393514B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015209959A (ja) | 2015-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI683720B (zh) | 上下免震裝置 | |
WO2012053202A1 (ja) | タッチパネル装置 | |
JP6862167B2 (ja) | 垂直方向に有効な空気ばねを備えた防振装置 | |
JP5820621B2 (ja) | 載置台の振動抑制装置及び載置台の振動抑制方法 | |
WO2014090115A1 (zh) | 一种用于微动台重力补偿的负刚度系统 | |
JP2011066211A (ja) | 物体吊下げ装置 | |
JP5199133B2 (ja) | 載置台の支持装置 | |
JP2013117396A (ja) | 加速度センサ | |
JP5995575B2 (ja) | 振動抑制装置 | |
JP6393514B2 (ja) | 変位抑制装置 | |
JP5961057B2 (ja) | 免震構造、免震床構造およびそれを備えたクリーンルーム | |
JP6627663B2 (ja) | 物理量センサ | |
JP4554559B2 (ja) | ステージ装置 | |
JP2017215029A (ja) | 制振装置 | |
JPH03263810A (ja) | 半導体露光装置の振動制御方法 | |
JP2016219695A (ja) | リワーク用の基板保持構造およびその基板保持構造を備えるリワーク装置 | |
JP2018091077A (ja) | 制振壁 | |
JP2013253642A (ja) | 振動制御装置 | |
JP2013029137A (ja) | 制振装置 | |
JP2009162707A (ja) | 除振台評価装置 | |
JP2008190617A (ja) | アクティブ制振装置 | |
JP2008202371A (ja) | 建物の能動型制振装置 | |
JP2010185260A (ja) | 制振建物、建物の制振方法 | |
JP2019007791A (ja) | 振動型角速度センサ | |
JP4185485B2 (ja) | 振動制御装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170328 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180227 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180420 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180821 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180827 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6393514 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees | ||
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |