JP6387012B2 - 反応性メソゲン - Google Patents

Description

発明の分野
本発明は、ターフェニル基を含む反応性メソゲン（ＲＭ）、それらを含む混合物および配合物、かかるＲＭおよびＲＭ混合物から得られるポリマー、当該ＲＭ、ＲＭ混合物およびポリマーの、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のための光学的位相差フィルムなどの光学的、電気光学的な部品またはデバイスへの使用に関する。

背景および従来技術
反応性メソゲン（ＲＭ）、それらを含む混合物または配合物、およびそれらから得られるポリマーは、補償、位相差または偏光フィルム、またはレンズなどの光学的部品を作るのに用いることができる。これらの光学的部品は、ＬＣディスプレイなどの光学的または電子光学的デバイスに用いることができる。通常は、ＲＭまたはＲＭ混合物は、in-situ重合化のプロセスを経て重合化される。

高い複屈折を有するＲＭフィルム製品の製造は、ＬＣＤなどの近代的なディスプレイデバイスの光学的部品の製造のために、高度に重要である。ＲＭを重合性のおよび良い物理学的特質を維持したまま、その複屈折を増大させることは可能であるが、例えばトラン基などの特定の化学基を化合物に導入する必要がある。これらのトラン基は比較的反応性であり、一般的には光への暴露に不適であり、黄変または他の分解の効果により、多くの光学的アプリケーションにおけるそれらの利用を困難にしている。

したがって本発明の目的は、従来技術において知られた材料の欠点を有しない、改善されたＲＭおよびＲＭ配合物を提供することにある。特に、in situ光重合化によりポリマーを調製するのに好適であり、高い複屈折を有し、紫外線への暴露後の黄変に対する高い抵抗性を有するＲＭおよびＲＭ配合物を提供することを目的とする。本発明の他の目的は、以下の記載から当業者にはすぐに明らかである。

本発明の発明者らは、これらの目的が、本明細書に開示されおよびクレームされるようなＲＭおよびＲＭ配合物を提供することにより達成することができることを見出した。

本発明の概要
本発明は式Ｉの化合物に関する。
式中、
Ｐは、重合性基であり、
Ｓｐは、スペーサー基または単結合であり、
Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３は、互いに独立して、Ｐ−Ｓｐ−、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、−ＮＯ_２、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^００Ｒ^０００、−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^００、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^０、−ＮＲ^００Ｒ^０００、−ＯＨ、−ＳＦ_５、任意に置換されたシリル、１〜１２個、好ましくは１〜６個のＣ原子を有するアリールまたはヘテロアリール、および１〜１２個、好ましくは１〜６個のＣ原子を有する直鎖または分枝状アルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシであって、ここで１または２以上のＨ原子が任意にＦまたはＣｌで置き換えられている、であり、
ｒ１、ｒ２、ｒ３は、互いに独立して、０、１、２、３または４であり、
Ｒ^００、Ｒ^０００は、互いに独立して、Ｈまたは１〜１２個のＣ原子を有するアルキルを表し、
Ｙは、ＣＮ、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＦ_３、ＯＣＨ_３またはＣＦ_３である。

本発明はさらに、本明細書において「ＲＭ混合物」という、２種または３種以上のＲＭを含み、その少なくとも１種が式Ｉの化合物である混合物に関する。
本発明はさらに、本明細書において「ＲＭ配合物」という、１種または２種以上の式Ｉの化合物または本明細書に記載されるとおりのＲＭ混合物を含み、さらに１種または２種以上の溶媒および／または添加剤を含む配合物に関する。

本発明はさらに、式Ｉの化合物または本明細書に記載されるとおりのＲＭ混合物を重合化することにより得ることができる、好ましくはＲＭが整列しており、好ましくはＲＭまたはＲＭ混合物が液晶相を呈する温度であるポリマーに関する。
本発明はさらに、式Ｉの化合物、本明細書に記載されるとおりのＲＭ混合物またはポリマーの、光学的、電気光学的または電子的な部品またはデバイスへの使用に関する。

本発明はさらに、本明細書に記載されるとおりのＲＭ、ＲＭ混合物またはポリマーを含む、光学的、電気光学的または電子的デバイスまたはその部品に関する。
前記部品は、限定することなく、光学的位相差フィルム、偏光子、補償子、ビームスプリッタ、反射フィルム、配向層、カラーフィルタ、帯電防止性保護シート、電磁気干渉保護シート、例えばオートステレオスコピック３Ｄディスプレイのための偏光制御されたレンズ、および例えば窓適用品（window applications）のためのＩＲ反射性フィルムを含む。

前記デバイスは、限定することなく、電気光学的ディスプレイ、特にＬＣディスプレイ、オートステレオスコピック３Ｄディスプレイ、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、光学データストレージデバイスおよび窓を含む。

図１は、無水ＤＣＭ中の、従来技術によるＲＭと本発明によるＲＭの比較ΔＥ（ｌａｂ）データを示す。

用語の定義
本明細書で用いられる場合、「ＲＭ混合物」という語は、２種または３種以上のＲＭを含み、任意にさらなる材料を含む混合物を意味する。
本明細書で用いられる場合、「ＲＭ配合物」という語は、少なくとも１種のＲＭまたはＲＭ混合物、およびＲＭ配合物および／またはその中の前記少なくとも１種のＲＭの特定の特性を提供または改変するための、前記少なくとも１種のＲＭまたはＲＭ混合物に添加された１種または２種以上の他の材料を意味する。ＲＭ配合物はまた、ＲＭを基材に送達し、その上に層または構造の形成を可能にするためのビヒクルでもあると理解される。代表的な材料は、これに限定するものではないが、溶媒、重合開始剤、界面活性剤および接着促進剤を含む。

本明細書で用いられる場合、「反応性メソゲン」（ＲＭ）という語は重合可能なメソゲン性または液晶化合物、好ましくは単量体化合物、を意味する。
本明細書で用いられる場合、「液晶」、「メソゲン」および「メソゲン性化合物」という語は、適切な温度、圧力および濃度条件下において、中間相として、好ましくはＬＣ相として存在することができる化合物を意味する。

本明細書で用いられる場合、「メソゲン性基」という語は、液晶（ＬＣ）相挙動を誘導する能力を有する基を意味する。メソゲン性基、特にそれらのうち両親媒性タイプではないものは、通常カラミティックまたはディスコティックである。メソゲン性基を含む化合物は、それ自身が必ずしもＬＣ相を呈さなければならないわけではない。それらが、他の化合物と共に混合物中で、またはメソゲン性化合物またはその混合物が重合化された場合にのみ、ＬＣ相挙動を示すことも可能である。簡潔化のため、本明細書中で「液晶」という語はメソゲン性およびＬＣ材料の両方のために用いられる。

本明細書で用いられる場合、「カラミティック」という語は、棒状または板／ラス状の化合物または基を意味する。本明細書において用いられる場合、「バナナ状」という語は、二つの、通常はカラミティックな、メソゲン性基が半硬質の基を通じて、共線状にならないように連結した、曲がった基を意味する。
本明細書で用いられる場合、「ディスコティック」という語は、ディスク状またはシート状の化合物または基を意味する。

カラミティックなメソゲン性化合物は、通常、任意に棒の短端側に取り付けられた末端基を含み、任意に棒の長端側に取り付けられた１または２以上の側面基を含む、互いに直接または連結基を介して結びついた１または２以上の芳香族または脂環式基からなり、ここでこれらの末端および側面基は通常例えばカルビルまたはヒドロカルビル基、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシなどの極性基、または重合性基などから選択される、カラミティックな、すなわち棒状またはラス状の、メソゲン性基を含む。

ディスコティックなメソゲン性化合物は、通常、例えば１または２以上の縮合された芳香族または脂環式基、例えばトリフェニレン、からなり、任意にメソゲン性基に取り付けられた１または２以上の末端基を含み、これは上記の末端基および側面基から選択される、ディスコティックな、すなわち比較的平坦なディスクまたはシート状の、メソゲン性基を含む。

液晶およびメソゲンに関連する用語および定義の概要については、Pure Appl. Chem. 73(5), 888 (2001)およびC. Tschierske, G. Pelzl and S. Diele, Angew. Chem. 2004, 116, 6340-6368を参照のこと。
１つの重合性基を含む重合化可能な化合物は、「単反応性（monoreactive）」化合物とも言われ、２つの重合性基を含む重合化可能な化合物は、「二反応性（direactive）」化合物とも言われ、２より多くの重合性基を含む化合物は、「多反応性（multireactive）」化合物とも言われる。重合性基を有しない化合物はまた、「非反応性」化合物と言われる。

本明細書で用いられる場合、「スペーサー」または「スペーサー基」、以下において「Ｓｐ」ともいう、という語は、当業者に知られており、文献に記載されている。例えばPure Appl. Chem. 73(5), 888 (2001)およびC. Tschierske, G. Pelzl, S. Diele, Angew. Chem. 2004, 116, 6340-6368を参照のこと。別段の記載のない限り、本明細書における「スペーサー」または「スペーサー基」という語は、重合性のメソゲン化合物（「ＲＭ」）において、メソゲン性基と重合性基とを連結する柔軟な有機基を表す。

本明細書で用いられる場合、「フィルム」という語は、硬質なまたは柔軟な、自己支持型または独立型の機械的安定性を有するフィルム、ならびに支持基板上のまたは二つの基板の間の、コーティングまたは層を含む。「薄いフィルム」はナノメートルまたはマイクロメートルの範囲の、好ましくは少なくとも１０ｎｍ、とても好ましくは少なくとも１００ｎｍ、および好ましくは１００μｍを超えない、とても好ましくは１０マイクロメートルを超えない厚みを有するフィルムを意味する。

「ヒドロカルビル基」という語は、少なくとも１つの炭素原子および任意に１または２以上のＨ原子、および任意に１または２以上のヘテロ原子、例えばＮ、Ｏ、Ｓ、Ｐ、Ｓｉ、Ｓｅ、Ａｓ、ＴｅまたはＧｅを含む任意の一価または多価の有機ラジカル部分を意味する。３つまたは４つ以上のＣ原子の鎖を含むヒドロカルビル基は、直鎖状、分枝状および／またはスピロおよび／または縮合環を含む環状であってもよい。。

詳細な説明
式Ｉの好ましい化合物は、式Ｉ１
式中、Ｐ、Ｙ、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３、ｒ１、ｒ２およびｒ３は式Ｉで定義されたとおりであり、Ｘが、Ｏ、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−または単結合を表し、ｘが０〜１２の整数、好ましくは１〜８の整数、とても好ましくは３、４、５、または６である、
から選択されるものである。

とても好ましくは、式Ｉの化合物であって、Ｐがビニルオキシ基、アクリレート基、メタクリレート基、フルオロアクリレート基、クロロアクリレート基、オキセタン基およびエポキシド基、からなる群から選択され、とても好ましくはアクリレート基、メタクリレート基またはオキセタン基であるものである。

さらに好ましくは、式ＩまたはＩ１の化合物であって、式中：
−ＹがＣＮである、
−ｒ１＝ｒ３＝０およびｒ２＝１である、
−ｒ１＝ｒ３＝０およびｒ２＝２である、
−ｒ１＝０、ｒ２＝１または２およびｒ３＝１または２である、
−Ｌ^１、Ｌ^２およびＬ^３が互いに独立してＦまたはＣＨ_３、好ましくはＦである、
−Ｘが−Ｏ−または単結合である、
−Ｘが−Ｃ≡Ｃ−である、
または上記の任意の組み合わせのものである。

好ましい式Ｉ１の化合物は、以下の式から選択されるものである：
式中、Ｐ、ｘ、Ｌ^２、Ｌ^３およびＹは式Ｉで定義されたとおりであり、式Ｉｄにおいて、２つの基Ｌ^２のうちの１つおよび２つの基Ｌ^３のうちの１つはＨを表すこともできる。

特に好ましくは、式Ｉ１ａ〜ｄの化合物であって、ＹがＣＮであるものであり、さらにＬ^２およびＬ^３がＦまたはＣＨ_３、最も好ましくはＦを表すものである。
式Ｉおよびその部分式（subformulae）の化合物の合成は、以下または実施例において示す図解反応と類似の反応で実施することができる。さらなる本発明の化合物の調製もまた、文献により当業者にそれ自身知られた他の方法により実施することができる。特に、他の触媒を用いることができる。

例えば、式Ｉの化合物は、スキーム１および２に図解された方法に従って、または類似した方法で合成することができ、ここでｏは１〜１２の整数、好ましくは３、４、５、６である。

本発明の別の目的は、２種または３種以上のＲＭであって、少なくとも１つは式Ｉの化合物である、を含むＲＭ混合物である。
好ましくは、ＲＭ混合物は、少なくとも１種が式Ｉの化合物である、１種または２種以上の１つだけの重合性反応基を有するＲＭ（単反応性ＲＭ）、および１種または２種以上の２つまたはそれ以上の重合性反応基を有するＲＭ（二または多反応性ＲＭ）を含む。

二または多反応性ＲＭは、好ましくは式ＩＩから選択される：
Ｐ^１−Ｓｐ^１−ＭＧ−Ｓｐ^２−Ｐ^２ ＩＩ
式中、Ｐ^１およびＰ^２は、互いに独立して重合性基を表し、Ｓｐ^１およびＳｐ^２は、互いに独立して、スペーサー基または単結合であり、ＭＧは、好ましくは式ＩＶから選択される、棒状のメソゲン性基である：
−（Ａ^１−Ｚ^１）_ｎ−Ａ^２− ＩＶ

式中、
Ａ^１およびＡ^２は、複数存在する場合には互いに独立して、芳香族または脂環式基を表し、ここで、Ｎ、ＯおよびＳから選択される１または２以上のヘテロ原子を任意に含み、Ｌにより任意に一置換または多置換されており、
Ｌは、Ｐ−Ｓｐ−、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、−ＮＯ_２、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^００Ｒ^０００、−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ^０、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^００、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^０、−ＮＲ^００Ｒ^０００、−ＯＨ、−ＳＦ_５、任意に置換されたシリル、１〜１２個、好ましくは１〜６個のＣ原子を有するアリールまたはヘテロアリール、および１〜１２個、好ましくは１〜６個のＣ原子を有する直鎖または分枝状アルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシであって、ここで１または２以上のＨ原子が任意にＦまたはＣｌで置き換えられており、
Ｒ^００およびＲ^０００は、互いに独立して、Ｈまたは１〜１２のＣ原子を有するアルキルを表し、
Ｘ^０は、ハロゲン、好ましくはＦまたはＣｌであり

Ｚ^１は、複数存在する場合には互いに独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^００−、−ＮＲ^００−ＣＯ−、−ＮＲ^００−ＣＯ−ＮＲ^０００、−ＮＲ^００−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ^００−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_ｎ１、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲ^００−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合、好ましくは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または単結合であり、
Ｙ^１およびＹ^２は、互いに独立して、Ｈ、Ｆ、ＣｌまたはＣＮを表し、
ｎは、１、２、３または４、好ましくは１または２、最も好ましくは２であり、
ｎ１は１〜１０の整数、好ましくは１、２、３または４である。

好ましい基Ａ^１およびＡ^２は、限定することなく、フラン、ピロール、チオフェン、オキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、フェニレン、シクロヘキシレン、ビシクロオクチレン、シクロヘキセニレン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、アズレン、インダン、フルオレン、ナフタレン、テトラヒドロナフタレン、アントラセン、フェナントレンおよびジチエノチオフェンを含み、これらの全ては非置換であるか、または１つ、２つ、３つまたは４つの上で定義した基Ｌにより置換されている。

特に好ましい基Ａ^１およびＡ^２は、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロ−ナフタレン−２，６−ジイル、インダン−２，５−ジイル、１つまたは２つの隣接していないＣＨ_２基が任意にＯおよび／またはＳにより置き換えられているビシクロオクチレンまたは１，４−シクロヘキシレンから選択され、これらの基は非置換であるか、または１つ、２つ、３つまたは４つの上で定義した基Ｌにより置換されている。

好ましい式ＩＩのＲＭは、式ＩＩａから選択される：
式中、
Ｐ^０は、複数存在する場合には互いに独立して、重合性基、好ましくはアクリル基、メタクリル基、オキセタン基、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、プロペニルエーテル基またはスチレン基であり、

Ｚ^０は、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−または単結合であり、
Ｌは、各存在ごとに同一にまたは異なって、式ＩにおけるＬ^１について定められた意味を有し、好ましくは、複数存在する場合には互いに独立して、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮまたは任意にハロゲン化された１〜５のＣ原子を有するアルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシから選択され、

ｒは、０、１、２、３または４であり、
ｘおよびｙは、互いに独立して、０または同一または異なって１〜１２までの整数であり、
ｚは、０または１であり、隣接するｘまたはｙが０の場合はｚは０である。

とても好ましい式ＩＩのＲＭは、以下の式から選択される：
式中、Ｐ^０、Ｌ、ｒ、ｘ、ｙおよびｚは式ＩＩａにおいて定義したとおりである。

特に好ましくは、式ＩＩａ１、ＩＩａ２およびＩＩａ３の化合物であり、とりわけ式ＩＩａ１のものである。
二または多反応性ＲＭ、好ましくは式ＩＩおよびその部分式のもの、のＲＭ混合物における濃度は、好ましくは３０％〜９９．９％であり、とても好ましくは５０〜８０％である。
別の好ましい態様において、ＲＭ混合物は、式Ｉの化合物に加えて、１つまたは２つ以上の単反応性ＲＭを含む。これらの追加の単反応性ＲＭは、好ましくは式ＩＩＩから選択される：
Ｐ^１−Ｓｐ^１−ＭＧ−Ｒ ＩＩＩ

式中、Ｐ^１、Ｓｐ^１およびＭＧは、式ＩＩにおいて定められた意味を有し、
ＲはＰ−Ｓｐ−、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、−ＮＯ_２、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^００Ｒ^０００、−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^０、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^００、−ＮＲ^００Ｒ^０００、−ＯＨ、−ＳＦ_５、任意に置換されたシリル、１〜１２個、好ましくは１〜６個のＣ原子を有する直鎖または分枝状アルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシであって、ここで１または２以上のＨ原子が任意にＦまたはＣｌで置き換えられている、を表し

Ｘは、ハロゲン、好ましくはＦまたはＣｌであり、
Ｒ^００およびＲ^０００は、互いに独立して、Ｈまたは１〜１２個のＣ原子を有するアルキルである。

好ましい式ＩＩＩのＲＭは、以下の式から選択される：

式中、Ｐ^０、Ｌ、ｒ、ｘ、ｙおよびｚは、式ＩＩａにおいて定義したとおりであり、

Ｒ^０は、任意にフルオロ化された、１個または２個以上、好ましくは１〜１５個のＣ原子を有するアルキル、アルコキシ、チオアルキル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシであるか、またはＹ^０またはＰ−（ＣＨ_２）_ｙ−（Ｏ）_ｚ−を表し、

Ｘ^０は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^０１−、−ＮＲ^０１−ＣＯ−、−ＮＲ^０１−ＣＯ−ＮＲ^０１−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲ^０１−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合であり、

Ｙ^０は、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ_２、ＯＣＨ_３、ＯＣＮ、ＳＣＮ、ＳＦ_５、任意にフルオロ化された、１〜４個のＣ原子を有するアルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、またはアルコキシカルボニルオキシ、またはモノ−、オリゴ−またはポリフルオロ化された１〜４個のＣ原子を有するアルキルまたはアルコキシであり、

Ａ^０は、複数存在する場合には互いに独立して、非置換または１、２、３または４個の基Ｌで置換された１，４−フェニレンまたはトランス−１，４−シクロヘキシレンであり、
Ｒ^{０１、０２}は、互いに独立して、Ｈ、Ｒ^０またはＹ^０であり、
ｕおよびｖは、互いに独立して、０、１または２であり、
ｗは、０または１であり、
および式中、ベンゼン環またはナフタレン環は、１個または２個以上の同一または異なった基Ｌによりさらに置換され得る。

特に好ましくは、式ＩＩＩ１、ＩＩＩ２、ＩＩＩ３、ＩＩＩ４、ＩＩＩ５、ＩＩＩ６、ＩＩＩ７、ＩＩＩ８、ＩＩＩ９およびＩＩＩ１０の化合物であり、とりわけ式ＩＩＩ１、ＩＩＩ４、ＩＩＩ６、ＩＩＩ７およびＩＩＩ８のものである。
ＲＭ混合物中の、全ての単反応性ＲＭ、式Ｉのものを含む、の濃度は、好ましくは１〜９０％であり、とても好ましくは１０〜７０％である。

ＲＭ混合物は、好ましくはネマティックＬＣ相、またはスメクティックＬＣ相およびネマティックＬＣ相、とても好ましくはネマティックＬＣ相を室温で呈する。
式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩおよびその好ましい部分式において、ＬおよびＬ^１〜３は、好ましくはＦ、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ_２または１〜１２個のＣ原子を有する直鎖または分枝状アルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシであって、ここでアルキル基は任意にパーフルオロ化されている、またはＰ−Ｓｐ−から選択される。

とても好ましいＬおよびＬ^１〜３は、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ_２、ＣＨ_３、Ｃ_２Ｈ_５、Ｃ（ＣＨ_３）_３、ＣＨ（ＣＨ_３）_２、ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）Ｃ_２Ｈ_５、ＯＣＨ_３、ＯＣ_２Ｈ_５、ＣＯＣＨ_３、ＣＯＣ_２Ｈ_５、ＣＯＯＣＨ_３、ＣＯＯＣ_２Ｈ_５、ＣＦ_３、ＯＣＦ_３、ＯＣＨＦ_２、ＯＣ_２Ｆ_５またはＰ−Ｓｐ−から選択され、とくにＦ、Ｃｌ、ＣＮ、ＣＨ_３、Ｃ_２Ｈ_５、Ｃ（ＣＨ_３）_３、ＣＨ（ＣＨ_３）_２、ＯＣＨ_３、ＣＯＣＨ_３またはＯＣＦ_３、最も好ましくはＦ、Ｃｌ、ＣＨ_３、Ｃ（ＣＨ_３）_３、ＯＣＨ_３またはＣＯＣＨ_３、またはＰ−Ｓｐ−である。

式の置換されたベンゼン環
は、好ましくは、Ｌがそれぞれ独立して上で定義された意味の１つを有する
である。

式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩおよびその好ましい部分式において、アルキルまたはアルコキシラジカル、すなわち末端ＣＨ_２基が−Ｏ−で置き換えられているもの、は直鎖または分枝状であり得る。好ましくは、２、３、４、５、６、７または８個の炭素原子を有する直鎖であり、したがって好ましくは、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、へキシル、ヘプチル、オクチル、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ、またはオクトキシであり、さらに例えばメチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ノノキシ、デコキシ、ウンデコキシ、ドデコキシ、トリデコキシ、またはテトラデコキシである。

オキサアルキル、すなわち１つのＣＨ_２基が−Ｏ−で置き換えられているもの、は好ましくは、例えば直鎖２−オキサプロピル（＝メトキシメチル）、２−オキサブチル（＝エトキシメチル）または３−オキサブチル（＝２−メトキシエチル）、２−、３−または４−オキサペンチル、２−、３−、４−または５−オキサヘキシル、２−、３−、４−、５−または６−オキサヘプチル、２−、３−、４−、５−、６−または７−オキサオクチル、２−、３−、４−、５−、６−、７−または８−オキサノニル、または２−、３−、４−、５−、６−、７−、８−または９−オキサデシルである。

１つまたは２つ以上のＣＨ_２基が−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられたアルキル基は、直鎖または分枝状であり得る。好ましくは、２〜１０個のＣ原子を有する直鎖であり、したがって好ましくは、ビニル、プロポ−１−またはプロポ−２−エニル、ブト−１−、２−またはブト−３−エニル、ペント−１−、２−、３−またはペント−４−エニル、ヘキサ−１−、２−、３−、４−またはヘキサ−５−エニル、ヘプタ−１−、２−、３−、４−、５−またはヘプタ−６−エニル、オクタ−１−、２−、３−、４−、５−、６−またはオクタ−７−エニル、ノナ−１−、２−、３−、４−、５−、６−、７−またはノナ−８−エニル、デカ−１−、２−、３−、４−、５−、６−、７−、８−またはデカ−９−エニルである。

特に好ましいアルケニル基は、Ｃ_２〜Ｃ_７−１Ｅ−アルケニル、Ｃ_４〜Ｃ_７−３Ｅ−アルケニル、Ｃ_５〜Ｃ_７−４−アルケニル、Ｃ_６〜Ｃ_７−５−アルケニル、およびＣ_７−６−アルケニルであり、とくにＣ_２〜Ｃ_７−１Ｅ−アルケニル、Ｃ_４〜Ｃ_７−３Ｅ−アルケニルおよびＣ_５〜Ｃ_７−４−アルケニルである。とくに好ましいアルケニル基の例は、ビニル、１Ｅ−プロペニル、１Ｅ−ブテニル、１Ｅ−ペンテニル、１Ｅ−ヘキセニル、１Ｅ−ヘプテニル、３−ブテニル、３Ｅ−ペンテニル、３Ｅ−ヘキセニル、３Ｅ−ヘプテニル、４−ペンテニル、４Ｚ−ヘキセニル、４Ｅ−ヘキセニル、４Ｚ−ヘプテニル、５−ヘキセニル、６−ヘプテニルなどである。５個までのＣ原子を有する基が一般的には好ましい。

１つのＣＨ_２基が−Ｏ−で置き換えられ、１つが−ＣＯ−で置き換えられたアルキル基において、これらのラジカルは好ましくは隣接している。したがって、これらのラジカルは一緒になってカルボニルオキシ基−ＣＯ−Ｏ−またはオキシカルボニル基−Ｏ−ＣＯ−を形成する。好ましくは、この基は直鎖であり、２〜６個のＣ原子を有する。したがって好ましくはアセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アセチルオキシメチル、プロピロニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、ペンタノイルオキシメチル、２−アセチルオキシエチル、２−プロピオニルオキシエチル、２−ブチリルオキシエチル、３−アセチルオキシプロピル、３−プロピオニルオキシプロピル、４−アセチルオキシブチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、プロポキシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルメチル、２−（メトキシカルボニル）エチル、２−（エトキシカルボニル）エチル、２−（プロポキシカルボニル）エチル、３−（メトキシカルボニル）プロピル、３−（エトキシカルボニル）プロピル、４−（メトキシカルボニル）ブチルである。

２つまたは３つ以上のＣＨ_２基が−Ｏ−および／または−ＣＯＯ−で置き換えられたアルキル基は、直鎖でも分枝状でもあり得る。好ましくは直鎖であり、３〜１２個のＣ原子を有する。したがって、好ましくは、ビス−カルボキシメチル、２，２−ビス−カルボキシエチル、３，３−ビス−カルボキシプロピル、４，４−ビス−カルボキシブチル、５，５−ビス−カルボキシペンチル、６，６−ビス−カルボキシヘキシル、７，７−ビス−カルボキシヘプチル、８，８−ビス−カルボキシオクチル、９，９−ビス−カルボキシノニル、１０，１０−ビス−カルボキシデシル、ビス−（メトキシカルボニル）メチル、２，２−ビス−（メトキシカルボニル）エチル、３，３−ビス−（メトキシカルボニル）プロピル、４，４−ビス−（メトキシカルボニル）ブチル、５，５−ビス−（メトキシカルボニル）ペンチル、６，６−ビス−（メトキシカルボニル）ヘキシル、７，７−ビス−（メトキシカルボニル）ヘプチル、８，８−ビス−（メトキシカルボニル）オクチル、ビス−（エトキシカルボニル）メチル、２，２−ビス−（エトキシカルボニル）エチル、３，３−ビス−（エトキシカルボニル）プロピル、４，４−ビス−（エトキシカルボニル）ブチル、５，５−ビス−（エトキシカルボニル）ヘキシルである。

ＣＮまたはＣＦ_３により一置換されているアルキルまたはアルケニル基は、好ましくは直鎖である。ＣＮまたはＣＦ_３による置換は、任意の所望の位置であり得る。
ハロゲンにより少なくとも一置換されているアルキルまたはアルケニル基は、好ましくは直鎖である。ハロゲンは好ましくはＦまたはＣｌであり、複数の置換の場合は、好ましくはＦである。得られる基には、パーフルオロ化された基も含まれる。一置換の場合、ＦまたはＣｌ置換基は任意の所望の位置であり得るが、好ましくはω位にある。とくに好ましい末端Ｆ置換を有する直鎖基の例は、フルオロメチル、２−フルオロエチル、３−フルオロプロピル、４−フルオロブチル、５−フルオロペンチル、６−フルオロヘキシルおよび７−フルオロヘプチルである。しかしながら、他の位置のＦは除外されない。

Ｒ^００およびＲ^０００は、好ましくはＨ、１〜１２個のＣ原子を有する直鎖または分枝状アルキルから選択される。
−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−は、好ましくは−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）−である。
ハロゲンは、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり、好ましくはＦまたはＣｌである。

Ｒ、Ｒ^０、Ｒ^１およびＲ^２はアキラル基またはキラル基であり得る。とくに好ましいキラル基は、例えば２−ブチル（＝１−メチルプロピル）、２−メチルブチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−エチルヘキシル、２−プロピルペンチル、とくに２−メチルブチル、２−メチルブトキシ、２−メチルペントキシ、３−メチルペントキシ、２−エチルヘキソキシ、１−メチルヘキソキシ、２−オクチルオキシ、２−オキサ−３−メチルブチル、３−オキサ−４−メチルペンチル、４−メチルヘキシル、２−ヘキシル、２−オクチル、２−ノニル、２−デシル、２−ドデシル、６−メトキシオクトキシ、６−メチルオクトキシ、６−メチルオクタノイルオキシ、５−メチルヘプチルオキシカルボニル、２−メチルブチリルオキシ、３−メチルバレロイルオキシ、４−メチルヘキサノイルオキシ、２−クロロプロピオニルオキシ、２−クロロ−３−メチルブチリルオキシ、２−クロロ−４−メチルバレリルオキシ、２−クロロ−３−メチルバレリルオキシ、２−メチル−３−オキサペンチル、２−メチル−３−オキサヘキシル、１−メトキシプロピル−２−オキシ、１−エトキシプロピル−２−オキシ、１−プロポキシプロピル−２−オキシ、１−ブトキシプロピル−２−オキシ、２−フルオロオクチルオキシ、２−フルオロデシルオキシ、１，１，１−トリフルオロ−２−オクチルオキシ、１，１，１−トリフルオロ−２−オクチル、２−フルオロメチルオクチルオキシである。とても好ましいのは、２−ヘキシル、２−オクチル、２−オクチルオキシ、１，１，１−トリフルオロ−２−ヘキシル、１，１，１−トリフルオロ−２−オクチルおよび１，１，１−トリフルオロ−２−オクチルオキシである。

好ましいアキラルな分枝状の基は、イソプロピル、イソブチル（＝メチルプロピル）、イソペンチル（＝３−メチルブチル）、イソプロポキシ、２−メチル−プロポキシおよび３−メチルブトキシである。
式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩおよびその好ましい部分式において、重合性基Ｐ、Ｐ^１、Ｐ^２およびＰ^０は、ラジカルまたはイオン鎖重合化、重付加または重縮合などの重合化反応に参加することができる基、または例えば縮合または付加により、ポリマー類似反応においてポリマー骨格にグラフトされ得る基を表す。とくに好ましくは、ラジカル、カチオン性またはアニオン性重合化などの連鎖重合化反応のための重合性基である。とても好ましくは、Ｃ−Ｃ二重結合または三重結合を含む重合性基、およびオキセタンまたはエポキシドなどの開環反応による重合化が可能な重合性基である。

好適なおよび好ましい重合性基Ｐ、Ｐ^１、Ｐ^２およびＰ^０は、限定することなく、ＣＨ_２＝ＣＷ^１−ＣＯＯ−、ＣＨ_２＝ＣＷ^１−ＣＯ−、
ＣＨ_２＝ＣＷ^２−（Ｏ）_ｋ１−、ＣＨ_３−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ）_２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２）_２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ）_２ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２）_２Ｎ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２）_２Ｎ−ＣＯ−、ＨＯ−ＣＷ^２Ｗ^３−、ＨＳ−ＣＷ^２Ｗ^３−、ＨＷ^２Ｎ−、ＨＯ−ＣＷ^２Ｗ^３−ＮＨ−、ＣＨ_２＝ＣＷ^１−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＯＯ）_ｋ１−Ｐｈｅ−（Ｏ）_ｋ２−、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＯ）_ｋ１−Ｐｈｅ−（Ｏ）_ｋ２−、Ｐｈｅ−ＣＨ＝ＣＨ−、ＨＯＯＣ−、ＯＣＮ−、およびＷ^４Ｗ^５Ｗ^６Ｓｉ−を含み、Ｗ^１は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ，ＣＮ、ＣＦ_３、フェニル、または１〜５個のＣ原子を有するアルキル、とくにＨ、ＣｌまたはＣＨ_３であり、Ｗ^２およびＷ^３は、互いに独立して、Ｈまたは１〜５個のＣ原子を有するアルキル、とくにＨ、メチル、エチルまたはｎ−プロピルであり、Ｗ^４、Ｗ^５およびＷ^６は、互いに独立して、Ｃｌ、１〜５個のＣ原子を有するオキサアルキルまたはオキサカルボニルアルキルであり、Ｗ^７およびＷ^８は、互いに独立して、Ｈ、Ｃｌまたは１〜５個のＣ原子を有するアルキルであり、Ｐｈｅは、好ましくは１または２以上の上で定義された基Ｌ（Ｐ−Ｓｐ−の意味を除く）により、任意に置換された１，４−フェニレンであり、ｋ_１およびｋ_２は、互いに独立して、０または１である。

とても好ましい重合性基Ｐ、Ｐ^１、Ｐ^２およびＰ^０は、ＣＨ_２＝ＣＷ^１−ＣＯＯ−、ＣＨ_２＝ＣＷ^１−ＣＯ−、
（ＣＨ_２＝ＣＨ）_２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２）_２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ）_２ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２）_２Ｎ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２）_２Ｎ−ＣＯ−、ＨＯ−ＣＷ^２Ｗ^３−、ＨＳ−ＣＷ^２Ｗ^３−、ＨＷ^２Ｎ−、ＨＯ−ＣＷ^２Ｗ^３−ＮＨ−、ＣＨ_２＝ＣＷ^１−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＯＯ）_ｋ１−Ｐｈｅ−（Ｏ）_ｋ２−、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＯ）_ｋ１−Ｐｈｅ−（Ｏ）_ｋ２−、Ｐｈｅ−ＣＨ＝ＣＨ−、ＨＯＯＣ−、ＯＣＮ−、およびＷ^４Ｗ^５Ｗ^６Ｓｉ−から選択され、Ｗ^１は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ，ＣＮ、ＣＦ_３、フェニル、または１〜５個のＣ原子を有するアルキル、とくにＨ、Ｆ、ＣｌまたはＣＨ_３であり、Ｗ^２およびＷ^３は、互いに独立して、Ｈまたは１〜５個のＣ原子を有するアルキル、とくにＨ、メチル、エチルまたはｎ−プロピルであり、Ｗ^４、Ｗ^５およびＷ^６は、互いに独立して、Ｃｌ、１〜５個のＣ原子を有するオキサアルキルまたはオキサカルボニルアルキルであり、Ｗ^７およびＷ^８は、互いに独立して、Ｈ、Ｃｌまたは１〜５個のＣ原子を有するアルキルであり、Ｐｈｅは、好ましくは１または２以上の上で定義された基Ｌ（Ｐ−Ｓｐ−の意味を除く）により任意に置換された１，４−フェニレンであり、ｋ_１およびｋ_２は、互いに独立して、０または１である。

最も好ましい重合性基Ｐ、Ｐ^１、Ｐ^２およびＰ^０は、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−、ＣＨ_２＝ＣＦ−ＣＯＯ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ）_２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ）_２ＣＨ−Ｏ−、
から選択される。

さらに好ましいＰ、Ｐ^１、Ｐ^２およびＰ^０は、ビニルオキシ基、アクリレート基、メタクリレート基、フルオロアクリレート基、クロロアクリレート基、オキセタン基およびエポキシド基から選択され、とくに好ましくはアクリレート基、メタクリレート基またはオキセタン基を表す。
重合化は、当業者に知られた方法および例えばD. J. Broer; G. Challa; G. N. Mol, Macromol. Chem, 1991, 192, 59などの文献に記載された方法に従って実施することができる。

式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩおよびその好ましい部分式において、スペーサー基Ｓｐ、Ｓｐ^１およびＳｐ^２は、好ましくは、例えばＰ−Ｓｐ−がＰ−Ｓｐ’＝Ｘ’−となるように、式Ｓｐ’−Ｘ’が選択され、ここで
Ｓｐ’は、１〜２０個のＣ原子、好ましくは１〜１２個のＣ原子を有し、任意にＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＩまたはＣＮにより一置換または多置換されているアルキレンであり、ここで１または２以上の隣接していないＣＨ_２基は、いずれの場合も互いに独立して、Ｏおよび／またはＳ原子が互いに直接連結しないようなやりかたで、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^０−、−ＳｉＲ^０Ｒ^００−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＮＲ^０−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−により任意に置き換えられており、

Ｘ’は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＮＲ^０−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲ^０−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合であり、

Ｒ^０およびＲ^００は、互いに独立して、Ｈまたは１〜１２個のＣ原子を有するアルキルであり、
Ｙ^１およびＹ^２は、互いに独立して、Ｈ、Ｆ、ＣｌまたはＣＮである。
Ｘ’は、好ましくは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＮＲ^０−ＣＯ−ＮＲ^０−または単結合である。

典型的な基Ｓｐ’は、例えば、ｐ１が２〜１２の整数であり、ｑ１が１〜３の整数であり、Ｒ^０およびＲ^００が上で定めた意味を有する、−（ＣＨ_２）_ｐ１−、−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｑ１−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓ−ＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＮＨ−ＣＨ_２ＣＨ_２−または−（ＳｉＲ^０Ｒ^００−Ｏ）_ｐ１−である。
好ましい基Ｓｐ’は、例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン、オクタデシレン、エチレンオキシエチレン、メチレンオキシ−ブチレン、エチレン−チオエチレン、エチレン−Ｎ−メチル−イミノエチレン、１−メチルアルキレン、エテニレン、プロペニレン、およびブテニレンである。

さらに好ましいのは、重合性基が、スペーサー基Ｓｐなしに、メソゲン性基に直接付加されている化合物である。
複数の基Ｐ−Ｓｐ−、Ｐ^１−Ｓｐ^１−などを有する化合物の場合、複数の重合性基Ｐ、Ｐ^１および複数のスペーサー基Ｓｐ、Ｓｐ^１は同一または互いに異なり得る。

別の好ましい態様において、反応性化合物は、２または３以上の重合性基ＰまたはＰ−Ｓｐ−（多官能性重合性基）によって置換された、１または２以上の末端基Ｒ^{０，１，２}または置換基ＬまたはＬ^１〜３を含む。好適なこのタイプの多官能性重合性基は、例えばUS 7,060,200 B1またはUS 2006/0172090 A1に開示されている。とても好ましいのは、以下の式から選択される１または２以上の多官能性重合性基を含む化合物である：

式中、
ａｌｋｙｌは、非置換であるか、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＩまたはＣＮにより一置換または多置換されている、１〜１２個のＣ原子を有する直鎖または分枝状アルキレンであり、１または２以上の隣接していないＣＨ_２基は、いずれの場合も互いに独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^０−、−ＳｉＲ^０Ｒ^００−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＮＲ^０−ＣＯ−ＮＲ^００−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−または−Ｃ≡Ｃ−により、Ｏおよび／またはＳ原子が互いに直接連結しないようなやり方で任意に置き換えられており、Ｒ^０およびＲ^００は上で定めた意味を有するかまたは単結合を表し、

ａａおよびｂｂは、互いに独立して、０、１、２、３、４、５または６であり、
Ｘ’は、上で定義したとおりであり、
Ｐ^１〜５は、互いに独立して、Ｐについて上で定めた意味の１つを有する。
本発明の別の目的は、１つまたは２つ以上の式Ｉの化合物または本明細書に記載されるようなＲＭ混合物を含みおよびさらに１つまたは２つ以上の溶媒および／または添加剤を含む、ＲＭ配合物である。

好ましい態様において、ＲＭ配合物は、重合開始剤、界面活性剤、安定化剤、触媒、増感剤、阻害剤、連鎖移動剤、共反応モノマー（co-reacting monomer）、界面活性化合物、平滑剤、湿潤剤、分散剤、疎水性化剤、接着剤、流動性向上剤、脱ガスまたは脱泡剤、脱気剤、希釈剤、反応性希釈剤、助剤、着色剤、染料、顔料およびナノ粒子からなる群から選択される１または２以上の添加剤を含む。

別の好ましい態様において、ＲＭ配合物は、単反応性重合性非メソゲン性化合物から選択される１または２以上の添加剤を含む。ＲＭ配合物におけるこれらの添加剤の量は、好ましくは０〜３０％、とても好ましくは０〜１５％である。かかる添加剤の典型的な例は、アルキルアクリレートおよびアルキルメタクリレートである。

別の好ましい態様において、ＲＭ配合物は、二または多反応性重合性メソゲン性化合物に代えてまたは加えて、二または多反応性重合性非メソゲン性化合物から選択される１または２以上の添加剤を含む。ＲＭ配合物におけるこれらの添加剤の量は、好ましくは０〜３０％、とても好ましくは０〜１５％である。二反応性非メソゲン性化合物の典型的な例は、１〜２０個のＣ原子のアルキル基を有するアルキルジアクリレートまたはアルキルジメタクリレートである。多反応性非メソゲン性化合物の典型的な例は、トリメチルプロパントリメタクリレートまたはペンタエリスリトールテトラアクリレートである。

別の好ましい態様において、ＲＭ配合物は、高分子結合剤またはその前駆体および／または１または２以上の分散助剤から選択される１または２以上の添加剤を含む。好適な結合剤及び分散助剤は、例えばＷＯ９６／０２５９７に開示されている。しかしながら好ましくは、ＲＭ配合物は結合剤または分散助剤を含まない。

別の好ましい態様において、ＲＭ配合物は、好ましくは有機溶媒から選択される、１または２以上の溶媒を含む。溶媒は、好ましくは、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトンまたはシクロヘキサノンなどのケトン；メチル、エチルまたはブチルアセテートまたはメチルアセトアセテートなどのアセテート；メタノール、エタノールまたはイソプロピルアルコールなどのアルコール；トルエンまたはキシレンなどの芳香族溶媒；シクロペンタンまたはシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素；ジ−またはトリクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素；ＰＧＭＥＡ（プロピルグリコールモノメチルエーテルアセテート）、γ−ブチロールアセトンなどのグリコールまたはそのエステルから選択される。
上記溶媒の二成分、三成分またはより高次の混合物もまた用いることができる。

ＲＭ配合物が１または２以上の溶媒を含む場合、ＲＭを含む全ての固体の溶媒中における総濃度は、好ましくは１０〜６０％である。
ＲＭの重合化は、好ましくは、化学線放射の波長を吸収する開始剤の存在下で実施される。この目的のために、好ましくは、ＲＭ配合物は１または２以上の重合開始剤を含む。

例えば、ＵＶ光によって重合化する場合、ＵＶ曝露下において分解して重合化反応を開始するフリーラジカルまたはイオンを産生する光開始剤を用いることができる。アクリレート基またはメタクリレート基の重合化のため、好ましくはラジカル光開始剤が用いられる。ビニル基、エポキシド基またはオキセタン基の重合化のため、好ましくはカチオン性光開始剤が用いられる。加熱された場合に分解して重合化を開始するフリーラジカルまたはイオンを産生する熱重合開始剤を用いることもできる。典型的なラジカル光開始剤は、例えば、商業的に入手可能なIrgacure（登録商標）またはDarocure（登録商標）（Ciba AG）、例えばIragacure 651、Iragacure 907またはIragacure 369である。典型的なカチオン性光開始剤は、例えばUVI 6974（Union Carbide）である。

ＲＭ配合物における重合開始剤の濃度は好ましくは０．０１〜５％、とても好ましくは０．１〜３％である。
本発明の別の好ましい態様において、ＲＭ配合物は１または２以上の界面活性剤を含む。界面活性剤は、ポリマーフィルムを調製した場合ＬＣ分子のプレーナ表面配向を促進するように選択される。好適な界面活性剤は、例えばJ. Cognard, Mol.Cryst.Liq.Cryst. 78, Supplement 1, 1-77 (1981)に記載されている。

特に好ましいのは、非イオン性界面活性剤であり、好ましくは、例えばFluorad（登録商標）FC-171（3M Co.より）またはZonyl FSN
（DuPontより）またはFluorad（登録商標）FX-13またはFX-14（3M Co.より）などの、重合性または非重合性のフルオロカーボン界面活性剤である。
RM配合物における界面活性剤の濃度は、好ましくは０．１〜５％であり、とても好ましくは０．１〜１％である。

好ましくは、ＲＭ配合物は、以下を含む：
− １〜５０％の式Ｉの化合物
− １〜６０％の二または多反応性ＲＭ
− ０〜８０％の単反応性ＲＭ
− ０〜５％の１つまたは２つ以上の重合開始剤
− ０〜５％の１つまたは２つ以上の界面活性剤。

本発明に従ったポリマーの調製は当業者に知られた方法および例えばD. J. Broer; G. Challa; G. N. Mol, Macromol. Chem, 1991, 192, 59などの文献に記載されている方法により実施することができる。
典型的には、ＲＭ、ＲＭ混合物またはＲＭ配合物は、ＲＭが一定の向きに配向されるように、例えばコーティングまたは印刷方法により、基板上に被覆されるかまたは別の方法で適用される。好ましくは、ＲＭはプレーナ配向、すなわちＲＭ分子の分子長軸が基板に対して平行に配列されるように配列される。

配列されたＲＭはその後、好ましくはそれらがＬＣ相を呈する温度で、例えば熱または化学線放射への暴露により、in situで重合化される。好ましくは、ＲＭが光重合化により、とても好ましくはＵＶ光重合化により重合化され、一定の配向を固定化される。必要な場合、ＲＭのせん断（shearing）または焼鈍し（annealing）、基板の表面処理、またはＲＭ混合物またはＲＭ配合物への界面活性剤の添加などの付加的な方法により、一定の配向を促進することができる

基板として、例えばガラスまたは石英シートまたはプラスティックフィルムを用いることができる。重合化の前におよび／または最中におよび／または後に被覆された材料の上に第二の基板を載せることもできる。基板は重合化後に除去してもしなくてもよい。化学線放射によりキュアリングする場合において２つの基板を用いる場合、少なくとも１つの基板が重合化に用いる化学線放射に対して透過性でなければならない。等方性または複屈折性の基板を用いることができる。重合化の後で重合化フィルムから基板が除去されない場合において、好ましくは等方性の基板が用いられる。

好適なおよび好ましいプラスティック基板は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）またはポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）またはトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などのポリエステルのフィルムであり、とても好ましくはＰＥＴまたはＴＡＣフィルムである。複屈折性の基板としては、例えば、一軸延伸プラスティックフィルムを用いることができる。ＰＥＴフィルムは、例えばDuPont Teijin FilmsからMelinex（登録商標）の商品名で、商業的に入手可能である。

好ましくは、ＲＭおよび他の固体添加物は、溶媒に溶けている。その後溶液を、例えばスピンコーティングまたは印刷または他の知られた技術により基板上に被覆または印刷し、重合化前に溶媒を蒸発させる。多くの場合、溶媒の蒸発を促進するために、被覆された溶液を加熱するのが好適である。
ＲＭ配合物は、スピンコーティングまたはブレードコーティングなどの従来のコーティング技術により基板上に適用することができる。また、例えばスクリーン印刷、オフセット印刷、リールトゥリール印刷、活版印刷、グラビア印刷、輪転式グラビア印刷、フレキソ印刷、凹版印刷、パッド印刷、ヒートシール印刷、インクジェット印刷、またはスタンプまたは印刷版による印刷などの、当業者に知られた従来の印刷技術により、基板に適用することができる。

ＲＭ配合物は好ましくは、プラナー配向を呈する。これは例えば、基板のラビング処理により、コーティング中またはコーティング後に材料をせん断することにより、重合化の前に材料を焼鈍しすることにより、配列層の適用により、コーティング材料に磁場または電場を適用することにより、または界面活性化合物を配合物に添加することにより達成することができる。配列技術の概説は、例えばI. Sageによる"Thermotropic Liquid Crystals", G. W. Gray編, John Wiley & Sons, 1987, 75-77頁；およびT. UchidaおよびH. Sekiによる"Liquid Crystals - Applications and Uses Vol. 3", B. Bahadur編, World Scientific Publishing, Singapore 1992, 1-63頁などがある。配列材料および技術の概説は、J. CognardによるMol. Cryst. Liq. Cryst. 78, Supplement 1 (1981), 1-77頁がある。

基板の上に配列層を適用し、ＲＭ混合物またはＲＭ配合物をこの配列層の上に提供することも可能である。好適な配列層は当該技術分野において知られており、例えばラビング処理したポリイミドまたはUS 5,602,661、US 5,389,698またはUS 6,717,644に記載されるような光配向により調製された配列層などである。
重合化の前に、その透明温度よりも低いが上昇させた温度でＲＭを焼鈍しすることにより、配列を誘導または改善することもまた可能である。

例えば重合性材料を熱または化学線放射に暴露することにより、重合化が達成される。化学線放射は、ＵＶ光、ＩＲ光または可視光などの光の照射、Ｘ線またはガンマ線の照射あるいはイオンまたは電子などの高エネルギー粒子の照射を意味する。好ましくは、重合化はＵＶ照射により実施される。化学線放射の給源として、例えば単一のＵＶランプまたは一式のＵＶランプを用いることができる。高いランプ出力を用いる場合、キュアリング時間を減じることができる。化学線放射の別の可能な給源は例えばＵＶ、ＩＲまたは可視レーザーなどのレーザーである。

キュアリング時間は、とりわけ、ＲＭの反応性、被覆された層の厚み、重合開始剤のタイプ、およびＵＶランプの出力に依存する。キュアリング時間は、好ましくは≦５分であり、とても好ましくは≦３分であり、最も好ましくは≦１分である。大量生産のためには、短いキュアリング時間の≦３０秒が好ましい。
重合化プロセスは１つのキュアリングステップに限定されない。重合化は、２つまたは３つ以上のステップにより実施することができ、フィルムは２つまたは３つ以上の同一タイプのランプ、または２つまたは３つ以上の異なるタイプのランプに連続的に曝露される。異なるキュアリングステップにおけるキュアリング温度は、同じであっても異なっていてもよい。異なるランプからのランプ出力および線量（dose）もまた、同一であっても異なっていてもよい。上記条件に加えて、プロセスステップはまた、例えば特開２００５−３４５９８２号公報および特開２００５−２６５８９６号公報に記載されるように、異なるランプへの暴露の間に加熱ステップを含んでもよい。

好ましくは、重合化は大気中で実施されるが、重合化を窒素またはアルゴンなどの不活性ガス雰囲気で行うこともできる。
本発明のポリマーフィルムの厚みは、好ましくは０．２〜１０ミクロンであり、とても好ましくは０．３〜５ミクロンであり、最も好ましくは０．５〜３ミクロンである。
本発明のＲＭ、ＲＭ混合物およびポリマーは、光学的、電気光学的または電子的デバイスまたはその部品に用いることができる。例えば、これらは光学的位相差フィルム、偏光子、補償子、ビームスプリッタ、反射フィルム、配向層、カラーフィルタ、帯電防止性保護シート、または電磁気干渉保護シート、オートステレオスコピック３Ｄディスプレイのための偏光制御されたレンズ、および窓適用品のためのＩＲ反射性フィルムに用いることができる。

本発明のＲＭ、ＲＭ混合物、ポリマーおよびデバイス部品は、例えば電気光学的ディスプレイ、特に液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、オートステレオスコピック３Ｄディスプレイ、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、光学データストレージデバイスおよび窓適用品から選択されるデバイスに用いることができる。
本発明のＲＭ、ＲＭ混合物、ポリマーおよびデバイス部品は、ＬＣＤの切替可能なＬＣセルの外側に、または切替可能なＬＣセルを形成しおよび切替可能なＬＣ媒体を含む（セル内適用）基板、通常はガラス基板、の間に用いることができる。

本発明のＲＭ、ＲＭ混合物、ポリマーおよびデバイス部品は、従来のＬＣディスプレイ、例えばＤＡＰ（配向相の変形）方式、ＥＣＢ（電界制御複屈折）方式、ＣＳＨ（カラースーパーホメオトロピック）方式、ＶＡ（垂直配向）方式、ＶＡＮまたはＶＡＣ（垂直配向ネマティックまたはコレステリック）方式、ＭＶＡ（マルチドメイン垂直配向）方式、ＰＶＡ（パターン化垂直配向）方式またはＰＳＶＡ（ポリマー安定化垂直配向）方式などの垂直配向を有するディスプレイ；ＯＣＢ（光学的に補償されたベンドセルまたは光学的に補償された複屈折）方式、Ｒ−ＯＣＢ（反射性ＯＣＢ）方式、ＨＡＮ（複合配向ネマティック）方式またはパイセル（π−セル）方式などのベンドまたは複合配向を有するディスプレイ；ＴＮ（ねじれネマティック）方式、ＨＴＮ（高度にねじれたネマティック）方式、ＳＴＮ（超ねじれネマティック）方式、ＡＭＤ−ＴＮ（アクティブマトリックス駆動ＴＮ）方式などのねじれ配向を有するディスプレイ；ＩＰＳ（面内切替）方式のディスプレイ、または光学的にアイソトロピックな相における切換を有するディスプレイなどに用いることができる。

本発明のＲＭ、ＲＭ混合物およびポリマーは、ねじれ光学リターダ、反射偏光子および輝度増強フィルムなどの様々なタイプの光学的フィルムに用いることができる。
上述の好ましい態様を含む低減されたシート抵抗を有するポリマーフィルムの厚みは、好ましくは０．２〜５、とても好ましくは０．５〜３ミクロンである。

本明細書において、別途記載のない限り、パーセンテージは重量パーセントである。全ての温度は摂氏温度で表されている。ｍ．ｐ．は融点を表し、ｃｌ．ｐ．は透明点を表し、Ｔ_ｇはガラス転移温度を表す。さらに、Ｃ＝結晶状態、Ｎ＝ネマティック相、Ｓ＝スメクティック相およびＩ＝等方相である。これらの記号の間にあるデータは転移温度を表す。Δｎは、５８９ｎｍおよび２０℃で計測した光学異方性または複屈折（Δｎ＝ｎ_ｅ−ｎ_０、ここでｎ_０は分子長軸に平行な屈折率を表し、ｎ_ｅはそれに垂直な屈折率を表す）を表す。光学的および電気光学的データは、別途明示的記載のない限り、２０℃で計測されている。「透明点」および「透明温度」はＬＣ相から等方相への転移の温度を意味する。

別途記載のない限り、本明細書に記載されたＲＭ混合物またはＲＭ配合物における固体成分のパーセンテージは、混合物または配合物中の固体の総量、すなわち溶媒を除いたものを言う。
別途記載のない限り、複屈折、誘電率、電気伝導率、電気抵抗およびシート抵抗など、全ての光学的、電気光学的特性および物理的パラメータは、温度２０℃のものである。

文脈において明らかな別の示唆がない限り、本明細書で用いる場合、本明細書における語の複数形は単数形を含むと解釈され、逆もまた同じである。
本明細書の詳細な説明および特許請求の範囲を通じて、「含む（comprise）」および「含む（contain）」およびこれらの語の変化形、例えば「含むこと（comprising）」および「含む（comprises）」、は「含むがこれに限定されない（including but not limited to）」を意味し、他の構成を排除することを意味しない（排除しない）。

本発明の範囲に包含される限り、本発明の上述の態様の変化形を作ることができると理解される。別途記載のない限り、本明細書に開示された各特徴は、同一の、等価な、または類似の目的に適う代替的な特徴により置き換えられてもよい。したがって、別途の記載のない限り、開示された各特徴は、包括的な一連の等価なまたは類似の特徴の一例に過ぎない。

本明細書に開示された全ての特徴は、少なくともいくつかのかかる特徴および／またはステップが互いに相容れない組み合わせを除いて、任意の組み合わせで組み合わせてよい。とくに、本発明の好ましい特徴は、本発明の全ての側面に適用可能であり、任意の組み合わせにおいて用いてよい。同様に、必須でない組み合わせにおいて記載された特徴は、単独で（組み合わせずに）用いてよい。

下記の実施例は、本発明を制限することなく説明することを意図するものである。以下に記載の方法、構造および特性は、この発明の請求の範囲に含まれるが本明細書または実施例に明示的に記載されていない物質にも適用または転用することができる。

例１
化合物（ＲＭ１）は以下のとおり調製した。

ステージ１
４−ブロモ−３−フルオロヨードベンゼン（２００ｇ、０．６６５ｍｏｌ）、４−メトキシベンゼンボロン酸（１００．８ｇ、０．６６３ｍｏｌ）、ジオキサン（１．２ｌ）、水（６００ｍｌ）およびリン酸カルシウム（３２０ｇ、１．５１ｍｏｌ）を３０分間超音波処理した。［１，１−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）（６．４ｇ、８．７４ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を４０℃まで加熱し、２．５時間保持した。混合物を冷却し、二層を分離し、有機層からの溶媒を真空中で除去した。残渣を４０〜６０℃ペトロール：ＤＣＭ ４：１の後、４０〜６０℃ペトロール：ＤＣＭ ３：１で溶出するカラムクロマトグラフィで精製した。生成物を含む画分を組み合わせ、真空中で溶媒を除去した。固体を４０〜６０℃ペトロールですりつぶし、所望の製造物（１３１．０５ｇ、収率７０％）を得た。

ステージ２
４−ブロモ−３−フルオロ−４’−メトキシ−ビフェニル（９０ｇ、０．３２０ｍｏｌ）、４−シアノフェニルボロン酸（５１．７５ｇ、０．３５２ｍｏｌ）、ジオキサン（５５０ｍｌ）、水（２７５ｍｌ）およびリン酸カリウム（１１２ｇ、０．５２８ｍｏｌ）を３０分間超音波処理した。［１，１−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）（２．７５ｇ、３．７５ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を１００℃まで加熱し、３時間保持した。混合物を冷却し、二層を分離し、有機層からの溶媒を真空中で除去した。残渣を４０〜６０℃ペトロール：ＤＣＭ ２：１の後、ＤＣＭで溶出するカラムクロマトグラフィで精製した。生成物を含む画分を組み合わせ、溶媒を真空中で除去した。固体をアセトニトリルから結晶化し、所望の製造物（６５．９１ｇ、収率６８％）を得た。

ステージ３
２’−フルオロ−４’’−メトキシ−［１，１’；４’，１’’］ターフェニル−４−カルボニトリル（６０ｇ、０．１９８ｍｏｌ）を乾燥ＤＣＭ（８００ｍｌ）に溶解し、−２５℃に冷却した。三臭化ホウ素（１１６ｇ、０．４６２ｍｏｌ）を−３０℃から−２０℃で３０分以上かけて滴下にて添加した。混合物をさらに１時間、−３０℃から−２０℃で撹拌し、その後室温まで温めた。４時間後、混合物を５℃まで冷却した。水（５００ｍｌ）を１時間以上かけてゆっくり添加し、さらに１時間撹拌した。固体をろ過し、水（１Ｌ）で洗浄し、その後トルエン（２×１００ｍｌ）で共沸し、所望の生成物（５７．２ｇ、収率１００％）を得た。この生成物を、さらなる精製をせずに次のステップに用いた。

ステージ４
２’−フルオロ−４’’−ヒドロキシ−［１，１’；４’，１’’］ターフェニル−４−カルボニトリル（５７．２ｇ、０．１９８ｍｏｌ）、３−ブロモプロパノール（３０．７ｇ、０．２２１ｍｏｌ）、炭酸カリウム（４１ｇ、０．２９７ｍｏｌ）、ヨウ化ナトリウム（３．７ｇ、０．０２５ｍｏｌ）およびブタノン（５７０ｍｌ）を５時間還流した。ＴＬＣ分析では無反応を示した。追加の炭酸カリウム（４１ｇ、０．２９７ｍｏｌ）を添加し、混合物を８０℃で一晩加熱した。ＴＬＣ分析では生成物への約６０％の変換を示した。追加の炭酸カルシウム（４１ｇ、０．２９７ｍｏｌ）を添加し、混合物を６時間還流した。ＴＬＣ分析では変化がないことを示した。追加の３−ブロモプロパノール（１５．９、０．１１４ｍｏｌ）を添加し、混合物を８０℃で一晩加熱した。ＴＬＣ分析では製造物への完全な返還を示した。混合物をアセトン（８００ｍｌ）で希釈し、熱時ろ過し、真空中でろ液からの溶媒を除去した。固体をアセトニトリル（５００ｍｌ）から結晶化し、固体をろ過し、アセトニトリル（約２００ｍｌ）、水（２×２００ｍｌ）、その後アセトニトリル（２×２００ｍｌ）で洗浄し、所望の生成物（５７．３ｇ、収率８３．４％）を得た。

ステージ５
２’−フルオロ−４’’−（３−ヒドロキシ−プロポキシ）−［１，１’；４’，１’’］ターフェニル−４−カルボニトリル（５７．３ｇ、０．１６５ｍｏｌ）、ＤＣＭ（１．５Ｌ）、トリエチルアミン（１２０ｍｌ、０．８６２ｍｏｌ）およびＤＭＡＰ（結晶少し）を１５℃で撹拌した。３−クロロプロピオニルクロリド（１９ｍｌ、１９９ｍｍｏｌ）を１５℃〜２０℃で３０分以上かけて滴下にて添加した。混合物をさらに１時間室温で撹拌し、３５℃で一晩加熱した。追加の３−クロロプロピオニルクロリド（５ｍｌ、５２ｍｍｏｌ）を室温で２時間以上かけて滴下にて添加した。その後混合物を３５℃で一晩加熱した。混合物を冷却した。水（３００ｍｌ）および濃塩酸（１１０ｍｌ）を混合し、反応混合物に添加した。二層を分離し、水相をＤＣＭ（２×５０ｍｌ）で抽出した。有機抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過し、真空中でろ液からの溶媒を除去した。残渣をＤＣＭで溶出する、シリカ（５００ｇ）上の真空フラッシュクロマトグラフィで精製し、黄色固体を得た。この固体を再びＤＣＭで溶出する、シリカ（５００ｇ）上の真空フラッシュクロマトグラフィで精製し、無色の固体を得た。固体をアセトニトリル（６００ｍｌ）から再結晶化し、所望の生成物（５２ｇ、収率７９％）を得た。

例２
化合物（ＲＭ２）を下記のとおり調製した。

ステージ１
４−ブロモ−２−フルオロヨードベンゼン（７２．２ｇ、２４０ｍｍｏｌ）、４−シアノベンゼンボロン酸（３５．２ｇ、２４０ｍｍｏｌ）、ジメトキシエタン（３００ｍｌ）、水（１５０ｍｌ）および炭酸カリウム（５０ｇ、３６２ｍｍｏｌ）を１５分間超音波処理した。［１，１−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）（１．２ｇ、１．７ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を２．５時間８０℃まで、さらに１７時間６０℃で加熱した。混合物を冷却し、水（３６０ｍｌ）を添加し、混合物を濃ＨＣｌ（６０ｍｌ）で慎重に酸性化した。二層を分離し、水相をＭＴＢＥ（１０００ｍｌおよび２×２００ｍｌ）で抽出した。合わせた有機抽出物を、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、ろ液からの溶媒を真空中で除去した。残渣をトルエン／ヘプタン １：１で溶出する真空フラッシュクロマトグラフィで精製した。生成物を含む画分を組み合わせ、溶媒を真空中で除去し、所望の生成物（３５．４ｇ、収率５３％）を得た。

ステージ２
４’−ブロモ−２’−フルオロ−ビフェニル−４−カルボニトリル（２７．６ｇ、１００ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコラト）ジボラン（２５．４ｇ、１００ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（３４ｇ、３６０ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（４５０ｍｇ、２ｍｍｏｌ）、１，１−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（１．１１ｇ、２ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（２５０ｍｌ）を３０分間超音波処理した。混合物を５時間還流し、６０℃で一晩撹拌した。混合物を冷却した。水（５００ｍｌ）を添加した。混合物をＤＣＭ（３００および２×２００ｍｌ）で抽出した。有機層からの溶媒を真空中で除去した。残渣をＤＣＭ （２００ｍｌ）に溶解し、ＤＣＭで溶出するシリカ（２２０ｇ）上の真空フラッシュクロマトグラフィで精製した。溶媒を真空中で除去し、残渣をＩＭＳ （３００ｍｌ）から再結晶化して、所望の製造物（２２．１ｇ、収率６８％）を得た。

ステージ３
２’−フルオロ−４’−（４，４，５，５−テトラメチル−［１，３，２］ジオキサボロラン−２−イル）−ビフェニル−４−カルボニトリル（１１ｇ、３４．１ｍｍｏｌ）、４−ヨードブロモベンゼン（９．７ｇ、３４．３ｍｍｏｌ）、１，４−ジオキサン（７０ｍｌ）、水（３５ｍｌ）およびリン酸カルシウム（２４ｇ、１１３ｍｍｏｌ）を３０分間超音波処理した。１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンジクロロパラジウムＩＩ（０．５ｇ、０．８ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を３０℃で２０分間、３５℃で２０分間、その後４０℃で８０分間加熱した。混合物を冷却した。水（１００ｍｌ）およびＤＣＭ（３００ｍｌ）を添加した。二層を分離し、水層をＤＣＭ（２×１００ｍｌ）で抽出した。有機層からの溶媒を真空中で除去した。残渣をトルエンで溶出するシリカ（６０ｇ）上の真空フラッシュクロマトグラフィで精製した。物質が不純物を含んでいたため、さらにトルエンで溶出するシリカ（１８０ｇ）上の真空フラッシュクロマトグラフィで精製し、所望の製造物（１１．１ｇ、収率９３％）を得た。

４’’−ブロモ−２’−フルオロ−［１，１’；４’，１’’］ターフェニル−４−カルボニトリル（８．６ｇ、２４．４ｍｍｏｌ）、４−ペンチン−１−オール（２．６ｇ、３１．３ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１３０ｍｌ）およびジイソプロピルアミン（１３ｍｌ、９３ｍｍｏｌ）を３０分間超音波処理した。ヨウ化銅Ｉ（１３０ｍｇ、０．６７ｍｍｏｌ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリド（０．２６ｇ、０．３７ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を４．５時間９０℃まで加熱した。混合物を冷却した。ＤＣＭ（３５０ｍｌ）、水（５０ｍｌ）および濃塩酸（１３ｍｌ）を添加した。二層を分離し、水層をＤＣＭ（２×５０ｍｌ）で抽出した。固体をＤＣＭ／ＴＨＦ ９：１に溶解し、ＤＣＭ／ＴＨＦ ９：１で溶出するシリカ（１８０ｇ）上の真空フラッシュクロマトグラフィで精製し、所望の製造物（６．７７ｇ、収率７８％）を得た。

２’−フルオロ−４’’−（６−ヒドロキシ−ヘキサ−１−イニル）−［１，１’；４’，１’’］ターフェニル−４−カルボニトリル（８．１ｇ、２２．８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（４００ｍｌ）、トリエチルアミン（１７ｍｌ、１２２ｍｍｏｌ）およびＤＭＡＰ（結晶少し）を１５℃で撹拌した。３−クロロプロピニルクロリド（２．５ｍｌ、２９ｍｍｏｌ）を、１０分以上かけて１５〜２０℃で滴下にて添加した。混合物をさらに２時間室温で撹拌した。水（８０ｍｌ）および濃塩酸（２０ｍｌ）を添加し、真空中で溶媒を除去した。残渣をＤＣＭ（５００および２×１００ｍｌ）で抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過し、ろ液からの溶媒を真空中で除去した。固体をＤＣＭ（６０ｍｌ） およびトリエチルアミン（４０ｍｌ）に溶解した．混合物を４０℃で２時間撹拌し、室温で一晩置いておいた。水（１００ｍｌ）および濃塩酸（４０ｍｌ）を添加し、二層を分離した。水層をＤＣＭ（２×５０ｍｌ）で抽出した。合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過し、ろ液からの溶媒を真空中で除去した。残渣をアセトニトリル（４０ｍｌ）から結晶化し、所望の生成物（７．５３ｇ、収率８１％）を得た。

例３〜８
例１および２に記載の合成と同様にして、以下の化合物を調製した。

比較例１
化合物（Ｃ０）を下記のとおり調製した。

ステージ１
窒素雰囲気中、２−ブロモ−５−メトキシトルエン（３０ｇ、１４ｍｍｏｌ）、４−シアノフェニルボロン酸（２１．９ｇ、１４ｍｍｏｌ）、メタボロハイドレートナトリウム八水和物（sodium metaborohydrate octahydrate）（６１．７ｇ、２２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（５００ｍｌ）および水（５０ｍｌ）の混合物を、３０分間超音波処理した。そこで（トリフェニルホスフィン）ジクロリドパラジウム（ＩＩ）を添加し混合物を４８時間８５℃まで加熱した。混合物を冷却し、水を添加し、二層を分離し、（低い溶解性のために）ジクロロメタンを用いてさらなる抽出を実施した。有機層からの溶媒を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥させ、真空中で濃縮した。残渣をペトロール４０〜６０℃：ＤＣＭ ４：１〜３：１で溶出するカラムクロマトグラフィで精製した。生成物を含む分画を合わせ、真空中で溶媒を除去した。固体をアセトニトリルから再結晶化し、所望の生成物４’−メトキシ−２’−メチル−ビフェニル−４−カルボニトリル（１７．０ｇ、収率５１％）を得た。

ステージ２
４’−ヒドロキシ−２’−メチル−ビフェニル−４−カルボニトリル（１０ｇ、４４ｍｍｏｌ）、塩化アルミニウム（７．９７ｇ、５９ｍｍｏｌ）および無水トルエン（２６４ｍｌ）を加熱し、窒素雰囲気下で４８時間還流した。完了後、反応混合物を室温まで冷却し、氷中にゆっくりと注いだ。ブタノンを添加し、二層を分離し、水層をさらにブタノンで抽出した。有機層を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥させ、真空中で濃縮した。残渣を、ペトロール４０〜６０℃：ＤＣＭ ２：１〜１：２の比率で溶出するカラムクロマトグラフィで精製した。生成物を含む分画を合わせ、溶媒を真空中で除去した。固体をアセトニトリルで再結晶化し、所望の生成物４’−ヒドロキシ−２’−メチル−ビフェニル−４−カルボニトリル（６．６０ｇ、収率７０％）を得た。

ステージ３
４−［６−（３−クロロ−プロピオニルオキシ）−ヘキシルオキシ］−安息香酸（６．２９ｇ、１９ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（３７．５ｍｌ）および無水トリフルオロ酢酸（２．６６ｍｌ）の混合物を、３０℃で２時間撹拌した。ＤＣＭ（３７．５ｍｌ）中の４’−ヒドロキシ−２’−メチル−ビフェニル−４−カルボニトリル（４．００ｇ、１９ｍｍｏｌ）を二番目のフラスコで撹拌し、そこで前に作った混合無水物をアルコールに添加し、反応混合物を３０℃で１２時間撹拌した。反応物を冷却し、水を添加して反応をクエンチし、ＤＣＭで抽出した。有機層を合わせ、炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、ｐＨ＝７まで水で２回洗浄した。有機物を硫酸マグネシウムで乾燥させ、真空中で濃縮した。残渣をペトロール４０〜６０℃：ＤＣＭ 比率１：２で溶出するカラムクロマトグラフィで精製した。生成物を含有する分画を合わせ、溶媒を真空中で除去した。固体をアセトニトリルから再結晶化し、所望の生成物４−［６−（３−クロロ−プロピロニルオキシ）−ヘキシルオキシ］−安息香酸４’−シアノ−２−メチル−ビフェニル−４−イルエステル（５．３５ｇ、収率５３．８％）を得た。

ステージ４
ＤＣＭ（１００ｍｌ）中の４−［６−（３−クロロ−プロピオニルオキシ）−ヘキシルオキシ］−安息香酸４’−シアノ−２−メチル−ビフェニル−４−イルエステル（６．０ｇ、１１ｍｍｏｌ）の撹拌溶液にトリエチルアミンを、室温で（発熱注意）滴下にて添加した。添加が終了したところで、反応混合物を３５℃で１２時間撹拌した。反応混合物を冷却し、水で洗浄し、塩酸および再び水で希釈した。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮した。残渣をペトロール４０〜６０℃：ＤＣＭ 比率１：２で溶出するカラムクロマトグラフィで精製した。生成物を含有する分画を合わせ、irganox 1076を添加し、溶媒を真空中で除去した。固体をアセトニトリルから再結晶化し、所望の生成物４−（６−アクリロイルオキシ−ヘキシルオキシ）−安息香酸４’−シアノ−２−メチル−ビフェニル−４−イルエステル（２．２０ｇ、収率３９．４％）を得た。

以下の化合物を、比較例１に記載の合成と類似の方法で調製した。

使用例１
紫外・可視分光計を用いて、可視光域を通した各ＲＭ化合物の透過率を計測することにより、化合物の黄変を計測した。これは、１重量％の各ＲＭを溶媒、通常はＤＣＭ、に溶解し、該溶液の透過率を日立製紫外・可視分光計で、大気を基準線として計測することにより実施した。その後溶液を、様々な異なる線量（０、１００、５００、１０００および３０００ｍＪ）でキュアリングし、再び透過率を計測した。紫外光に暴露した時に影響を受けないため、無水ジクロロメタンを溶媒として用いて単一体（singles）を溶解した。これらの透過率を比較することにより、どの単一体がどの程度黄変しているかを結論付けることができる。ΔＥ（ｌａｂ）を以下の等式１に従って算出し、ここで総色差ΔＥ^＊ _ａｂをもまたＬ^＊ａ^＊ｂ^＊色調整を用いて計測され、以下の等式１により定義された：

ここで色差値ΔＬ^＊、Δａ^＊およびΔｂ^＊は以下の式に従って算出される：
ΔＬ^＊＝Ｌ^＊−Ｌ^＊ _ｔ Δａ^＊＝ａ^＊−ａ^＊ _ｔ Δｂ^＊＝ｂ^＊−ｂ^＊ _ｔ
ここで、Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊は標本の計測値であり、Ｌ^＊ _ｔ、ａ^＊ _ｔ、ｂ^＊ _ｔは標的の色の値であり、無色の参照（例えば白色タイル）と物質を比較したときはＬ^＊ _ｔ＝１００、ａ^＊ _ｔ＝０、ｂ^＊ _ｔ＝０となる。黄色度指数をKonica Minolta CR300カラーカメラを反射モードで用いて計測した。このテストにおいて、空のＰＩガラスセルは、ｂ値が４．１４（参考として）と計測された。

表１および図１は、本発明のＲＭ１〜ＲＭ６化合物を先行技術のＣ１〜Ｃ６化合物と比較した紫外光研究の結果を示す。図１において、左のカラム（各単独化合物について）はキュアリング前のΔＥ（ｌａｂ）値を、右のカラムはキュアリング後のΔＥ（ｌａｂ）値を表す。
化合物ＲＭ１、ＲＭ２、ＲＭ５およびＲＭ６は、紫外光への暴露時の黄変において最低量の変化を示したと見られ得る。それに比べて、ターフェニルコアユニットが、例えばＣ１のように、エステル官能基（ester functionality）により離断されている化合物は、黄変において顕著な増加を示す。本発明の化合物ＲＭ３もまた、キュアリング後に黄変のわずかな増加を示す一方、化合物ＲＭ４は驚くべきことにキュアリング前後で同様の値を維持していた。ＲＭ５などのチオレン化合物は、モノおよびジアクリレート化合物ＲＭ１〜４よりも小さな紫外光に対する変化を示した。

使用例２
ＲＭ混合物を以下のとおり、本発明のＲＭ１、ＲＭ２、ＲＭ３またはＲＭ４のうちの１つ、または上記の比較化合物Ｃ０、Ｃ１、Ｃ２またはＣ３を２０％含有するように配合した。
比較の目的のため、ＲＭ混合物（「ホストＲＭＭ」）を、化合物（１）〜（５）、Irgacure 651（登録商標）およびIrganox 1076（登録商標）から、しかしＲＭ１、ＲＭ２、ＲＭ３、ＲＭ４、Ｃ０、Ｃ１、Ｃ２またはＣ３のいずれの化合物も含有しないで、および化合物（１）〜（５）の濃度が比例的に増加するように配合した。

ＲＭ混合物をジクロロメタン（ＤＣＭ）中に１％の固体含有量となるように溶解した。紫外・可視分光計測を、使用例１に記載されたように、各ＲＭ混合物について実施した。詳細を以下に概説する：
各ＲＭ単一体（１重量％固体）を溶媒、紫外光に暴露した時に影響を受けないため通常は無水ＤＣＭ、中に溶解した。溶媒の透過率を、日立製紫外・可視分光計（UV visible3310、２ｎｍ間隔で２５０〜８００ｎｍ）を用いて、大気を基準線として計測した。その後溶液を様々な異なる線量（０、１００、５００、１０００および３０００ｍＪ）でキュアリングし、透過を再度計測した。３０００ｍＪの暴露の後の溶液の計測は、５０ｍＷ／ｃｍ^２出力を６０秒間持続させる水銀ランプを用いて実施した。その後各ＲＭ単一体のΔＬａｂを、０ｍＪおよび３０００ｍＪの線量（例１参照）で算出した。

ポリマーフィルムを各単独のＲＭ混合物から以下のとおり調製した：
厚膜について、ｂ値、配列および複屈折（Δｎ）を、ホスト混合物ＲＭＭ１１３４（ＲＭＭ１）中に２０％含むＲＭ単一体を調製することで計測した。混合物を２０μｍのセルに、そのＴＮＩより２℃低い温度で流入充填した。充填されたセルは、ＴＮＩより２℃低い温度で２分間焼鈍しされ、その後サーキュレーターを用いて２０℃で３分間冷却された。フィルムを、Exfosランプを２５０〜４５０ｎｍの間および５０Ｍｗ／ｃｍ^２の出力を６０秒間で用いてキュアリングした。その後ｂ値を、（例１で記載したように）Konica Minoltaカラーカメラを用いて計測した。フィルムを１００℃で５分間ポストベークし、上記（例１）と同じ方法を用いて再度ｂ値を計測した。同一のフィルムを用いて、遅延、厚みおよび複屈折（Δｎ）の計算値を計測した。
フィルムのΔｎは、式Δｎ＝Ｒ／ｄを用いて算出し、ここで
Ｒ＝以下に説明する遅延
ｄ＝以下に記載する厚み
Δｎ値はλ＝５５０ｎｍで定められる。

この薄膜の遅延は、エリプソメータで、５５０ｎｍで計測した。フィルムの厚みは、重合化フィルムにひっかき傷を作り、該ひっかき傷の深さをAlpha step表面側面計で計測することにより計測した。フィルムの黄色度指数は、Konica Minolta CR300カラーカメラを反射モードで用いて計測した。この試験において、空のＰＩガラスセルは、ｂ値が４．１４（参考として）と計測された。〜４．１４のｂ値を有するフィルムは、完全に透明であることを示唆し、高いｂ値を有するフィルムは色が黄色であり、ゆえにＲＭが紫外光に不安定である、すなわちｂ値が大きいほどフィルムがより黄色いことを意味する。以下のＲＭ化合物は、ＲＭＭ混合物に２０％の組成として添加された。

詳細を以下に概説する：
薄膜（１ミクロンオーダーの厚み）の複屈折（Δｎ）を、０．６％のFluoroN562またはFC171をＲＭＭ混合物に添加することで計測した。その後、ＲＭＭの２５％溶液をトルエン中で調製し、０．２μｍのＰＴＦＥを通してろ過し、４０００ｒｐｍで３０秒間スピンコートした。充填したセルは、ＴＮＩより１０℃低い温度で焼鈍しし、２０℃で１分間冷却され、窒素でパージされた。充填されたセルをその後、Exfosランプを２５０〜４５０ｎｍ、５０ｍＷ／ｃｍ^２の出力を６０秒間、窒素下で用いてキュアリングした。エリプソメータで遅延を計測する（フィルムがスレーしていないか最初に確認）。フィルムをひっかき、表面側面計で計測厚みを計測する。
得られたＲＭ混合物のｂ値および複屈折は、下記表３に概説されている。

表３から、スペーサーにトラン基を有する化合物ＲＭ２が、キュアリング後のフィルムのｂ値９．９（カラム６参照）で、ＲＭ１およびＲＭ４（カラム６参照）と比較してキュアリング後にわずかに高い黄変を示したことが見受けられる。これと比較して、化合物Ｃ１およびＣ３は、ホストおよび空のセルに匹敵する増大した黄変を示した。それでも、本発明のＲＭ１からＲＭ４の全ての化合物は、とくに無水ＤＣＭ中のΔＥ（Ｌａｂ）透過率変化（カラム５参照）を比較したときの低い黄変の単一体として、使用についてより好適である。ＲＭ１は、先行技術の化合物Ｃ０〜Ｃ４と比較して、これまた低い黄変を示した（カラム６参照）ことから、高度に複屈折の重合可能なＲＭ混合物中の構成成分として最良の候補であることが証明された。低い黄変は、先行技術の化合物Ｃ０〜Ｃ４と比較して、全ての単一体ＲＭ１〜ＲＭ４の透過率ΔＥ（Ｌａｂ）データにおいて観察された。

Claims (13)

1. 式Ｉ１：
   式中、
   Ｐは、ビニルオキシ、アクリレート、メタクリレート、フルオロアクリレート、クロロアクリレート、オキセタンおよびエポキシド基からなる群から選択される基であり、
   Ｘは、Ｏ、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−または単結合を表し、
   ｘは、３〜１２の整数であり、
   Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３は、互いに独立して、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩ、であり、
   ｒ１、ｒ２、ｒ３は、ｒ１＝ｒ３＝０およびｒ２＝１であるか、ｒ１＝ｒ３＝０およびｒ２＝２であるか、または、ｒ１＝０、ｒ２＝１もしくは２およびｒ３＝１もしくは２であり、
   Ｙは、ＣＮである、
   の化合物。
2. ｒ１＝ｒ３＝０およびｒ２＝１である、請求項１に記載の化合物。
3. Ｌ^１、Ｌ^２およびＬ^３が、Ｆを表す、請求項１または２に記載の化合物。
4. Ｘが、Ｏ、−Ｃ≡Ｃ−または単結合を表す、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
5. 以下の式：
   
   式中、Ｐ、ｘ、Ｌ^２、Ｌ^３およびＹは、請求項１において定義されたとおりであり、式Ｉｄにおいて２つの基Ｌ^２のうちの１つおよび２つの基Ｌ^３のうちの１つは、Ｈを表すこともできる、
   から選択される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の化合物。
6. 少なくとも１種が請求項１〜５のいずれか一項に記載の式Ｉ１の化合物である２種または３種以上の反応性メソゲン（ＲＭ）を含む、混合物。
7. １つのみの重合性官能基を有するＲＭを１種または２種以上含み、２つまたは３つ以上の重合性官能基を有するＲＭを１種または２種以上含むことを特徴とする、請求項６に記載の混合物。
8. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の式Ｉ１で表される１種または２種以上の化合物を含むか、または請求項６または７に記載のＲＭ混合物を含み、１つまたは２つ以上の溶媒および／または添加剤をさらに含む、配合物。
9. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の式Ｉ１の化合物またはＲＭ混合物の重合化により得ることができるポリマー。
10. 請求項１〜９のいずれか一項に記載の式Ｉ１の化合物、ＲＭ混合物またはポリマーの、光学的、電気光学的または電子的な部品またはデバイスへの使用。
11. 請求項１〜９のいずれか一項に記載のＲＭ、ＲＭ混合物またはポリマーを含む、光学的、電気光学的または電子的デバイスまたはその部品。
12. 光学的位相差フィルム、偏光子、補償子、ビームスプリッタ、反射フィルム、配向層、カラーフィルタ、帯電防止性保護シート、電磁気干渉保護シート、偏光制御されたレンズ、およびＩＲ反射性フィルムから選択される、請求項１１に記載の部品。
13. 電気光学的ディスプレイ、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、光学データストレージデバイスおよび窓から選択される、請求項１１に記載のデバイス。