JP6384894B2 - 金属ナノ粒子を用いた金属接合構造及び金属接合方法並びに金属接合材料 - Google Patents
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Description
(1)第1被接合体の被接合面(「第1被接合面」という。)と第2被接合体の被接合面(「第2被接合面」という。)との間に、金属ナノ粒子を含む第1接合層、金属箔層、金属ナノ粒子を含む第2接合層がこの順に形成されており、
前記金属箔層を構成する金属箔がAl又はAl合金からなり、前記金属ナノ粒子を含む第1接合層、第2接合層中に含まれる金属分のうち、Niナノ粒子の含有量が10質量%以上であることを特徴とする金属接合構造。
(2)第1被接合体の被接合面(「第1被接合面」という。)と第2被接合体の被接合面(「第2被接合面」という。)との間に、金属ナノ粒子を含む第1接合層、金属箔層、金属ナノ粒子を含む第2接合層をこの順で設けた上で200℃以上に加熱して第1被接合体と第2被接合体とを接合する金属接合方法であって、
前記金属箔がAl又はAl合金からなり、前記金属ナノ粒子を含む第1接合層、第2接合層中に含まれる金属分のうち、Niナノ粒子の含有量が10質量%以上であることを特徴とする金属接合方法。
(3)金属ナノ粒子を含む第1接合層、金属箔層、金属ナノ粒子を含む第2接合層がこの順に形成されており、
前記金属箔がAl又はAl合金からなり、前記金属ナノ粒子を含む第1接合層、第2接合層中に含まれる金属分のうち、Niナノ粒子の含有量が10質量%以上であることを特徴とする金属接合材料。
図1に示すような、第1被接合体1と第2被接合体2を接合する接合構造において、本発明を適用した(表1の本発明例1〜9)。比較例1では図2に示す構造を用いている。第1被接合体1を構成する材料と大きさ、第2被接合体2を構成する材料と大きさ、第1被接合面を構成する金属層3の材料と金属層の厚み、第2被接合面を構成する金属層4の材料と金属層の厚みについて、表1に示している。
上記接合を完了した接合体のうち、表1の本発明例1〜9について、接合して常温に冷却した後に300℃窒素雰囲気で30分処理し常温に冷却した後、接合部のせん断強度を測定した。その結果、接合直後のせん断強度に対して強度の劣化は見られなかった。
2 第2被接合体
3 第1被接合面を構成する金属層
4 第2被接合面を構成する金属層
5 接合層
6 第1接合層
7 金属箔層
8 第2接合層
Claims (3)
- 第1被接合体の被接合面(「第1被接合面」という。)と第2被接合体の被接合面(「第2被接合面」という。)との間に、金属ナノ粒子を含む第1接合層、金属箔層、金属ナノ粒子を含む第2接合層がこの順に形成されており、
前記金属箔層を構成する金属箔がAl又はAl合金からなり、前記金属ナノ粒子を含む第1接合層、第2接合層中に含まれる金属分のうち、Niナノ粒子の含有量が10質量%以上であることを特徴とする金属接合構造。 - 第1被接合体の被接合面(「第1被接合面」という。)と第2被接合体の被接合面(「第2被接合面」という。)との間に、金属ナノ粒子を含む第1接合層、金属箔層、金属ナノ粒子を含む第2接合層をこの順で設けた上で200℃以上に加熱して第1被接合体と第2被接合体とを接合する金属接合方法であって、
前記金属箔がAl又はAl合金からなり、前記金属ナノ粒子を含む第1接合層、第2接合層中に含まれる金属分のうち、Niナノ粒子の含有量が10質量%以上であることを特徴とする金属接合方法。 - 金属ナノ粒子を含む第1接合層、金属箔層、金属ナノ粒子を含む第2接合層がこの順に形成されており、
前記金属箔がAl又はAl合金からなり、前記金属ナノ粒子を含む第1接合層、第2接合層中に含まれる金属分のうち、Niナノ粒子の含有量が10質量%以上であることを特徴とする金属接合材料。
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