JP6371862B2 - サファイアのレーザー加工方法、設備及び記録媒体 - Google Patents

サファイアのレーザー加工方法、設備及び記録媒体 Download PDF

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Description

本願は、2015年5月12日に中国特許局に提出された、出願番号が201510239300.Xであって、発明の名称が「サファイアのレーザー切断方法」である中国特許出願を基にして優先権を主張し、その全ての内容が引用されて本願に組み込まれている。
本発明は、レーザー加工技術に関し、特にサファイアのレーザー加工方法、設備及び記録媒体に関する。
LED用ウェハー等半導体などのレーザー微細加工業界において、多く使用されるサファイア基板は、端面がc面となるウェハーである。図1に示すように、LED用ウェハーのレーザー切断技術では、円形状のウェハー全体を若干の矩形ダイ単体になるように分割する必要がある。互いに垂直な二つの切断方向は、一般的にサファイア結晶のa面とm面に対応し、a面とm面は、それぞれc面と垂直である。m面がr面(劈開面)に近接し、且つr面はc面に対して垂直ではなく、ある程度の斜角を有している。レーザー切断後のダイ単体製品がm面において実際に裂けた方向は、r面である。これにより、CCDカメラの位置合せを行うレーザー加工点は、ウェハーが実際に裂けた位置と一定の偏差が生じて、実際の裂け目がスクライブラインの中間からずれてしまうという問題を招き、スクライブラインの幅が大きい場合、実際の裂け目の位置はチップ発光電極領域(電極)に延伸しない。しかし、実際に加工する場合、生産量をできるだけ向上させることが要求されるので、スクライブラインの幅が小さくなっていく。裂け目はスクライブラインの中間位置からずれるので、チップの発光電極領域を傷つけ、最終的な良品率に悪影響を与える。
本発明の各実施例により、サファイアのレーザー加工方法、設備及び記録媒体を提供する。
サファイアのレーザー加工方法であって、
前記サファイアを加工する時の前記サファイアの画像を取得することと、
前記画像のエッジ検出を行うことにより、裂け目の座標を得ることと、
前記裂け目の座標に基づいて、偏移パラメーターを確定することと、
前記偏移パラメーターに基づいて、レーザーの加工位置を調整することと、
調整した前記レーザーの加工位置に従って、前記サファイアを引き続き加工することと、
を含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工方法。
指令を記憶するメモリと、プロセッサーとを備えたサファイアのレーザー加工設備であって、
前記指令が前記プロセッサーにより実行される時、
前記サファイアを加工する時の前記サファイアの画像を取得するステップと、
前記画像についてエッジ検出を行うことにより、裂け目の座標を得るステップと、
前記裂け目の座標に基づいて、偏移パラメーターを確定するステップと、
前記偏移パラメーターに基づいて、レーザーの加工位置を調整するステップと、
調整した前記レーザーの加工位置に従って、前記サファイアを引き続き加工するステップと、
を実行させることを特徴とするサファイアのレーザー加工設備。
コンピューターにより実行可能な指令を保存する1つ又は複数の不揮発性のコンピュータ読み取り可能な記録媒体であって、
前記コンピューターにより実行可能な指令が1つ又は複数のプロセッサーにより実行される時、1つ又は複数の前記プロセッサーに、
サファイアを加工する時の前記サファイアの画像を取得するステップと、
前記画像のエッジ検出を行うことにより、裂け目の座標を得るステップと、
前記裂け目の座標に基づいて、偏移パラメーターを確定するステップと、
前記偏移パラメーターに基づいて、レーザーの加工位置を調整するステップと、
調整した前記レーザーの加工位置に従って、前記サファイアを引き続き加工するステップと、
を実行させることを特徴とする記録媒体。
以下の図面及び記載において、本発明の1つ又は複数の実施例の詳細を説明する。本発明の他の特徴、目的及び効果は明細書、図面及び請求の範囲から明らかになる。
本発明の実施例又は先行技術の技術案をより明らかに説明するために、以下、実施例又は先行技術についての記載に必要な図面を簡単に説明する。なお、以下記載している図面は、本発明の実施例に過ぎず、当業者にとって創造的な工夫をせずにこれらの図面から他の図面が得られることは明らかである。
一実施例が提供するサファイアの構成を示す図である。 一実施例が提供するサファイアウェハーの切断方向を示す図である。 従来の技術において、サファイアウェハーをスクライブラインの中間位置に沿って切断することを示す図である。 一実施例において、サファイアのレーザー加工システムの応用環境図である。 一実施例において、サファイアのレーザー加工方法のフローチャートである。 一実施例において、サファイアウェハーをスクライブラインの中間位置に沿って切断することを示す図である。 一実施例において、加工位置を調整した後に、サファイアを切断することを示す図である。 一実施例において、サファイアの加工面と画像の中間との相対位置を示す図である。 一実施例において、裂け目の座標を抽出する工程のフローチャートである。 一実施例において、偏移パラメーター算出のフローチャートである。 一実施例において、収集された画像における裂け目の位置を示す図である。
本発明の目的、技術案及び効果をより一層明瞭にするために、以下、図面と実施例とを併用し、本発明を更に詳しく説明する。ここで述べた具体的な実施例は、単に本発明を解釈するために用いられ、本発明を限定するものではないと理解されるべきである。
図1に示すサファイア結晶構造のように、LED業界において、サファイア基板は、端面がc面となるウェハーであり、当該ウェハーが切断された互いに垂直な2つの切断面はm面とa面である。図2に示すように、ウェハーに必要となる2つの切断方向はm軸とa軸であり、それぞれがm面とa面に垂直であり、そのうち、直辺はm軸方向と平行である。図2は図1のc面における投影図である。
図1から分かるように、m面がr面(劈開面)に近接し、サファイア結晶のr面自体の特性により、m面に沿って切断する時、一般的に、r面が先に裂けることが多い。このため、レーザー切断が行われた後、m面において、実際に裂けた方向はr面になり、このように加工されたサンプル品は、r面とc面が斜め方向に一定の裂け角度を持つ。
図3に示すように、LED用ウェハーのレーザー切断業界において、レーザーによる加工方式として、サファイア基板の内部に、レーザーを合焦させて、レーザーの爆発点を形成し、レーザーの爆発点により生じた応力によって、サファイアをスプリットさせる。サファイア基板には周期的なパターンを有する電極1が成長され、電極のパターンが矩形且つ互いに垂直なスクライブライン2により分離されている。r面の斜め裂け特性により、実際に裂けた箇所はスクライブライン2の中間からずれやすく、そのずれがひどい場合、電極1のパターン領域まで斜めに裂けてしまい、不良品が発生し、切断良品率が低下する。
a面の横断面からr面の斜め裂け方向を見ると、レーザー光束3は垂直にサファイア基板の内部に入射し、レーザー爆発点4を形成する。その入射位置はスクライブライン2の中間位置O点に合わせている。しかし、r面の存在により、実際の裂け目5はスクライブライン2の中間位置O点には位置しないため、電極面における辺の長さに大きなバラツキがあり、加工良品率に悪影響を与えてしまう。スクライブライン2の幅が30umよりも小さい場合、又はさらに小さい場合、裂け目5は電極1にまで裂けてしまい、不良品が発生する。
図4は、サファイアのレーザー加工システムの応用環境図である。サファイアのレーザー加工システムでは、設備7は加工環境における制御設備であり、サファイアのレーザー加工方法の応用環境における各部品を制御可能である。レーザーフォーカシングレンズ17は、レーザー加工機能と画像形成機能とを具備している。CCDカメラ14は、サファイアウェハー18の表面画像及び裂け目を観察するために備えられる。画像を形成する具体的な手順として、更に、点光源8と面光源22とを同時に点灯させることによって、サファイア18の裏面での画像形成効果を最適にすることができ、認識しやすく、画像収集が容易になる。また、CCDカメラ14は設備7に接続されており、設備7のモニターにはCCDカメラの視界全体において形成した画像を表示することができる。レーザー光束16はビームスプリッター12を介してフォーカシングレンズ17に入り、焦点をサファイア18の内部に位置させるように調整し、レーザー爆発点4を形成する。載置台19はa軸方向に沿って等速で直線運動することにより、サファイアのm面を加工する。
図5に示すように、サファイアのレーザー加工方法を提供する。本実施例において、当該方法が図4のサファイアのレーザー加工システムにおける設備となる設備7に適用されることを例として説明する。設備7において、サファイアのレーザー加工プログラムを実行し、サファイアのレーザー加工制御プログラムによってサファイアのレーザー加工方法を実行する。具体的に、当該方法は以下のステップを含む。
ステップ502において、サファイアを加工する時のサファイアの画像を取得する。
具体的に、サファイアを加工する時、設備7はCCDカメラ14でサファイアの画像を取得することができ、CCDカメラ14は設備7に接続されている。CCDカメラ14は視界内のサファイアの画像を設備7へ伝送し、設備7はCCDカメラ14の視界内の画像をモニターに表示する。画像は、レーザー加工時におけるCCDが一定の倍数で拡大して撮影したサファイアの局部画像である。サファイアを加工する過程において、一定の倍数で拡大されたサファイアの局部画像から、サファイアが加工過程において発生した裂け目が見られる。
一実施例において、ステップ502は、任意のスクライブラインの中間位置点に沿ってサファイアを加工し、サファイアに裂け目を発生させることと、裂け目が発生したサファイアの画像を取得することとを含む。
具体的に、図6を参照すると、m面において、まず、レーザーを任意の1つのスクライブライン20の中間位置O点に位置合わせをして加工を行う。レーザー光束30はスクライブライン20の中間位置O点に位置合わせて、垂直にサファイア基板に入射し、サファイア内部にレーザー爆発点40を形成し、実際の裂け目50が発生する。なお、裂け目50はスクライブライン20の中間位置O点に位置しない設備7はCCDカメラによって裂け目50が発生したサファイアの画像を取得すると共に、裂け目50が発生したサファイアの画像を表示し、サファイアの画像からサファイアの裂け目50が見られる。スクライブライン20の幅を減少させることにより、同じウェハーから生産されたチップ単体の生産量を増加させる。サファイアは表面と電極10付きの裏面とを含み、当該裏面には相互に交錯したスクライブライン20があり、電極10はスクライブライン20により分離されている。
一実施例において、裂け目が発生したサファイアの画像を取得することは、光源を制御することにより、光源から発出した光を裂け目が発生したサファイアに照射させ、光が照射されている時のサファイアの画像を取得することを含む。
一実施例において、光が照射されている時のサファイアの画像を取得することは、CCDカメラに画像収集指令を送信し、CCDカメラが画像収集指令に従って、視界における光が照射されている時のサファイアの画像を収集させることを含む。
具体的に、図4を参照すると、設備7は点光源8と面光源22について制御を行う。そのうち、点光源8は、凸レンズ9、45度ミラー10、凸レンズ11、ビームスプリッター12を経て、フォーカシングレンズ 17に入る。なお、凸レンズ9と凸レンズ11は共役レンズ群であり、発散した点光源8を平行光に変更させる。また、点光源8は白光である。平行な白光は、フォーカシングレンズに入ってからサファイア18の裏面に合焦し、反射されてビームスプリッター12に戻され、そして凸レンズ13に入射し、最終的にCCDカメラ14に入る。CCDカメラ14とサファイア18の裏面との相対距離を適宜調整することにより、CCDカメラ14はサファイア18の裏面での画像を取得する。それと共に、面光源22からの近赤外光は、載置台19、サファイア18、フォーカシングレンズ 17、ビームスプリッター12及び凸レンズ13を経て、最後にCCDカメラ14に入り、CCDカメラ14とサファイア18の裏面との相対距離を適宜調整することにより、CCDカメラ14はサファイア18の裏面での画像を取得する。
図4と図8を参照すると、CCDカメラ14は、サファイアの正面の電極面でのスクライブラインとの位置合わせにも用いられる。サファイア18の表面は周期的に配列されたダイ単体20からなり、a軸方向に沿って切断され、スクライブライン2は一定の幅を有する。CCDカメラ14の中心21は十字状線であり、スクライブライン2に対して位置合わせと認識を行うための線であり、切断する前に、CCDカメラ14の中心をスクライブライン2の中心と合わせる。特に、図8に示したのは、設備7のモニターに表示されている画像であり、CCDカメラ14の中心にある十字状線がモニターにおける画像の幾何的な中心に位置している。図7中の面光源22を点灯させると共に、CCDカメラ14とサファイア18の表面との相対距離を適宜調整することによって、当該画像を取得する。
そのうち、面光源22は載置台とサファイア18を通過することができるため、サファイア表面での電極図、スクライブラインの画像、サファイア内部のレーザー爆発点4、並びにサファイア裏面での裂け目の画像など、サファイア全体の厚さ方向における任意の一つの厚さを有する平面内の画像もCCDカメラ14により得ることができる。異なる厚さ方向における画像を取得することはCCDカメラ14とサファイア18との相対距離を調整することによって実現することができる。特に、サファイア裏面での裂け目について、面光源22と点光源8との両方を同時に点灯させ、フォーカシングレンズの焦点をサファイアの裏面に調整させると共に、面光源と点光源の輝度を調整することにより、表面での裂け目の明瞭さを最適にすることで、CCDカメラ14により収集されやすくなる。LEDチップの製作過程において、サファイアの裏面の被膜はバラツキがあるため、画像を形成する効果もバラツキがある。本発明において2種類の光源が画像形成用として提供されているので、被膜による画像形成のバラツキを解消することができ、サファイアの裏面における裂け目の認識や画像収集が容易になる。更に、点光源8は白光の点光源でも良く、面光源22は近赤外光の光源でも良い。
ステップ504において、画像についてエッジ検出を行い裂け目の座標を得る。
具体的に、設備7はサファイアの画像を取得する時、画像のノイズ除去処理を行う。ノイズが除去された画像についてエッジ検出算法によりエッジ検出を行う。エッジ検出によって裂け目のエッジを確定すると共に、画像における裂け目のエッジ上の点の座標を確定し、座標集合を形成する。
ステップ506において、裂け目の座標に基づいて偏移パラメーターを確定する。
具体的に、画像における中心座標を取得し、裂け目のエッジ上の点の座標を中心座標と比較して、画像中心に対する裂け目の偏移パラメーターを確定する。偏移パラメーターは、裂け目と画像中心との位置関係を表すことができる。
ステップ508において、偏移パラメーターに基づいてレーザーの加工位置を調整する。
具体的に、設備7に表示される画像の中心はレーザーの加工位置に対応し、レーザーの加工位置はレーザー光束16がサファイアに入射する位置である。設備7は得られた偏移パラメーターに基づいてレーザー光束16がサファイアに入射する位置を調整することができる。
一実施例において、図6と図7を参照すると、レーザー光束30がウェハー内部に発生したレーザー爆発点40′の位置を調整する。なお、レーザーの加工位置の調整方向は、裂け目をスクライブラインの中心に向ける方向とする。本実施例において、スクライブライン20の中間位置O点で加工を行って発生した裂け目50を、右へ偏移させるため、レーザーの加工位置を右へ調整し、裂け目50´をスクライブラインの中間位置O点に位置させる必要がある。ただし、右へ調整する距離は、スクライブラインの幅の半分以下である。更に、右へ調整する距離は裂け目50とスクライブラインの中間位置O点との距離と等しい。
ステップ510において、調整したレーザーの加工位置に従ってサファイアを引き続き加工する。
具体的に、設備7はレーザージェネレータを制御し、レーザージェネレータにより生成されたレーザー光束16を調整したレーザーの加工位置に従ってサファイアに入射させて、サファイアを引き続き加工する。
本実施例において、サファイアを加工する時、サファイア加工時のサファイアの画像を取得する。取得した画像について分析処理を行うことで、サファイアの裂け目の座標を検出し、裂け目の座標に基づいて偏移パラメーターを確定し、偏移パラメーターに基づいてレーザーの加工位置を調整する。画像処理により、最終的に画像中の裂け目の座標に基づいて偏移パラメーターを得る。これにより、加工過程におけるサファイアの加工精度を向上させることができ、サファイアの加工精度を向上させることに伴い、サファイアの加工品質も向上させることができる。
図9に示すように、一実施例において、ステップ504は画像処理のステップを含む。具体的には、以下の通りである。
ステップ902において、画像のグレースケールのヒストグラムを生成する。
具体的に、設備7は画像における各グレースケール値の画素数を取得し、各グレースケール値の画素数に基づいて各グレースケール値が現れる頻度を算出し、算出した各グレースケール値が現れる頻度に基づいてグレースケールのヒストグラムを生成する。
ステップ904において、グレースケールのヒストグラムに従って画像の標準化処理を行う。
具体的に、グレースケールのヒストグラムから各グレースケール値の頻度を抽出し、各グレースケール値の頻度に基づいて画像のグレースケール値標準化処理を行う。これにより、画像中の裂け目のグレースケールがより一層明らかになる。
ステップ906において、標準化処理が行われた画像についてエッジ検出を行って裂け目の座標を得る。
具体的に、標準化処理が行われた画像についてエッジ検出算法でエッジ検出を行い、エッジ検出により画像におけるサファイアの裂け目のエッジを検出すると共に、画像における裂け目のエッジ上の点の座標を抽出する。
一実施例において、ステップ906は、希望エリアを描くステップを含む。具体的には、標準化処理が行われた画像において希望エリアを描き、希望エリアに対してエッジ検出を行って裂け目の座標を得るステップを含む。
一実施例において、ステップ906は、画像についてエッジ検出を行って裂け目の輪郭を取得することと、画像における裂け目の輪郭の座標を抽出することを含む。
具体的に、設備7はcanny演算子(多段エッジ検出算法)を用いて画像のエッジ検出を行い、canny演算子によるエッジ検出によって、画像におけるサファイアの裂け目のエッジを確定し、画像における裂け目のエッジ上の点の座標を算出し、[(x,y),(x,y),・・・・・・]である座標のタプルを形成し、更に、画像において希望エリアを描き、canny演算子を用いて希望エリアのエッジ検出をする。
本実施例において、画像を標準化処理することによって、画像における裂け目が更に明らかになることを確保し、画像における裂け目がより一層容易に認識される。また、標準化処理が行われた画像について、裂け目の画像を含めた希望エリアを描くことによって、希望エリア以外の画像による干渉を低減させ、画像処理の正確性を向上させる。
一実施例において、ステップ506は偏移パラメーターを算出するステップを含み、当該ステップは具体的に以下のことを含む。
ステップ1002において、画像の中心座標を取得する。
具体的に、画像の中心座標とは、CCDカメラ14の視界中心の座標を指し、設備7に表示されているCCDカメラ14により収集された画像の中心の座標でもあり、画像の中心とレーザーの加工位置とが対応する。画像の中心を特定のマーク、例えば赤点や十字形マークで標記してもいい。画像の中心座標は固定一定であっても良く、例えば、中心座標を原点として座標系を設定すると、画像の中心座標が(0,0)となる。画像は、レーザー加工時CCDが一定の倍数で拡大して撮影したサファイアの局部画像である。サファイアを加工する過程において、一定の倍数で拡大されたサファイアの局部画像によって、サファイアが加工過程において発生した裂け目が見られる。ステップ1004において、裂け目の座標の平均値を算出する。
具体的に、裂け目のエッジ上の点と対応する座標を抽出し、座標軸毎にその対応する座標の平均値を算出し、算出結果により得られた平均値を裂け目の中点座標とする。
ステップ1006において、平均値及び中心座標に基づいて偏移パラメーターを取得する。
具体的に、座標の平均値と中心座標とを比較して、裂け目と画像中心との相対位置を確定し、画像の中心をレーザーの加工位置に対応させることにより、レーザーの加工位置と裂け目との偏移パラメーターを得ることができる。
一実施例において、ステップ1006は、平均値と中心座標との差の値を算出することと、その差の値に基づいて偏移方向と偏移距離を含めた偏移パラメーターを確定することとを含む。
具体的に、計算で得られた裂け目の中心の平均値を抽出し、平均値と中心座標との差の値を算出し、その差の値が0よりも小さくなるかによって、裂け目の中心の、画像の中心からの偏移方向を確定し、その差の値の絶対値を偏移距離とする。
例を挙げて説明すると、裂け目のエッジ上の点の座標集合を[(x,y),(x,y),・・・・・・]とし、画像の中心座標を(x,y)とする。裂け目のエッジ上の点のy座標値の平均値と、画像の中心のy座標値yとを比較して、平均値とyとの差の値であるDistanceを求め、平均値と中心の座標値yとの差の値の絶対値|D|を記録する。Distance>0の場合、裂け目が画像の中心に対して上方に偏移し、Distance<0の場合、裂け目が画像の中心に対して下方に偏移して、且つ相対的に偏移した距離が|D|となる。
一実施例において、ステップ510は、偏移パラメーターから偏移方向及び偏移距離を抽出することと、レーザーの加工位置を偏移方向に向かって偏移距離と等しい距離を移動させることとを含む。
例を挙げて説明すると、図11を参照すると、図11に示しているのは、設備7に表示されているCCDカメラ14により収集された画像であり、画像における裂け目1102が画像の中心に対して下方に偏移した。偏移パラメーターは裂け目1102が画像の中心に対して下方に偏移したので、載置台を調整することにより、サファイアの裂け目を画像の中心に対して上方に移動させ、移動距離を偏移距離と等しい距離とする。
本実施例において、計算によりサファイアの裂け目とレーザーの加工位置との偏移パラメーターを判断することにより、判断の正確さを向上させる。また、偏移パラメーターに基づいてレーザーの加工位置を裂け目の中心に調整し、裂け目においてサファイアを加工するので、良品の生産率が向上する。
一実施例において、指令を記憶するメモリと、プロセッサーとを備えたサファイアのレーザー加工設備であって、指令がプロセッサーにより実行される時、
サファイアを加工する時のサファイアの画像を取得するステップと、
画像のエッジ検出を行うことにより、裂け目の座標を得るステップと、裂け目の座標に基づいて、偏移パラメーターをするステップと、
偏移パラメーターに基づいて、レーザーの加工位置を調整するステップと、
調整したレーザーの加工位置に従って、サファイアを引き続いて加工するステップと、
を実行させることを特徴とするサファイアのレーザー加工設備を提供する。
一実施例において、サファイアを加工する時のサファイアの画像を取得することは、
任意のスクライブラインの中間位置点に沿ってサファイアを加工してサファイアに裂け目を発生させることと、
裂け目が発生したサファイアの画像を取得することと、
を含む。
一実施例において、裂け目が発生したサファイアの画像を取得することは、
光源から発出した光を、裂け目が発生したサファイアに照射させるように光源を制御することと、
光により照射されている時のサファイアの画像を取得することと、
を含む。
一実施例において、光により照射されている時のサファイアの画像を取得することは、 CCDカメラに画像収集指令を送信し、CCDカメラが画像収集指令に従って、視界における光に照射されている時のサファイアの画像を収集することを含む。
一実施例において、画像のエッジ検出を行い裂け目の座標を得ることは、
画像のグレースケールのヒストグラムを生成することと、
グレースケールのヒストグラムに従って画像の標準化処理を行うことと、
標準化処理が行われた画像についてエッジ検出を行って裂け目の座標を得ることと、
を含む。
一実施例において、標準化処理が行われた画像についてエッジ検出を行って裂け目の座標を得ることは、
標準化処理が行われた画像において希望エリアを描くことと、
希望エリアに対してエッジ検出を行って裂け目の座標を得ることと、
を含む。
一実施例において、画像のエッジ検出を行い裂け目の座標を得ることは、
画像のエッジ検出を行って裂け目の輪郭を取得することと、
画像における裂け目の輪郭の座標を抽出することと、
を含む。
一実施例において、裂け目の座標に基づいて、偏移パラメーターを確定することは、
画像の中心座標を取得することと、
裂け目の座標の平均値を算出することと、平均値と中心座標に基づいて、偏移パラメーターを取得することと、
を含む。
一実施例において、平均値及び中心座標に基づいて、偏移パラメーターを取得することは、
平均値と中心座標との差の値を算出することと、
その差の値に基づいて偏移方向と偏移距離を含めた偏移パラメーターを確定することと、
を含む。
一実施例において、偏移パラメーターに基づいて、レーザーの加工位置を調整することは、
偏移パラメーターから偏移方向及び偏移距離を抽出することと、
レーザーの加工位置を偏移方向に向かって偏移距離と等しい距離を移動させることと、
を含む。
本実施例において、サファイアを加工する時、サファイア加工時のサファイアの画像を取得する。取得した画像について分析処理を行うことで、サファイアの裂け目の座標を検出し、裂け目の座標に基づいて偏移パラメーターを確定し、偏移パラメーターに基づいてレーザーの加工位置を調整する。画像処理により、最終的に画像における裂け目の座標に基づいて偏移パラメーターを得ることによって、加工過程におけるサファイアの加工精度を向上させることができ、サファイアの加工精度の向上に伴い、サファイアの加工質量も向上させる。
一実施例において、コンピューターにより実行可能な指令を保存する1つ又は複数の不揮発性のコンピューター読み取り可能な記録媒体であって、コンピューターにより実行可能な指令が1つ又は複数のプロセッサーにより実行される時、
1つ又は複数のプロセッサーに、サファイアを加工する時のサファイアの画像を取得するステップと、
画像のエッジ検出を行い裂け目の座標を得るステップと、
裂け目の座標に基づいて偏移パラメーターを確定するステップと、
偏移パラメーターに基づいてレーザーの加工位置を調整するステップと、
調整したレーザーの加工位置に従ってサファイアを引き続いて加工するステップとを実行させることを特徴とする記録媒体を提供する。
本実施例において、サファイアを加工する時、サファイア加工時におけるサファイアの画像を取得する。取得した画像について分析処理を行うことにより、サファイアの裂け目の座標を検出し、裂け目の座標に基づいて偏移パラメーターを確定し、偏移パラメーターに基づいてレーザーの加工位置を調整する。画像処理により、最終的に画像における裂け目の座標に基づいて偏移パラメーターを得ることによって、加工過程におけるサファイアの加工精度を向上させることができ、サファイアの加工精度の向上に伴い、サファイアの加工質量も向上させる。
当業者が理解できるように、上記した実施例を実現する方法において、ルーチン全体又はルーチンの一部はコンピューターのプログラムを通じて関連するハードウェアを指令して実行することが可能である。上記したプログラムは、コンピューター読み取り可能な記録媒体に保存させることができ、当該プログラムを実行する場合、上記した各方法の実施例のルーチンを含むことが可能である。なお、上記した記録媒体は磁気ディスク、光ディスク、読み出し専用記憶媒体(Read−Only Memory,ROM)などの不揮発性記録媒体、又は随時アクセス記憶媒体(Random Access Memory,RAM)で良い。
以上に述べた実施例の各構成要件を任意に組み合わせることができ、説明を簡潔にするために、上記した実施例における各構成要件の全ての組み合わせの可能性を記載しないが、これらの構成要件の組み合わせは矛盾しなければ、本明細書の記載範囲と考えられるべきである。
なお、以上に述べた実施例は本発明の幾つかの実施形態のみを表し、その記載が比較的具体的で詳しい説明であるが、本発明の特許の範囲に限定するものと理解されるべきではない。当業者にとって、本発明の構想から逸脱しない前提で、若干の変形と改良を行うことができ、これらはいずれも本発明の特許の範囲に属する。これにより、本発明の特許保護範囲は添付する請求項に準じる。

Claims (17)

  1. サファイアのレーザー加工方法であって、
    前記サファイアを加工する時の前記サファイアの画像を取得することと、
    前記画像のエッジ検出を行うことにより、裂け目の座標を得ることと、
    前記裂け目の座標に基づいて、偏移パラメーターを確定することと、
    前記偏移パラメーターに基づいて、レーザーの加工位置を調整することと、
    調整した前記レーザーの加工位置に従って、前記サファイアを引き続き加工することと、を含み、
    前記サファイアを加工する時の前記サファイアの画像を取得することは、
    任意のスクライブラインの中間位置点に沿って前記サファイアを加工して、前記サファイアに前記裂け目を発生させることと、
    前記裂け目が発生した前記サファイアの画像を取得することと、
    を含み、
    前記裂け目が発生した前記サファイアの画像を取得することは、
    点光源から発出した光を、正面から前記裂け目が発生した前記サファイアに照射させ、面光源から発出した光を、裏面から前記裂け目が発生した前記サファイアに照射させるように前記光源を制御することと、
    前記光により照射されている時の前記サファイアの画像を取得することを含
    ことを特徴とするサファイアのレーザー加工方法。
  2. 請求項に記載されているサファイアのレーザー加工方法であって、
    前記光により照射されている時の前記サファイアの画像を取得することは、CCDカメラに画像収集指令を送信し、前記CCDカメラが前記画像収集指令に従って視界における光に照射されている時の前記サファイアの画像を収集することを含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工方法。
  3. 請求項1に記載されているサファイアのレーザー加工方法であって、
    前記画像のエッジ検出を行うことにより、前記裂け目の座標を得ることは、
    前記画像のグレースケールのヒストグラムを生成することと、
    前記グレースケールのヒストグラムに従って前記画像の標準化処理を行うことと、
    前記標準化処理が行われた画像についてエッジ検出を行って裂け目の座標を得ることとを、
    含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工方法。
  4. 請求項に記載されているサファイアのレーザー加工方法であって、
    前記標準化処理が行われた画像について前記エッジ検出を行って前記裂け目の座標を得ることは、
    前記標準化処理が行われた画像において希望エリアを描くことと、
    前記希望エリアに対してエッジ検出を行って前記裂け目の座標を得ることと、
    を含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工方法。
  5. 請求項1に記載されているサファイアのレーザー加工方法であって、
    前記画像のエッジ検出を行うことにより、前記裂け目の座標を得ることは、
    前記画像について前記エッジ検出を行って裂け目の輪郭を取得することと、
    前記画像における前記裂け目の輪郭の座標を抽出することと、
    を含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工方法。
  6. 請求項1に記載されているサファイアのレーザー加工方法であって、
    前記裂け目の座標に基づいて前記偏移パラメーターを確定することは、
    前記画像の中心座標を取得することと、
    前記裂け目の座標の平均値を算出することと、
    前記平均値と前記中心座標に基づいて前記偏移パラメーターを取得することと、
    を含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工方法。
  7. 請求項に記載されているサファイアのレーザー加工方法であって、
    前記平均値及び前記中心座標に基づいて、前記偏移パラメーターを取得することは、
    前記平均値と前記中心座標との差の値を算出することと、
    前記差の値に基づいて、偏移方向と偏移距離を含めた前記偏移パラメーターを確定することと、
    を含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工方法。
  8. 請求項1に記載されているサファイアのレーザー加工方法であって、
    前記偏移パラメーターに基づいて、前記レーザーの加工位置を調整することは、
    前記偏移パラメーターから偏移方向及び偏移距離を抽出することと、
    前記レーザーの加工位置を前記偏移方向に向かって前記偏移距離と等しい距離を移動させることと、
    を含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工方法。
  9. 指令を記憶するメモリと、プロセッサーとを備えたサファイアのレーザー加工設備であって、
    前記指令が前記プロセッサーにより実行される時、
    前記サファイアを加工する時の前記サファイアの画像を取得するステップと、
    前記画像のエッジ検出を行い裂け目の座標を得るステップと、
    前記裂け目の座標に基づいて、偏移パラメーターを確定するステップと、
    前記偏移パラメーターに基づいて、レーザーの加工位置を調整するステップと、
    調整した前記レーザーの加工位置に従って、前記サファイアを引き続き加工するステップと、
    を実行させ
    前記サファイアを加工する時の前記サファイアの画像を取得するステップは、
    任意のスクライブラインの中間位置点に沿って前記サファイアを加工して、前記サファイアに裂け目を発生させるステップと、
    前記裂け目が発生した前記サファイアの画像を取得するステップと、
    を含み、
    前記裂け目が発生した前記サファイアの画像を取得するステップは、
    点光源から発出した光を、正面から前記裂け目が発生した前記サファイアに照射させ、面光源から発出した光を、裏面から前記裂け目が発生した前記サファイアに照射させるように前記光源を制御するステップと、
    前記光により照射されている時の前記サファイアの画像を取得するステップを含む、
    ことを特徴とするサファイアのレーザー加工設備。
  10. 請求項に記載されているサファイアのレーザー加工設備であって、
    前記光により照射されている時の前記サファイアの画像を取得するステップは、CCDカメラに画像収集指令を送信し、前記CCDカメラが前記画像収集指令に従って視界における光に照射されている時の前記サファイアの画像を収集するステップを含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工設備。
  11. 請求項に記載されているサファイアのレーザー加工設備であって、
    前記画像のエッジ検出を行裂け目の座標を得るステップは、
    前記画像のグレースケールのヒストグラムを生成するステップと、
    前記グレースケールのヒストグラムに従って前記画像の標準化処理を行うステップと、
    前記標準化処理が行われた画像について前記エッジ検出を行って前記裂け目の座標を得るステップと、
    を含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工設備。
  12. 請求項11に記載されているサファイアのレーザー加工設備であって、
    前記標準化処理が行われた画像について前記エッジ検出を行って前記裂け目の座標を得るステップは、
    前記標準化処理が行われた画像において希望エリアを描くステップと、
    前記希望エリアに対して前記エッジ検出を行って前記裂け目の座標を得るステップと、
    を含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工設備。
  13. 請求項に記載されているサファイアのレーザー加工設備であって、
    前記画像についてエッジ検出を行い裂け目の座標を得るステップは、
    前記画像のエッジ検出を行って前記裂け目の輪郭を取得するステップと、
    前記画像における前記裂け目の輪郭の座標を抽出するステップと、
    を含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工設備。
  14. 請求項に記載されているサファイアのレーザー加工設備であって、
    前記裂け目の座標に基づいて、前記偏移パラメーターを確定するステップは、
    前記画像の中心座標を取得するステップと、
    前記裂け目の座標の平均値を算出するステップと、
    前記平均値と前記中心座標に基づいて、前記偏移パラメーターを取得するステップと、
    を含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工設備。
  15. 請求項14に記載されているサファイアのレーザー加工設備であって、
    前記平均値及び前記中心座標に基づいて、前記偏移パラメーターを取得するステップは、
    前記平均値と前記中心座標との差の値を算出するステップと、
    前記差の値に基づいて、偏移方向と偏移距離を含めた前記偏移パラメーターを確定するステップと、
    を含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工設備。
  16. 請求項に記載されているサファイアのレーザー加工設備であって、
    前記偏移パラメーターに基づいて、前記レーザーの加工位置を調整するステップは、
    前記偏移パラメーターから偏移方向及び偏移距離を抽出するステップと、
    前記レーザーの加工位置を前記偏移方向に向かって前記偏移距離と等しい距離を移動させるステップ
    を含むことを特徴とするサファイアのレーザー加工設備。
  17. コンピューターにより実行可能な指令を保存する1つ又は複数の不揮発性のコンピューター読み取り可能な記録媒体であって、
    前記コンピューターにより実行可能な指令が1つ又は複数のプロセッサーにより実行される場合、1つ又は複数のプロセッサーに、
    サファイアを加工する時の前記サファイアの画像を取得するステップと、
    前記画像のエッジ検出を行うことにより、裂け目の座標を得るステップと、
    前記裂け目の座標に基づいて、偏移パラメーターを確定するステップと、
    前記偏移パラメーターに基づいて、レーザーの加工位置を調整するステップと、
    調整した前記レーザーの加工位置に従って前記サファイアを引き続いて加工するステップと、
    を実行させ
    前記サファイアを加工する時の前記サファイアの画像を取得するステップは、
    任意のスクライブラインの中間位置点に沿って前記サファイアを加工して、前記サファイアに裂け目を発生させるステップと、
    前記裂け目が発生した前記サファイアの画像を取得するステップと、
    を含み、
    前記裂け目が発生した前記サファイアの画像を取得するステップは、
    点光源から発出した光を、正面から前記裂け目が発生した前記サファイアに照射させ、面光源から発出した光を、裏面から前記裂け目が発生した前記サファイアに照射させるように前記光源を制御するステップと、
    前記光により照射されている時の前記サファイアの画像を取得するステップを含む、
    ことを特徴とする記録媒体。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104827191A (zh) * 2015-05-12 2015-08-12 大族激光科技产业集团股份有限公司 蓝宝石的激光切割方法
CN106256477A (zh) * 2016-08-31 2016-12-28 安徽芯瑞达电子科技有限公司 暗部判断法激光切割方法
CN106449900B (zh) * 2016-08-31 2020-06-05 导装光电科技(深圳)有限公司 用于led白光芯片的切割工艺和装置
JP7123583B2 (ja) * 2018-03-14 2022-08-23 株式会社ディスコ ウエーハの生成方法およびウエーハの生成装置
JP7286464B2 (ja) * 2019-08-02 2023-06-05 株式会社ディスコ レーザー加工装置
CN112775539A (zh) * 2019-11-07 2021-05-11 大族激光科技产业集团股份有限公司 激光加工方法及装置
CN111778561B (zh) * 2020-06-22 2021-11-02 福建晶安光电有限公司 一种蓝宝石衬底、加工方法及发光二极管的制备方法
JP2022097232A (ja) * 2020-12-18 2022-06-30 株式会社ディスコ レーザー加工装置

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5727433A (en) * 1995-09-08 1998-03-17 Gerber Garment Technology, Inc. Method for cutting sheet material
JP2001210905A (ja) * 1995-12-04 2001-08-03 Nichia Chem Ind Ltd 窒化物半導体発光素子の製造方法
JPH10323780A (ja) 1997-05-26 1998-12-08 Hitachi Constr Mach Co Ltd レーザ加工方法及び装置
US6420245B1 (en) * 1999-06-08 2002-07-16 Kulicke & Soffa Investments, Inc. Method for singulating semiconductor wafers
JP4659300B2 (ja) * 2000-09-13 2011-03-30 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及び半導体チップの製造方法
US6630996B2 (en) * 2000-11-15 2003-10-07 Real Time Metrology, Inc. Optical method and apparatus for inspecting large area planar objects
JP2003088975A (ja) 2001-09-12 2003-03-25 Hamamatsu Photonics Kk レーザ加工方法
CN1260800C (zh) * 2001-09-19 2006-06-21 奥林巴斯光学工业株式会社 半导体晶片检查设备
US6580054B1 (en) * 2002-06-10 2003-06-17 New Wave Research Scribing sapphire substrates with a solid state UV laser
US6960813B2 (en) * 2002-06-10 2005-11-01 New Wave Research Method and apparatus for cutting devices from substrates
US20090224432A1 (en) * 2004-12-08 2009-09-10 Syohei Nagatomo Method of forming split originating point on object to be split, method of splitting object to be split, and method of processing object to be processed by pulse laser beam
US8331019B2 (en) * 2007-01-26 2012-12-11 New York University Holographic microscopy of holographically trapped three-dimensional nanorod structures
JP5203787B2 (ja) * 2008-04-17 2013-06-05 株式会社日立ハイテクノロジーズ データ解析装置
JP5414467B2 (ja) * 2009-11-09 2014-02-12 キヤノン株式会社 レーザ加工方法
JP2011181909A (ja) * 2010-02-02 2011-09-15 Mitsubishi Chemicals Corp 半導体チップ製造方法
JP5645432B2 (ja) * 2010-03-19 2014-12-24 キヤノン株式会社 画像処理装置、画像処理システム、画像処理方法、及び画像処理をコンピュータに実行させるためのプログラム
JP5378314B2 (ja) * 2010-07-15 2013-12-25 株式会社レーザーシステム レーザ切断方法
JP5201185B2 (ja) * 2010-09-14 2013-06-05 オムロン株式会社 観察光学系およびレーザ加工装置
US8722516B2 (en) * 2010-09-28 2014-05-13 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method and method for manufacturing light-emitting device
JP2012089709A (ja) * 2010-10-20 2012-05-10 Disco Abrasive Syst Ltd ワークの分割方法
KR102086145B1 (ko) * 2010-12-13 2020-03-09 한국전자통신연구원 인트라 예측 방법 및 그 장치
JP5886603B2 (ja) * 2011-11-11 2016-03-16 株式会社ディスコ 光デバイスウエーハの加工方法
US9746422B2 (en) * 2012-07-05 2017-08-29 Gemological Appraisal Association, Inc. Gemstone registration and recovery system, and systems for evaluating the light performance of a gemstone and capturing forensic characteristics of a gemstone
JP2014041925A (ja) * 2012-08-22 2014-03-06 Hamamatsu Photonics Kk 加工対象物切断方法
JP2014041927A (ja) * 2012-08-22 2014-03-06 Hamamatsu Photonics Kk 加工対象物切断方法
JP2014041926A (ja) * 2012-08-22 2014-03-06 Hamamatsu Photonics Kk 加工対象物切断方法
US9610653B2 (en) * 2012-09-21 2017-04-04 Electro Scientific Industries, Inc. Method and apparatus for separation of workpieces and articles produced thereby
JP6064519B2 (ja) 2012-10-29 2017-01-25 三星ダイヤモンド工業株式会社 レーザー加工装置、および、パターン付き基板の加工条件設定方法
KR102070087B1 (ko) * 2013-04-29 2020-01-30 삼성전자주식회사 반도체 소자 제조방법
US10005152B2 (en) * 2013-11-19 2018-06-26 Rofin-Sinar Technologies Llc Method and apparatus for spiral cutting a glass tube using filamentation by burst ultrafast laser pulses
JPWO2015111134A1 (ja) * 2014-01-21 2017-03-23 創光科学株式会社 窒化物半導体発光素子
KR20170013358A (ko) * 2014-07-15 2017-02-06 오지 홀딩스 가부시키가이샤 광학 소자
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