JP6368944B2 - ガラス板 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 189
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 claims description 17
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000005329 float glass Substances 0.000 claims description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 197
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 79
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 35
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 28
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 23
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 21
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 18
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 10
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 10
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000006103 coloring component Substances 0.000 description 6
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 4
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 3
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008395 clarifying agent Substances 0.000 description 3
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 3
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N Ammonium acetate Chemical compound N.CC(O)=O USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005695 Ammonium acetate Substances 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940043376 ammonium acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000019257 ammonium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000006063 cullet Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 239000010433 feldspar Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000000295 fuel oil Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000007372 rollout process Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/0092—Compositions for glass with special properties for glass with improved high visible transmittance, e.g. extra-clear glass
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- H—ELECTRICITY
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- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/036—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes
- H01L31/0392—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate
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- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/048—Encapsulation of modules
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/048—Encapsulation of modules
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/52—PV systems with concentrators
Description
また、太陽光を集光して熱源として利用することで発電を行う太陽熱発電においては、集光ミラーによる太陽光(特に近赤外線領域の光)の損失をできるだけ抑えるために、集光ミラー用ガラス板には、TvおよびTeが充分に高いガラス板が求められている。このガラス板は、平板状のガラス板、あるいは曲面状のガラス板として使用される。
また、高透過ガラス板であっても、製造上不可避的に混入した鉄が含まれる。よって、高透過ガラス板においてTeを充分に高くするには、高透過ガラス板に含まれる全鉄のうち、波長400nm付近に吸収のピークを有する3価の鉄の割合をできるだけ増やし、1,000nmから1,100nmの波長範囲において吸収のピークを有する2価の鉄の割合をできるだけ減らすことが重要となる(特許文献2参照)。
(i)高透過ガラス板の鉄の含有量を極めて少なくするためには、ガラス原料の鉄の含有量を極めて少なくする必要があるが、鉄の含有量が極めて少ないガラス原料は高価であるため、高透過ガラス板の原料コストは高くなる。
(ii)高透過ガラス板において2価の鉄の割合をできるだけ減らすためには、フロート法またはダウンドロー法で高透過ガラス板を製造する際の溶融ガラスの温度を、通常のガラス板を製造する場合に比べ低くする必要があり、生産性が悪い。
本発明は、従来のガラス板と同程度の鉄の含有量の場合には、従来のガラス板よりもTeを高くでき、または、従来のガラス板よりも鉄の含有量が多い場合には、従来のガラス板と同レベルのTeにでき、かつ生産性がよいガラス板およびその製造方法を提供する。
Q=([MgO]/[CaO])×([CaO]+[Na2O]−[Al2O3]) ・・・(1)。
ただし、[MgO]は、酸化物基準の質量百分率表示のMgOの含有量であり、[CaO]は、酸化物基準の質量百分率表示のCaOの含有量であり、[Na2O]は、酸化物基準の質量百分率表示のNa2Oの含有量であり、[Al2O3]は、酸化物基準の質量百分率表示のAl2O3の含有量である。
本発明のガラス板の製造方法によれば、従来のガラス板と同程度の鉄を含有するガラス原料から、従来のガラス板よりもTeが高いガラス板を製造でき、または、従来のガラス板よりも鉄の含有量が少ないガラス原料から非常に高いTeを有するガラス板を効率的に製造できる。
また、本発明のガラス板は、SiO2を主成分とし、さらにNa2O、CaO等を含む、いわゆるソーダライムシリカガラスからなるものである。
また、[MgO]/[CaO]は、1より大きくされる。この[MgO]/[CaO]値は、20以下が好ましい。特に、1超、11以下が好ましい。[MgO]/[CaO]は、Fe2O3に換算した全鉄の含有量が、酸化物基準の質量百分率表示で0.01〜0.1%のガラス組成では、1.25以上がより好ましく、さらに30以下が好ましい。
Q=([MgO]/[CaO])×([CaO]+[Na2O]−[Al2O3]) ・・・(1)。
ただし、[MgO]は、酸化物基準の質量百分率表示のMgOの含有量であり、[CaO]は、酸化物基準の質量百分率表示のCaOの含有量であり、[Na2O]は、酸化物基準の質量百分率表示のNa2Oの含有量であり、[Al2O3]は、酸化物基準の質量百分率表示のAl2O3の含有量である。
SiO2 :60〜75%、
Al2O3 :0%超、
Na2O :10〜20%、
MgO :4.5%以上、
CaO :1〜10%、
を含む。
SiO2 :60〜75%、
Al2O3 :0%超4.5%以下、
Na2O :10〜20%、
MgO :4.5〜15%、
CaO :1〜10%、
ZrO2 :0〜3%、
Fe2O3に換算した全鉄:0〜0.1%、
CeO2 :0〜0.1%、
Sb2O3 :0〜0.5%、
を含む。
SiO2 :60〜74.5%、
Al2O3 :0.5〜3.5%、
B2O3 :0〜9%、
Na2O :10〜20%、
K2O :0〜5%、
MgO :4.5〜13%、
CaO :1〜10%、
Fe2O3に換算した全鉄:0〜0.1%、
CeO2 :0〜0.05%、
Sb2O3 :0〜0.5%、
を含む。
SiO2 :60〜74%、
Al2O3 :0.5〜2.5%、
B2O3 :0〜5%、
Na2O :10〜20%、
K2O :0〜3%、
MgO :4.5〜10%、
CaO :1〜10%、
Fe2O3に換算した全鉄:0.005〜0.06%、
Sb2O3 :0〜0.1%、
ZrO2 :0〜3%、
を含み、CeO2を実質的に含まない。
SiO2はガラスの主成分である。
SiO2の含有量が60%未満では、ガラスの安定性が低下する。SiO2の含有量が75%を超えるとガラスの溶解温度が上昇し、溶解できなくなるおそれがある。SiO2の含有量は、酸化物基準の質量百分率表示で60〜75%が好ましく、60〜74.5%がより好ましく、60〜74%がより好ましい。
Al2O3を含有すると耐候性改善に効果が見られ、含有していることが必要である。Al2O3の含有量が、0.5%以上であれば、耐候性が良好となる。他の成分の量によって適宜Al2O3の含有量を増やすことで高温粘性を調整し泡品質を改善することができるが、Al2O3の含有量が4.5%を超えると溶解性が著しく悪化する。Al2O3を含有することが必要で、酸化物基準の質量百分率表示で0%超4.5%以下が好ましく、0.5〜3.5%がより好ましく、0.5〜2.5%がさらに好ましい。
B2O3の含有量は、酸化物基準の質量百分率表示で1%以下が好ましく、実質的に含有しないことがより好ましい。ここで、実質的に含有しないとは不純物程度の量が混入してもよいことを意味する。
なお、B2O3は、ガラスの機械的特性、耐候性を向上させる点で良いので、ガラス板に含ませることができる。
Na2Oの含有量が20%を超えるとガラスの耐候性および安定性が悪化する。10%未満ではガラスの溶解が困難になる。Na2Oの含有量は、酸化物基準の質量百分率表示で10〜20%が好ましい。
K2Oの含有量が5%を超えるとガラスの耐候性および安定性が悪化する。また、3%を超えるとバッチコストが上昇してしまう。K2Oの含有量は、酸化物基準の質量百分率表示で0〜5%が好ましく、0〜3%がより好ましい。
CaOの含有量が10%を超えると失透温度が上昇する。CaOの含有量は、酸化物基準の質量百分率表示で1〜10%が好ましい。
ZrO2の含有量が3%を超えると、ガラスの熔解特性が悪化する。ZrO2の含有量は、酸化物基準の質量百分率表示で0〜3%が好ましい。
Fe2O3に換算した全鉄の含有量は、0〜0.1%であるのが好ましい。
Fe2O3に換算した全鉄の含有量が、特に0.06%以下であれば、Tvの低下が抑えられる。特に、太陽電池用ガラス板や集光ミラー用ガラス板としてはFe2O3に換算した全鉄の含有量は、酸化物基準の質量百分率表示で0.050%以下が好ましく、0.040%以下が、より好ましく、0.020%以下が、さらに好ましく、0.017%以下が特に好ましい。
特に、Fe2O3含有量が、0〜0.04%であれば、更に一層高いTvとTeを有するガラス板を得ることができ、好ましい。
また、前述したように、ガラス板の組成中の着色成分であるFe2O3含有量が0.04%以下の場合は、Te(4mm厚さ換算)は90%以上が好ましく、91%以上、より好ましくは91.5%以上がより好ましい。
また、前述したように、ガラス板の組成中の着色成分であるFe2O3含有量が0.005%以下の場合は、Tv(4mm厚さ換算)は90%以上が好ましく、91%以上がより好ましい。
本発明のガラス板は、下式(2)で表わされたTI値が5以上であることが好ましく、7以上であることがより好ましく、10以上であることがさらに好ましい。
TI=(Te−Te’)/[Fe2O3]・・・(2)。
ここで、Teは本発明のガラス板におけるJIS R 3106(1998)規定の日射透過率(4mm厚さ換算)である。Te’は、下式(3)〜(5)により規定される、本発明のガラス板と同量の鉄を含有し、かつFe2O3に換算した全鉄中のFe2O3に換算した2価の鉄の質量割合(Redox)が本発明のガラス板と同等である一般的なソーダライムシリカガラスの日射透過率(4mm厚さ換算)であり、[Fe2O3]は酸化物基準の質量百分率表示の全鉄の量である。
Te’=91.62645−12.0867×A−323.051×B・・(3)。
A=[Fe2O3]×(100−Re)×0.01・・・(4)。
B=[Fe2O3]×Re×0.01・・・(5)。
ここで、[Fe2O3]は酸化物基準の質量百分率表示の全鉄の量であり、Reは百分率表示されたガラスのRedoxである。
(i)目標とする組成になるように、各種のガラス母組成原料、カレット、清澄剤等を混合し、ガラス原料を調製する。
(ii)ガラス原料を溶融させて溶融ガラスとする。
(iii)溶融ガラスを清澄した後、フロート法またはダウンドロー法(フュージョン法)により所定の厚さのガラス板に成形する。
(iv)ガラス板を冷却する。
(v)ガラス板を所定の大きさに切断する。
ガラス母組成原料としては、珪砂、長石等、通常のソーダライムシリカガラス板の原料として用いられているものが挙げられる。
清澄剤としては、SO3、SnO2、Sb2O3等が挙げられる。
ガラス原料の溶融は、たとえば、ガラス原料を連続的に溶融窯に供給し、重油、ガス、電気等により約1500℃に加熱することによって行われる。
その結果、従来のソーダライムシリカガラス板と同程度の鉄の含有量の場合には、従来のガラス板よりもTeを高くでき、または、従来のガラス板よりも鉄の含有量が多い場合には、従来のガラス板と同レベルのTeにすることができる。
また、フロート法またはダウンドロー法で高透過ガラス板を製造する際の溶融ガラスの温度を、フロート法またはダウンドロー法で通常のソーダライムシリカガラス板を製造する場合と同程度の高い温度にして、Redox(2価の鉄の割合)が高めになったとしても、1,000nmから1,100nmの波長範囲に吸収のピークを有する6配位の2価の鉄の割合を減らし、1,000nmから1,100nmの波長範囲に吸収のピークを有さない2価の鉄の割合を増やすことができるため、Teが充分に高い高透過ガラス板が得られる。このように、高透過ガラス板を生産性よく製造できる。
Redoxは、以下の通り、ガラス中のFe2O3に換算した全鉄量を求めるとともに、2価の鉄の量を求め、(2価の鉄)/(全鉄量)、すなわち(Fe2+/(Fe2++Fe3+))の割合として求めた。
ガラスのFe2O3量は、蛍光X線測定によって求めた、Fe2O3に換算した全鉄の含有量(%=質量百分率)である。
Redoxの算出に必要なガラス中の2価の鉄の量は、湿式分析法により定量した値である。具体的には、得られたガラスを粉砕し、ガラス粉末をHFにて溶解したものとビピリジル、酢酸アンモニウム溶液とを混合して発色させ、その吸光ピーク強度を測定し、標準試料により事前に作成した検量線を元に2価の鉄の量を定量した値である。
得られたガラス板について、JIS R 3106規定の可視光透過率(Tv)(A光源によるもの)を4mm厚さ換算値で求めた。
得られたガラス板について、JIS R 3106規定の日射透過率(Te)を4mm厚さ換算値で求めた。
ガラス厚さが異なる場合は、以下のように4mm厚さ換算値を求めた。
まず、ガラスの表面の反射率(%Rt%)、ガラスの裏面の反射率(%Rb)をそれぞれ分光光度計(日立ハイテク社製、U4100)を用いて1nmごとに測定した。分光光度計(Perkin Elmer社製、Lambda950)を用いて1nmごとに測定した透過率(%T)の値にRt,Rbの値を加え、ガラスの内部透過率(%Tinner)を算出した(すなわち、%Tinner = %T+%Rt+%Rb)。この%Tinnerより4mm厚さ換算値%T4mmtを下式により求めた。
%T4mmt = 100×10−A×0.4−(%Rt+%Rb)
A=log10(100/%Tinner)/d
ただし、dは、ガラス板の厚さ(mm)である。
表1に示す組成となるように、珪砂等の各種のガラス母組成原料、清澄剤(SO3)を混合し、ガラス原料を調製した。ガラス原料をるつぼに入れ、電気炉中にて1500℃で3時間加熱し、溶融ガラスとした。溶融ガラスをカーボン板上に流し出し、冷却した。両面を研磨し、厚さ4mmのガラス板を得た。ガラス板について、分光光度計(Perkin Elmer社製、Lambda950)を用いて1nmごとに透過率を測定し、Tv、Teを求めた。結果を表1、表2、図1および図2に示す。
ここで、例3、5、6、9、11が実施例、例1、2、4、7、8、10、12〜19が比較例である。
Fe2O3に換算した全鉄の含有量が同じであるにもかかわらず、[MgO]/[CaO]が1超であり、かつQ値が20以上となる組成のガラス板のTeが、[MgO]/[CaO]が1以下またはQ値が20未満となる組成のガラス板に比べ、高くなっていることがわかる。
表1よりFe2O3の含有量が少ない組成のガラス板として、表3に示す組成となるように、珪砂等の各種のガラス母組成原料、清澄剤(SO3)を混合し、ガラス原料を調製した。ガラス原料をるつぼに入れ、電気炉中にて1500℃で3時間加熱し、溶融ガラスとした。溶融ガラスをカーボン板上に流し出し、冷却した。両面を研磨し、厚さ4mmの高透過ガラス板を得た。高透過ガラス板について、分光光度計(Perkin Elmer社製、Lambda950)を用いて1nmごとに透過率を測定し、Tv、Teを求めた。結果を表3、図3および図4に示す。
ここで、例22、24が実施例、例20、21、23、25〜28が比較例である。
Fe2O3に換算した全鉄の含有量が同じであるにもかかわらず、[MgO]/[CaO]が1超であり、かつQ値が20以上となる組成のガラス板のTeが、[MgO]/[CaO]が1以下またはQ値が20未満となる組成のガラス板に比べ、高くなっていることがわかる。
また、図3、4より、例26はTeが91.3%であるが、例20〜25、27、28のTe(91.5〜91.8%)に比べて低くなっている。例20〜28では、Fe2O3が0.01%と低くなっているために、例1〜19に比較して、Teが高めになっているが、例20〜25、27、28は、例26よりもTeがさらに高いことが分かる。
なお、上記表1〜3において空欄となっており数字が記載されていない箇所は、未測定、または未計算であることを示す。
本発明のガラス板は、太陽電池用ガラス板(例えば、カバーガラス、薄膜太陽電池用ガラス基板等)、太陽熱発電における集光ミラー用ガラス板等として有用である。
なお、2010年10月27日に出願された日本特許出願2010−240978号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の開示として取り入れるものである。
Claims (6)
- 少なくともSiO2、MgO、CaO、Na2OおよびAl2O3を含むソーダライムシリカガラスからなるフロートガラス板であって、
酸化物基準の質量百分率表示で
SiO2を60〜71.1%、
MgOを6.9〜15%、
CaOを0.5〜4.8%、
Na2Oを13.6〜16.9%、
K2Oを0〜3%、
Al2O3を0.5〜10.3%、および
B2O3を0〜1%含み、
酸化物基準の質量百分率表示のMgOの含有量と酸化物基準の質量百分率表示のCaOの含有量との比([MgO]/[CaO])が、1より大きく、30以下であり、
下式(1)で求めたQ値が、22以上、400以下である、ガラス板。
Q=([MgO]/[CaO])×([CaO]+[Na2O]−[Al2O3]) ・・・(1)。
ただし、[MgO]は、酸化物基準の質量百分率表示のMgOの含有量であり、[CaO]は、酸化物基準の質量百分率表示のCaOの含有量であり、[Na2O]は、酸化物基準の質量百分率表示のNa2Oの含有量であり、[Al2O3]は、酸化物基準の質量百分率表示のAl2O3の含有量である。 - 酸化物基準の質量百分率表示で、Al2O3の含有量の上限値が5.3%である、請求項1に記載のガラス板。
- 酸化物基準の質量百分率表示で、Al2O3の含有量の上限値が5.2%である、請求項1または2に記載のガラス板。
- 酸化物基準の質量百分率表示で、MgOの含有量の下限値が7.1%である、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のガラス板。
- 前記ガラス板のRedoxが40%以下である、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のガラス板。
- カバーガラスに用いられるガラス板である、請求項1乃至5のいずれか1項に記載のガラス板。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010240978 | 2010-10-27 | ||
JP2010240978 | 2010-10-27 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012540918A Division JP5880439B2 (ja) | 2010-10-27 | 2011-10-26 | ガラス板およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016084281A JP2016084281A (ja) | 2016-05-19 |
JP6368944B2 true JP6368944B2 (ja) | 2018-08-08 |
Family
ID=45993937
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012540918A Active JP5880439B2 (ja) | 2010-10-27 | 2011-10-26 | ガラス板およびその製造方法 |
JP2016020309A Active JP6368944B2 (ja) | 2010-10-27 | 2016-02-04 | ガラス板 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012540918A Active JP5880439B2 (ja) | 2010-10-27 | 2011-10-26 | ガラス板およびその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8828898B2 (ja) |
EP (1) | EP2634150B1 (ja) |
JP (2) | JP5880439B2 (ja) |
CN (2) | CN103189324B (ja) |
AR (1) | AR083739A1 (ja) |
WO (1) | WO2012057232A1 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103153892B (zh) * | 2010-05-20 | 2016-05-18 | 法国圣戈班玻璃厂 | 用于高温应用的玻璃基材 |
JP6206400B2 (ja) | 2012-04-27 | 2017-10-04 | 旭硝子株式会社 | ガラス板 |
CN104619664A (zh) * | 2012-09-14 | 2015-05-13 | 旭硝子株式会社 | 化学强化用玻璃、化学强化玻璃以及化学强化用玻璃的制造方法 |
JP6435274B2 (ja) | 2014-03-28 | 2018-12-05 | Agc株式会社 | 化学強化用ガラス及び化学強化ガラス並びに化学強化ガラスの製造方法 |
KR20160138015A (ko) * | 2014-03-31 | 2016-12-02 | 에이쥐씨 글래스 유럽 | 화학 템퍼링 가능한 유리판 |
JP6607356B2 (ja) * | 2014-06-27 | 2019-11-20 | Agc株式会社 | ガラス、および、それを用いた化学強化ガラス |
JP6583271B2 (ja) * | 2014-07-04 | 2019-10-02 | Agc株式会社 | 化学強化用ガラスおよび化学強化ガラス |
JPWO2016006538A1 (ja) * | 2014-07-07 | 2017-04-27 | 旭硝子株式会社 | 顔料プリント用ガラス板、顔料プリントガラス板、その製造方法および画像表示装置 |
WO2016010050A1 (ja) * | 2014-07-18 | 2016-01-21 | 旭硝子株式会社 | 防眩処理用ガラス、および、それを用いた防眩ガラス |
EP3292086B1 (en) * | 2015-05-05 | 2021-11-17 | AGC Glass Europe | Glass sheet capable of having controlled warping through chemical strengthening |
WO2017038621A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 旭硝子株式会社 | Uv耐性を有するガラス板 |
US11242279B2 (en) * | 2015-10-22 | 2022-02-08 | Corning Incorporated | High transmission glasses |
CN107162407A (zh) * | 2017-04-14 | 2017-09-15 | 中建材(宜兴)新能源有限公司 | 一种超薄光伏压延玻璃 |
WO2019021014A1 (en) | 2017-07-28 | 2019-01-31 | Pilkington Group Limited | WINDOW SET |
CN109851216B (zh) * | 2019-01-24 | 2020-06-09 | 中国洛阳浮法玻璃集团有限责任公司 | 一种用于浮法生产超白玻璃用复合澄清剂 |
JP2021011403A (ja) * | 2019-07-05 | 2021-02-04 | Agc株式会社 | Cspミラー用ガラス基板、その製造方法、及びcspミラー |
CN115286239B (zh) * | 2022-08-04 | 2023-08-25 | 清远南玻节能新材料有限公司 | 玻璃及其扫光方法、盖板和电子设备 |
Family Cites Families (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4192689A (en) * | 1978-05-30 | 1980-03-11 | Ppg Industries, Inc. | Ion exchange strengthening of soda-lime-silica glass |
JPS61256940A (ja) * | 1985-05-07 | 1986-11-14 | Asahi Glass Co Ltd | 輝石系結晶化ガラスの製造法 |
JPH0692257B2 (ja) * | 1985-11-07 | 1994-11-16 | 旭硝子株式会社 | 輝石系結晶化ガラスの製造法 |
JPS62246839A (ja) * | 1986-04-17 | 1987-10-28 | Central Glass Co Ltd | 易強化ガラス組成物 |
GB8728892D0 (en) * | 1987-12-10 | 1988-01-27 | Pilkington Plc | Producing molten glass |
JPH03199136A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-08-30 | Asahi Glass Co Ltd | 輝石系結晶化ガラスの製造法 |
US5030594A (en) | 1990-06-29 | 1991-07-09 | Ppg Industries, Inc. | Highly transparent, edge colored glass |
JP3150684B2 (ja) | 1990-07-26 | 2001-03-26 | 日本碍子株式会社 | 劣化反応碍子 |
FR2721600B1 (fr) | 1994-06-23 | 1996-08-09 | Saint Gobain Vitrage | Composition de verre clair destinée à la fabrication de vitrages. |
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JP2007238398A (ja) | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ソーダ石灰系ガラス組成物 |
JP5109162B2 (ja) * | 2006-03-27 | 2012-12-26 | 旭硝子株式会社 | ガラス製造方法 |
JP5396859B2 (ja) * | 2006-11-22 | 2014-01-22 | 旭硝子株式会社 | 情報記録媒体基板用ガラス |
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CN101842328B (zh) * | 2007-11-06 | 2013-06-26 | 旭硝子株式会社 | 基板用玻璃板 |
JP2009155148A (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Central Glass Co Ltd | ガラス組成物 |
JP5444846B2 (ja) * | 2008-05-30 | 2014-03-19 | 旭硝子株式会社 | ディスプレイ装置用ガラス板 |
KR101362565B1 (ko) * | 2008-12-25 | 2014-02-13 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 유리 기판 및 그 제조 방법 |
JP2010208906A (ja) * | 2009-03-11 | 2010-09-24 | Asahi Glass Co Ltd | 光デバイス用基板ガラス |
EP2426093A4 (en) * | 2009-04-28 | 2014-05-14 | Asahi Glass Co Ltd | GLASS PLATE FOR A SUBSTRATE |
-
2011
- 2011-10-26 AR ARP110103948A patent/AR083739A1/es not_active Application Discontinuation
- 2011-10-26 CN CN201180051164.1A patent/CN103189324B/zh active Active
- 2011-10-26 WO PCT/JP2011/074724 patent/WO2012057232A1/ja active Application Filing
- 2011-10-26 EP EP11836365.4A patent/EP2634150B1/en active Active
- 2011-10-26 CN CN201510885045.6A patent/CN105330142B/zh active Active
- 2011-10-26 JP JP2012540918A patent/JP5880439B2/ja active Active
-
2013
- 2013-03-15 US US13/839,832 patent/US8828898B2/en active Active
-
2014
- 2014-07-18 US US14/335,070 patent/US9174867B2/en active Active
-
2016
- 2016-02-04 JP JP2016020309A patent/JP6368944B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130203584A1 (en) | 2013-08-08 |
AR083739A1 (es) | 2013-03-20 |
CN105330142A (zh) | 2016-02-17 |
JP5880439B2 (ja) | 2016-03-09 |
WO2012057232A1 (ja) | 2012-05-03 |
CN105330142B (zh) | 2018-11-23 |
JP2016084281A (ja) | 2016-05-19 |
EP2634150A1 (en) | 2013-09-04 |
JPWO2012057232A1 (ja) | 2014-05-12 |
US8828898B2 (en) | 2014-09-09 |
CN103189324A (zh) | 2013-07-03 |
US9174867B2 (en) | 2015-11-03 |
CN103189324B (zh) | 2016-01-20 |
EP2634150B1 (en) | 2021-11-24 |
EP2634150A4 (en) | 2015-06-17 |
US20140329661A1 (en) | 2014-11-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160302 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160302 |
|
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|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161026 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20170628 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20171128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180111 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20180118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180313 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180403 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180605 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180618 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6368944 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |