JP6362007B2 - 電気化学セルおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
アノード: 2O2- → O2 + 4e-
カソード: 2H2O + 4e- → 2H2 + 2O2-
上記式のとおり、この場合には、水素はカソード側で発生し、共存する水蒸気と分離する工程が別途必要になるという問題がある。
アノード: 2H2O → O2 + 4H+ + 4e-
カソード: 4H+ + 4e- → 2H2
上記式のとおり、この場合には、酸素イオン伝導性電解質を用いた場合と同様に水素はカソード側で発生するものの、水蒸気はアノード側に導入されるため、水素を水蒸気から分離する必要がないという利点がある。
アノード層とカソード層を有し、当該アノード層と当該カソード層との間にプロトン伝導性固体電解質層を有し、
当該アノード層または当該カソード層の少なくとも一方は、遷移金属元素を含むペロブスカイト型金属酸化物に加えて貴金属粒子または貴金属合金粒子を含むことを特徴とする。
遷移金属元素を含むペロブスカイト型金属酸化物と貴金属粒子または貴金属合金粒子とを少なくとも含むアノード層ペーストまたはカソード層ペーストを調製する工程、
当該アノード層ペーストまたはカソード層ペーストをプロトン伝導性固体電解質層に塗布する工程、および、
酸化性雰囲気下、1000℃未満で焼成する工程を含むことを特徴とする。
電気化学セルには、主に電解質支持型セルと電極支持型セルがある。電解質支持型セルの場合、一般的に、電解質層、アノード層、カソード層の中では、電解質層の焼成温度が最も高いことから、先ず、電解質層を準備する。電極支持型セルの場合には、支持層となる電極層の上に電解質層を形成する。
本発明の電気化学セルが電解質支持型セルである場合には、プロトン伝導性固体電解質層にアノード層ペーストとカソード層ペーストを塗布した後に焼成することにより作製する。アノード層とカソード層は、各ペーストをプロトン伝導性固体電解質層に塗布した後に同時に焼成して形成してもよい。しかし、アノード層とカソード層の焼成温度が同様であるとは限らないため、一般的には、焼成温度がより高い電極層を先に形成した後に、他方の電極層を形成することが好ましい。
本発明に係る電気化学セルを水蒸気電解に用いる場合には、カソード層は、4H+ + 4e- → 2H2の反応を促進する触媒作用を示すと共に、電子伝導性を有する必要がある。このような材料としては、Pt、Pd、Ni、Co、Feなどを挙げることができる。これらを単独で用いることもできるし、或いは上記電極触媒にプロトン伝導性金属酸化物を加えた電極も用いることができる。
本発明において、上記電極層の焼成条件は、酸化性雰囲気下、1000℃未満とする。
気孔率 = 1−(見かけ密度/真密度)
(1) 電極支持体の作製
市販の酸化ニッケル粉末(正同化学社製,製品名「Green」)と電解質粒子としてSrZr0.5Ce0.4Y0.1O3-δとを、当該酸化ニッケル粉末50vol%、電解質粒子50vol%となるように秤量し、乳鉢で攪拌混合して混合物を得た。この混合物をプレス機にて一軸成型および等方静水圧プレスし、円板状に成型した。この円板状成形体を1250℃で10時間焼成し、直径25φ、厚み0.5mmの電極支持体を作製した。
SrZr0.5Ce0.4Y0.1O3-δ、エチルセルロースおよびα−テルピネオールを添加し、乳鉢で混合した。その後、3本ロールミル(EXAKT technologies社製,型式「M−80S」)を用いて混練し、電解質層ペーストを得た。
当該ペーストを上記電極支持体にスクリーン印刷法で塗布し、乾燥後、1400℃、空気雰囲気下で2時間焼成し、厚さ20μmのプロトン伝導性電解質層を作製した。
市販の純度99.9質量%のLa2O3約49質量部、SrCO3約44質量部およびCo3O4約48質量部の粉末を混合した。得られた混合物にエタノールを加え、ボールミルで60時間湿式粉砕した後、120℃で10時間乾燥した。次いで、1100℃で10時間焼成することにより、焼成粉末を得た。さらに、得られた上記焼成粉末にエタノールを加え、ボールミルで60時間湿式粉砕した後、120℃で10時間乾燥することにより、水蒸気電解用アノード層材料とすることができる電極触媒粉末とした。得られた電極触媒粉末の組成はLa0.5Sr0.5CoOXであり、X線回折により、ペロブスカイトからなる単一相であることを確認した。
上記で得られた積層体について、プロトン伝導性電解質層−電極層間の密着性をテープ剥離試験により評価した。詳しくは、セロハンテープ(ニチバン社製「CT24」)を用い、常温、常圧下で指の腹でテープを電極層に密着させた後に、テープを剥離し、層間密着性を評価した。結果を表1に示す。なお、表1中、層間密着性の「○」はテープ剥離試験において電極層がテープに付着していない場合を示す。
また、電極層の見かけ密度と真密度を測定し、以下の式から気孔率を算出した。
気孔率 = 1−(見かけ密度/真密度)
上記実施例1において、ペロブスカイト型電極触媒粉末とAgとの比および焼成温度を表2のとおり変更した以外は同様にして、プロトン伝導性電解質層−電極層積層体を調製した。
Claims (3)
- 電気化学セルを製造するための方法であって、
遷移金属元素を含むペロブスカイト型金属酸化物と貴金属粒子または貴金属合金粒子とを少なくとも含むアノード層ペーストまたはカソード層ペーストを調製する工程、
当該アノード層ペーストまたはカソード層ペーストをプロトン伝導性固体電解質層に塗布する工程、および、
酸化性雰囲気下、1000℃未満で焼成する工程を含むことを特徴とする方法。 - 上記貴金属粒子または貴金属合金粒子として、平均粒子径が300nm以下のものを用いる請求項1に記載の方法。
- 上記貴金属粒子がAg粒子であり、上記貴金属合金粒子がAg合金粒子である請求項1または2に記載の方法。
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