JP6356563B2 - 光センサモジュール - Google Patents

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本発明は、光センサモジュールに関するものである。
近年、微量な試料を容易かつ正確に測定するセンサ装置が求められている。このセンサ装置として、例えば金属表面に生じる表面プラズモンを応用した光センサ装置の開発が行なわれている。ここで、表面プラズモンを応用した光センサ装置は、光透過性媒体上に設けられた金属薄膜の表面で生じる光−表面プラズモン波の相互作用を利用して特定の物質を検出または測定するセンサである。表面プラズモンを用いた光センサ装置は、検出感度が高いことから、低濃度のガス、イオン、抗原、DNA等の検出する方法として検討されている(例えば、特許文献1参照)。
特開平11−344437号公報
特許文献1に記載された光センサ装置において、金属薄膜で反射した光をセンサアレイで受光している。このとき、センサアレイに入射する光の一部は、センサアレイの表面で反射することがある。その結果、センサアレイで反射された光が透過性媒体内で反射され、迷光となって再びセンサアレイに入射し、センサの検出精度が低下する虞があった。
本発明は、このような事情に鑑みて案出されたものであり、検出精度を向上させる光センサモジュールを提供することを目的とする。
本発明の光センサモジュールは、上面および下面を有した透光性基板と、前記透光性基板の前記上面に配された感応部と、前記透光性基板を介して前記感応部に入射する光を発する発光部と、前記感応部と前記透光性基板との境界で反射する光を受ける受光部とを備え、前記透光性基板の前記下面は、外縁部に位置し、前記境界で反射する光を前記受光部へ出射する第1領域を有しており、前記透光性基板の外形は、前記感応部から前記第1領域に入射し反射する光を、前記透光性基板の第1側面で反射させ、かつ前記第1領域を超えて前記透光性基板内を直進させる形状であり、前記下面は、前記第1領域に隣接した第
2領域を有しており、前記上面は、前記下面に沿って設けられており、かつ前記第1領域で反射した光をさらに反射する第3領域を有しており、前記第1側面は、前記下面に対して、前記第1領域に入射し反射する光を前記第3領域に向かって反射させ、かつ前記第3領域で反射する光を前記第2領域に入射させる角度で設けられており、前記上面は、前記感応部が配された第4領域をさらに有しており、前記上面において、前記第3領域は、前記第4領域よりも上方に位置しており、前記下面において、前記第2領域は、前記第1領域よりも下方に位置している。
本発明によれば、透光性基板の第1領域で反射した光(迷光)を、透光性基板の第1側面で反射し、第1領域を超えて透光性基板内を直進させるため、迷光が受光部に入射することを低減することができる。したがって、検出精度を向上させた光センサモジュールを提供することができる。
本発明の一実施形態にかかる光センサモジュールを示す断面図である。 図1に示した光センサモジュールの外形を説明する断面図である。 本発明の一実施形態にかかる光センサモジュールの変形例を示す断面図である。 図3に示した光センサモジュールの外形を説明する断面図である。
以下、本発明の一実施形態に係る光センサモジュールについて、図1〜図4を参照しつつ以下に説明する。図1〜図4は、本発明の一実施形態に係る光センサモジュールの上下方向に切断した断面を示している。また、図1〜図4中に記載されている破線の矢印は、光路を例示している。なお、本発明は、本実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更または改良等が可能である。
本実施形態に係る光センサモジュール1は、図1に示すように、透光性基板2、発光部3、受光部4および、特定の物質に反応する感応部5を有している。そして、発光部3から出射した光を、透光性基板2を介して感応部5に入射させ、感応部5と透光性基板2との境界で反射する光を、受光部4で受光する。このような構成を有していることによって、光センサモジュール1は、感応部5を例えば空気または液体等の流体中に露出させ、感応部5で反射する光の強度の変化を受光部4で検出することによって、流体中の特定の物質を検出することができる。
透光性基板2は、感応部5を支持するものである。また、透光性基板2は、発光部3で発した光を感応部5へ誘導し、かつ感応部5で反射した光を受光部4へ誘導するものである。透光性基板2は、例えばガラス、サファイア、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂またはシクロオレフィンコポリマー樹脂等の材料で形成される。透光性基板2の屈折率は、例えば1.4以上1.6以下に設定される。屈折率は、例えばエリプソメータ等で測定することができる。なお、透光性基板2は、ガラスまたは樹脂材料等を、例えば金型成形または切削加工することによって形成することができる。
透光性基板2は、上面21および下面22を有している。本実施形態では、上面21は下面22に沿って設けられている。本実施形態では、上面21は、第3領域211と第4領域212とを有している。具体的には、第4領域212は感応部5が配置されている領域であり、第3領域211は第4領域212に隣接した領域である。
本実施形態では、透光性基板2の下面22は、下面22の外縁部に位置した第1領域221と、第1領域221に隣接した第2領域222と、第2領域222の第1領域221とは反対側に隣接した第5領域223とを有している。第1領域221は、発光部4が配置される領域であり、感応部5と透光性基板2との境界で反射した光を受光部4へ出射する出射面として機能する。第5領域223は、発光部3が配置される領域である。
透光性基板2の平面形状は、例えば矩形状または円状である。本実施形態では、透光性基板2は矩形状の平面形状を有しており、第1側面23と、第1側面23に対向した第2側面24とを有している。受光部4は、第1側面23の近傍に配置されており、発光部3は、第2側面24の近傍に配置されている。言い換えれば、受光部4の近傍に位置した側面が第1側面23であり、発光部3の近傍に位置した側面が第2側面24である。
ここで、従来、感応部5で反射した光が受光部4に入射する際、透光性基板2の下面22(第1領域221)で反射した光(迷光)が透光性基板2内を反射して再び受光部4に入射し、光センサモジュール1の検出精度が低下する虞があった。
これに対して、本実施形態では、透光性基板2の外形が、感応部5から第1領域221に入射し反射する光(迷光)を、透光性基板2の第1側面23で反射させ、かつ第1領域221を超えて透光性基板2内を直進させる形状である。その結果、迷光が受光部4に入射することを低減することができる。したがって、光センサモジュール1の検出精度を向
上させることができる。また、本実施形態に係る光センサモジュール1では、第1領域221で反射した光を、透光性基板2外に取り出して消光したりする場合と異なり、透光性基板2に隣接する外部構造に依存しないため、設計の自由度を向上させることができる。したがって、光センサモジュール1を小型化することができる。
第1側面23は、下面22に対して、第1領域221で反射した光を第2側面24に向かって反射させる角度で設けられてもよい。その結果、迷光を第1領域221から遠い方へ反射させやすくなり、第1領域221で反射した光を減衰させやくすることができる。
第1側面23は、下面22に対して、第1領域221で反射した光を下面22に沿って反射させる角度で設けられてもよい。すなわち、迷光を透光性基板2の上面21および下面22で反射させない。その結果、上面21および下面22での反射後の光路等を考慮する必要がなく、透光性基板2、ひいては光センサモジュール1を低背化することができる。
第1側面23は、下面22から上面21にかけて透光性基板2の内側に向かって傾斜するように設けられてもよい。これによって、透光性基板2の小型化に寄与しつつ、第1領域221で反射された光を、効果的に第2側面24に向かって反射させることができる。
第1側面23は、図2に示すように、透光性基板2を上下方向に切断した断面において、第1側面23と上面21とで成す角をθ1、第1領域221への光の入射角をθ2としたときに、θ1−90°=45°―0.5・θ2の数式を満たすように傾斜していてもよい。その結果、第1側面23で反射する光を効果的に下面22に沿って直進させることができる。
一方、第1側面23は、図3に示すように、下面22に対して、第1領域221に反射した光を第3領域211に向かって反射させ、かつ第3領域211で反射する光を第2領域222に入射させる角度で設けられてもよい。その結果、迷光を上面21および下面22で反射させることによって、迷光を減衰させることができる。したがって、透光性基板2内を直進する光が感応部5等に入射して、光センサモジュール1の検出精度の低下を低減することができる。
透光性基板2の上面21において、第3領域211は、第4領域212よりも上方に位置してもよい。すなわち、上面21は、第3領域211と第4領域212とで段差が形成されていてもよい。その結果、第1側面23で反射し第3領域211に入射する光の光路長を大きくすることができ、迷光を減衰させやすくすることができる。
透光性基板2の下面22において、第2領域222は、第1領域221よりも下方に位置している。すなわち、下面22は、第1領域221と第2領域222とで段差が形成されていてもよい。その結果、第3領域211で反射し第2領域222に入射する光の光路長を大きくすることができ、迷光を減衰させやすくすることができる。
第1側面23は上面21から下面22にかけて透光性基板2の内側に向かって傾斜するように設けられていてもよい。これによって、迷光を、効果的に第3領域211に向かって反射させることができる。
第1側面23は、図4に示すように、透光性基板2を上下方向に切断した断面において、第1領域221(受光部4)の幅をL、第1領域221における光の入射点から第1側面23における光の入射点までの平面方向の距離をD、透光性基板2の厚みをH、第1領域221への光の入射角をθ3、上面21に垂直な仮想線と第1側面23とで成す角をθ
4としたとき、tan(θ3−2θ4)>(L+D)/{2H−D/tan(θ3)}を満たすように傾斜していてもよい。その結果、迷光の受光部4への入射を効果的に低減することができる。
透光性基板2の平面形状は、第1側面23と第2側面24とを結ぶ辺が長辺となる長方形状であってもよい。そして、第2側面24の近傍には感応部5が配置されてもよい。その結果、第1側面23で反射した光の感応部5への入射を低減することができる。
透光性基板2の第1側面23の外表面には、光吸収部材6が配されていてもよい。その結果、第1側面23で光が反射する際に、迷光を減衰させることができる。なお、光吸収部材6は、例えば、炭素を含むフィラーを含有した樹脂材料または酸化鉄等で形成される。また、光吸収部材6は、例えばフィルム貼付、スプレー塗布、ロール塗布、スパッタリングまたは蒸着法等によって透光性基板2の表面に形成される。
透光性基板2の第3領域211の外表面には、光吸収部材6が配されていてもよい。その結果、第3領域211に光が入射した際に、迷光を減衰させることができ、光センサモジュール1の検出精度を向上させることができる。なお、上面21の第4領域212に限らず、第3領域211にも感応部5を形成することによって、第3領域211に位置した感応部5を光吸収部材6として機能させてもよい。
透光性基板2の第2領域222の外表面には、光吸収部材6が配されていてもよい。その結果、第2領域222に光が入射した際に、迷光を減衰させることができ、光センサモジュール1の検出精度を向上させることができる。
透光性基板2は、任意の方向に光を誘導するために、傾斜部が設けられてもよい。本実施形態では、第2側面24を傾斜させることによって、傾斜部を形成している。また、透光性基板2の第2側面24の外表面には、光を誘導する光反射膜7が設置されてもよい。また、透光性基板2の全てが透光性である必要はなく、発光部3の光を受光部4へ誘導することができれば、透光性基板2の一部は透光性を有していない材料で形成されても良い。
光反射膜7は、発光部3から発した光を反射させて光を誘導するものである。光反射膜7は、光を反射させるために、透光性基板2と屈折率の異なる材料からなる。光反射膜7は、例えば金、銀または銅等の金属材料等で形成される。なお、光反射膜7は、例えば蒸着法またはスパッタリング法等によって形成することができる。
発光部3は、透光性基板2を介して感応部5に入射する光を発するものである。発光部3としては、例えばレーザーダイオード(LD)、発光ダイオード(LED)または面発光レーザー(VCSEL)等を用いることができる。また、受光部4は、感応部5と透光性基板2との界面で反射する光を受けるものであり、感応部5の反射光の強度の変化を検出する。受光部4としては、例えばフォトダイオード(PD)などを用いることができる。発光部3および受光部4は、発光部分または受光部分を複数持つアレイ状素子を用いてもよい。
本実施形態では、発光部3および受光部4は、透光性基板2の下面に設置されている。発光部3および受光部4は、平面方向において、感応部5が間に位置するように所定の間隔をあけて配置されている。発光部3および受光部4は、感応部5に光学的に接続されている。また、複数の発光部分を持つ発光部3、複数の受光部分を持つ受光部4を用いることによって、平面方向に小型化することができる。
感応部5は、流体中に露出しており、流体中の特定の物質に反応することによって、光の屈折率を変化させ、感応部5で反射する反射光の光の強度を変動させるものである。感応部5は、雰囲気中に露出しており、雰囲気中の特定の物質に反応して、屈折率を変化させる機能を有する。本実施形態では、表面プラズモン共鳴現象を利用して感応部5での反射光の強度を変化させる。そのため、本実施形態では、感応部5は、透光性基板2の上面に配された第1薄膜51と、第1薄膜51の上面に配された第2薄膜52を有している。なお、感応部5に入射する光は、第1薄膜51に入射することになる。
第1薄膜51は、表面に表面プラズモン波が励起しやすくなるように、金属材料で形成されている。具体的には、第1薄膜51は、例えば、銀、金、銅、亜鉛、アルミニウムまたはカリウム等の金属材料を用いることができる。なお、第1薄膜51の材料については、第1薄膜51上に配置される第2薄膜52の材料または発光部3の光の波長等を考慮して選択すればよい。また、第1薄膜51は、金属材料を単層で用いてもよいし、複数の層を積層してもよい。なお、第1薄膜51の厚さは、第1薄膜51の上面で表面プラズモン波が励起するように、トンネル効果によって第1薄膜51に入射した光が浸み出す厚さに設定される。具体的には、第1薄膜51の厚みは、例えば0.5nm以上1μm以下となるように設定することができる。
第2薄膜52は、雰囲気中の特定の物質に反応して屈折率(誘電率)を変化させる機能を有する。第2薄膜52は、具体的に、水素ガスなどを検出する場合には、感応膜として、例えばマグネシウム、パラジウムなどの膜を用いることができる。また、アンモニアガスなどを検出する場合には、感応膜として、アクリル酸ポリマーまたは銅フタロシアニンなどの膜を用いることができる。他には、モノクローナル抗体、ビオチンまたはがレクチンなどの膜を用いることで抗原を検出することができる。
感応部5は、上記構成を有していることによって、透光性基板2内部を進んできた光が第1薄膜51の界面で反射されると、第1薄膜51の上面に表面プラズモン波が励起される。ここで、表面プラズモンは特定の入射角で第1薄膜51に入射した光と共鳴することから、表面プラズモン波の励起によって光エネルギーの一部が損失して、特定の入射角で入射した光の第1薄膜51での反射率が極端に小さくなる。そして、表面プラズモン波が励起する際の光の入射角は、第1薄膜51の上面に位置する第2薄膜52の屈折率によって異なることから、第2薄膜52の屈折率が変化することによって、第1薄膜51での光の反射率が変化し、ひいては感応部5での反射光の強度が変化することになる。よって、反射光の強度の変化を検出することによって、第2薄膜52が反応した物質を特定することができる。
1 光センサモジュール
2 透光性基板
21 上面
211 第3領域
212 第4領域
22 下面
221 第1領域
222 第2領域
223 第5領域
23 第1側面
24 第2側面
3 発光部
4 受光部
5 感応部
51 第1薄膜
52 第2薄膜
6 光吸収部材
7 光反射膜

Claims (1)

  1. 上面および下面を有した透光性基板と、
    前記透光性基板の前記上面に配された感応部と、
    前記透光性基板を介して前記感応部に入射する光を発する発光部と、
    前記感応部と前記透光性基板との境界で反射する光を受ける受光部とを備え、
    前記透光性基板の前記下面は、外縁部に位置し、前記境界で反射する光を前記受光部へ出射する第1領域を有しており、
    前記透光性基板の外形は、前記感応部から前記第1領域に入射し反射する光を、前記透光性基板の第1側面で反射させ、かつ前記第1領域を超えて前記透光性基板内を直進させる形状であり、
    前記下面は、前記第1領域に隣接した第2領域を有しており、
    前記上面は、前記下面に沿って設けられており、かつ前記第1領域で反射した光をさらに反射する第3領域を有しており、
    前記第1側面は、前記下面に対して、前記第1領域に入射し反射する光を前記第3領域に向かって反射させ、かつ前記第3領域で反射する光を前記第2領域に入射させる角度で設けられており、
    前記上面は、前記感応部が配された第4領域をさらに有しており、
    前記上面において、前記第3領域は、前記第4領域よりも上方に位置しており、
    前記下面において、前記第2領域は、前記第1領域よりも下方に位置している、光センサモジュール。
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